JPS609017B2 - ５―シクロヘキサデセン―１―オンの製造法 - Google Patents
５―シクロヘキサデセン―１―オンの製造法Info
- Publication number
- JPS609017B2 JPS609017B2 JP51088721A JP8872176A JPS609017B2 JP S609017 B2 JPS609017 B2 JP S609017B2 JP 51088721 A JP51088721 A JP 51088721A JP 8872176 A JP8872176 A JP 8872176A JP S609017 B2 JPS609017 B2 JP S609017B2
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- Japan
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- divinylcyclododecane
- cyclohexadecen
- yield
- potassium
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はムスク香料として有用な５−シクロヘキサデセ
ンー１ーオンの製造法に関するものである。
ンー１ーオンの製造法に関するものである。
本発明者は先に１・２−ジビニルシクロドデカン−１−
オールを加熱処理して、ムスク香料として有用な５−シ
クロヘキサデセン−１ーオンを製造する方法を見し、出
した。
オールを加熱処理して、ムスク香料として有用な５−シ
クロヘキサデセン−１ーオンを製造する方法を見し、出
した。
この方法においては１・２−ジビニルシクロドデカン−
１−オールに対する５ーシクロヘキサデセン−１ーオン
の収率は通常８０％前後である。
１−オールに対する５ーシクロヘキサデセン−１ーオン
の収率は通常８０％前後である。
この収率は、それ自体決して低いものではない。しかし
経済的に５ーシクロヘキサデセン−１ーオンを製造する
ためには更に収率を向上させることが望ましい。又従来
の方法においては２００℃前後の高温を必要とし、好ま
しくはより低い温度で実施されることが望まれる。本発
明者は本反応の収率を向上させ、より低温で実施できる
よう鋭意研究した結果、ここに効果の顕著な本発明に到
達した。
経済的に５ーシクロヘキサデセン−１ーオンを製造する
ためには更に収率を向上させることが望ましい。又従来
の方法においては２００℃前後の高温を必要とし、好ま
しくはより低い温度で実施されることが望まれる。本発
明者は本反応の収率を向上させ、より低温で実施できる
よう鋭意研究した結果、ここに効果の顕著な本発明に到
達した。
即ち、本発明は１・２ージビニルシクロドデ力ンー１−
オールを触媒量のナトリウムあるいはカリウムアルコキ
シド化剤の存在下に２０〜１００００で処理することを
特徴とする５ーシクロヘキサデセン−１ーオンの製造法
に関するものである。
オールを触媒量のナトリウムあるいはカリウムアルコキ
シド化剤の存在下に２０〜１００００で処理することを
特徴とする５ーシクロヘキサデセン−１ーオンの製造法
に関するものである。
本発明により収率は９８％以上にまで向上させることが
でき、更に従来の２００ｏ○前後の高温を必要とせず、
製造上長も実施し易い温度範囲である２０〜１００ｑｏ
の間で反応を実施することができる。本発明の実施要領
は簡単明瞭である。溶媒は用いても用いなくてもよいが
、より好ましくは１・２ージビニルシクロドデカン−１
−オールを非水系溶媒に溶かす。この際、１・２−ジビ
ニルシクロドデカン−１−オールは純粋なものでも不純
物を含むものでも差支えない。１・２ージビニルシクロ
ドデカン−１ーオールは通常シス、トランス異性体の混
合物が用いられる。
でき、更に従来の２００ｏ○前後の高温を必要とせず、
製造上長も実施し易い温度範囲である２０〜１００ｑｏ
の間で反応を実施することができる。本発明の実施要領
は簡単明瞭である。溶媒は用いても用いなくてもよいが
