JPS609030B2 - 第四級イミダゾリウム塩の製造法 - Google Patents
第四級イミダゾリウム塩の製造法Info
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- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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- C07D307/79—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/01—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by replacing functional groups bound to a six-membered aromatic ring by hydroxy groups, e.g. by hydrolysis
- C07C37/055—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by replacing functional groups bound to a six-membered aromatic ring by hydroxy groups, e.g. by hydrolysis the substituted group being bound to oxygen, e.g. ether group
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/29—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation of hydroxy groups
- C07C45/292—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation of hydroxy groups with chromium derivatives
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- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
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- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
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-
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- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は細菌および糸状菌(fugal
organIsms)を抑制するための抗微生物剤とし
て有用な第四級ィミダゾIJゥム塩の製造法に関する。
て有用な第四級ィミダゾIJゥム塩の製造法に関する。
本発明の第四級ィミダゾIJゥム塩は多くの点で従来の
ものと異なっている。そのほかの差異のなかでもそれら
は1個の窒素上にある複雑なエーテル官能基において、
そしてィミダゾール環のほかの窒素上にある置換基にお
いて異なっている。第四級ィミダゾIJゥム塩について
の従来の技術は次の参考分献によって示すことができる
。1 四国化成工業、日本特許出願70.03.800
−R−Derw.Jap.Pat.Rep.R巻、8号
−Pharm.3頁。
ものと異なっている。そのほかの差異のなかでもそれら
は1個の窒素上にある複雑なエーテル官能基において、
そしてィミダゾール環のほかの窒素上にある置換基にお
いて異なっている。第四級ィミダゾIJゥム塩について
の従来の技術は次の参考分献によって示すことができる
。1 四国化成工業、日本特許出願70.03.800
−R−Derw.Jap.Pat.Rep.R巻、8号
−Pharm.3頁。
2 A.Aドルジニア(Drughinia)、P.M
.コチエルギン(K比hergin)、ケミカル・アブ
ストラクト(Chem.A戊tr.)、磯巻、4950
■.3 E.F.コデフロイ(C℃defroi)、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック。
.コチエルギン(K比hergin)、ケミカル・アブ
ストラクト(Chem.A戊tr.)、磯巻、4950
■.3 E.F.コデフロイ(C℃defroi)、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック。
ケミストリー(J.功g.Chem.)、33萱、86
0頁(196&王)。4 C.G.オーバーバーガー(
0〜erberger)ら、ジャーナル・オブ・オーガ
ニツク・ケミストリー(J.○rg.Chem.)、1
963王、3班0頁。5 ).サラシン(Sarasi
n)、ヘルベチア・キミカ。アクタ(Helv.Chi
m.Acね)、7巻、720頁(1924E)。6 B
.A.S.Fへ フランス特許第1468184号、ケ
ミカル・アブストラクト(Chem.Abstr.)、
67巻、81482(1927年)。
0頁(196&王)。4 C.G.オーバーバーガー(
0〜erberger)ら、ジャーナル・オブ・オーガ
ニツク・ケミストリー(J.○rg.Chem.)、1
963王、3班0頁。5 ).サラシン(Sarasi
n)、ヘルベチア・キミカ。アクタ(Helv.Chi
m.Acね)、7巻、720頁(1924E)。6 B
.A.S.Fへ フランス特許第1468184号、ケ
ミカル・アブストラクト(Chem.Abstr.)、
67巻、81482(1927年)。
本発明は新規の第四級ィミダゾ1」ウム塩、より詳細に
は式によって表わされる塩、またはその水和物の製造法
に関する。
は式によって表わされる塩、またはその水和物の製造法
に関する。
上記および後記の式でAはフェニル、モノーおよびジー
ハロフェニルからなる群より選ばれる。
ハロフェニルからなる群より選ばれる。
Bはモノ−およびジーハロベンジル、モノーおよびジー
低級アルキルベンジル、フェネチル、モノーおよびジー
ハロフェネチル、低級アルキルおよび低級アルケニルか
らなる群より選ばれる。そしてDはィミダゾール環の窒
素に結合しておりアルキルまたは置換アルキルであるが
、置換基の性質は広く変ってもよい、基である。より詳
細にはBの前記の定義において低級アルキルベンジルの
置換基の定義に用いし、た表現「低級アルキル」とは、
たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イ
ソブチル、イソアミルなどのような、1〜6個の炭素原
子を有する、直鎖または枝分れ鎖炭化水素を表わす。
低級アルキルベンジル、フェネチル、モノーおよびジー
ハロフェネチル、低級アルキルおよび低級アルケニルか
らなる群より選ばれる。そしてDはィミダゾール環の窒
素に結合しておりアルキルまたは置換アルキルであるが
、置換基の性質は広く変ってもよい、基である。より詳
細にはBの前記の定義において低級アルキルベンジルの
置換基の定義に用いし、た表現「低級アルキル」とは、
たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イ
ソブチル、イソアミルなどのような、1〜6個の炭素原
子を有する、直鎖または枝分れ鎖炭化水素を表わす。
全体としてのBの定義において用いられる「低級アルキ
ル」は、たとえばメチル、ブチル、Sec−ペンチル、
nーヘプチル、n−オクチルなどのような1〜約8個の
炭素原子を有する直鎖または枝分れ鎖炭化水素鎖の意味
を有し、そして表現「低級アルケニル」とは、不飽和結
合、がェーナル結合に関して好ましくは8炭素原子にあ
るが、またyもしくは6炭素原子にあってもよい。
ル」は、たとえばメチル、ブチル、Sec−ペンチル、
nーヘプチル、n−オクチルなどのような1〜約8個の
炭素原子を有する直鎖または枝分れ鎖炭化水素鎖の意味
を有し、そして表現「低級アルケニル」とは、不飽和結
合、がェーナル結合に関して好ましくは8炭素原子にあ
るが、またyもしくは6炭素原子にあってもよい。
3〜約5個の炭素原子を有する不飽和炭化水素基を表わ
す。
す。
AおよびBの前記の定義において表現「ハロ」とは原子
量が127以下のハロゲン原子、すなわちクロロ、ブロ
モ、フルオロおよびヨードを表わす。
量が127以下のハロゲン原子、すなわちクロロ、ブロ
モ、フルオロおよびヨードを表わす。
Dはより詳細には次のように定義してもよい。
‘a)1〜12個の炭素原子を含んでいるアルキル基、
{b)式 式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選ばれ
「各R,は独立に水素「低級アルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフヱノキシ
からなる群から選ばれaおよびmは1〜2の整数であり
、 そしてnは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルアルキル基、{c)式
式中〜はチェニル、ハロチェニル、フェニル、一および
二置換フェニルからなる群から選ばれ、そして前記置換
フェニル中の各置換基はハロ、低級アルキルおよび低級
アルコキシからなる群から独立に選ばれ、そしてpは1
〜4の整数である、によって表わされるアロィルアルキ
ル基、剛式 式中R2は水素、ハロ、低級アルキル基、低級アルコキ
シ、ニトロおよびスルフアモイルからなる群から選ばれ
、R3は水素、ハロ、低級ァルキル、低級ァルコキシお
よびシアノからなる群から選ばれ、そしてpは1〜4の
整数である、によって表わされるアラルキル基、 {e} 式 式中各Arlは独立にフェニルおよびハロフヱニルから
なる群から選ばれる、によって表わされるジアリールメ
チル基、‘f} 式 式中各R4は独立に水素、ハロおよび低級アルキルから
なる群から選ばれ、そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基。
{b)式 式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選ばれ
「各R,は独立に水素「低級アルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフヱノキシ
からなる群から選ばれaおよびmは1〜2の整数であり
、 そしてnは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルアルキル基、{c)式
式中〜はチェニル、ハロチェニル、フェニル、一および
二置換フェニルからなる群から選ばれ、そして前記置換
フェニル中の各置換基はハロ、低級アルキルおよび低級
アルコキシからなる群から独立に選ばれ、そしてpは1
〜4の整数である、によって表わされるアロィルアルキ
ル基、剛式 式中R2は水素、ハロ、低級アルキル基、低級アルコキ
シ、ニトロおよびスルフアモイルからなる群から選ばれ
、R3は水素、ハロ、低級ァルキル、低級ァルコキシお
よびシアノからなる群から選ばれ、そしてpは1〜4の
整数である、によって表わされるアラルキル基、 {e} 式 式中各Arlは独立にフェニルおよびハロフヱニルから
なる群から選ばれる、によって表わされるジアリールメ
チル基、‘f} 式 式中各R4は独立に水素、ハロおよび低級アルキルから
なる群から選ばれ、そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基。
g式−(C止)q−Q−A〆
式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、〜2は
フェニル、一および二置換フヱニルおよびナフチルから
なる群から選ばれ、そして前記置換フェニル中の各置換
基は独立にハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよび
アリルからなる群から選ばれ、そしてqは2〜3の整数
である、 によって表わされるアリールェーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素およびハロからなる群から選ばれる、に
よって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、i
式式中R6は水素、ハロおよび低級ァルコキシからなる
群から選ばれ、そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチルル基、j
式 .‐CQ一CH=CH一Aド 式中Aドはフェニル、ハロフェニルおよびジーハロフェ
ニルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラ
ルケニル基、 k式 式中A〆はフェニル、ハロフェニルおよびジーハロフェ
ニルからなる群から選ばれる、によって表わされるフェ
ノキシ−2ーオキソプロピル基、そして式中Dの前記定
義において用いられた「低級アルキル」および「低級ア
ルコキシ」とは1〜5個の炭素原子を含んでいる基を意
味し、そして「ハロ」とはクロロ、フロモ、フルオロお
よびヨードを意味する。
フェニル、一および二置換フヱニルおよびナフチルから
なる群から選ばれ、そして前記置換フェニル中の各置換
基は独立にハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよび
アリルからなる群から選ばれ、そしてqは2〜3の整数
である、 によって表わされるアリールェーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素およびハロからなる群から選ばれる、に
よって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、i
式式中R6は水素、ハロおよび低級ァルコキシからなる
群から選ばれ、そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチルル基、j
式 .‐CQ一CH=CH一Aド 式中Aドはフェニル、ハロフェニルおよびジーハロフェ
ニルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラ
ルケニル基、 k式 式中A〆はフェニル、ハロフェニルおよびジーハロフェ
ニルからなる群から選ばれる、によって表わされるフェ
ノキシ−2ーオキソプロピル基、そして式中Dの前記定
義において用いられた「低級アルキル」および「低級ア
ルコキシ」とは1〜5個の炭素原子を含んでいる基を意
味し、そして「ハロ」とはクロロ、フロモ、フルオロお
よびヨードを意味する。
前記式(1)においてアニオンW‐は任意の医薬的に許
容しうるアニオンであってもよく、好ましくはたとえば
ハロゲン化水素酸イオン(halideion)、好ま
しくは塩酸、臭化水素酸、またはョウ化水素酸イオンの
ような適当なアルコールの反応性ェステルから生ずるイ
オン、またはたとえばメタンスルホン酸(メシル酸)イ
オン(methanes山fonaに(mesylat
e)ion)もしくはpートルェンスルホン酸(トシル
酸)イオン(p−blue肥sulfoMte(tos
ylate)ion)のような反応性ェステルから生ず
る他のイオンである。
容しうるアニオンであってもよく、好ましくはたとえば
ハロゲン化水素酸イオン(halideion)、好ま
しくは塩酸、臭化水素酸、またはョウ化水素酸イオンの
ような適当なアルコールの反応性ェステルから生ずるイ
オン、またはたとえばメタンスルホン酸(メシル酸)イ
オン(methanes山fonaに(mesylat
e)ion)もしくはpートルェンスルホン酸(トシル
酸)イオン(p−blue肥sulfoMte(tos
ylate)ion)のような反応性ェステルから生ず
る他のイオンである。
W‐の範囲内にある他の医薬的に許容しうるアニオンは
、たとえば、鉱酸から生ずるアニオン、たとえば硝酸、
硫酸および燐酸イオン、ならびにたとえば酢酸、プロピ
オン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、
コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、
クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マンデル酸、ェタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロヘキサンスルフ
アミン酸、サリチル酸、pーアミノサリチル酸等のごと
き有機酸から生ずるイオンである。
、たとえば、鉱酸から生ずるアニオン、たとえば硝酸、
硫酸および燐酸イオン、ならびにたとえば酢酸、プロピ
オン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、
コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、
クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マンデル酸、ェタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロヘキサンスルフ
アミン酸、サリチル酸、pーアミノサリチル酸等のごと
き有機酸から生ずるイオンである。
一般に反応性ェステルから生ずるアニオンはZ‐によっ
て表わし、塩が塩酸塩、臭化水素酸塩またはョウ化水素
酸塩であるとき、アニオンをX‐によって表わすことが
できる。
て表わし、塩が塩酸塩、臭化水素酸塩またはョウ化水素
酸塩であるとき、アニオンをX‐によって表わすことが
できる。
式(1)の新規化合物は一般に結晶性固体であり、いよ
いよ水和物として得られる。
いよ水和物として得られる。
本化合物は少なくとも1つ、そしていまいま1以上の不
整中心有し、そのため1もし〈はそれ以上の異性体の形
でラセミ体として得られるか、当分野において公知の方
法によって1もし〈はそれ以上の異性体の形に分離する
ことができる。その上、多くの化合物がそれらの構造中
に二重結合を有し、シスまたはトランス異性体またはも
し所望により分離することができる異性体の混合物とし
て得られる。異性体は本発明の範囲内にあるものとする
。式(1)の新規のィミダゾリウム塩はとくに細菌とそ
の他の菌類(bacteriaandf肌罫)を抑制す
るための抗微生物剤として有用であり、防腐剤および治
療薬組成物の活性成分として用いられる。本化合物のう
ちのあるものは、容易にに他の官能基に変えることがで
きる。○置換上に官能基を有する。それゆえ、そのよう
な化合物は他の新規化合物の製造に対する中間体として
有用である。本発明の新規ィミダゾリウム塩は、Aおよ
びBが上に示した意味を有する式(0)のィミダゾール
誘導体を、Dは上で定義したものであり、Zはたとえば
ハロ、メタンスルホニル(メシル)、p−トルエンスル
ホニル(トシル)、メジチルなどのような反応性ェステ
ル基である反応性ェステルDZ(m)と反応させ、そし
て所望により、式(1)の目的の塩を得るため、このよ
うにして得られた化合物(1−a)中のアニオンZ‐を
他の治療的に許容しうるアニオンW‐と交換することに
よって製造することができる。
整中心有し、そのため1もし〈はそれ以上の異性体の形
でラセミ体として得られるか、当分野において公知の方