、より好ましくは１・２ージビニルシクロドデカン−１
−オールを非水系溶媒に溶かす。この際、１・２−ジビ
ニルシクロドデカン−１−オールは純粋なものでも不純
物を含むものでも差支えない。１・２ージビニルシクロ
ドデカン−１ーオールは通常シス、トランス異性体の混
合物が用いられる。
このシス、トランス異性体は二つのビニル基の相対位置
によって区別される。非水系溶媒としてはアルコール類
、カルボン酸類の如き活性な水素を有する溶媒以外はほ
とんどのものが使用可能であるが、通常、ヘキサン、ト
ルェンの如き脂肪族、芳香族炭化水素、ジェチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチ
ルェーテルの如きエーテル類、トリェチルアミンの如き
第三級アミン類、ジメチルアセトアミドジメチルホルム
アミドの如きＮージアルキルアミド類、ジメチルスルホ
キシドの如きスルホキシド類、ヘキサメチルホスホルア
ミドの如きＮーヘキサアルキルホスホルアミド類が好ん
で用いられる。
によって区別される。非水系溶媒としてはアルコール類
、カルボン酸類の如き活性な水素を有する溶媒以外はほ
とんどのものが使用可能であるが、通常、ヘキサン、ト
ルェンの如き脂肪族、芳香族炭化水素、ジェチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチ
ルェーテルの如きエーテル類、トリェチルアミンの如き
第三級アミン類、ジメチルアセトアミドジメチルホルム
アミドの如きＮージアルキルアミド類、ジメチルスルホ
キシドの如きスルホキシド類、ヘキサメチルホスホルア
ミドの如きＮーヘキサアルキルホスホルアミド類が好ん
で用いられる。
使用量は特に制限はないが１・２ージビニルシクロドデ
カン−１−オールに対し０．３〜１折音重量程度が便利
である。かくして得られた溶液にナトリウムあるいはカ
リウムアルコキシド化剤を加える。
カン−１−オールに対し０．３〜１折音重量程度が便利
である。かくして得られた溶液にナトリウムあるいはカ
リウムアルコキシド化剤を加える。
ナトリウムあるいはカリウムアルコキシド化剤としては
一般的に１・２−ジビニルシクロドデカン−１−オール
をナトリウムあるいはカリウムのアルコキシドとなし得
る試剤であれば何でもよいが特に次のようなものが好ま
しく使用される。即ち式ＲＭ（Ｒ：日、Ｃ，〜Ｃ８の脂
肪族、芳香族炭化水素基、Ｍ：Ｎａ、Ｋ）、Ｒ′Ｒ″Ｎ
Ｍ（ＲＲ″：日、Ｃ，〜Ｃ８の脂肪族、芳香族炭化水素
基、Ｍ：Ｎａ、Ｋ）、Ｒ′′′ＯＭ（Ｒ川：Ｃ，〜Ｃ８
のァルキル基、Ｍ：Ｎａ、Ｋ）で表わされるナトリウム
、カリウムの水素化物、アルキル、アリール化物、アミ
ド化物、アルコキシド化物又はナトリウム、カリウム金
属等があげられる。加える試剤の量は通常１・２−ジビ
ニルシクロドデカンー１−オールに対して１．０モル当
量より少ない触媒量が好ましい。
一般的に１・２−ジビニルシクロドデカン−１−オール
をナトリウムあるいはカリウムのアルコキシドとなし得
る試剤であれば何でもよいが特に次のようなものが好ま
しく使用される。即ち式ＲＭ（Ｒ：日、Ｃ，〜Ｃ８の脂
肪族、芳香族炭化水素基、Ｍ：Ｎａ、Ｋ）、Ｒ′Ｒ″Ｎ
Ｍ（ＲＲ″：日、Ｃ，〜Ｃ８の脂肪族、芳香族炭化水素
基、Ｍ：Ｎａ、Ｋ）、Ｒ′′′ＯＭ（Ｒ川：Ｃ，〜Ｃ８
のァルキル基、Ｍ：Ｎａ、Ｋ）で表わされるナトリウム
、カリウムの水素化物、アルキル、アリール化物、アミ
ド化物、アルコキシド化物又はナトリウム、カリウム金
属等があげられる。加える試剤の量は通常１・２−ジビ
ニルシクロドデカンー１−オールに対して１．０モル当
量より少ない触媒量が好ましい。
このようにして試剤の反応性、使用量の程度に応じて１
・２−ジビニルシクロドデカン−１−オールの一部ない
し全部がアルカリ金属のアルコキシド‘こなる。
・２−ジビニルシクロドデカン−１−オールの一部ない
し全部がアルカリ金属のアルコキシド‘こなる。
次にこの溶液を通常２０〜１００００で５分〜１独特間
加熱処理する。特にナトリウムのアルコキシドとした場
合は５０〜１００ｑｏ、カリウムのアルコキシドとした
場合は２０〜５０ｑ○の間が適当である。加熱処理した
溶液に水を加えて加水分解すれば５−シクロヘキサデセ
ン−１−オンが得られる。本発明の反応は量論量以下い
わゆる触媒量のナトリウムあるいはカリウムアルコキシ
ド化剤の存在下に加熱処理することによって、反応過程
において原料の１・２−ジビニルシクロドデカン−１−
オールと中間体のアルコキシドとの間に交換反応がおこ
り５−シクロヘキサデセン−１−オンが触媒的に生成さ
れ反応が進行するものと考えられる。
加熱処理する。特にナトリウムのアルコキシドとした場
合は５０〜１００ｑｏ、カリウムのアルコキシドとした
場合は２０〜５０ｑ○の間が適当である。加熱処理した
溶液に水を加えて加水分解すれば５−シクロヘキサデセ
ン−１−オンが得られる。本発明の反応は量論量以下い
わゆる触媒量のナトリウムあるいはカリウムアルコキシ
ド化剤の存在下に加熱処理することによって、反応過程
において原料の１・２−ジビニルシクロドデカン−１−
オールと中間体のアルコキシドとの間に交換反応がおこ
り５−シクロヘキサデセン−１−オンが触媒的に生成さ
れ反応が進行するものと考えられる。
従来法では原料に用いる粗１・２−ジビニルシクロドデ
カン−１−オールにある種の不純物が含まれていて、こ
れが収率を低下させる場合があつた。
カン−１−オールにある種の不純物が含まれていて、こ
れが収率を低下させる場合があつた。
例えば、１・２−ジビニルシクロドデカン−１−オール
は２ークロルシクロドデカノンとビニルマグネシウムク
ロラィドとの反応で得ることができるが、ここで得られ
る粗製の１・２−ジビニルシクロドデカン−１−オール
は不純物として少量の含塩素化合物が含まれる。このも
のは加熱すると塩化水素を発生し、１・２−ジビニルシ
クロドデカン−１−オールを分解させるために５−シク
ロヘキサデセン−１−オンの収率が低下する。かかる場
合、即ち一般に反応液を酸性とする不純物を含む１・２
−ジビニルシクロドデカンー１−オールを原料として用
いる場合はエタノール中水酸化カリで処理して脱塩化水
素化した後加熱処理していた。本方法ではこの処理は全
く必要がなく、しかも無色透明な製品が得られるという
利点がある。
は２ークロルシクロドデカノンとビニルマグネシウムク
ロラィドとの反応で得ることができるが、ここで得られ
る粗製の１・２−ジビニルシクロドデカン−１−オール
は不純物として少量の含塩素化合物が含まれる。このも
のは加熱すると塩化水素を発生し、１・２−ジビニルシ
クロドデカン−１−オールを分解させるために５−シク
ロヘキサデセン−１−オンの収率が低下する。かかる場
合、即ち一般に反応液を酸性とする不純物を含む１・２
−ジビニルシクロドデカンー１−オールを原料として用
いる場合はエタノール中水酸化カリで処理して脱塩化水
素化した後加熱処理していた。本方法ではこの処理は全
く必要がなく、しかも無色透明な製品が得られるという
利点がある。
次に本発明の実施例について説明する。実施例 １
純粋な１・２−ジピニルシクロドデカン−１−オール（
シス異性体６０、トランス異性体４０の混合物）２０夕
をテトラヒドロフラン１００机上に溶かし「これに５０
％ナトリウム水素化物４．８夕を加えて室温で５分間縄
拝する。
シス異性体６０、トランス異性体４０の混合物）２０夕
をテトラヒドロフラン１００机上に溶かし「これに５０
％ナトリウム水素化物４．８夕を加えて室温で５分間縄
拝する。
反応が起り水素が発生する。その後４時間加熱、還流す
る。水を加えて加水分解後、ｎ−へキサンで抽出する。
水洗、乾燥後ｎ−へキサンを留去する。残留物を減圧蒸
留し、ｂ．ｐ１２０００／１０ｒｒの５−シクロヘキサ
デセン−１−オン１９．７３夕を得た。収率９８．６％
実施例 ２純粋な１・２−ジビニルシクロドデカン−１
ーオール（シス異性体６０、トランス異性体４０の混合
物）２０夕をテトラヒドロフラン１００の‘に溶かし、
氷冷下でカリウムアミド５．５夕を加えて約１０分間燈
梓する。
る。水を加えて加水分解後、ｎ−へキサンで抽出する。
水洗、乾燥後ｎ−へキサンを留去する。残留物を減圧蒸
留し、ｂ．ｐ１２０００／１０ｒｒの５−シクロヘキサ