法によって1もし〈はそれ以上の異性体の形に分離する
ことができる。その上、多くの化合物がそれらの構造中
に二重結合を有し、シスまたはトランス異性体またはも
し所望により分離することができる異性体の混合物とし
て得られる。異性体は本発明の範囲内にあるものとする
。式(1)の新規のィミダゾリウム塩はとくに細菌とそ
の他の菌類(bacteriaandf肌罫)を抑制す
るための抗微生物剤として有用であり、防腐剤および治
療薬組成物の活性成分として用いられる。本化合物のう
ちのあるものは、容易にに他の官能基に変えることがで
きる。○置換上に官能基を有する。それゆえ、そのよう
な化合物は他の新規化合物の製造に対する中間体として
有用である。本発明の新規ィミダゾリウム塩は、Aおよ
びBが上に示した意味を有する式(0)のィミダゾール
誘導体を、Dは上で定義したものであり、Zはたとえば
ハロ、メタンスルホニル(メシル)、p−トルエンスル
ホニル(トシル)、メジチルなどのような反応性ェステ
ル基である反応性ェステルDZ(m)と反応させ、そし
て所望により、式(1)の目的の塩を得るため、このよ
うにして得られた化合物(1−a)中のアニオンZ‐を
他の治療的に許容しうるアニオンW‐と交換することに
よって製造することができる。
(0)と(m)の反応は適当なィミダゾール(0)とD
Z(m)を好ましくは適当な溶媒中でかきまぜることに
よって行なう。
Z(m)を好ましくは適当な溶媒中でかきまぜることに
よって行なう。
イミダゾール(n)とDZの正確な割合は臨界的ではな
く、目的のィミダゾリウム塩のいくつかはいかなる場合
においても得られる。実質的に当モル量を用いることに
よって良い結果が得られている。適当な溶媒には、たと
えばアセトニトリル、ベンゾニニトリルなどのようなニ
トリル、たとえば塩化メチレン、テトラクロロェタンな
どのようなハロゲン化低級炭化水素、たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパノールなどのような低級アルカ
ノール、たとえばアセトン、4ーメチル−2−ペンタノ
ンなどのような低級アルカノン、およびジメチルホルム
アミドを含むほかの普通の触媒が含まれる。
く、目的のィミダゾリウム塩のいくつかはいかなる場合
においても得られる。実質的に当モル量を用いることに
よって良い結果が得られている。適当な溶媒には、たと
えばアセトニトリル、ベンゾニニトリルなどのようなニ
トリル、たとえば塩化メチレン、テトラクロロェタンな
どのようなハロゲン化低級炭化水素、たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパノールなどのような低級アルカ
ノール、たとえばアセトン、4ーメチル−2−ペンタノ
ンなどのような低級アルカノン、およびジメチルホルム
アミドを含むほかの普通の触媒が含まれる。
反応速度を高めるために、いくらか高い温度が用いられ
る。
る。
溶媒の還流温度で反応を行なうのが便利である。DZ中
のDがその構造内にアミノ窒素を有する時、反応物質は
その酸付加塩の形で用いてもよし、。
のDがその構造内にアミノ窒素を有する時、反応物質は
その酸付加塩の形で用いてもよし、。
そのような場合に、適当な酸受容体、好ましくは、たと
えば炭酸ナトリウムか重炭酸ナトリウムのような金属塩
基の介在が適当である。イミダゾリウム塩の多くはほと
んどまたはまったく精製を必要としないか、塩のあるも
のは好ましくは1つもしくはそれ以上の精製操作にかけ
る。
えば炭酸ナトリウムか重炭酸ナトリウムのような金属塩
基の介在が適当である。イミダゾリウム塩の多くはほと
んどまたはまったく精製を必要としないか、塩のあるも
のは好ましくは1つもしくはそれ以上の精製操作にかけ
る。
適当な精製操作には再結晶、シリカゲルもしくは活性炭
のような吸着剤による処理、カラムクロマトグラフィー
、洗浄などが含まれる。別法として式(1)の化合物は
Dが上記で定義された式(W)のィミダゾール誘導体を
、A、BおよびZが上に示した意味を有する式(V)の
反応性ェステルと反応させることによって、そして所望
により、このようにして得られた化合物のアニオンを交
換することによって製造することができる。
のような吸着剤による処理、カラムクロマトグラフィー
、洗浄などが含まれる。別法として式(1)の化合物は
Dが上記で定義された式(W)のィミダゾール誘導体を
、A、BおよびZが上に示した意味を有する式(V)の
反応性ェステルと反応させることによって、そして所望
により、このようにして得られた化合物のアニオンを交
換することによって製造することができる。
本反応は中間体(0)および(m)から出発する(1)
の製造に対して記載されたものと同様な方法によって行
なってもよい。
の製造に対して記載されたものと同様な方法によって行
なってもよい。
ィミダゾIJゥム塩の異なった塩への転化は公知の方法
によって行なうことができる。
によって行なうことができる。
そのような転化を達成するための1つの一般的な方法は
ィミダゾIJゥム塩を塩基と反応させて対応するィミダ
ゾリウム水酸化物を生成させ、その後でィミダゾIJゥ
ム水酸化物を適当な酸と反応させて第2のィミダゾIJ
ゥム塩を生成させるものである。
ィミダゾIJゥム塩を塩基と反応させて対応するィミダ
ゾリウム水酸化物を生成させ、その後でィミダゾIJゥ
ム水酸化物を適当な酸と反応させて第2のィミダゾIJ
ゥム塩を生成させるものである。
都合のよい方法はィミダゾリウム塩の溶媒を、樹脂があ
らかじめ水酸基の形に変えられている、イオン交換樹脂
のカラム上に入れ、生成する第四級ィミダゾIJゥム水
酸化物を溶出させて、そして適当な酸の溶液を溶出液に
加え、その後で目的の塩を通常の方法によって分離する
ことからなる方法である。この操作に対して適当な溶媒
は低級アルカノールのような極性溶媒である。別法とし
て、ィミダゾリウム塩は第一の塩を第二の塩のァニオン
に対応する酸の大過剰と反応させることによって第2の
目的の塩に変えてもよい。
らかじめ水酸基の形に変えられている、イオン交換樹脂
のカラム上に入れ、生成する第四級ィミダゾIJゥム水
酸化物を溶出させて、そして適当な酸の溶液を溶出液に
加え、その後で目的の塩を通常の方法によって分離する
ことからなる方法である。この操作に対して適当な溶媒
は低級アルカノールのような極性溶媒である。別法とし
て、ィミダゾリウム塩は第一の塩を第二の塩のァニオン
に対応する酸の大過剰と反応させることによって第2の
目的の塩に変えてもよい。
反応は好ましくは低級アルカノールのような極性溶媒中
で、便宜的には還流し、その後で通常の方法によって回
収することによって行なう。式(0)のィミダゾール誘
導体は一般に公知である。そのような化合物と前記のも
のの製造法は米国特許第3658813号および第37
17655号に記載されている。それらは一般に適当な
ィミダゾール−・ーエタノール(町)の○ーァルキル化
、たとえば、その水酸基がアルカリ金属アミドのような
強塩基による処理によつて予備的にアルカリ金属塩に変
えられている(W)を、×がハロ基、好ましくはブロモ
またはクロロである適当なハロゲン化物BXと接触させ
ることによって製造する。
で、便宜的には還流し、その後で通常の方法によって回
収することによって行なう。式(0)のィミダゾール誘
導体は一般に公知である。そのような化合物と前記のも
のの製造法は米国特許第3658813号および第37
17655号に記載されている。それらは一般に適当な
ィミダゾール−・ーエタノール(町)の○ーァルキル化
、たとえば、その水酸基がアルカリ金属アミドのような
強塩基による処理によつて予備的にアルカリ金属塩に変
えられている(W)を、×がハロ基、好ましくはブロモ
またはクロロである適当なハロゲン化物BXと接触させ
ることによって製造する。
Bがアミノフェニル基である式(0)のィミダゾールは
対応するニトロフェニル化合物の還元によって、たとえ
ばPd−C上の日2または発生期の水素たとえばZn一
日OAc、などとの接触のような接触水素化によって得
る。もしくは、式(D)の中間体は特顔昭50−133
153号に記載された式(V)の反応性ェステルとィミ
ダゾールの反応によって製造してもよい。
対応するニトロフェニル化合物の還元によって、たとえ
ばPd−C上の日2または発生期の水素たとえばZn一
日OAc、などとの接触のような接触水素化によって得
る。もしくは、式(D)の中間体は特顔昭50−133
153号に記載された式(V)の反応性ェステルとィミ
ダゾールの反応によって製造してもよい。
その多くのものが公知である式(V)の反応性ェステル
は上記の出願中に概説されている操作にしたがって製造
してもよい。本発明の実施に適する式(山)のD−Z化
合物は目的のィミダゾIJウム塩中のD置換基の範囲に
相当する多くの部類の化合物と種々の構造を表わす。
は上記の出願中に概説されている操作にしたがって製造
してもよい。本発明の実施に適する式(山)のD−Z化
合物は目的のィミダゾIJウム塩中のD置換基の範囲に
相当する多くの部類の化合物と種々の構造を表わす。
DZの構造の必要条件はハロゲン、メタンスルホネート
、p−トルエンスルホネート、またはイミダゾール(0
)を第四級化するに充分な反応性の基を生ずる他のアニ
オンの存在である。
、p−トルエンスルホネート、またはイミダゾール(0
)を第四級化するに充分な反応性の基を生ずる他のアニ
オンの存在である。
1より多くないそのような反応基を持つことが望ましい
。
。
しかしながら、さらにハロゲン置換基が芳香核上の官能
基として、またはトリフルオロメチルのような基の一部
として存在してもよい。ハロ化合物であるDZ化合物、
すなわちDXによって表わしてもよい化合物の多くは市
販されてい・るか、文献に記載されている。
基として、またはトリフルオロメチルのような基の一部
として存在してもよい。ハロ化合物であるDZ化合物、
すなわちDXによって表わしてもよい化合物の多くは市
販されてい・るか、文献に記載されている。
本化合物のうちのいくつかは新規であり、それらの合成
は次に記載する。DZ化合物のすべては当業者に公知の
方法を用いて製造してもよい。これらの方法のいくつか
が塩素および臭素化合物の製造に対して好ましく、そし
てヨウ素化合物は好ましくは対応する塩素または臭素化
合物から後者とョウ化ナトリウムとの反応によって製造
されることに注目すべきである。
は次に記載する。DZ化合物のすべては当業者に公知の
方法を用いて製造してもよい。これらの方法のいくつか
が塩素および臭素化合物の製造に対して好ましく、そし
てヨウ素化合物は好ましくは対応する塩素または臭素化
合物から後者とョウ化ナトリウムとの反応によって製造
されることに注目すべきである。
ハロ化合物DXが式(肌)
を有するN−置換ハロアルキルカルボンアミドであると
き「それは好ましくは冷却して、適当なアミン(W)ま
たはその酸付加塩を適当なハロゲン化ハロアシル(瓜)
と、好ましくはたとえば第三級ァミンまたは無機塩基の
ような酸受容体の存在で、たとえば1・2−ジクロロェ
タンのような適当な溶媒中で反応させることによって、
あるいは適当なアミンハロゲン化水素をハロゲン化ハロ
アシルと、ジオキサンのような適当な有機溶媒中でたん
に加熱することによって、そしてその後で反応混合物か
ら通常の操作によってN−置換ハロアルキルカルボンア
ミドを回収することによって製造してもよい。
き「それは好ましくは冷却して、適当なアミン(W)ま
たはその酸付加塩を適当なハロゲン化ハロアシル(瓜)
と、好ましくはたとえば第三級ァミンまたは無機塩基の
ような酸受容体の存在で、たとえば1・2−ジクロロェ
タンのような適当な溶媒中で反応させることによって、
あるいは適当なアミンハロゲン化水素をハロゲン化ハロ
アシルと、ジオキサンのような適当な有機溶媒中でたん
に加熱することによって、そしてその後で反応混合物か
ら通常の操作によってN−置換ハロアルキルカルボンア
ミドを回収することによって製造してもよい。
DXが式(X)
によって表わされるハロゲン化アロィルアルキルである
とき、本化合物は一般に入手し得るか、よく知られた方
法によって容易に製造される。
とき、本化合物は一般に入手し得るか、よく知られた方
法によって容易に製造される。
ハロ化合物(X)がQ−ハロアルキルチヱニルケトンま
たはQ−ハロアシロフェノン化合物であるとき、それは
適当なアルキルチヱニルケトンまたはアシロフェノンの
Qーハロゲン化によって、たとえばケトンをN−ブロモ
−、N−クロロ−、またはN−ヨードーサクシンンィミ
ドと不活性溶媒、たとえば四塩化炭素中で、好ましくは
還流下で数時間よく接触させることによって製造しても
よい。ハロゲンが鎖の末端の位置にあるとき、本化合物
は、たとえばハロゲン化のーハロアシルをフリーデル・
クラフト条件(たとえば二硫化炭素またはニトロベンゼ
ン中の過剰の塩化アルミニウム)下で適当に置換された
芳香族化合物と反応させるような、フリーデル・クラフ
ト反応によるアシル化によって製造してもよい。上記の
操作の1つによって製造したハロ化合物(X)は通常の
操作によって反応混合物から回収する。DXが式(M) によって表わされるハロゲン化アラルキルであるとき、
本化合物は公知であるか、アルキル置換芳香族炭化水素
の側鎖ハロゲン化、芳香族アルコ−ル中の水酸基の置換
、ハロァルキル芳香族化合物中の1つのハロゲンの他の
ハロゲンによる置換、またはジハロアルカンを用いるフ
リーデル・クラフト反応によるアルキル化のような通常
の操作によって製造してもよい。
たはQ−ハロアシロフェノン化合物であるとき、それは
適当なアルキルチヱニルケトンまたはアシロフェノンの
Qーハロゲン化によって、たとえばケトンをN−ブロモ
−、N−クロロ−、またはN−ヨードーサクシンンィミ
ドと不活性溶媒、たとえば四塩化炭素中で、好ましくは
還流下で数時間よく接触させることによって製造しても
よい。ハロゲンが鎖の末端の位置にあるとき、本化合物
は、たとえばハロゲン化のーハロアシルをフリーデル・
クラフト条件(たとえば二硫化炭素またはニトロベンゼ
ン中の過剰の塩化アルミニウム)下で適当に置換された
芳香族化合物と反応させるような、フリーデル・クラフ
ト反応によるアシル化によって製造してもよい。上記の
操作の1つによって製造したハロ化合物(X)は通常の
操作によって反応混合物から回収する。DXが式(M) によって表わされるハロゲン化アラルキルであるとき、
本化合物は公知であるか、アルキル置換芳香族炭化水素
の側鎖ハロゲン化、芳香族アルコ−ル中の水酸基の置換
、ハロァルキル芳香族化合物中の1つのハロゲンの他の
ハロゲンによる置換、またはジハロアルカンを用いるフ
リーデル・クラフト反応によるアルキル化のような通常
の操作によって製造してもよい。
側鎖ハロゲン化はQ−ハロアシロフェノン化合物の製造
に用いられたものと同様な方法で、すなわち不活性溶媒
中でN−ハロサクシ〃ィミドと加熱して生成物を通常の
操伸こよっで回収することによって行なってもよい。
に用いられたものと同様な方法で、すなわち不活性溶媒
中でN−ハロサクシ〃ィミドと加熱して生成物を通常の
操伸こよっで回収することによって行なってもよい。
水酸基のハロゲンによる置換によるハロゲン化アラルキ
ルの製造は、たとえば塩化チオニルまたは三臭化リンの
ような無機ハロゲン化物の有機溶媒中の適当なアルカノ
ールへの滴下、そしてその後で反応を室温またはわずか
に高い温度で約1錨時間までの時間反応を継続させ、目
的のハロゲン化アラルキルを得て、生成物を通常の方法
によって回収するような、よく知られた方法によって行
なってもよい。
ルの製造は、たとえば塩化チオニルまたは三臭化リンの
ような無機ハロゲン化物の有機溶媒中の適当なアルカノ
ールへの滴下、そしてその後で反応を室温またはわずか
に高い温度で約1錨時間までの時間反応を継続させ、目
的のハロゲン化アラルキルを得て、生成物を通常の方法
によって回収するような、よく知られた方法によって行
なってもよい。
用いられるもう1つの合成法はQ・の−ジハロァルカン
を用いるフリーデル・クラフト反応によるアルキル化で
ある。
を用いるフリーデル・クラフト反応によるアルキル化で
ある。
そのような操作で、Q・のージハロアルカンはかきまぜ
て冷却しながら無水条件下で塩化アルミニウムと適当に
置換したベンゼンと二硫化炭素の混合物に加えて、次に
数時間加熱し、その後で生成物を通常の操作によって回
収してもよい。ハロゲン化アラルキルがョウ化物である
時、好ましくは対応する塩化物または臭化物からそのハ
ロゲンをヨウ素で置換することによって製造する。
て冷却しながら無水条件下で塩化アルミニウムと適当に
置換したベンゼンと二硫化炭素の混合物に加えて、次に
数時間加熱し、その後で生成物を通常の操作によって回
収してもよい。ハロゲン化アラルキルがョウ化物である
時、好ましくは対応する塩化物または臭化物からそのハ
ロゲンをヨウ素で置換することによって製造する。
それは一般に、適当なハロゲン化合物をョウ化ナトリウ
ムと一緒に約1〜1■時間加熱し、そしてその後で混合
物を水中に注ぎ、ョウ化ァラルキルを沈殿させ、そして
次に生成物を通常の操作によって回収することによって
行なう。式(柳) によって表わされるハロゲン化ジアリールメチル出発物
質は公知であるか、文献に記載されている方法によって
容易に製造される。
ムと一緒に約1〜1■時間加熱し、そしてその後で混合
物を水中に注ぎ、ョウ化ァラルキルを沈殿させ、そして
次に生成物を通常の操作によって回収することによって
行なう。式(柳) によって表わされるハロゲン化ジアリールメチル出発物
質は公知であるか、文献に記載されている方法によって
容易に製造される。
それらは、たとえばジアリールメタノールをベンゼンの
ような不活性溶媒中で塩化チオニルまたは三臭化リンの
ような適当なハロゲン化剤と、または濃塩酸と数時間、
好ましくは還流下でよく接触させ、その後でハロゲン化
ジアリールを回収することによって製造してもよい。反
応物質ジアリールメタノールは芳香族アルデヒドと芳香
族ハロゲン化物のグリニャール試薬との反応によって通
常の操作によって製造してもよい。式(Xm)によって
表わされるハロゲン化アリールアミノェチル化合物は、
たとえば水のような溶媒中で還流し、回収後にたとえば
アリールアミノェタノールをハロゲン化水素と接触させ
るような通常の方法によって適当なハロゲン化物に変え
られるアリールアミノェタノ−ルを得て、その後でその
ようにして得たハロゲン化アリールアミノヱチルを通常
の方法によって回収するような、通常の方法によって適
当なハロェタノールを適当なアリールアミンと反応させ
ることによって製造してもよい。
ような不活性溶媒中で塩化チオニルまたは三臭化リンの
ような適当なハロゲン化剤と、または濃塩酸と数時間、
好ましくは還流下でよく接触させ、その後でハロゲン化
ジアリールを回収することによって製造してもよい。反
応物質ジアリールメタノールは芳香族アルデヒドと芳香
族ハロゲン化物のグリニャール試薬との反応によって通
常の操作によって製造してもよい。式(Xm)によって
表わされるハロゲン化アリールアミノェチル化合物は、
たとえば水のような溶媒中で還流し、回収後にたとえば
アリールアミノェタノールをハロゲン化水素と接触させ
るような通常の方法によって適当なハロゲン化物に変え
られるアリールアミノェタノ−ルを得て、その後でその
ようにして得たハロゲン化アリールアミノヱチルを通常
の方法によって回収するような、通常の方法によって適
当なハロェタノールを適当なアリールアミンと反応させ
ることによって製造してもよい。
DXが式〜2−Q−(C凡)q−X(XW)
によって表わされるハロゲン化アリールオキシアルキル
またはハロアルキルチオエーテルである時、それは適当