デセン−１−オン１９．７３夕を得た。収率９８．６％
実施例 ２純粋な１・２−ジビニルシクロドデカン−１
ーオール（シス異性体６０、トランス異性体４０の混合
物）２０夕をテトラヒドロフラン１００の‘に溶かし、
氷冷下でカリウムアミド５．５夕を加えて約１０分間燈
梓する。
反応が起り、アンモニアガスが発生する。その後昇温し
て４０００で３０分間加熱、鷹拝する。水を加えて加水
分解し、ｎ−へキサンで抽出する。
て４０００で３０分間加熱、鷹拝する。水を加えて加水
分解し、ｎ−へキサンで抽出する。
水洗、乾燥した後ｎ−へキサンを蟹去する。残留物を減
圧蒸留し、ｂ．ｐ１２０００／ｌｔｏｎの５−シクロヘ
キサヂセン−１−オン１９．８７夕を得た。収率９９．
３％実施例 ３２−クロルシクロドデカン−１−オンの
ビニル化で得られる粗製の１・２−ジビニルシクロドデ
カン−１−オール（純度７４．３％）１０Ｍをトルェン
３００の‘に溶かし、これにナトリウムアミド２．５夕
を加えて室温で約２０分間かきまぜる。
圧蒸留し、ｂ．ｐ１２０００／ｌｔｏｎの５−シクロヘ
キサヂセン−１−オン１９．８７夕を得た。収率９９．
３％実施例 ３２−クロルシクロドデカン−１−オンの
ビニル化で得られる粗製の１・２−ジビニルシクロドデ
カン−１−オール（純度７４．３％）１０Ｍをトルェン
３００の‘に溶かし、これにナトリウムアミド２．５夕
を加えて室温で約２０分間かきまぜる。
その後昇温して６５ｏｏとし約７時間加熱、額拝する。
水を加えて加水分解後有機層を分離し、水洗する。トル
ヱンを留去後残留物を減圧蒸留し、ｂ．ｐ９０〜１２５
ｑｏ／１のｎの留分９５．７夕を得た。ガスクロマトグ
ラフィ一で分析した結果、５−シクロヘキサデセン−１
−オンの含有率７５．８％であった。収率９７．６％で
あった。実施例 ４ ２一クロルシクロドデカン−１ーオンのビニル化で得ら
れた粗製の１・２ージビニルシクロドデカン−１ーオー
ル（純度７４．３％）１００夕をトルェン３００のと‘
こ溶かし、これにカリウム第三級ブトキシド５．０夕を
加え、５０ｑｏで２．５時間加熱、擬伴する。
水を加えて加水分解後有機層を分離し、水洗する。トル
ヱンを留去後残留物を減圧蒸留し、ｂ．ｐ９０〜１２５
ｑｏ／１のｎの留分９５．７夕を得た。ガスクロマトグ
ラフィ一で分析した結果、５−シクロヘキサデセン−１
−オンの含有率７５．８％であった。収率９７．６％で
あった。実施例 ４ ２一クロルシクロドデカン−１ーオンのビニル化で得ら
れた粗製の１・２ージビニルシクロドデカン−１ーオー
ル（純度７４．３％）１００夕をトルェン３００のと‘
こ溶かし、これにカリウム第三級ブトキシド５．０夕を
加え、５０ｑｏで２．５時間加熱、擬伴する。
水を加えて加水分解後有機層を分離し、水洗する。トル
ェンを蟹去後残留物を減圧蒸留し、ｂ．ｐ９０〜１２ｙ
Ｃ／ｌｔｏｒｒの蟹分９６．３夕を得た。ガスクロマト
グラフィ‐で分析した結果５ーシクロヘキサデセン−１
ーオンの含有率７５．２％であった。収率９７．５％で
あった。比較例 １純粋な１・２−ジビニルシクロドデ
カン−１ーオール（シス異性体６０、トランス異性体４
０の混合物）２０夕を１８０ｑｏで５時間加熱縄拝する
。
ェンを蟹去後残留物を減圧蒸留し、ｂ．ｐ９０〜１２ｙ
Ｃ／ｌｔｏｒｒの蟹分９６．３夕を得た。ガスクロマト
グラフィ‐で分析した結果５ーシクロヘキサデセン−１
ーオンの含有率７５．２％であった。収率９７．５％で
あった。比較例 １純粋な１・２−ジビニルシクロドデ
カン−１ーオール（シス異性体６０、トランス異性体４
０の混合物）２０夕を１８０ｑｏで５時間加熱縄拝する
。
減圧蒸留し、ｂ．ｐ１２０ＣＯ／ｌｔｏｍの留分１６．
２夕を得た。ガスクロマトグラフィ一で分析した結果、
５ーシクロヘキサデセン−１−オンの含有率は９６．３
％であった。収率７８％純粋な１・２ージピニルシクロ
ドデカン−１ーオールを４０ｑ○で２独特間、６５ｑ０
で１虫時間それぞれ加熱、燈拝したが５ーシクロヘキサ
デセン−１ーオンは全く生成しなかった。
２夕を得た。ガスクロマトグラフィ一で分析した結果、