なフェノールまたはチオフェノ−ルと適当なジハロアル
カンから、実質的に当モル量の反応物質を塩基の存在で
一緒に加熱し、そしてその後でそのようにして得られた
ハロゲン化アリールオキシアルキルまたはハロアルキル
チオエ−テルを通常の操作によって回収することによっ
て製造してもよい。
またはハロアルキルチオエーテルである時、それは適当
なフェノールまたはチオフェノ−ルと適当なジハロアル
カンから、実質的に当モル量の反応物質を塩基の存在で
一緒に加熱し、そしてその後でそのようにして得られた
ハロゲン化アリールオキシアルキルまたはハロアルキル
チオエ−テルを通常の操作によって回収することによっ
て製造してもよい。
DXが式(XV)
の臭化または塩化ジヒドロベンゾフラニルメチルである
時、それは次の反応連鎖によって製造してもよい。
時、それは次の反応連鎖によって製造してもよい。
次の操作で、中間体の各々は好ましくは回収し、次の過
程に処理する前に通常の方法によって精製する。
程に処理する前に通常の方法によって精製する。
反応の第一工程を行なう時に、適当なフェノール(XW
)はハロゲン化アリルと、アセトンのような適当な溶媒
中で、炭酸カリウムのような塩基の存在で反応させる。
)はハロゲン化アリルと、アセトンのような適当な溶媒
中で、炭酸カリウムのような塩基の存在で反応させる。
アリル転位はアリルオキシベンゼソ生成物(X肌)を約
240〜約260qCの温度で加熱し、目的の2ーアリ
ルフェノール(XW)を得ることによって行なってもよ
い。ェステル化工程は、通常の方法によってあらかじめ
製造した(X地)のアルカリ金属(好ましくはナトリウ
ム)塩を無水酢酸のようなアシル化剤と反応させ、アリ
ルアセトキシベンゼン(MX)を得ることによって行な
ってもよい。
240〜約260qCの温度で加熱し、目的の2ーアリ
ルフェノール(XW)を得ることによって行なってもよ
い。ェステル化工程は、通常の方法によってあらかじめ
製造した(X地)のアルカリ金属(好ましくはナトリウ
ム)塩を無水酢酸のようなアシル化剤と反応させ、アリ
ルアセトキシベンゼン(MX)を得ることによって行な
ってもよい。
ハロゲン付加過程はハロゲン化剤(好ましくは臭素また
は塩素)を二硫化炭素または炭化水素のような不活性溶
媒中の(MX)の溶液に添加し、目的の(2・3ージハ
ロプロピル)アセトキシベンゼン中間生成物(XX)を
得ることによって行なってもよい。
は塩素)を二硫化炭素または炭化水素のような不活性溶
媒中の(MX)の溶液に添加し、目的の(2・3ージハ
ロプロピル)アセトキシベンゼン中間生成物(XX)を
得ることによって行なってもよい。
続いて閉環がナトリウムェトキシドのような適当な環化
剤を用いてエタノール中で行なわれ、目的の2−ハロェ
チル−2・3ージヒドロー球−ペンゾフラン(XV)を
得る。
剤を用いてエタノール中で行なわれ、目的の2−ハロェ
チル−2・3ージヒドロー球−ペンゾフラン(XV)を
得る。
LX化合物が式(X幻)
のQーハロメチルベンジルアルコールである時、それは
たとえば水素化ホウ素ナトリウムのような適当な還元剤
と充分に接触させ、そしてその後で酸性にし、そして通
常の操作によって回収することによるような、対応する
Q−ハロアセトフェノンの還元によって製造してもよい
。
たとえば水素化ホウ素ナトリウムのような適当な還元剤
と充分に接触させ、そしてその後で酸性にし、そして通
常の操作によって回収することによるような、対応する
Q−ハロアセトフェノンの還元によって製造してもよい
。
DXが式(X柳)
〜3一CH=CH一CH2一X(X刈)
によって表わされるハロゲン化ハロシンナミルであり、
そして〜3がハロフエニルまたはジハロフヱニルである
時、それは適当なハロ−Qービニルベンジルアルコール
のアリル単位によって製造してもよい。
そして〜3がハロフエニルまたはジハロフヱニルである
時、それは適当なハロ−Qービニルベンジルアルコール
のアリル単位によって製造してもよい。
そのような操作において、たとえばベンゼンやトルェン
のような、不活性溶媒中の適当なハローQービニルベン
ジルアルコールとハロゲン化水素酸を一緒に振とうし、
それによってアリル転位が起り、ハロゲン化ハロシンナ
ミルが生成し、次にそれを通常の方法によって回収する
。式(XXm)のハロゲン化アリールオキシ−2−オキ
ソプロピルはたとえば酸溶液中の重クロム酸水溶液と充
分に接触させ、そしてその後で通常の操作によって回収
することによるような、対応するアルコールの強い酸化
剤による酸化によって容易に合成される。前駆体アルコ
ールは一般に公知であり、そして適当な金属フェノラー
トとェピクロルヒドリンとの反応と得られたェポキシド
の適当なハロゲン化水素による開裂のような、公知の方
法によって合成してもよい。
のような、不活性溶媒中の適当なハローQービニルベン
ジルアルコールとハロゲン化水素酸を一緒に振とうし、
それによってアリル転位が起り、ハロゲン化ハロシンナ
ミルが生成し、次にそれを通常の方法によって回収する
。式(XXm)のハロゲン化アリールオキシ−2−オキ
ソプロピルはたとえば酸溶液中の重クロム酸水溶液と充
分に接触させ、そしてその後で通常の操作によって回収
することによるような、対応するアルコールの強い酸化
剤による酸化によって容易に合成される。前駆体アルコ
ールは一般に公知であり、そして適当な金属フェノラー
トとェピクロルヒドリンとの反応と得られたェポキシド
の適当なハロゲン化水素による開裂のような、公知の方
法によって合成してもよい。
DZ中のZがメタンスルホネートまたはp−トルェンス
ルホネートまたは他の反応性ェステルからのアニオンで
ある時、DZは同様に対応するアルコールD−OHから
ェステル化によって得てもよい。
ルホネートまたは他の反応性ェステルからのアニオンで
ある時、DZは同様に対応するアルコールD−OHから
ェステル化によって得てもよい。
反応はハロゲン化pートルェンスルホニル、ハロゲン化
メタンスルホニルなどを塩基の存在でD−OH化合物に
加え、ェステルを通常の操作によって回収することによ
って行なってもよい。DXがD−OHよりも容易に入手
し得る時、.DXはハロ化合物と新しく調製した湿った
酸化銀との反応によって、またはハロゲン化物を酢酸ア
ルカリで処理し、それによって生じたェステルをケン化
することによってD−OHに変えてもよい。その後で、
D−OHは対応するメタンスルホネートまたは他の反応
性ェステルに変えてもよい。DXからのD−OHの合成
はDXを湿った酸化銀のスラリーに加え、1〜数時間か
きまぜ、得られたD−OHを適当な溶媒に溶解させ、そ
れを固体の無機物質から分離し、そして生成物を通常の
操作によって回収するごとによって行なってもよい。本
発明のィミダゾIJゥム塩は抗微生物剤として有用であ
り、たとえば大小胞子菌(Microspo川mcan
is)、ステノミセス・メンタグロフイテス(Cten
omycesmenねgrophyにs)、狸紅色白鷺
菌(Trichophれonmbr山m)、フィアラフ
オラ.ベルコサ(PhialaphoravenMos
a)、クリプトコクス・ネオホルマンス(Crypt比
occus肥ofonna船)、カンデイダ・トロピカ
リス(Ca肘i舷 tropicalis)、鴬口魔
力 ン ジ ダ{Candi地 albica船)、ム
コル・スベシエスス(Mucor species)、
姻色麹菌ケ ム カ ピ($pergllusfumi
gat船)、スポロトリクム・スケンキイGporot
rich山msche比kii)、サボロレグニア・ス
ベシエス (Saprole餌iaspecies)、
サルモネラ・プロルム・ガリナルム(Salmonel
lap肌ormm galliMrum)、大腸菌(E
scherichiacoli)、緑膿菌(Pseud
omoMsacrugl皿sa)、ェリシベロトリクス
・インシデイオサ(Eひsipelothrjxj船i
diosa)、溶血性連鎖球菌、(SねphyIMoc
c船hemolytic船)および化膿連鎖球菌(S口
ept比比c雌pyo鞍nes)のような微生物の抑制
のための抗細菌および抗糸状菌組成物中の活性成分とし
て用いることができる。
メタンスルホニルなどを塩基の存在でD−OH化合物に
加え、ェステルを通常の操作によって回収することによ
って行なってもよい。DXがD−OHよりも容易に入手
し得る時、.DXはハロ化合物と新しく調製した湿った
酸化銀との反応によって、またはハロゲン化物を酢酸ア
ルカリで処理し、それによって生じたェステルをケン化
することによってD−OHに変えてもよい。その後で、
D−OHは対応するメタンスルホネートまたは他の反応
性ェステルに変えてもよい。DXからのD−OHの合成
はDXを湿った酸化銀のスラリーに加え、1〜数時間か
きまぜ、得られたD−OHを適当な溶媒に溶解させ、そ
れを固体の無機物質から分離し、そして生成物を通常の
操作によって回収するごとによって行なってもよい。本
発明のィミダゾIJゥム塩は抗微生物剤として有用であ
り、たとえば大小胞子菌(Microspo川mcan
is)、ステノミセス・メンタグロフイテス(Cten
omycesmenねgrophyにs)、狸紅色白鷺
菌(Trichophれonmbr山m)、フィアラフ
オラ.ベルコサ(PhialaphoravenMos
a)、クリプトコクス・ネオホルマンス(Crypt比
occus肥ofonna船)、カンデイダ・トロピカ
リス(Ca肘i舷 tropicalis)、鴬口魔
力 ン ジ ダ{Candi地 albica船)、ム
コル・スベシエスス(Mucor species)、
姻色麹菌ケ ム カ ピ($pergllusfumi
gat船)、スポロトリクム・スケンキイGporot
rich山msche比kii)、サボロレグニア・ス
ベシエス (Saprole餌iaspecies)、
サルモネラ・プロルム・ガリナルム(Salmonel
lap肌ormm galliMrum)、大腸菌(E
scherichiacoli)、緑膿菌(Pseud
omoMsacrugl皿sa)、ェリシベロトリクス
・インシデイオサ(Eひsipelothrjxj船i
diosa)、溶血性連鎖球菌、(SねphyIMoc
c船hemolytic船)および化膿連鎖球菌(S口
ept比比c雌pyo鞍nes)のような微生物の抑制
のための抗細菌および抗糸状菌組成物中の活性成分とし
て用いることができる。
ィミダゾリウム塩による細菌および糸状菌微生物の抑制
を説明する代表的な操作は以下に記載する。
を説明する代表的な操作は以下に記載する。
糸状菌の抑制試験はサブローの液体塔地(蒸留水100
の‘につきDifcoネオベプト・ン1夕とDjfco
グルコース2夕)を用いて、各々4.5肌の液体塔地を
含んでいる試験管中で、120q0で1粉ン間オ−トク
レーブを用いて行なった。
の‘につきDifcoネオベプト・ン1夕とDjfco
グルコース2夕)を用いて、各々4.5肌の液体塔地を
含んでいる試験管中で、120q0で1粉ン間オ−トク
レーブを用いて行なった。
イミダゾリウム塩は50%エタノール中に20のo/地
の濃度に溶解し、そしてその後で無菌の蒸留水で希釈し
、10の9′の‘の濃度を得ることによって試験のため
に調製した。次に逐次1/10、の希釈を無菌蒸留水で
行ない、一連の試験溶液を調製した。試験を行なう時、
試験溶液の1つの0.5机上を4.5の‘のサブロー液
体培地に加え、試験培地を得る。この方法で、適当な試
験溶液から、培地1泌につき100り夕、10山夕およ
び1ムタのィミダゾ1」ウム塩を含んでいる試験培地を
得た。対照管は4.5の‘の培地に無菌蒸留水0.5机
とを加えることによって調製した。
の濃度に溶解し、そしてその後で無菌の蒸留水で希釈し
、10の9′の‘の濃度を得ることによって試験のため
に調製した。次に逐次1/10、の希釈を無菌蒸留水で
行ない、一連の試験溶液を調製した。試験を行なう時、
試験溶液の1つの0.5机上を4.5の‘のサブロー液
体培地に加え、試験培地を得る。この方法で、適当な試
験溶液から、培地1泌につき100り夕、10山夕およ
び1ムタのィミダゾ1」ウム塩を含んでいる試験培地を
得た。対照管は4.5の‘の培地に無菌蒸留水0.5机
とを加えることによって調製した。
試験塔地中に存在する量に似せるためにエタノールもま
た加える。糸状菌(filamentousfungi
)は2500で2〜3週間培養した。側面2肋の四角の
ブロックを切り取り、液体塔地中に入れた。サブロー液
体塔地上の3日間培養菌をイーストに対して用いた。接
種材料は試験管あたり0.05の【であった。すべての
培養菌は25℃で14日間培養した。第1表は本発明の
ィミダゾiJゥム塩が有する広範囲の抗糸状菌性を説明
する。
た加える。糸状菌(filamentousfungi
)は2500で2〜3週間培養した。側面2肋の四角の
ブロックを切り取り、液体塔地中に入れた。サブロー液
体塔地上の3日間培養菌をイーストに対して用いた。接
種材料は試験管あたり0.05の【であった。すべての
培養菌は25℃で14日間培養した。第1表は本発明の
ィミダゾiJゥム塩が有する広範囲の抗糸状菌性を説明
する。
第1表にあげた化合物はィミダゾリウム塩を100ムタ
/の‘の濃度で用いた時、11種の糸状菌の完全な発育
阻止を示した。次の表の化合物は本発明を制限する目的
のためにあげられたのではなく、式1の範囲内のすべて
の化合物の有用な性質を例示するためであることが理解
されるべきである。
/の‘の濃度で用いた時、11種の糸状菌の完全な発育
阻止を示した。次の表の化合物は本発明を制限する目的
のためにあげられたのではなく、式1の範囲内のすべて
の化合物の有用な性質を例示するためであることが理解
されるべきである。
第1表
抗菌活性
大小胞子菌、ステノミセス・メンタグロフィテス、狸紅
色白鷹菌、フィアラフオラ・ベルコサ、クリプトコクス
・ネオホルマンス、カンデイダ・トロピカリス、鳶口燈
カンジダ、ムコル・スベシェス、姻色麹菌ケムカビ、ス
ポロトリクム・スケンキィ、サポロレグニア・スベシェ
スに対して100ムタ/の‘で100%発育阻止を示す
ィミダゾIJゥム塩。
色白鷹菌、フィアラフオラ・ベルコサ、クリプトコクス
・ネオホルマンス、カンデイダ・トロピカリス、鳶口燈
カンジダ、ムコル・スベシェス、姻色麹菌ケムカビ、ス
ポロトリクム・スケンキィ、サポロレグニア・スベシェ
スに対して100ムタ/の‘で100%発育阻止を示す
ィミダゾIJゥム塩。
第D表は多くの糸状菌種に対する本発明のィミダゾリウ
ム塩の多くの高い有効性を説明する。
ム塩の多くの高い有効性を説明する。
それゆえ、第0表は多くのィミダゾIJゥム塩によつて
、ある種の糸状菌の100%発育阻止が非常に少ないィ
ミダゾリウム塩濃度で達成されることを示す。鮒 礎 函 塩 聡 白 船 K 若さ 暴き ミミg へべ布 鴎 OS」こd .J。
、ある種の糸状菌の100%発育阻止が非常に少ないィ
ミダゾリウム塩濃度で達成されることを示す。鮒 礎 函 塩 聡 白 船 K 若さ 暴き ミミg へべ布 鴎 OS」こd .J。
・〇旨。
;ご…【 *
とくに顕著な抗糸状菌活性のために好ましい化合物はD
がフェネチルまたは置換フェネチルであるか、Dが力ル
ボニル、力ルバモイル、エーテルまたはアルコール官能
基を有する、ィミダゾIJウム塩である。
がフェネチルまたは置換フェネチルであるか、Dが力ル
ボニル、力ルバモイル、エーテルまたはアルコール官能
基を有する、ィミダゾIJウム塩である。
本発明の化合物はまた、代表的な操作をグラム陽性およ
びグラム陰性微生物について行なった時、良好な抗細菌
性を示す。
びグラム陰性微生物について行なった時、良好な抗細菌
性を示す。
細菌についての試薬はフェノールレッド・デキストロー
ス・肉汁培地(Difco)上の培養菌について行なっ
た。抗糸状菌活性の試験について記載した1/1伝希釈
法を用いることによって、培地1羽につき100仏夕、
10ムタおよび1ムタのィミダゾIJウム塩を含んでい
る謎験培地を得たた。接種材料は2岬時間培養菌からの
一白金耳(直径5肋)からなった。接種して4報時間後
、予備培養菌をィミダゾリウム塩の抗細菌活性の決定の
ために、各培養菌からつくった。7日間の培養後、バク
テリア増殖の存在または不在を観察して決定した。
ス・肉汁培地(Difco)上の培養菌について行なっ
た。抗糸状菌活性の試験について記載した1/1伝希釈
法を用いることによって、培地1羽につき100仏夕、
10ムタおよび1ムタのィミダゾIJウム塩を含んでい
る謎験培地を得たた。接種材料は2岬時間培養菌からの
一白金耳(直径5肋)からなった。接種して4報時間後
、予備培養菌をィミダゾリウム塩の抗細菌活性の決定の
ために、各培養菌からつくった。7日間の培養後、バク
テリア増殖の存在または不在を観察して決定した。
試験は化合物の多くが、広範囲活性を示すこと、そして
さらに多くの化合物がグラム陽・性微生物に対して非常
に高活性を示すことを示した。
さらに多くの化合物がグラム陽・性微生物に対して非常
に高活性を示すことを示した。
第m表は代表的なグラム陽・性微生物に対する広範囲活
性と高活性の両方を示す、代表的な化合物についての結
果を示す。その上、第m表にあげた抗細菌活性はたんに
式1の範囲内のすべての化合物が有する有用な性質の代
表的なものであることが理解されるべきである。斑 艇 櫨 裏 晦 船 白 船 4毛 ミ ぐ ト !ト ご ン 。
性と高活性の両方を示す、代表的な化合物についての結
果を示す。その上、第m表にあげた抗細菌活性はたんに
式1の範囲内のすべての化合物が有する有用な性質の代
表的なものであることが理解されるべきである。斑 艇 櫨 裏 晦 船 白 船 4毛 ミ ぐ ト !ト ご ン 。
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筆軍‐自負萎 簾の臼母ご法ら
【 X
上記の抗糸状菌および抗細菌活性からみて、本発明によ
れば溶媒または固体、半固体もしくは液体希釈剤もしく
は迫体中の活性成分としてのイミダゾリウム塩(1)か
らなる有価な組成物が提供され、そしてそれに加えて、
それはそのようなイミダゾ1′ゥム塩(1)の有効抗糸
状菌または抗細菌量の使用によって、糸状菌または細菌
の増殖を防除(com舷t)する有効な方法が提供され
る。
れば溶媒または固体、半固体もしくは液体希釈剤もしく
は迫体中の活性成分としてのイミダゾリウム塩(1)か
らなる有価な組成物が提供され、そしてそれに加えて、
それはそのようなイミダゾ1′ゥム塩(1)の有効抗糸
状菌または抗細菌量の使用によって、糸状菌または細菌
の増殖を防除(com舷t)する有効な方法が提供され
る。
ィミダゾリウム塩は適当な溶媒もしくは希釈剤中で「乳
濁液、懸濁液、分散液もしくは適当な固体もしくは半固
体担体物質上の軟膏の形で、普通のもしくは合成石けん
、洗剤もしくは分散媒体中で、所望により、殺ダニ、毅
昆虫、殺卵、殺糸状菌および/または殺細菌効果を有す
る他の化合物とともに、または不活性添加物とともに用
いることができる。粉末状の組成物の調製に適する固体
担体物質には、たとえばリン酸三カルシウム、調製した
チョークもしくは粉砕した石灰石状の炭酸カルシウム、
カオリン、こうかし、粘土、ベントナイト、タルカム、
けいそう土およびホウ酸のような、無機または有機質の
種々の不活性、多孔質および粉末の分散剤が含まれる。
濁液、懸濁液、分散液もしくは適当な固体もしくは半固
体担体物質上の軟膏の形で、普通のもしくは合成石けん
、洗剤もしくは分散媒体中で、所望により、殺ダニ、毅
昆虫、殺卵、殺糸状菌および/または殺細菌効果を有す
る他の化合物とともに、または不活性添加物とともに用
いることができる。粉末状の組成物の調製に適する固体
担体物質には、たとえばリン酸三カルシウム、調製した
チョークもしくは粉砕した石灰石状の炭酸カルシウム、
カオリン、こうかし、粘土、ベントナイト、タルカム、
けいそう土およびホウ酸のような、無機または有機質の
種々の不活性、多孔質および粉末の分散剤が含まれる。
粉末コルク、おがくず、および植物性のそのほかの細か
い粉末物質もまた適当な担体物質である。イミダゾリウ
ム塩は、たとえばそれとともに粉砕することによってこ
れらの担体物質と混合する。
い粉末物質もまた適当な担体物質である。イミダゾリウ
ム塩は、たとえばそれとともに粉砕することによってこ
れらの担体物質と混合する。
あるいは、不宿性担体物質は容易に揮発する溶媒中の活
性成分の溶液を含浸させ、その後で加熱または減圧下で
の吸引によって炉過することによって除去する。湿潤剤
および/または分散剤を加えることによって、粉末状の
調合物はまた水によって容易にぬれるようになり、懸濁
液を得る。液体調合物の製造に用いられる不活性溶媒は
、好ましくは容易に可燃性ではなく、適切な雰囲気で温
血動物または植物に対してできるだけ非毒性であるべき
である。この目的に適する溶媒は、たとえば植物性の高
沸点油および、たとえばィソプロパノール、ジメチルス
ルホキシド、水素化ナフタリンおよびアルキル化ナフタ
リンのような低沸点溶媒である。もちろん溶媒の混合物
を用いることもまた可能である。溶媒は、通常の方法で
、もし必要ならば、溶解促進剤の助けをかりて調製して
もよい。用いられるほかの液体の形は水または適当な不
活性溶媒中の活性化合物の懸濁液または分散液、または
必要な濃度に直接調節される、そのような懸濁液を調製
するための濃縮物からなる。この目的のために、イミダ
ゾリウム塩は分散剤または乳化剤と混合する。活性成分
はまた適当な不活性溶媒に溶解または分散させ、同時に
または続いて分散剤または乳化剤と混合することができ
る。また、もし必要ならば、ィミダゾリウム塩を熔解促
進剤および/または乳化剤の助けをかりて混合すること
ができる、クリーム状軟膏、ペーストまたはワックス状
の半圃体担体物質を用いることもまた可能である。
性成分の溶液を含浸させ、その後で加熱または減圧下で
の吸引によって炉過することによって除去する。湿潤剤
および/または分散剤を加えることによって、粉末状の
調合物はまた水によって容易にぬれるようになり、懸濁
液を得る。液体調合物の製造に用いられる不活性溶媒は
、好ましくは容易に可燃性ではなく、適切な雰囲気で温
血動物または植物に対してできるだけ非毒性であるべき
である。この目的に適する溶媒は、たとえば植物性の高
沸点油および、たとえばィソプロパノール、ジメチルス
ルホキシド、水素化ナフタリンおよびアルキル化ナフタ
リンのような低沸点溶媒である。もちろん溶媒の混合物
を用いることもまた可能である。溶媒は、通常の方法で
、もし必要ならば、溶解促進剤の助けをかりて調製して
もよい。用いられるほかの液体の形は水または適当な不
活性溶媒中の活性化合物の懸濁液または分散液、または
必要な濃度に直接調節される、そのような懸濁液を調製
するための濃縮物からなる。この目的のために、イミダ
ゾリウム塩は分散剤または乳化剤と混合する。活性成分
はまた適当な不活性溶媒に溶解または分散させ、同時に
または続いて分散剤または乳化剤と混合することができ
る。また、もし必要ならば、ィミダゾリウム塩を熔解促
進剤および/または乳化剤の助けをかりて混合すること
ができる、クリーム状軟膏、ペーストまたはワックス状
の半圃体担体物質を用いることもまた可能である。
ワセリンと他のクリームベースが半固体担体物質の例で
ある。さらに、イミダゾリウム塩をェーロゾルの形で用
いることが可能である。
ある。さらに、イミダゾリウム塩をェーロゾルの形で用
いることが可能である。
この目的のために、活性成分は、もし必要ならば、大気
圧で室温以下の温度で振とうする、ジフロロジクロロメ
タンのような担体液体のような適当な不活性溶媒の助け
をかりて、または他の揮発性溶媒中に溶解または分散さ
せる。この方法で、スプレーした後、たとえば密閉室お
よび貯蔵室で糸状菌と細菌を抑制するが防除するため、
そして糸状菌または細菌による感染を根絶するか防ぐた
めに植物に適用するためにとくに適するェーロゾルを生
ずる高圧下の溶液を得る。ィミダゾIJウム塩およびそ
の組成物は通常の方法によって適用することができる。
圧で室温以下の温度で振とうする、ジフロロジクロロメ
タンのような担体液体のような適当な不活性溶媒の助け
をかりて、または他の揮発性溶媒中に溶解または分散さ
せる。この方法で、スプレーした後、たとえば密閉室お
よび貯蔵室で糸状菌と細菌を抑制するが防除するため、
そして糸状菌または細菌による感染を根絶するか防ぐた
めに植物に適用するためにとくに適するェーロゾルを生
ずる高圧下の溶液を得る。ィミダゾIJウム塩およびそ
の組成物は通常の方法によって適用することができる。
たとえば糸状菌または細菌の増殖または処理されるべき
または糸状菌もしくは細菌による侵襲に対して保護され
るべき物質は、ふりかけ、散布、スプレー、はけぬり、
浸済、塗布、含浸または他の適当な手段によって、ィミ
ダゾリウム塩およびその組成物で処理することができる
。ィミダゾIJゥム塩を適当な担体との組合せで、たと
えば溶液、懸濁液、ダスト、粉末、軟膏、乳化液などの
形で用いる時、非常に高い希釈範囲にわたって高い活性
が観察される。
または糸状菌もしくは細菌による侵襲に対して保護され
るべき物質は、ふりかけ、散布、スプレー、はけぬり、
浸済、塗布、含浸または他の適当な手段によって、ィミ
ダゾリウム塩およびその組成物で処理することができる
。ィミダゾIJゥム塩を適当な担体との組合せで、たと
えば溶液、懸濁液、ダスト、粉末、軟膏、乳化液などの
形で用いる時、非常に高い希釈範囲にわたって高い活性
が観察される。
たとえば、用いた組成物の重量にもとづいて、0.1〜
10重量%の範囲の活性成分濃度が糸状菌もしくは細菌
を防除するさし、に有効であることが見いだされている
。もちろん、より高い濃度もまた特定の事態によって認
められるように用いてもよい。実施例 1 エーテル2$部中に水素化リチウムアルミニウム5.7
部のかきまぜられた混合物に、エーテル140部中に2
ーシアノ−3−クロロトルェン15部の溶液を還流温度
で滴下する。
10重量%の範囲の活性成分濃度が糸状菌もしくは細菌
を防除するさし、に有効であることが見いだされている
。もちろん、より高い濃度もまた特定の事態によって認
められるように用いてもよい。実施例 1 エーテル2$部中に水素化リチウムアルミニウム5.7
部のかきまぜられた混合物に、エーテル140部中に2
ーシアノ−3−クロロトルェン15部の溶液を還流温度
で滴下する。
添加の完結後、還流温度でのかきまぜを1時間続ける。
反応混合物を氷浴中で冷却し、25部の水と、酒石酸カ
リウムナトリウムの2戊客液(45礎部)で分解する。
水相を分離し、エーテルで抽出する。一緒にしたエーテ
ル層は水で洗い、乾燥し、炉遇し、蒸発させる。油状残
澄は真空で蒸留し、12部の2−クロロ−6−メチルベ
ソジルアミンを生ずる。沸点113〜11800(I8
肋Hg)。塩化エチレン40碇部中に2ークロロー6一
メチルベンゼンアミン35部とトリェチルアミン3俵部
の混合物をかきまぜ、一35o0に冷却する。
反応混合物を氷浴中で冷却し、25部の水と、酒石酸カ
リウムナトリウムの2戊客液(45礎部)で分解する。
水相を分離し、エーテルで抽出する。一緒にしたエーテ
ル層は水で洗い、乾燥し、炉遇し、蒸発させる。油状残
澄は真空で蒸留し、12部の2−クロロ−6−メチルベ
ソジルアミンを生ずる。沸点113〜11800(I8
肋Hg)。塩化エチレン40碇部中に2ークロロー6一
メチルベンゼンアミン35部とトリェチルアミン3俵部
の混合物をかきまぜ、一35o0に冷却する。
−35oo〜−20qoの間の温度に保ちながら、塩化
エチレン16碇邦中に臭化2一ブロモープロピオニル5
の部の溶液を滴下する。完結したら、全体を室温で1時
間かきまぜる。反応混合物は希塩酸で、そして一回水で
洗う。有機相は硫酸マグネシウム上で乾燥し、炉過し、
蒸発させる。固体残澄はエタノール40碇部と水15碇
部の混合物から結晶化させ、4伍邦のN−(2−フロモ
プロピオニル)一2−クロロー6一メチルベンジルアミ
ンを生ずる。融点1紙〜169℃。実施例 2 Q・Q・Q−トリフルオローm−トルイジン32友邦お
よび無水ベンゼン80戊郡のかきまぜ、冷却した溶液に
、無水ベンゼン40の都中に塩化3一クロロープロピオ
ニル126部の溶液を約10qoの温度で滴下する。
エチレン16碇邦中に臭化2一ブロモープロピオニル5
の部の溶液を滴下する。完結したら、全体を室温で1時
間かきまぜる。反応混合物は希塩酸で、そして一回水で
洗う。有機相は硫酸マグネシウム上で乾燥し、炉過し、
蒸発させる。固体残澄はエタノール40碇部と水15碇
部の混合物から結晶化させ、4伍邦のN−(2−フロモ
プロピオニル)一2−クロロー6一メチルベンジルアミ
ンを生ずる。融点1紙〜169℃。実施例 2 Q・Q・Q−トリフルオローm−トルイジン32友邦お
よび無水ベンゼン80戊郡のかきまぜ、冷却した溶液に
、無水ベンゼン40の都中に塩化3一クロロープロピオ
ニル126部の溶液を約10qoの温度で滴下する。
完結したら、冷却浴を除き、かきまぜを室温で1時間続
ける。次に5%塩酸溶液1000部を加える。沈殿した
出発物質は炉別する。炉液から、有機相を分離し、水で
洗い、乾燥し、炉別させる。固体残造はジィソプロピル
ェーテルと石油エーテルの混合物から結晶化させ、18
碇部の3−クロロ−Q・Q・oートIJフルオローm一
プロピオノトルィジドを生ずる。融点総℃。実施例 3 20%水酸化ナト1′1ウム溶液6礎部と1・2−ジク
ロロェタン160部中のN−ペンジルーN−tenーブ
チルアミン33部のかきまぜ、冷却した混合物に、塩化
2ークロロアセチル乳部を−5〜一1ぴ0の間の温度で
滴下する。
ける。次に5%塩酸溶液1000部を加える。沈殿した
出発物質は炉別する。炉液から、有機相を分離し、水で
洗い、乾燥し、炉別させる。固体残造はジィソプロピル
ェーテルと石油エーテルの混合物から結晶化させ、18
碇部の3−クロロ−Q・Q・oートIJフルオローm一
プロピオノトルィジドを生ずる。融点総℃。実施例 3 20%水酸化ナト1′1ウム溶液6礎部と1・2−ジク
ロロェタン160部中のN−ペンジルーN−tenーブ
チルアミン33部のかきまぜ、冷却した混合物に、塩化
2ークロロアセチル乳部を−5〜一1ぴ0の間の温度で
滴下する。
完結したら、かきまぜを同じ温度で1時間続ける。反応
混合物は室温に到達させ、有機層は分離し、水で洗い、
乾燥し、蒸発させ、残澄として43部のN−ペンジルー
N−企rtーブチルー2ークロロアセトアミドを生ずる
。実施例 4 4ーフルオロフェノール336.3部、臭化ァリル41
7.5部、炭酸カリウム42碇部とアセトン48俺部の
混合物をかきまぜ、8時間還流する。
混合物は室温に到達させ、有機層は分離し、水で洗い、
乾燥し、蒸発させ、残澄として43部のN−ペンジルー
N−企rtーブチルー2ークロロアセトアミドを生ずる
。実施例 4 4ーフルオロフェノール336.3部、臭化ァリル41
7.5部、炭酸カリウム42碇部とアセトン48俺部の
混合物をかきまぜ、8時間還流する。
室温に冷却後、水225碇部を加える。水層を分離し、
エーテルで2回抽出する。一緒にした抽出物を除いて1
0%水酸化ナトリウム溶液で2回、塩化ナトリウム溶液
で2回洗い、炭酸カリウムで乾燥し、炉遇し、蒸発させ
る。油状残溝は真空で蒸留し、381.8部の4ーアリ
ルオキシーフルオロベンゼンを生ずる。融点93℃(2
3肋Hg);n色o:1.4950:d萱8:1‐07
00油状4−アリルオキシーフルオロベンゼン総1.8
部を油浴中で8時間約245〜250qoの温度で加熱
する。
エーテルで2回抽出する。一緒にした抽出物を除いて1
0%水酸化ナトリウム溶液で2回、塩化ナトリウム溶液
で2回洗い、炭酸カリウムで乾燥し、炉遇し、蒸発させ
る。油状残溝は真空で蒸留し、381.8部の4ーアリ
ルオキシーフルオロベンゼンを生ずる。融点93℃(2
3肋Hg);n色o:1.4950:d萱8:1‐07
00油状4−アリルオキシーフルオロベンゼン総1.8
部を油浴中で8時間約245〜250qoの温度で加熱
する。
冷却後、反応混合物をへキサン120戊郡に注ぐ。混合
物は20%水酸化ナトリウム溶液で3回抽出する(水酸
化ナトリウムの全体燈;2000部)。水層は石油エー
テルで洗い、濃塩酸溶液130碇部で酸性にし、エーテ
ルで抽出する。抽出物は塩化カルシウムで乾燥し、炉過
し、蒸発させる。油状残澄は真空で蒸留し、313.6
部の2ーアリル−4−フルオロフェノールを生ずる。沸
点14y0(48肋Hg);n色0:1.5225:d
蜜:1.1130。10%水酸化ナトリウム602部を
0℃に冷却する。
物は20%水酸化ナトリウム溶液で3回抽出する(水酸
化ナトリウムの全体燈;2000部)。水層は石油エー
テルで洗い、濃塩酸溶液130碇部で酸性にし、エーテ
ルで抽出する。抽出物は塩化カルシウムで乾燥し、炉過
し、蒸発させる。油状残澄は真空で蒸留し、313.6
部の2ーアリル−4−フルオロフェノールを生ずる。沸
点14y0(48肋Hg);n色0:1.5225:d
蜜:1.1130。10%水酸化ナトリウム602部を
0℃に冷却する。
温度を約一5℃に保ちながら、続いて2−アリルー4ー
フルオロフェノール150.5部と粉砕した氷656部
を加える。完結したら、冷却俗を除き、無水酢酸112
部を約15℃の温度で滴下する。全体を室温で3時間は
げしくかきまぜ、その後でそれをテトラクロロメタンで
抽出する。抽出物は10%炭酸ナトリウム溶液25礎部
で2回洗い、炭酸カリウムで乾燥し、炉遇し、蒸発させ
る。油状残澄は真空で蒸留し、156.$部の3ーアリ
ルー4−アセトキシーフルオロベンゼンを生ずる。沸点
12ず○(IQ他Hg)。二硫化炭素65礎部中の油状
3ーアリル−4ーアセトキシーフルオオロベンゼン15
6.3部の混合物を氷−塩浴中で0℃に冷却する。
フルオロフェノール150.5部と粉砕した氷656部
を加える。完結したら、冷却俗を除き、無水酢酸112
部を約15℃の温度で滴下する。全体を室温で3時間は
げしくかきまぜ、その後でそれをテトラクロロメタンで
抽出する。抽出物は10%炭酸ナトリウム溶液25礎部
で2回洗い、炭酸カリウムで乾燥し、炉遇し、蒸発させ
る。油状残澄は真空で蒸留し、156.$部の3ーアリ
ルー4−アセトキシーフルオロベンゼンを生ずる。沸点
12ず○(IQ他Hg)。二硫化炭素65礎部中の油状
3ーアリル−4ーアセトキシーフルオオロベンゼン15
6.3部の混合物を氷−塩浴中で0℃に冷却する。
00〜一6℃の間の温度に保ちながら、1.8時間の間
に、臭素1秘.4部を加える(発熱反応)。
に、臭素1秘.4部を加える(発熱反応)。
完結したら、全体を室温で2時間かきまぜる。有機層を
水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、炉過し、蒸発さ
せる。油状残澄は真空で蒸留し、231.7部の3一(
2・3ージブロモプロピル)−4ーアセトキシーフルオ
ロベンゼンを生ずる。沸点165〜167℃(1,5側
Hg)。エタノール10の部中のナトリウム15.2部
から出発して通常の方法で調製した、ナトリウムェトキ
シド溶液をエタノール800部中の3−(2・3ージブ
ロモプロピル)−4−アセトキシーフルオロベンゼン2
31部の混合物に滴下する(発熱反応:温度が50qC
に昇る)。
水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、炉過し、蒸発さ
せる。油状残澄は真空で蒸留し、231.7部の3一(
2・3ージブロモプロピル)−4ーアセトキシーフルオ
ロベンゼンを生ずる。沸点165〜167℃(1,5側
Hg)。エタノール10の部中のナトリウム15.2部
から出発して通常の方法で調製した、ナトリウムェトキ
シド溶液をエタノール800部中の3−(2・3ージブ
ロモプロピル)−4−アセトキシーフルオロベンゼン2
31部の混合物に滴下する(発熱反応:温度が50qC
に昇る)。
完結したら、かきまぜを還流温度で2時間続ける。反応
混合物を室温に冷却し、いくらかの不溶性物質を炉2U
し、炉液を蒸発させる。残湾を水とエーテルの間で分割
する。水層を分離し、もう一度エーテルで抽出する。一
緒にしたエーテル相を塩化カルシウムで乾燥し、炉適し
、蒸発させる。油状後澄は真空で蒸留し、102都の2
−ブロモーメチル−2・3−ジヒドロー5一フルオロベ
ンゾフランを生ずる。沸点100〜105つ0(1.5
風Hg)。実施例 5 水70碇部中に2ーアリル−4ーフルオロフェノール1
62都、1・3ージブロモプロパン363部のかきまぜ
、還流する混合物に、水175部中に水酸化ナトリウム
56部の溶液を滴下する。
混合物を室温に冷却し、いくらかの不溶性物質を炉2U
し、炉液を蒸発させる。残湾を水とエーテルの間で分割
する。水層を分離し、もう一度エーテルで抽出する。一
緒にしたエーテル相を塩化カルシウムで乾燥し、炉適し
、蒸発させる。油状後澄は真空で蒸留し、102都の2
−ブロモーメチル−2・3−ジヒドロー5一フルオロベ
ンゾフランを生ずる。沸点100〜105つ0(1.5
風Hg)。実施例 5 水70碇部中に2ーアリル−4ーフルオロフェノール1
62都、1・3ージブロモプロパン363部のかきまぜ
、還流する混合物に、水175部中に水酸化ナトリウム
56部の溶液を滴下する。
完結したら、全体をかきまぜ、8時間還流する。冷却後
、水層を分離し、クロロホルムで抽出する。抽出物を硫
酸マグネシウムで乾燥し、炉遇し、蒸発させる。油状残
澄を2回蒸留し、142部の3ーアリル−4一(3ーブ
ロモプロポキシ)フルオロベンゼンを生ずる。沸点16
0〜17び○(14凧Hg)。実施例 6ブチル(5−
ニトロ−oートリル)エーテル256部、過酸化ペンゾ
ィル1部および無水四塩化炭素480礎部のかきまぜ、
おだやかに還流する混合物に、1日かけて、N−ブロモ
サクシンィミド2136部を過酸化ペンゾィル1部の混
合物を加える。
、水層を分離し、クロロホルムで抽出する。抽出物を硫
酸マグネシウムで乾燥し、炉遇し、蒸発させる。油状残
澄を2回蒸留し、142部の3ーアリル−4一(3ーブ
ロモプロポキシ)フルオロベンゼンを生ずる。沸点16
0〜17び○(14凧Hg)。実施例 6ブチル(5−
ニトロ−oートリル)エーテル256部、過酸化ペンゾ
ィル1部および無水四塩化炭素480礎部のかきまぜ、
おだやかに還流する混合物に、1日かけて、N−ブロモ
サクシンィミド2136部を過酸化ペンゾィル1部の混
合物を加える。
完結したら、おだやかな還流でのかきまぜを終夜続ける
。反応渡合物を冷却し、水を加える。有機層を分離し、
水で洗い、乾燥し、炉過し、蒸発させる。油状残澄は2
−プロパ/ール中に終夜放置して結晶させ、189.方
部の(Qーブロモー5ーニトロ−o−トリル)ブチルェ
ーテルを生ずる。融点64つ○。実施例 7 A 水75部中の1ークロロ−3−(pークロロフエノ
キシ)−2−プロパノール44.2部のかきまぜた懸濁
液に重クロム酸ナトリウム二水和物32.$部を加える
。
。反応渡合物を冷却し、水を加える。有機層を分離し、
水で洗い、乾燥し、炉過し、蒸発させる。油状残澄は2
−プロパ/ール中に終夜放置して結晶させ、189.方
部の(Qーブロモー5ーニトロ−o−トリル)ブチルェ
ーテルを生ずる。融点64つ○。実施例 7 A 水75部中の1ークロロ−3−(pークロロフエノ
キシ)−2−プロパノール44.2部のかきまぜた懸濁
液に重クロム酸ナトリウム二水和物32.$部を加える
。
次に、5時間かけて、水25部中に硫酸45部の溶液を
温度く30ooで滴下する。完結したら、かきまぜを4