５ーシクロヘキサデセン−１−オンの含有率は９６．３
％であった。収率７８％純粋な１・２ージピニルシクロ
ドデカン−１ーオールを４０ｑ○で２独特間、６５ｑ０
で１虫時間それぞれ加熱、燈拝したが５ーシクロヘキサ
デセン−１ーオンは全く生成しなかった。
Claims (1)
- １ １・２−ジビニルシクロドデカン−１−オールを触
媒量のナトリウムあるいはカリウムアルコキシド化剤の
存在下に２０〜１００℃で処理することを特徴とする５
−シクロヘキサデセン−１−オンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51088721A JPS609017B2 (ja) | 1976-07-27 | 1976-07-27 | ５―シクロヘキサデセン―１―オンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51088721A JPS609017B2 (ja) | 1976-07-27 | 1976-07-27 | ５―シクロヘキサデセン―１―オンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5315344A JPS5315344A (en) | 1978-02-13 |
| JPS609017B2 true JPS609017B2 (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=13950757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51088721A Expired JPS609017B2 (ja) | 1976-07-27 | 1976-07-27 | ５―シクロヘキサデセン―１―オンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS609017B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0316020A (ja) * | 1989-03-29 | 1991-01-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | シート状記録媒体の製造方法 |
| JPH0420614U (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-20 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0795218B2 (ja) * | 1986-09-02 | 1995-10-11 | 大日本印刷株式会社 | 情報の読み取り方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4930829A (ja) * | 1972-07-21 | 1974-03-19 |
-
1976
- 1976-07-27 JP JP51088721A patent/JPS609017B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4930829A (ja) * | 1972-07-21 | 1974-03-19 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0316020A (ja) * | 1989-03-29 | 1991-01-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | シート状記録媒体の製造方法 |
| JPH0420614U (ja) * | 1990-06-12 | 1992-02-20 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5315344A (en) | 1978-02-13 |
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