報時間続ける。反応混合物を水の上に注ぎ、生成物をジ
ィソプロピルェーテルで2回抽出する。一緒にした抽出
物は水で3回洗い、乾燥し、炉適し、蒸発させる。銭澄
はエーテル中でこすることによって固化する。固体生成
物はジィソプロピルヱーテルから結晶させ、25.2部
の1−クロロ−3−(pークロロフェノキシ)一2ープ
ロパ/ンを生ずる。B 実施例7−Aの操作をくり返し
、そこで1ークロロー3(p−クロロフエノキシ)一2
ーブロパノールのかわりにそれぞれ当量の1ークロo−
3−(p−フロモフエノキシ)−2ープロパノールまた
は1ークロロー3一(2・4ージクロロフエノキシ)一
2ープロパノールを用いることによって、それぞれ次の
化合物を得る。1一(p−ブロモフエノキシ)一3ーク
ロロ−2−プロパノンおよび 1ークロロ−3一(2・4−ジクロロフエノキシ)−2
−ブロパノン実施例 8 ピリジン5礎部中に3−(mークロロフェノキシ)プロ
バノール18.6部のかきまぜ、冷却した混合物に、塩
化メシル17.5部を1ぴ0以下の温度で滴下する。
温度く30ooで滴下する。完結したら、かきまぜを4
報時間続ける。反応混合物を水の上に注ぎ、生成物をジ
ィソプロピルェーテルで2回抽出する。一緒にした抽出
物は水で3回洗い、乾燥し、炉適し、蒸発させる。銭澄
はエーテル中でこすることによって固化する。固体生成
物はジィソプロピルヱーテルから結晶させ、25.2部
の1−クロロ−3−(pークロロフェノキシ)一2ープ
ロパ/ンを生ずる。B 実施例7−Aの操作をくり返し
、そこで1ークロロー3(p−クロロフエノキシ)一2
ーブロパノールのかわりにそれぞれ当量の1ークロo−
3−(p−フロモフエノキシ)−2ープロパノールまた
は1ークロロー3一(2・4ージクロロフエノキシ)一
2ープロパノールを用いることによって、それぞれ次の
化合物を得る。1一(p−ブロモフエノキシ)一3ーク
ロロ−2−プロパノンおよび 1ークロロ−3一(2・4−ジクロロフエノキシ)−2
−ブロパノン実施例 8 ピリジン5礎部中に3−(mークロロフェノキシ)プロ
バノール18.6部のかきまぜ、冷却した混合物に、塩
化メシル17.5部を1ぴ0以下の温度で滴下する。
完結したら、かきまぜを室温で3時間続ける。反応混合
物を水に注ぎ、生成物をベンゼンで2回抽出する。一緒
にした抽出物は20%塩酸溶液で4回洗い、乾燥し、炉
過し、蒸発させ、23部の3−(m−クロ。フエノキシ
)ブロパノ−ル、メタンスルホネートェステルを残澄と
して生ずる。実施例 9 ヨウ化ナトリウム12部、トルエン4磯部およびスルフ
アラン3礎都の混合物を水分離器を用いて還流温度で2
時間かきまぜる。
物を水に注ぎ、生成物をベンゼンで2回抽出する。一緒
にした抽出物は20%塩酸溶液で4回洗い、乾燥し、炉
過し、蒸発させ、23部の3−(m−クロ。フエノキシ
)ブロパノ−ル、メタンスルホネートェステルを残澄と
して生ずる。実施例 9 ヨウ化ナトリウム12部、トルエン4磯部およびスルフ
アラン3礎都の混合物を水分離器を用いて還流温度で2
時間かきまぜる。
次にp−(2ークロロェチル)ベンゼンスルホンアミド
11部を加え、かきまぜと還流を3時間続ける。反応混
合物を冷却し、水30礎織こ注ぐ。沈殿した生成物を炉
別し、続いて水、チオ硫酸ナトリウム溶液およびふたた
び水で洗う。粗生成物のエタノールからの結晶化後、1
2.5部のp−(2−ヨードエチル)ーベンゼンスルホ
ンァミドを得る。融点226.がo。実施例 101一
〔8一(p一クロロベンジルオキシ)ーフェネチル〕ィ
′ミダゾール6.6部、ョウ化メチル4.2部およびア
セトニトリル24部の混合物をかきまぜ、4時間還流さ
せる。
11部を加え、かきまぜと還流を3時間続ける。反応混
合物を冷却し、水30礎織こ注ぐ。沈殿した生成物を炉
別し、続いて水、チオ硫酸ナトリウム溶液およびふたた
び水で洗う。粗生成物のエタノールからの結晶化後、1
2.5部のp−(2−ヨードエチル)ーベンゼンスルホ
ンァミドを得る。融点226.がo。実施例 101一
〔8一(p一クロロベンジルオキシ)ーフェネチル〕ィ
′ミダゾール6.6部、ョウ化メチル4.2部およびア
セトニトリル24部の混合物をかきまぜ、4時間還流さ
せる。
エーテル8$部を添加すると、第四級塩が沈殿する。そ
れを炉別し、アセトン24部とジィソブロピルェーテル
24部の混合物から結晶させ、5部のョウ化1一〔B−
(p一クロロベンジルオキシ)フエネチル〕−3−メチ
ルイミダゾリウムを生ずる。融点11〆0。実施例 1
1実施例10の操作をくり返し、そのときそこで用いら
れた1一〔8一(p−クロロベンジルオキシ)ーフェネ
チル〕イミダゾールとョウ化メチルのかわりに、それぞ
れ当量の適当なィミダゾール譲導体と適当なハロゲン化
アルキルを用いることによって、式(1)の次の化合物
を得る。
れを炉別し、アセトン24部とジィソブロピルェーテル
24部の混合物から結晶させ、5部のョウ化1一〔B−
(p一クロロベンジルオキシ)フエネチル〕−3−メチ
ルイミダゾリウムを生ずる。融点11〆0。実施例 1
1実施例10の操作をくり返し、そのときそこで用いら
れた1一〔8一(p−クロロベンジルオキシ)ーフェネ
チル〕イミダゾールとョウ化メチルのかわりに、それぞ
れ当量の適当なィミダゾール譲導体と適当なハロゲン化
アルキルを用いることによって、式(1)の次の化合物
を得る。
臭化1一〔2・4ージクロロー8一(2・4ージクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一nーオクチルィミ
ダゾリウム:融点141.5〜14ギ○。
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一nーオクチルィミ
ダゾリウム:融点141.5〜14ギ○。
臭化1−デシル−3−〔2・4ージクロロ−8−(2・
4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕ィミダゾリ
ウム:融点90〜94℃。臭化1−〔2・4ージクロロ
−6一(2・4−ジクロロベンジルオキシ)フエネチル
〕−3−ドデシルィミダゾリウム:融点75.70ョウ
化1−〔2‐4ージクロ。
4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕ィミダゾリ
ウム:融点90〜94℃。臭化1−〔2・4ージクロロ
−6一(2・4−ジクロロベンジルオキシ)フエネチル
〕−3−ドデシルィミダゾリウム:融点75.70ョウ
化1−〔2‐4ージクロ。
−8−(2・4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル
〕−3−メチルィミダゾリウム:融点l70℃実施例
12 1一〔2・4ージクロロー8−(2・4ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部と2・
2′ージク。
〕−3−メチルィミダゾリウム:融点l70℃実施例
12 1一〔2・4ージクロロー8−(2・4ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部と2・
2′ージク。
〇アセトアニリド2.2部をアセトニトリル24部中で
混合し、得られた混合物を還流温度で終夜かきまぜる。
その後で、混合物を放冷し、ジィソブロピルェーテルで
希釈し、水3滴を加え、それによって目的の塩化1−〔
N−(〇−クロロフエニル)ーカルバモイルメチル〕一
3一〔2・4ージクロロー8−(2・4ージクロoベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム生成物が沈殿
する。このようにして得られた粗生成物を炉週によって
回収し、‘a’そのクロロホルム溶液を二酸化ケイ素1
部と活性炭とともにかきまぜる、{b}清澄剤を除くた
めに炉過する、‘cー残澄として生成物を回収するため
溶媒を気化させる、そして【d}4−メチル−2ーベン
タノンから再結晶させることによって精製する。精製し
た生成物は融点110.7q0を有する。実施例 13
実施例12の操作をくり返し、そこで用いた2・2−ジ
クロロアセトアニリドを当量の適当なハロァシルァミド
によって置き換え、そして示された溶媒中で反応を行な
うことによって、第1表に示した式(1)の最終生成物
をそれぞれ得る。
混合し、得られた混合物を還流温度で終夜かきまぜる。
その後で、混合物を放冷し、ジィソブロピルェーテルで
希釈し、水3滴を加え、それによって目的の塩化1−〔
N−(〇−クロロフエニル)ーカルバモイルメチル〕一
3一〔2・4ージクロロー8−(2・4ージクロoベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム生成物が沈殿
する。このようにして得られた粗生成物を炉週によって
回収し、‘a’そのクロロホルム溶液を二酸化ケイ素1
部と活性炭とともにかきまぜる、{b}清澄剤を除くた
めに炉過する、‘cー残澄として生成物を回収するため
溶媒を気化させる、そして【d}4−メチル−2ーベン
タノンから再結晶させることによって精製する。精製し
た生成物は融点110.7q0を有する。実施例 13
実施例12の操作をくり返し、そこで用いた2・2−ジ
クロロアセトアニリドを当量の適当なハロァシルァミド
によって置き換え、そして示された溶媒中で反応を行な
うことによって、第1表に示した式(1)の最終生成物
をそれぞれ得る。
船雛
実施例 14
1−〔214−ジクロロー8一(pークロロベンジルオ
キシ)フエネチル〕イミダゾール7.6部、2ークロロ
ー4−フルオロアセトアニリド4.1部とアセトニトリ
ル8碇郭の混合物をかきまぜ、2餌時間還流する。
キシ)フエネチル〕イミダゾール7.6部、2ークロロ
ー4−フルオロアセトアニリド4.1部とアセトニトリ
ル8碇郭の混合物をかきまぜ、2餌時間還流する。
反応混合物を蒸発させ、残澄を2回結晶させる。最初は
4ーメチル−2−ペンタノンとジィソプロピルェーテル
の混合物から、そして次に4−メチル−2−ペンタノン
から。8.5部の塩化1一〔2・4−ジクロロ−8−(
p一クロロベンジルオキシ)−フエネチル〕一3一〔N
一(p−フルオロフエニル)力ルバモイルメチル〕ーィ
ミダゾ1′ゥムを生ずる。
4ーメチル−2−ペンタノンとジィソプロピルェーテル
の混合物から、そして次に4−メチル−2−ペンタノン
から。8.5部の塩化1一〔2・4−ジクロロ−8−(
p一クロロベンジルオキシ)−フエネチル〕一3一〔N
一(p−フルオロフエニル)力ルバモイルメチル〕ーィ
ミダゾ1′ゥムを生ずる。
融点179.4qo。実施例 15
実施例14の操作をくり返し、そこで用いた1−〔21
4−ジクoo一8一(pークooベンジルオキシ)フエ
ネチル〕イミダゾールと2ークロロ−4ーフルオロアセ
トアニリドをそれぞれ当量の適当に置換されたィミダゾ
ールと適当なハロアシルァミド‘こよって置き換えるこ
とによって、第0表にあげた第四級ィミダゾIJウム塩
を得る。
4−ジクoo一8一(pークooベンジルオキシ)フエ
ネチル〕イミダゾールと2ークロロ−4ーフルオロアセ
トアニリドをそれぞれ当量の適当に置換されたィミダゾ
ールと適当なハロアシルァミド‘こよって置き換えるこ
とによって、第0表にあげた第四級ィミダゾIJウム塩
を得る。
総白
機
実施例 16
1一〔2・4ージクロロ−B一(2・4ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部、2−
ク。
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部、2−
ク。
ロー4′−フルオ。アセトフエノン1・7部と塩化メチ
レン4碇部の混合物をかきまぜ、1虫時間還流させる。
溶媒を真空で蒸発させ、残澄を4−メチル−2−ペンタ
ノン中でこねる。生成物は炉別し、アセトニトリルから
結晶させる。3.7部の塩化1一〔2・4−ジクロロ−
8−(214ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕
−3−(pーフルオロベンゾイルメチル)イミダゾリウ
ムを生ずる。
レン4碇部の混合物をかきまぜ、1虫時間還流させる。
溶媒を真空で蒸発させ、残澄を4−メチル−2−ペンタ
ノン中でこねる。生成物は炉別し、アセトニトリルから
結晶させる。3.7部の塩化1一〔2・4−ジクロロ−
8−(214ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕
−3−(pーフルオロベンゾイルメチル)イミダゾリウ
ムを生ずる。
融点18r0。実施例 17
実施例16の操作をくり返し、そこで用いた1−〔2・
4−ジクロロ−8一(2・4−ジクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕イミダゾールと2−クロロ−4−フルオ
ロアセトフエノンをそれぞれ当量の適当に置換されたィ
ミダゾールと適当なハロゲン化アロィルアルキルによっ
て置き換え、そして示された溶媒中で反応を行なうこと
によって、第m表にあげるハロゲン化第四級ィミダゾリ
ウムを得る。
4−ジクロロ−8一(2・4−ジクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕イミダゾールと2−クロロ−4−フルオ
ロアセトフエノンをそれぞれ当量の適当に置換されたィ
ミダゾールと適当なハロゲン化アロィルアルキルによっ
て置き換え、そして示された溶媒中で反応を行なうこと
によって、第m表にあげるハロゲン化第四級ィミダゾリ
ウムを得る。
略
白
雛
実施例 18
1一〔2・4ージクロロー8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール10碇部、塩化
フェネチル38部とペンゾニトリル800部の混合物を
かきまぜ、私時間還流させる。
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール10碇部、塩化
フェネチル38部とペンゾニトリル800部の混合物を
かきまぜ、私時間還流させる。
反応混合物は蒸発させ、残澄は溶出液としてクロロホル
ム、メタノール5%の混合物を用いて、カラムクロマト
グラフィーによって精製する。油状の残総はアセトン中
でこすることによって固化する。固体生成物はアセトン
から結晶させる。それを炉別し、4−メチル−2ーベン
タノンから2回結晶させる。粗生成物は溶出液としてク
ロロホルム、メタノールおよびメチルエチルケトン(4
0:30:3咳容量)の混合物を用いて、カラムクロマ
トグラフイーによって2回精製する。純フラクションを
集め、溶出液を蒸発させる。残造はジオキサンから結晶
させ、2部の塩化1一〔2・4ージクロローP一(2・
4ージクooベンジルオキシ)フエネチル〕一3−フェ
ネチルイミダゾリウムを生ずる。融点159.ぞ○。実
施例 19 1一〔2・4−ジクロロ−B−(214ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部、臭化
o−ニトロベンジル2.4部と塩化メチレン40部の混
合物をかきまぜ、8時間還流させる。
ム、メタノール5%の混合物を用いて、カラムクロマト
グラフィーによって精製する。油状の残総はアセトン中
でこすることによって固化する。固体生成物はアセトン
から結晶させる。それを炉別し、4−メチル−2ーベン
タノンから2回結晶させる。粗生成物は溶出液としてク
ロロホルム、メタノールおよびメチルエチルケトン(4
0:30:3咳容量)の混合物を用いて、カラムクロマ
トグラフイーによって2回精製する。純フラクションを
集め、溶出液を蒸発させる。残造はジオキサンから結晶
させ、2部の塩化1一〔2・4ージクロローP一(2・
4ージクooベンジルオキシ)フエネチル〕一3−フェ
ネチルイミダゾリウムを生ずる。融点159.ぞ○。実
施例 19 1一〔2・4−ジクロロ−B−(214ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部、臭化
o−ニトロベンジル2.4部と塩化メチレン40部の混
合物をかきまぜ、8時間還流させる。
反応混合物を蒸発させる。残笹はエーテル中でかさまぜ
、後者をデカントする。残造はクロロホルム中に溶解さ
せ、カラムクロマトグラフィーによって精製する。純フ
ラクションを集め、溶媒を蒸発させる。残澄は4ーメチ
ルー2ーベンタノン中でかきまぜる。沈殿した生成物は
炉別し、80℃で乾燥し、1.$部の臭化1−〔214
−ジクロロー8一(2・4ージクロロベンジルオキシ)
フエネチル〕−3一(o−ニトロベンジル)−イミダゾ
リウムを生ずる。融点138.5−14r0。実施例
20実施例19の操作をくり返し、そこで用いた1−〔
2・4ージクロロ−8−(2・4ージクロロベンジルオ
キシ)フェネチル〕イミダゾールと臭化oーニトロベン
ジルをそれぞれ当量の適当に置換されたィミダゾールと
適当に置換されたハロゲン化フェニル−低級ァルキルに
よって置き換えることによって、第N表にあげる化合物
が示された溶媒中で反応を行なうことによって製造され
る。
、後者をデカントする。残造はクロロホルム中に溶解さ
せ、カラムクロマトグラフィーによって精製する。純フ
ラクションを集め、溶媒を蒸発させる。残澄は4ーメチ
ルー2ーベンタノン中でかきまぜる。沈殿した生成物は
炉別し、80℃で乾燥し、1.$部の臭化1−〔214
−ジクロロー8一(2・4ージクロロベンジルオキシ)
フエネチル〕−3一(o−ニトロベンジル)−イミダゾ
リウムを生ずる。融点138.5−14r0。実施例
20実施例19の操作をくり返し、そこで用いた1−〔
2・4ージクロロ−8−(2・4ージクロロベンジルオ
キシ)フェネチル〕イミダゾールと臭化oーニトロベン
ジルをそれぞれ当量の適当に置換されたィミダゾールと
適当に置換されたハロゲン化フェニル−低級ァルキルに
よって置き換えることによって、第N表にあげる化合物
が示された溶媒中で反応を行なうことによって製造され
る。
路E
船
実施例 21
ガス状塩化水素0.2モルをメタノール32部‘こ溶解
させ、この溶液に臭化1−〔2・4−ジクロロー8−(
2・4ージクロoベンジルオキシ)フエネチル〕−3−
フェネチルイミダゾリウム12部を加える。
させ、この溶液に臭化1−〔2・4−ジクロロー8−(
2・4ージクロoベンジルオキシ)フエネチル〕−3−
フェネチルイミダゾリウム12部を加える。
得られた混合物を還流温度までゆっくりと加熱し、1時
間25分還流させてかきまぜる。次に混合物を冷却し、
蒸発させ、残澄をnーヘキサン中でこするi後者をデカ
ントし、残留油をメチルエチルケトン中で鞠とうさせ、
それによって目的の生成物が固体として沈殿する。後者
を炉別し、ジオキサンから結晶させ、塩化1−〔2・4
ージクロロー8一(2・4ージクロロベンジルオキシ)
フエネチル〕−3ーフエネチルイミダゾリウム生成物を
得る。融点159.5℃。実施例 22 1−(2ーフエニルエチル)一IHーイミダゾール8.
6部、2・4ージクロロー6一(2・4ージクロロフエ
ニルメトキシ)ベンゼンエタノールメタンスルホネート
24.5部とN・N−ジメチルホルムアミド15碇部の
混合物をかきまぜ、終夜還流する。
間25分還流させてかきまぜる。次に混合物を冷却し、
蒸発させ、残澄をnーヘキサン中でこするi後者をデカ
ントし、残留油をメチルエチルケトン中で鞠とうさせ、
それによって目的の生成物が固体として沈殿する。後者
を炉別し、ジオキサンから結晶させ、塩化1−〔2・4
ージクロロー8一(2・4ージクロロベンジルオキシ)
フエネチル〕−3ーフエネチルイミダゾリウム生成物を
得る。融点159.5℃。実施例 22 1−(2ーフエニルエチル)一IHーイミダゾール8.
6部、2・4ージクロロー6一(2・4ージクロロフエ
ニルメトキシ)ベンゼンエタノールメタンスルホネート
24.5部とN・N−ジメチルホルムアミド15碇部の
混合物をかきまぜ、終夜還流する。
混合物を室温に放冷し、水に注ぎ、トリクロロメタンで
2回抽出する。一緒にした有機相は水で3回洗い、乾燥
し、炉過し、蒸発させ、油状残笹として1一〔2・4−
ジクロロ−8−(2・4ージクロoベンジルオキシ)フ
エネチル〕一3−フエネチルイミダゾリウムメタンスル
ホネートを生ずる。油状残澄はエタノール中に取り出し
、水酸化ナトリウム溶液で処理してあらかじめ水酸基形
にかえたイオン交換塔((アンバーライトIRA400
)に入れた。水酸化第四級ィミダゾリウムの形の生成物
をエタノールで溶出させ、溶出液に濃塩酸溶液3礎部を
加える。溶媒を蒸発によって除いた後、塩化1一〔2・
4ージクロローB−(2・4−ジクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕−3ーフェネチルィミダゾリウムを得る
。融点1斑.9つ○。実施例 23 実施例22の操作をくり返し、当量の適当な出発物質を
用いることによって、それぞれ次のィミダゾリウム塩を
得る。
2回抽出する。一緒にした有機相は水で3回洗い、乾燥
し、炉過し、蒸発させ、油状残笹として1一〔2・4−
ジクロロ−8−(2・4ージクロoベンジルオキシ)フ
エネチル〕一3−フエネチルイミダゾリウムメタンスル
ホネートを生ずる。油状残澄はエタノール中に取り出し
、水酸化ナトリウム溶液で処理してあらかじめ水酸基形
にかえたイオン交換塔((アンバーライトIRA400
)に入れた。水酸化第四級ィミダゾリウムの形の生成物
をエタノールで溶出させ、溶出液に濃塩酸溶液3礎部を
加える。溶媒を蒸発によって除いた後、塩化1一〔2・
4ージクロローB−(2・4−ジクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕−3ーフェネチルィミダゾリウムを得る
。融点1斑.9つ○。実施例 23 実施例22の操作をくり返し、当量の適当な出発物質を
用いることによって、それぞれ次のィミダゾリウム塩を
得る。
塩化1一〔2・4ージクロロー8一(2・4−ジクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕−3一(p−フルオロベ
ンゾイルメチル)イミダゾリワム:融点180.4qC
。
ベンジルオキシ)フエネチル〕−3一(p−フルオロベ
ンゾイルメチル)イミダゾリワム:融点180.4qC
。
塩化1一(2・4ージクロロベンゾイルメチル)−3一
〔2・4ージクロロー8一(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点185.3
℃。
〔2・4ージクロロー8一(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点185.3
℃。
塩化1−〔2・4ージクロロ−8一(2・4ージクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3−(pーメトキシフ
エネチル)イミダゾリウム:融点161℃。
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3−(pーメトキシフ
エネチル)イミダゾリウム:融点161℃。
実施例 24
1一〔2・4−ジクロロベンジルオキシ)フエネチル〕
ィミダゾール4.2部、塩化ジフェニルメチル2.2部
とアセトニトリル4畔都の混合物をかきまぜ、終夜還流
する。
ィミダゾール4.2部、塩化ジフェニルメチル2.2部
とアセトニトリル4畔都の混合物をかきまぜ、終夜還流
する。
ジィソプロピルェーテルを添加すると、生成物が結晶す
る。それを炉別し、クロロホルムと3%メタノールの混
合物を用いてシリカゲルのカラムクロマトグラフイーに
よって精製する。純フラクションを集め、溶媒を蒸発さ
せる。残澄を4ーメチルー2ーベンタノンとジイソプロ
ピルェーテルの混合物中でこすり、塩化1−〔2・4ー
ジクロロ−8−(2・4ージクロロベンジルオキシ)フ
エネチル〕一3一(ジフエニルメチル)ィミダゾリウム
水和物を生ずる。融点127.ぞ○。実施例 25 実施例24の操作をくり返し、そこで用いた塩化ジフェ
ニルメチルのかわりに当量の適当に置換された塩化ジフ
ェニルメチルを用いることによって、それぞれ次の化合
物を得る。
る。それを炉別し、クロロホルムと3%メタノールの混
合物を用いてシリカゲルのカラムクロマトグラフイーに
よって精製する。純フラクションを集め、溶媒を蒸発さ
せる。残澄を4ーメチルー2ーベンタノンとジイソプロ
ピルェーテルの混合物中でこすり、塩化1−〔2・4ー
ジクロロ−8−(2・4ージクロロベンジルオキシ)フ
エネチル〕一3一(ジフエニルメチル)ィミダゾリウム
水和物を生ずる。融点127.ぞ○。実施例 25 実施例24の操作をくり返し、そこで用いた塩化ジフェ
ニルメチルのかわりに当量の適当に置換された塩化ジフ
ェニルメチルを用いることによって、それぞれ次の化合
物を得る。
塩化1−〔2・4−ジクロロ−3−(2・4−ジクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一〔ビス(pーフル
オロフエニル)メチル〕イミダゾリウム:融点195.
500。
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一〔ビス(pーフル
オロフエニル)メチル〕イミダゾリウム:融点195.
500。
塩化1一〔2・4−ジクロロ−8一(2・4ージクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一(p−フルオロ−
Qーフヱニルベンジル)イミダゾリウム:融点199−
20r0。
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一(p−フルオロ−
Qーフヱニルベンジル)イミダゾリウム:融点199−
20r0。
塩化1−〔pークロローQ(pーフルオロフェニル)ペ
ンジル〕一3一〔2・4−ジクロロー3一(2・4ージ
クロロベンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:
融点154−1620。
ンジル〕一3一〔2・4−ジクロロー3一(2・4ージ
クロロベンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:
融点154−1620。
塩化1一〔ビスー(p−クロロフェニル)メチル〕−3
一〔2・4ージクロロ−8一(2・4ージクロロベンジ
ルオキシ)フエネチル〕イミダゾIJゥム:融点161
.70。塩化1−(8−ブトキシ−2・4ージクロロフ
エネチル)−3−(pークロロ−Q−(p−フルオロフ
ェニル)ペンジル〕ィミダゾリウム:融点167.50
C。
一〔2・4ージクロロ−8一(2・4ージクロロベンジ
ルオキシ)フエネチル〕イミダゾIJゥム:融点161
.70。塩化1−(8−ブトキシ−2・4ージクロロフ
エネチル)−3−(pークロロ−Q−(p−フルオロフ
ェニル)ペンジル〕ィミダゾリウム:融点167.50
C。
実施例 26
アセトニトリル4碇部中の1−〔2・4ージクロロ−8
−(2・4−ジクロoベンジルオキシ)フヱネチル〕イ
ミダゾリウム、N−(2−フロモエチル)−p−クロロ
アニリン臭素酸塩3.5部と重炭酸ナトリウム1。
−(2・4−ジクロoベンジルオキシ)フヱネチル〕イ
ミダゾリウム、N−(2−フロモエチル)−p−クロロ
アニリン臭素酸塩3.5部と重炭酸ナトリウム1。
7部を一緒にかきまぜ、還流温度に3日間加熱する。
この時間の終りにジィソプロピルェーテルを加える。そ
れによって臭化1−〔2一(p−クロロアニリ/)エチ
ル〕−3一〔2・4ージクロロー6一(2・4−ジクo
oベンジルオキシ)フェネチル〕イミダゾリウム生成物
と臭化ナトリウム副生成物が結晶性固体として沈殿する
。生成物を炉過によって固体混合物を回収し、混合物に
クロロホルムを加えることによって臭化ィミダゾIJウ
ム生成物を溶解させ、クロロホルム媒体を炉過すること
によって臭化ナトリウム副生成物を除き、クロロホルム
を蒸発させることによって単離する。生成物残澄は4−
メチル−2−ペンタノンとジィソプロピルェーテルの混
合物中でこすり、融点140.30の精製された生成物
を得る。実施例 27実施例26の操作をくり返し、N
−(2−フロモメチル)−p−クロロアニリン臭素酸塩
のかわりに当量の適当に置換されたN−(2−フロモェ
チル)ァニリン臭素酸塩を用いることによって、次の臭
化ィミダゾリウムを得る。
れによって臭化1−〔2一(p−クロロアニリ/)エチ
ル〕−3一〔2・4ージクロロー6一(2・4−ジクo
oベンジルオキシ)フェネチル〕イミダゾリウム生成物
と臭化ナトリウム副生成物が結晶性固体として沈殿する
。生成物を炉過によって固体混合物を回収し、混合物に
クロロホルムを加えることによって臭化ィミダゾIJウ
ム生成物を溶解させ、クロロホルム媒体を炉過すること
によって臭化ナトリウム副生成物を除き、クロロホルム
を蒸発させることによって単離する。生成物残澄は4−
メチル−2−ペンタノンとジィソプロピルェーテルの混
合物中でこすり、融点140.30の精製された生成物
を得る。実施例 27実施例26の操作をくり返し、N
−(2−フロモメチル)−p−クロロアニリン臭素酸塩
のかわりに当量の適当に置換されたN−(2−フロモェ
チル)ァニリン臭素酸塩を用いることによって、次の臭
化ィミダゾリウムを得る。
臭化1−〔2一(216ージクロロアニリノ)エチル)
一3−〔2・4−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベ
ンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾIJゥム水和物:
融点120.4qo。
一3−〔2・4−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベ
ンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾIJゥム水和物:
融点120.4qo。
臭化1−(2ーアニIJノヱチル)−3−〔2・4ージ
クoo−8−(2・4−ジクロロベンジルオキシ)−フ
ェネチル〕ィミダゾリウム:融点11600。臭化1−
〔2・4−ジクロロー3−(2・4ージクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕一3一(2−o−トルイジノエチ
ル)イミダゾリウム:融点15〆○。
クoo−8−(2・4−ジクロロベンジルオキシ)−フ
ェネチル〕ィミダゾリウム:融点11600。臭化1−
〔2・4−ジクロロー3−(2・4ージクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕一3一(2−o−トルイジノエチ
ル)イミダゾリウム:融点15〆○。
臭化1−〔2−(o−クロロアニリノ)エチル〕−3−
〔2o4−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点181.3
00。
〔2o4−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点181.3
00。
実施例 28
1一〔2・4ージクロロー8一(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部、臭化
2−(p−フルオロフェノキシ)エチル2.4部とァセ
トニトリル24部の混合物をかきまぜ終夜還流する。
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部、臭化
2−(p−フルオロフェノキシ)エチル2.4部とァセ
トニトリル24部の混合物をかきまぜ終夜還流する。
溶媒を真空で除き、残簿をクロロホルムに溶解させる。
溶液を二酸化ケイ素1部と10分間かきまぜ、炉過し、
炉液をふたたび蒸発させる。残簿を4ーメチル−2−ペ
ンタノンとジィソプロピルェーテルの混合物中でこすり
、4.3部中の臭化1一〔2・4−ジクロロー8−(2
・4ージクロロベンジルオキシ)−フエネチル〕一3−
〔2一(pーフルオロフエノキシ)エチル〕ーィミダゾ
リウム水和物を生ずる:融点107一10900。実施
例 29 実施例28の操作をくり返し、そこで用いた臭化2−(
p−フルオロフエノキシ)エチルのかわりに当量の適当
なハロゲン化アリールオキシアルキルを用い、反応を示
された溶媒中で行なうことによって、第V表にあげたハ
ロゲン化ィミダゾリウムを得る。
溶液を二酸化ケイ素1部と10分間かきまぜ、炉過し、
炉液をふたたび蒸発させる。残簿を4ーメチル−2−ペ
ンタノンとジィソプロピルェーテルの混合物中でこすり
、4.3部中の臭化1一〔2・4−ジクロロー8−(2
・4ージクロロベンジルオキシ)−フエネチル〕一3−
〔2一(pーフルオロフエノキシ)エチル〕ーィミダゾ
リウム水和物を生ずる:融点107一10900。実施
例 29 実施例28の操作をくり返し、そこで用いた臭化2−(
p−フルオロフエノキシ)エチルのかわりに当量の適当
なハロゲン化アリールオキシアルキルを用い、反応を示
された溶媒中で行なうことによって、第V表にあげたハ
ロゲン化ィミダゾリウムを得る。
略
P
賊
実施例 30
1−〔2・4−ジクロロ−8−(2・6−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール8.$部、2−
フロモェチルフェニルエーテル4.02部とアセトニト
リル8碇部の混合物をかきまぜ、終夜還流する。
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール8.$部、2−
フロモェチルフェニルエーテル4.02部とアセトニト
リル8碇部の混合物をかきまぜ、終夜還流する。
反応混合物を冷却し、蒸発させる。残澄は4−メチル−
2ーベンタノンとジィソプロピルェーテルの混合物から
結晶させ、臭化1−〔2・4ージクロロー8一(2・6
ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕−3−(2−
フエノキシェチル)ィミダゾリウム11部を生ずる。融
点153.4qC。実施例 31 1−〔2・4ージクロロ−8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2邦、3一
(m−クロロフエノキシ)ブロパノール=メタンスルホ
ネートェステル2.9部とペンゾニトリル4戊部の混合
物を100o○で2餌時間かきまぜる。
2ーベンタノンとジィソプロピルェーテルの混合物から
結晶させ、臭化1−〔2・4ージクロロー8一(2・6
ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕−3−(2−
フエノキシェチル)ィミダゾリウム11部を生ずる。融
点153.4qC。実施例 31 1−〔2・4ージクロロ−8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2邦、3一
(m−クロロフエノキシ)ブロパノール=メタンスルホ
ネートェステル2.9部とペンゾニトリル4戊部の混合
物を100o○で2餌時間かきまぜる。
溶媒は真空で蒸発させ「残澄はクロロホルムとメタノー
ル5%の混合物を溶出液として用いて、シリカゲルのカ
ラムク。マトグラフイーによって精製する。純フラクシ
ョンを集め、港出液を蒸発させ、1.9部の1−〔3−
(m−クロロフヱノキシ)プロピル〕−3−〔214−
ジクロロ−8−(214ージクロロベンジルオキシ)フ
ヱネチル〕−イミダゾリウム=メタンスルホネートを生
ずる。融点10900。実施例 32 1一〔2・4−ジクロロ−8−(214ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部と3−
クロロプロピルフエニルチオエーナル2.3部をペンゾ
ニトリル4礎部中で混合し、約140℃で終夜かきまぜ
る。
ル5%の混合物を溶出液として用いて、シリカゲルのカ
ラムク。マトグラフイーによって精製する。純フラクシ
ョンを集め、港出液を蒸発させ、1.9部の1−〔3−
(m−クロロフヱノキシ)プロピル〕−3−〔214−
ジクロロ−8−(214ージクロロベンジルオキシ)フ
ヱネチル〕−イミダゾリウム=メタンスルホネートを生
ずる。融点10900。実施例 32 1一〔2・4−ジクロロ−8−(214ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部と3−
クロロプロピルフエニルチオエーナル2.3部をペンゾ
ニトリル4礎部中で混合し、約140℃で終夜かきまぜ
る。
この時間の終りに、反応混合物を放冷し、ジィソプロピ
ルェーテルを加えそれによって塩化1−〔2.4−ジク
ロロ−8−(2・4−ジクロロベンジルオキシ)フエネ
チル〕一2一〔3−(フエニルチオ)プロピル〕イミダ
ゾリウム生成物が、炉週によって回収される、結晶性固
体として沈殿する。生成物をク。
ルェーテルを加えそれによって塩化1−〔2.4−ジク
ロロ−8−(2・4−ジクロロベンジルオキシ)フエネ
チル〕一2一〔3−(フエニルチオ)プロピル〕イミダ
ゾリウム生成物が、炉週によって回収される、結晶性固
体として沈殿する。生成物をク。
ロホルムとメタノール3%の混合物を用いるクロマトグ
ラフィーによって、そして次に4−メチル−2−ペンタ
ノンとジイソプロピルェーテルの混合物からの再結晶に
よって精製する。精製した生成物はセスキ水和物として
3部の収率で得られ、74.6qCの融点を有する。実
施例 331−〔2・4ージクロロー8一(2・4ージ
クロロベンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.
2郡、2−ブロモメチル−5ーフルオルー2・3−ジヒ
ドロベンゾフラン2.6部とアセトニトリル4の都の混
合物をかきまぜ、3日間還流する。
ラフィーによって、そして次に4−メチル−2−ペンタ
ノンとジイソプロピルェーテルの混合物からの再結晶に
よって精製する。精製した生成物はセスキ水和物として
3部の収率で得られ、74.6qCの融点を有する。実
施例 331−〔2・4ージクロロー8一(2・4ージ
クロロベンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.
2郡、2−ブロモメチル−5ーフルオルー2・3−ジヒ
ドロベンゾフラン2.6部とアセトニトリル4の都の混
合物をかきまぜ、3日間還流する。
溶媒を真空で除き、残澄をクロロホルムとメタノール3
%の混合物を用いて、シリカゲルのカラムクロマトグラ
フィーによって精製する。純フラクションを集め、溶媒
を蒸発させLエーテル中でこすった後、臭化1一〔2・
4−ジクロロー8−(214ージクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕一3−(5ーフルオロ−2・3ージヒド
ロー2一ベンゾフラニルメチル)イミダゾリウム水和物
2部を生ずる。融点91.6qo。実施例 34 1一〔2・4ージクロロー8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部と20
4ージクロローQ−(クロロメチル)ペンジルアルコー
ル3部ペンゾニトリル40中で混合し、得られた混合物
を還流温度で3日間かきまぜる。
%の混合物を用いて、シリカゲルのカラムクロマトグラ
フィーによって精製する。純フラクションを集め、溶媒
を蒸発させLエーテル中でこすった後、臭化1一〔2・
4−ジクロロー8−(214ージクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕一3−(5ーフルオロ−2・3ージヒド
ロー2一ベンゾフラニルメチル)イミダゾリウム水和物
2部を生ずる。融点91.6qo。実施例 34 1一〔2・4ージクロロー8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール4.2部と20
4ージクロローQ−(クロロメチル)ペンジルアルコー
ル3部ペンゾニトリル40中で混合し、得られた混合物
を還流温度で3日間かきまぜる。
この時間の終りに、反応溶媒を減圧下で蒸発させ、塩化
1一〔214−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕−3−(2・4−ジクロロ−
Pーヒドロキシーフェネチル)ィミダゾリウム生成物を
残遭として得る。粗生成物は(a)は溶出液としてクロ
ロホルム中の10%メタノールを用いてすでに記載した
カラムクロマトグラフイーと(b)ジイソプロピルエー
テル/4ーメチル−2ーベンタノン混合物中でこするこ
とによって精製する。
1一〔214−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕−3−(2・4−ジクロロ−
Pーヒドロキシーフェネチル)ィミダゾリウム生成物を
残遭として得る。粗生成物は(a)は溶出液としてクロ
ロホルム中の10%メタノールを用いてすでに記載した
カラムクロマトグラフイーと(b)ジイソプロピルエー
テル/4ーメチル−2ーベンタノン混合物中でこするこ
とによって精製する。
精製した生成物は167.4qoの融点を有する。実施
例 35実施例34の操作をくり返し、そこで用いた1
一〔2・4−ジクoo一8一(2・4−ジクロロベンジ
ルオキシ)フエネチル〕イミダゾールと2・4ージクロ
ル−o一(クロロメチル)ペンジルアルコールのかわり
にそれぞれ当量の適当に置換されたィミダゾールと適当
に置換されたQ−フロモメチルベンジルアルコ−ルを用
い、アセトニトリル中で反応を行なうことによって、次
の臭化第四級ィミダゾリウムを得る。
例 35実施例34の操作をくり返し、そこで用いた1
一〔2・4−ジクoo一8一(2・4−ジクロロベンジ
ルオキシ)フエネチル〕イミダゾールと2・4ージクロ
ル−o一(クロロメチル)ペンジルアルコールのかわり
にそれぞれ当量の適当に置換されたィミダゾールと適当
に置換されたQ−フロモメチルベンジルアルコ−ルを用
い、アセトニトリル中で反応を行なうことによって、次
の臭化第四級ィミダゾリウムを得る。
臭化1一〔2・4ージクロロ−8一(2・4−ジクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一(3ーヒドロキシ
−m−メトキシフエネチル)イミダゾリウム:融点16
6℃。
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3一(3ーヒドロキシ
−m−メトキシフエネチル)イミダゾリウム:融点16
6℃。
臭化1−〔3一(p−クロロベンジルオキシ)一2・4
ージクロロフエネチル〕−3−(pークロロー6一ヒド
ロキシフエネチル)イミダゾリウム水和物:融点97.
FC。
ージクロロフエネチル〕−3−(pークロロー6一ヒド
ロキシフエネチル)イミダゾリウム水和物:融点97.
FC。
臭化1一(pークロロ−3−ヒドロキシフェネチル)一
3一〔2・4ージクロロー3−(2・4ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点171
.5一18び0。
3一〔2・4ージクロロー3−(2・4ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点171
.5一18び0。
臭化1一(pークロロー3−ヒドロキシフヱネチル)−
3一〔2・6−ジクロロ−8−(2・6ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点214
午○。
3一〔2・6−ジクロロ−8−(2・6ージクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム:融点214
午○。
実施例 36
1一〔2・4−ジクロロ−3−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム4.2部、塩
化シンナミル2部とアセトニトリル4碇部の混合物をか
きまぜ、3日間還流する。
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾリウム4.2部、塩
化シンナミル2部とアセトニトリル4碇部の混合物をか
きまぜ、3日間還流する。
溶媒を真空中で蒸発させる。油状残澄は4ーメチルー2
ーベンタノンとエーテルの混合物中でこすると固化する
。生成物を炉別し、4ーメチルー2ーベン夕/ンから結
晶させ、7000で真空乾燥後、4.3部の塩化1ーシ
ンナミルー3−〔2・4ージクロロ−8−(2・4ージ
クロ○ベンジルオキシ)ーフェネチル〕ィミダゾリウム
4.3部を生ずる。融点9.7−136.5午0。実施
例 37 そこで用いた塩化シソナミルを当量の適当な塩化ハロシ
ンナミルによって置き換えることを除いては、実施例3
6の操作をくり返すことによって、次の化合物を製造す
る。
ーベンタノンとエーテルの混合物中でこすると固化する
。生成物を炉別し、4ーメチルー2ーベン夕/ンから結
晶させ、7000で真空乾燥後、4.3部の塩化1ーシ
ンナミルー3−〔2・4ージクロロ−8−(2・4ージ
クロ○ベンジルオキシ)ーフェネチル〕ィミダゾリウム
4.3部を生ずる。融点9.7−136.5午0。実施
例 37 そこで用いた塩化シソナミルを当量の適当な塩化ハロシ
ンナミルによって置き換えることを除いては、実施例3
6の操作をくり返すことによって、次の化合物を製造す
る。
塩化1一〔2・4−ジクロロー8−(2・4−ジクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕−3−(pーフルオロシ
ンナミル)ィミダゾリウム水和物:融点91.が○。
ベンジルオキシ)フエネチル〕−3−(pーフルオロシ
ンナミル)ィミダゾリウム水和物:融点91.が○。
塩化ln(2・4−ジクロロシンナミル)−3一〔2・
4ージクロロ−8−(2・4ージクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕イミダゾリウム:融点142.が0。
4ージクロロ−8−(2・4ージクロロベンジルオキシ
)フエネチル〕イミダゾリウム:融点142.が0。
実施例 斑
1一〔2・4ージクロロ−3−(2・4−ジクロロベン
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール8.群部、1ー
クロロ−3−(2・4ージク。
ジルオキシ)フエネチル〕イミダゾール8.群部、1ー
クロロ−3−(2・4ージク。
ロベンジルオキシ)−2−プロパノンと、アセトニトリ
ル8の郡の混合物を室温で7群時間かきまぜる。反応混
合物を蒸発させ、油状残澄をクロロホルムとメタノール
3%の混合物を溶出液として用いて、シリカゲルの力ラ
ムクロマトグラフイ一によつて精製する。純フラクショ
ンを集め、溶出液を蒸発させる。油状機簿を酢酸エチル
から結晶させ、4部の塩化1−〔2・4ージクロローB
−(2・4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕一
3一〔3−(2・4ージクロロフエノキシ)一2ーオキ
ソプロピル〕ィミダゾリウム二水和物を生ずる。融点1
12.5℃。実施例 39 実施例斑の操作をくり返し、そこで用いた1ークロロ−
3−(2・4ージクロロフエノキシ)一2ープロパノン
のかわりに、当量の適当な1ークロロー3一(ハロフエ
ノキシ)一2ープロパノンを用いることによって、次の
化合物を製造する。
ル8の郡の混合物を室温で7群時間かきまぜる。反応混
合物を蒸発させ、油状残澄をクロロホルムとメタノール
3%の混合物を溶出液として用いて、シリカゲルの力ラ
ムクロマトグラフイ一によつて精製する。純フラクショ
ンを集め、溶出液を蒸発させる。油状機簿を酢酸エチル
から結晶させ、4部の塩化1−〔2・4ージクロローB
−(2・4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル〕一
3一〔3−(2・4ージクロロフエノキシ)一2ーオキ
ソプロピル〕ィミダゾリウム二水和物を生ずる。融点1
12.5℃。実施例 39 実施例斑の操作をくり返し、そこで用いた1ークロロ−
3−(2・4ージクロロフエノキシ)一2ープロパノン
のかわりに、当量の適当な1ークロロー3一(ハロフエ
ノキシ)一2ープロパノンを用いることによって、次の
化合物を製造する。
塩化1−〔3一(p−ブロモフェノキシ)−2−オキソ
プロピル〕一3一〔2・4−ジクロロー3−(2・4ー
ジクロロベンジルオキシ)フエネチル〕ィミダゾリウム
水和物、融点、126.蟹0。塩化1−〔3一(pーク
ロロフェノキシ)一2−オキソプロピル〕−3−{2・
4ージクロロ−8−〔(2・4ージクロ○ベンジル)オ
キシ〕フェネチル}ィミダゾリウム水和物、融点136
.20○。本発明の実施態様および関連事項を記載すれ
ば次のとおりである。
プロピル〕一3一〔2・4−ジクロロー3−(2・4ー
ジクロロベンジルオキシ)フエネチル〕ィミダゾリウム
水和物、融点、126.蟹0。塩化1−〔3一(pーク
ロロフェノキシ)一2−オキソプロピル〕−3−{2・
4ージクロロ−8−〔(2・4ージクロ○ベンジル)オ
キシ〕フェネチル}ィミダゾリウム水和物、融点136
.20○。本発明の実施態様および関連事項を記載すれ
ば次のとおりである。
1【a} 式
式中AおよびBは下記定義の通りである、の化合物と式
DZ(m)
式中Dは下記定義の通りであり、そして
Zは反応性ェステル基である、
の化合物とを、好ましくは適当な溶媒中で反応させるか
、または{b} 式 式中Dは下記定義の通りである、 の化合物と式 式中AおよびBは下記定義の通りであり、そして Zは上記定義の通りであり、 の化合物とを、好ましくは適当な溶媒中で反応させて、
式式中、A、BおよびDは下記定義の通りであり、そし
てZは上記定義の通りである、の化合物を生成させ、そ
して、所望により、公知の方法を用いて上記アニオンを
Wの定義内に含まれる他のァニオンと交換させ、さらに
、所望の方法により、公知の方法によって工程‘aはた
は‘bーの生成物を異なった塩に変え、そしてさらに、
所望により、公知の方法によっていずれかの異性体を分
離することを特徴とする、構造 式中Aはフェニル、モノー、ジーおよびトリハロフヱニ
ル、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフエニル、
チエニルおよびハロチエニルからなる群から選ばれた一
員であり、Bはペンジル、モノー、ジーおよびトリハロ
ベンジル、モノー、およびジー低級アルキルベンジル「
低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フエネチル
、モノー、ジーおよびトリーハロフェネチル、モノーお
よびジー低級アルキルフェネチル、低級アルコキシフェ
ネチル、シアノフエネチル、モノーおよびジーニトロフ
エニル、モノーおよびジーアミノフェニル、低級アルキ
ル、低級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群か
ら選ばれた一員であり、Dは ta)1〜12個の炭素原子を含むアルキル基、{bー
式式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選
ばれ、 各RIは独立に、水素、低級アルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフェノキシ
からなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の整数であ
り、 そして nは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルーアルキル基、‘c’
式 式中〜はチェニル、ハロチェニル、フェ ニル、一および二置換フェニルからなる群から選ばれ、
そして上記置換フェニル中の各置換基は独立に、ハロ、
低級ァルキルおよび低級アルコキシからなる群から選ば
れ、そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアロィルアルキル基、‘d’式 式中R2は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロおよびスルフアモイルからなる群から選ばれ、
R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びシアノからなる群から選ばれ、 そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアラルキル基、 ‘d 式 式中各Arlは独立にフェニルおよびハロフェニルから
なる群から選ばれる、によって表わされるジアリールメ
チル基、的式 式中各R4は独立に、水素、ハロおよび低級アルキルか
らなる群から選ばれ、 そして aは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基、 g式 −(C比)q−Q−A〆 式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、 〜2はフェニル、一および二置換フェニルおよびナフチ
ルからなる群から選ばれ、そして上記置換フェニルの各
置換基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
およびアリルからなる群から選ばれ、そして qは2〜3の整数である、 によって表わされるアリールェーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素とハロからなる群から選ばれる、 によって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、
i式式中R6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そして aは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチル基、i式 一CH2一CH=CH−A〆 式中Aべまフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラル
ケニル基、 k式 式中A〆はフヱニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるフェノ
キシー2−オキソプロピル基、からなる群から選ばれ、
そして Wは塩酸、臭化水素酸、ョウ化水素酸、メタンスルホン
酸、p−トルェンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン酸、酢
酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、
マロン酸、コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リンゴ酸
、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マンデル酸
、ェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロヘキ
サンスルフアミン酸、サリチル酸およびp−アミノサリ
チル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しうるアニ
オンである「によって表わされる第四級ィミダゾリウム
塩およびその水和物の製造法。
、または{b} 式 式中Dは下記定義の通りである、 の化合物と式 式中AおよびBは下記定義の通りであり、そして Zは上記定義の通りであり、 の化合物とを、好ましくは適当な溶媒中で反応させて、
式式中、A、BおよびDは下記定義の通りであり、そし
てZは上記定義の通りである、の化合物を生成させ、そ
して、所望により、公知の方法を用いて上記アニオンを
Wの定義内に含まれる他のァニオンと交換させ、さらに
、所望の方法により、公知の方法によって工程‘aはた
は‘bーの生成物を異なった塩に変え、そしてさらに、
所望により、公知の方法によっていずれかの異性体を分
離することを特徴とする、構造 式中Aはフェニル、モノー、ジーおよびトリハロフヱニ
ル、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフエニル、
チエニルおよびハロチエニルからなる群から選ばれた一
員であり、Bはペンジル、モノー、ジーおよびトリハロ
ベンジル、モノー、およびジー低級アルキルベンジル「
低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フエネチル
、モノー、ジーおよびトリーハロフェネチル、モノーお
よびジー低級アルキルフェネチル、低級アルコキシフェ
ネチル、シアノフエネチル、モノーおよびジーニトロフ
エニル、モノーおよびジーアミノフェニル、低級アルキ
ル、低級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群か
ら選ばれた一員であり、Dは ta)1〜12個の炭素原子を含むアルキル基、{bー
式式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選
ばれ、 各RIは独立に、水素、低級アルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフェノキシ
からなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の整数であ
り、 そして nは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルーアルキル基、‘c’
式 式中〜はチェニル、ハロチェニル、フェ ニル、一および二置換フェニルからなる群から選ばれ、
そして上記置換フェニル中の各置換基は独立に、ハロ、
低級ァルキルおよび低級アルコキシからなる群から選ば
れ、そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアロィルアルキル基、‘d’式 式中R2は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロおよびスルフアモイルからなる群から選ばれ、
R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びシアノからなる群から選ばれ、 そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアラルキル基、 ‘d 式 式中各Arlは独立にフェニルおよびハロフェニルから
なる群から選ばれる、によって表わされるジアリールメ
チル基、的式 式中各R4は独立に、水素、ハロおよび低級アルキルか
らなる群から選ばれ、 そして aは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基、 g式 −(C比)q−Q−A〆 式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、 〜2はフェニル、一および二置換フェニルおよびナフチ
ルからなる群から選ばれ、そして上記置換フェニルの各
置換基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
およびアリルからなる群から選ばれ、そして qは2〜3の整数である、 によって表わされるアリールェーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素とハロからなる群から選ばれる、 によって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、
i式式中R6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そして aは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチル基、i式 一CH2一CH=CH−A〆 式中Aべまフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラル
ケニル基、 k式 式中A〆はフヱニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるフェノ
キシー2−オキソプロピル基、からなる群から選ばれ、
そして Wは塩酸、臭化水素酸、ョウ化水素酸、メタンスルホン
酸、p−トルェンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン酸、酢
酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸、
マロン酸、コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リンゴ酸
、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マンデル酸
、ェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロヘキ
サンスルフアミン酸、サリチル酸およびp−アミノサリ
チル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しうるアニ
オンである「によって表わされる第四級ィミダゾリウム
塩およびその水和物の製造法。
21−〔2・4−ジクロロ−8−(214−ジクロロベ
ンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾールを塩化フェネ
チルと反応させることを特徴とする、塩化1一〔214
ージクロロ−8一(2・4−ジクロロベンジルオキシ)
−フエネチル〕−3−フェネチルィミダゾリウムの製造
法。
ンジルオキシ)フエネチル〕イミダゾールを塩化フェネ
チルと反応させることを特徴とする、塩化1一〔214
ージクロロ−8一(2・4−ジクロロベンジルオキシ)
−フエネチル〕−3−フェネチルィミダゾリウムの製造
法。
31一〔2・4−ジクロロ−8−(2・4−ジクロロベ
ンジルオキシ)−フエネチル〕イミダゾールを2ークロ
ロ−p−フルオロアセトフエノンと反応させることを特
徴とする、塩化1−〔2・4ージクロロ−8−(2・4
−ジクロロベンジルオキシ)−フエネチル〕−3−(p
−フルオoベンゾイルメチル)イミダゾリウムの製造法
。
ンジルオキシ)−フエネチル〕イミダゾールを2ークロ
ロ−p−フルオロアセトフエノンと反応させることを特
徴とする、塩化1−〔2・4ージクロロ−8−(2・4
−ジクロロベンジルオキシ)−フエネチル〕−3−(p
−フルオoベンゾイルメチル)イミダゾリウムの製造法
。
4 微生物を式1を有する第四級ィミダゾIJゥム塩の
抗微生物量と接触させることからなる、微生物の防除方
法。
抗微生物量と接触させることからなる、微生物の防除方
法。
5 上記1に記載の方法にしたがって、またはその化学
的に均等であることが自明の方法によって製造した構造
式中Aはフェニル、モノ−、ジーおよびトリハロフェニ
ル、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフヱニル、
チエニルおよびハロチエニルからなる群から選ばれた一
員であり、Bはペンジル、モノー、ジーおよびトリーハ
ロベンジル、モノーおよびジー低級アルキルベンジル、
低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フエネチル
、モノー、ジーおよびトリハロフェネチル、モノーおよ
び低級アルキルフェネチル、低級アルコキシフェネチル
、シアノフエネチル、モノ−およびジーニトロフエニル
、モノーおよびジーアミノフェニル、低級アルキル、低
級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群から選ば
れた一員であり、Dは {a} 1〜12個の炭素原子を含むアルキル基、{b
’式式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選
ばれ、 各RIは独立に、水素、低級ァルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフェノキシ
からなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の整数であ
り、 そしてnは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルーアルキル基、{cー
式 式中〜はチェニル、ハロチェニル、フェ ニル、一および二置換フェニルからなる群から選ばれ、
上記置換フェニル中の各置換基は独立に、ハロ、低級ア
ルキルおよび低級アルコキシから選ばれ、そしてpは1
〜4の整数である、 によって表わされるアロィルアルキル基、{d’式 式中、R2は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキ
シ、ニトロおよびスルフアモィルからなる群から選ばれ
、R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシお
よびシアノからなる群から選ばれ、 そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアラルキル基、 ‘e} 式 式中各Arlは独立に、フェニルおよびハロフェニルか
らなる群から選ばれる、によって表わされるジアリール
メチル基、‘f’式 式中各R4は独立に、水素、ハロおよび低級アルキルか
らなる群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基、 g式 −(C仏)q−Q−A〆 式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、 〜2はフェニル、一および二置換フェニルおよびナフチ
ルからなる群から選ばれ、上記置換フェニル中の各贋換
基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びアリルからなる群から選ばれ、そしてqは2〜3の整
数である、 によって表わされるアリールヱーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素およびハロからなる群から選ばれる、 によって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、
i式式中R6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチル基、j式 −C広−CH:CH−Aド 式中A〆‘まフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェ
ニルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラ
ルケニル基、 k式 式中A〆はフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるフヱノ
キシー2ーオキソプロピル基、からなる群から選ばれ、 そしてWは塩酸、臭化水素酸、ョウ化水素酸、メタンス
ルホン酸、p−トルェンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン
酸、酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビ
ン酸、マロン酸、コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マン
デル酸、ェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シク
ロヘキサンスルフアミン酸、サリチル酸およびp−アミ
ノサリチル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しう
るアニオンである、によって表わされる第四級ィミダゾ
リウム塩とその水和物。
的に均等であることが自明の方法によって製造した構造
式中Aはフェニル、モノ−、ジーおよびトリハロフェニ
ル、低級アルキルフェニル、低級アルコキシフヱニル、
チエニルおよびハロチエニルからなる群から選ばれた一
員であり、Bはペンジル、モノー、ジーおよびトリーハ
ロベンジル、モノーおよびジー低級アルキルベンジル、
低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フエネチル
、モノー、ジーおよびトリハロフェネチル、モノーおよ
び低級アルキルフェネチル、低級アルコキシフェネチル
、シアノフエネチル、モノ−およびジーニトロフエニル
、モノーおよびジーアミノフェニル、低級アルキル、低
級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群から選ば
れた一員であり、Dは {a} 1〜12個の炭素原子を含むアルキル基、{b
’式式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選
ばれ、 各RIは独立に、水素、低級ァルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフェノキシ
からなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の整数であ
り、 そしてnは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルーアルキル基、{cー
式 式中〜はチェニル、ハロチェニル、フェ ニル、一および二置換フェニルからなる群から選ばれ、
上記置換フェニル中の各置換基は独立に、ハロ、低級ア
ルキルおよび低級アルコキシから選ばれ、そしてpは1
〜4の整数である、 によって表わされるアロィルアルキル基、{d’式 式中、R2は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキ
シ、ニトロおよびスルフアモィルからなる群から選ばれ
、R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシお
よびシアノからなる群から選ばれ、 そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアラルキル基、 ‘e} 式 式中各Arlは独立に、フェニルおよびハロフェニルか
らなる群から選ばれる、によって表わされるジアリール
メチル基、‘f’式 式中各R4は独立に、水素、ハロおよび低級アルキルか
らなる群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基、 g式 −(C仏)q−Q−A〆 式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、 〜2はフェニル、一および二置換フェニルおよびナフチ
ルからなる群から選ばれ、上記置換フェニル中の各贋換
基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びアリルからなる群から選ばれ、そしてqは2〜3の整
数である、 によって表わされるアリールヱーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素およびハロからなる群から選ばれる、 によって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、
i式式中R6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチル基、j式 −C広−CH:CH−Aド 式中A〆‘まフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェ
ニルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラ
ルケニル基、 k式 式中A〆はフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるフヱノ
キシー2ーオキソプロピル基、からなる群から選ばれ、 そしてWは塩酸、臭化水素酸、ョウ化水素酸、メタンス
ルホン酸、p−トルェンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン
酸、酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビ
ン酸、マロン酸、コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マン
デル酸、ェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シク
ロヘキサンスルフアミン酸、サリチル酸およびp−アミ
ノサリチル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しう
るアニオンである、によって表わされる第四級ィミダゾ
リウム塩とその水和物。
6 前記2の方法にしたがって、またはその化学的に均
等であることが自明の方法によって製造された塩化1−
〔2・4ージクロローP−(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕一3−フエネチルイミダゾリウム
。
等であることが自明の方法によって製造された塩化1−
〔2・4ージクロローP−(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)フエネチル〕一3−フエネチルイミダゾリウム
。
7 前記3の方法にしたがって、またはその化学的に均
等であることが自明の方法によって製造された塩化1−
〔2・4−ジクロロー8一(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)ーフエネチル〕−3一(p−フルオロベンゾイ
ルメチル)イミダゾリウム。
等であることが自明の方法によって製造された塩化1−
〔2・4−ジクロロー8一(2・4−ジクロロベンジル
オキシ)ーフエネチル〕−3一(p−フルオロベンゾイ
ルメチル)イミダゾリウム。
8 構造
式中Aはフヱニル、モノ−、ジーおよびトリハロフェニ
ル、低級アルコキシフェニル、低級アルコキシフエニル
、チエニルおよびハロチエニルからなる群から選ばれた
一員であり、Bはペンジル、モノ−、ジーおよびトリハ
ロベンジル、モノ−およびジー低級アルキルベンジル、
低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フエネチル
、モノ−、ジーおよびトリーハロフェネチル、モノ−お
よびジー低級アルキルフェネチル、低級アルコキシフェ
ネチル、シアノフエネチル、モノーおよびジニトロフエ
ニル、モノーおよびジーアミノフェニル、低級アルキル
、低級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群から
選ばれた一員であり、Dは 【a’1−12個の炭素原子を含むァルキル基、{b}
式式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選
ばれ、 各RIは独立に、水素、低級アルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフヱノキシ
からなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の整数であ
り、 そしてnは1〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルーアルキル基、tc)
式 式中〜はチェニル、ハロチェニル・フェ ニル、一および二置換フヱニルであり、上記置換フェニ
ル中の各層襖基は独立に、ハロ、低級アルキルおよび低
級アルコキシからなる群から選ばれ、そしてpは1〜4
の整数である、 によって表わされるアロイルアルキル基、{d’式 式中R2は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロ、およびスルフアモイルからなる群から選ばれ
、R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、
ニトロ、およびスルフアモイルからなる群から選ばれ、
R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びシアノからなる群から選ばれ、 そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアラルキル基、 ‘e} 式 式中各Arlは独立に、フェニルおよびハロフェニルか
らなる群から選ばれる、によって表わされるジアリール
メチル基、‘f’式 式中R4は独立に、水素、ハロおよび低級アルキルから
なる群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基、 g式 −(C比)q−Q−A〆 式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、 〜2はフェニル、一および二置換フェニルおよびナフチ
ルからなる群から選ばれ、上記置換フェニル中の各層襖
基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びアリルからなる群から選ばれ、そしてqは2〜3の整
数である、 によって表わされるアリールェーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素およびハロからなる群から選ばれる、 によって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、
i式式中R6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチル基、j式 一CH2一CH=CH−Aぷ 式中A〆はフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラル
ケニル基、 k式 式中Aドはフヱニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるフェノ
キシ−2−オキソプロピル基からなる群から選ばれ、そ
してWは塩酸、臭化水素酸、ョウ化水素酸、メタンスル
ホン酸、p−トルェンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン酸
、酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルピン
酸、マロン酸、コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マンテ
ル酸、ェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロ
ヘキサンスルファミン酸、サリチル酸およびpーアミノ
サリチル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しうる
アニオンである、によって表わされる第四級イミダゾリ
ウム塩とその水和物。
ル、低級アルコキシフェニル、低級アルコキシフエニル
、チエニルおよびハロチエニルからなる群から選ばれた
一員であり、Bはペンジル、モノ−、ジーおよびトリハ
ロベンジル、モノ−およびジー低級アルキルベンジル、
低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フエネチル
、モノ−、ジーおよびトリーハロフェネチル、モノ−お
よびジー低級アルキルフェネチル、低級アルコキシフェ
ネチル、シアノフエネチル、モノーおよびジニトロフエ
ニル、モノーおよびジーアミノフェニル、低級アルキル
、低級アルケニルおよび低級アルキニルからなる群から
選ばれた一員であり、Dは 【a’1−12個の炭素原子を含むァルキル基、{b}
式式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選
ばれ、 各RIは独立に、水素、低級アルキル、ハロ、ニトロ、
トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフヱノキシ
からなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の整数であ
り、 そしてnは1〜2の整数である、 によって表わされるカルバモィルーアルキル基、tc)
式 式中〜はチェニル、ハロチェニル・フェ ニル、一および二置換フヱニルであり、上記置換フェニ
ル中の各層襖基は独立に、ハロ、低級アルキルおよび低
級アルコキシからなる群から選ばれ、そしてpは1〜4
の整数である、 によって表わされるアロイルアルキル基、{d’式 式中R2は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
、ニトロ、およびスルフアモイルからなる群から選ばれ
、R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、
ニトロ、およびスルフアモイルからなる群から選ばれ、
R3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びシアノからなる群から選ばれ、 そしてpは1〜4の整数である、 によって表わされるアラルキル基、 ‘e} 式 式中各Arlは独立に、フェニルおよびハロフェニルか
らなる群から選ばれる、によって表わされるジアリール
メチル基、‘f’式 式中R4は独立に、水素、ハロおよび低級アルキルから
なる群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールアミノェチル基、 g式 −(C比)q−Q−A〆 式中Qは酸素および硫黄からなる群から選ばれ、 〜2はフェニル、一および二置換フェニルおよびナフチ
ルからなる群から選ばれ、上記置換フェニル中の各層襖
基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシおよ
びアリルからなる群から選ばれ、そしてqは2〜3の整
数である、 によって表わされるアリールェーテルーアルキル基、h
式 式中R5は水素およびハロからなる群から選ばれる、 によって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、
i式式中R6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシェチル基、j式 一CH2一CH=CH−Aぷ 式中A〆はフェニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるアラル
ケニル基、 k式 式中Aドはフヱニル、ハロフェニルおよびジハロフェニ
ルからなる群から選ばれる、によって表わされるフェノ
キシ−2−オキソプロピル基からなる群から選ばれ、そ
してWは塩酸、臭化水素酸、ョウ化水素酸、メタンスル
ホン酸、p−トルェンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン酸
、酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルピン
酸、マロン酸、コハク酸、マレィン酸、フマル酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケィ皮酸、マンテ
ル酸、ェタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロ
ヘキサンスルファミン酸、サリチル酸およびpーアミノ
サリチル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しうる
アニオンである、によって表わされる第四級イミダゾリ
ウム塩とその水和物。
9 塩化1−〔2・4−ジクロロ−B−(2・4ージク
ロロベンジルオキシ)ーフエネチル〕一3−フエネチル
イミダゾリウム。
ロロベンジルオキシ)ーフエネチル〕一3−フエネチル
イミダゾリウム。
10 塩化1−〔2・4−ジクロロ−6−(2・4−ジ
クロロベンジルオキシ)フエネチル〕−3一(p−フル
オロベンゾイルメチル)イミダゾリウム。
クロロベンジルオキシ)フエネチル〕−3一(p−フル
オロベンゾイルメチル)イミダゾリウム。
11 不活性損体物質と活性成分としての有抗微生物量
の前記8の第四級ィミダゾIJゥム塩からなる、微生物
防除組成物。
の前記8の第四級ィミダゾIJゥム塩からなる、微生物
防除組成物。
12 ィミダゾリウム塩が塩化1−〔2・4−ジクロロ
ー8一(2・4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル
〕−3ーフエネチルイミダゾリウムである、前記11の
組成物。
ー8一(2・4ージクロロベンジルオキシ)フエネチル
〕−3ーフエネチルイミダゾリウムである、前記11の
組成物。
13 ィミダゾリウム塩が塩化1一〔2・4ージクロロ
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3−(p−フルオロベ
ンゾイルメチル)イミダゾリウムである、前記11の組
成物。
ベンジルオキシ)フエネチル〕一3−(p−フルオロベ
ンゾイルメチル)イミダゾリウムである、前記11の組
成物。
14 実質的に実施例ですでに記載した、式を有する化
合物の製造法。
合物の製造法。
15 前記14の方法で合成した式1を有する化合物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中AおよびBは下記定義の通りである、の化合物と
式DZ(III) 式中Dは下記定義の通りであり、そしてZは反応性エ
ステル基である、の化合物とを、好ましくは適当な溶媒
中で反応させるか、または(b) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Dは下記定義の通りである、 の化合物と式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中AおよびBは下記定義の通りであり、そして Z
は上記定義の通りであり、 の化合物とを、好ましくは適当な溶媒中で反応させて、
式▲数式、化学式、表等があります▼ 式中A、BおよびDは下記定義の通りであり、そして
Zは上記定義の通りである、の化合物を生成させ、そし
て、所望により、公知の方法を用いて上記アニオンをW
の定義内に含まれる他のアニオンと交換させ、さらに、
所望により、公知の方法によって工程(a)または(b
)の生成物を異なった塩に変え、そしてさらに、所望に
より、公知の方法によっていずれかの異性体を分離する
ことを特徴とする、構造▲数式、化学式、表等がありま
す▼ 式中Aはフエニル、モノ−およびジ−ハロフエニルか
らなる群から選ばれた一員であり、Bはモノ−およびジ
−ハロベンジル、モノ−およびジ−低級アルキルベンル
、フエネチル、モノ−およびジハロフエネチル、低級ア
ルキルおよび低級アルケニルからなる群から選ばれた一
員であり、 Dは(a) 1〜12個の炭素原子を含む
アルキル基、(b) 式▲数式、化学式、表等がありま
す▼ 式中Rは水素および低級アルキルからなる群から選ば
れ、 各R^1は独立に、水素、低級アルキル、ハロ、
ニトロ、トリフルオロメチル、低級アルコキシおよびフ
エノキシからなる群から選ばれ、aおよびmは1〜2の
整数であり、 そしてnは0〜2の整数である、 によって表わされるカルバモイル−アルキル基、(c)
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Arはチエニル、ハロチエニル、フエニル、一お
よび二置換フエニルからなる群から選ばれ、そして上記
置換フエニル中の各置換基は独立に、ハロ、低級アルキ
ルおよび低級アルコキシからなる群から選ばれ、 そし
てpは1〜4の整数である、 によって表わされるアロイルアルキル基、(d) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R^2は水素、ハロ、低級アルキル基、低級アル
コキシ、ニトロおよびスルフアモイルからなる群から選
ばれ、 R^3は水素、ハロ、低級アルキル、低級アル
コキシおよびシアノからなる群から選ばれ、そしてpは
1〜4の整数である、によって表わされるアラルキル基
、 (e) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Ar^1は独立にフエニルおよびハロフエニルか
らなる群から選ばれる、によって表わされるジアリール
メチル基、(f) 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中各R^4は独立に、水素、ハロ及び低級アルキル
からなる群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数であ
る、 によって表わされるアリールアミノエチル基、g 式−
(CH_2)_q−Q−Ar^2 式中Qは水素および硫黄からなる群から選ばれ、 A
r^2はフエニル、一および二置換フエニルおよびナフ
チルからなる群から選ばれ、そして上記置換フエニルの
各置換基は独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキ
シおよびアリルからなる群から選ばれ、 そしてqは2
〜3の整数である、 によって表わされるアリールエーテル−アルキル基、h
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R^5は水素とハロからなる群から選ばれる、に
よって表わされるジヒドロベンゾフラニルメチル基、i
式▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R^6は水素、ハロおよび低級アルコキシからな
る群から選ばれ、 そしてaは1〜2の整数である、 によって表わされるアリールヒドロキシエチル基、j
式 −CH_2−CH=CH−Ar^3 式中Ar^3はフエニル、ハロフエニルおよびジハロ
フエニルからなる群から選ばれる、によって表わされる
アラルケニル基、 k 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Ar^3フエニル、ハロフエニルおよびジハロフ
エニルからなる群から選ばれる、によって表わされるフ
エノキシ−2−オキソプロピル基、からなる群から選ば
れ、そして Wは塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、メタンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸、硝酸、硫酸、リン酸、
酢酸、プロピオン酸、グリコール酸、乳酸、ピルビン酸
、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、リンゴ
酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ケイ皮酸、マンデル
酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、シクロヘ
キサンスルフアミン酸、サリチル酸およびp−アミノサ
リチル酸からなる群から選ばれた医薬的に許容しうるア
ニオンである、によって表わされる第四級イミダゾリウ
ム塩およびその水和物の製造法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US43831074A | 1974-01-31 | 1974-01-31 | |
| US438310 | 1974-01-31 | ||
| US05/525,142 US3991202A (en) | 1974-01-31 | 1974-11-19 | Imidazolium salts |
| US525142 | 1974-11-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50106959A JPS50106959A (ja) | 1975-08-22 |
| JPS609030B2 true JPS609030B2 (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=27031622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50011455A Expired JPS609030B2 (ja) | 1974-01-31 | 1975-01-29 | 第四級イミダゾリウム塩の製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3991202A (ja) |
| JP (1) | JPS609030B2 (ja) |
| CA (1) | CA1049535A (ja) |
| DE (1) | DE2504114A1 (ja) |
| FR (1) | FR2329657A1 (ja) |
| GB (1) | GB1489112A (ja) |
| NL (1) | NL186767C (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62141665A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-25 | Akai Electric Co Ltd | テ−プ巻取装置 |
| JPH01162130U (ja) * | 1988-04-30 | 1989-11-10 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1475271A (en) * | 1975-04-30 | 1977-06-01 | Pfizer Ltd | 1-aryl-2-1-imidazolyl-alkyl ethers and thioethers and their use as antifungal agents |
| US4172141A (en) * | 1976-03-17 | 1979-10-23 | Syntex (U.S.A.) Inc. | N-(naphthylethyl)imidazole derivatives |
| DE2643563A1 (de) * | 1976-09-28 | 1978-03-30 | Bayer Ag | Alpha-(4-biphenylyl)-benzyl-azolium- salze, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung zur bekaempfung von mikroorganismen |
| DE2714290A1 (de) * | 1977-03-31 | 1978-10-05 | Bayer Ag | Fungizide mittel |
| US4213991A (en) * | 1978-05-30 | 1980-07-22 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Derivatives of substituted N-alkyl imidazoles and compositions and methods containing the same |
| FR2509302A1 (fr) * | 1981-03-04 | 1983-01-14 | Vyzk Ustav Zuslechtovaci | Composes d'ammonium quaternaire, procede pour leur fabrication et utilisation de ces produits dans les apprets de finissage des tissus |
| DE3319845A1 (de) * | 1983-06-01 | 1984-12-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Arylalkylimidazolium- und -triazoliumsalze, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als mikrozide |
| CH672219B5 (ja) * | 1985-01-25 | 1990-05-15 | Ciba Geigy Ag | |
| GB8921072D0 (en) * | 1989-09-18 | 1989-11-01 | Iolab Corp | Preservative for ophthalmic solutions |
| EP0518458A1 (en) * | 1991-06-10 | 1992-12-16 | Texaco Chemical Company | Fatty imidazolium salts |
| US6545163B1 (en) * | 1995-10-02 | 2003-04-08 | Napp Technologies | Process to prepare 1-aryl-2-(1-imidazolyl) alkyl ethers and thioethers |
| AU726495B2 (en) * | 1996-09-09 | 2000-11-09 | F. Hoffmann-La Roche Ag | N-benzylazolium derivatives |
| EP0829478A3 (en) * | 1996-09-09 | 1998-03-25 | F. Hoffmann-La Roche Ag | N-Benzylimidazolium and N-benzyltriazolium derivatives, their preparation and their use as antifungal and antimycotic agents |
| KR100405030B1 (ko) * | 2001-02-10 | 2003-11-10 | 주식회사 유레이 | 신규 uv 경화형 항균제 |
| FR2849851B1 (fr) * | 2003-01-15 | 2007-01-26 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'un reactif de type acylimidazolium. |
| CN111100070A (zh) * | 2018-10-26 | 2020-05-05 | 北京师范大学 | 一种阳离子型n-取代苯胺离子液体及其制备方法 |
| CN114222573A (zh) * | 2019-08-16 | 2022-03-22 | 普度研究基金会 | 蛋白酶体核心颗粒的小分子刺激物 |
| CN114957128B (zh) * | 2022-05-31 | 2024-07-23 | 四川大学 | 一种二芳基咪唑鎓盐及其抗菌用途 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR8357M (ja) * | 1966-09-08 | 1971-02-08 | ||
| US3493581A (en) * | 1968-05-09 | 1970-02-03 | Basf Ag | Imidazolium salts |
| SU557755A3 (ru) * | 1968-08-19 | 1977-05-05 | Янссен Фармасьютика Н.В. (Фирма) | Способ получени производных имидазола |
| US3658813A (en) * | 1970-01-13 | 1972-04-25 | Janssen Pharmaceutica Nv | 1-(beta-aryl-beta-(r-oxy)-ethyl)-imidazoles |
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-
1974
- 1974-11-19 US US05/525,142 patent/US3991202A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-01-22 GB GB2829/75A patent/GB1489112A/en not_active Expired
- 1975-01-29 CA CA218,962A patent/CA1049535A/en not_active Expired
- 1975-01-29 NL NLAANVRAGE7501066,A patent/NL186767C/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-01-29 JP JP50011455A patent/JPS609030B2/ja not_active Expired
- 1975-01-30 FR FR7502944A patent/FR2329657A1/fr active Granted
- 1975-01-31 DE DE19752504114 patent/DE2504114A1/de active Granted
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|---|---|---|---|---|
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| NL7501066A (nl) | 1975-08-04 |
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| CA1049535A (en) | 1979-02-27 |
| JPS50106959A (ja) | 1975-08-22 |
| US3991202A (en) | 1976-11-09 |
| FR2329657B1 (ja) | 1978-07-21 |
| NL186767C (nl) | 1991-02-18 |
| FR2329657A1 (fr) | 1977-05-27 |
| GB1489112A (en) | 1977-10-19 |
| DE2504114A1 (de) | 1975-08-07 |
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