JPS6082837A - パタ−ン欠陥選択方式 - Google Patents
パタ−ン欠陥選択方式Info
- Publication number
- JPS6082837A JPS6082837A JP58191621A JP19162183A JPS6082837A JP S6082837 A JPS6082837 A JP S6082837A JP 58191621 A JP58191621 A JP 58191621A JP 19162183 A JP19162183 A JP 19162183A JP S6082837 A JPS6082837 A JP S6082837A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- address
- defect
- signal
- detection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明はパターン検査装置特にプリント配線基板（以下
ｐｔ板）のパターン欠陥検出装置におけるパターン欠陥
選択方式に関する。
ｐｔ板）のパターン欠陥検出装置におけるパターン欠陥
選択方式に関する。
（ｂ） 技術の背景
従来より種々の半導体素子あるいは抵抗・コンデンサ等
の能動・受動電子部品例えは多数の集積回路素子（ＩＣ
）を搭載・接続して回路ユニットを構成するｐｔ板は通
常周知のようにフォトプロセスにより製作されｐｔ板上
に完成した廷１５体パターンによって該電子部品の搭載
・接わｔする手段を提供することで広く利用されている
。該導体パターンにおいて製作者が期待しない場所に発
生する微小導体パターン（黒点）あるいは導体パターン
の微小欠損（白点）についてのマスク欠陥検査の手段は
旧来における目視から次第に光学的な検出とデータ処理
による自動化を実現する効率の良いパターン検査装置が
提供されるようになった。
の能動・受動電子部品例えは多数の集積回路素子（ＩＣ
）を搭載・接続して回路ユニットを構成するｐｔ板は通
常周知のようにフォトプロセスにより製作されｐｔ板上
に完成した廷１５体パターンによって該電子部品の搭載
・接わｔする手段を提供することで広く利用されている
。該導体パターンにおいて製作者が期待しない場所に発
生する微小導体パターン（黒点）あるいは導体パターン
の微小欠損（白点）についてのマスク欠陥検査の手段は
旧来における目視から次第に光学的な検出とデータ処理
による自動化を実現する効率の良いパターン検査装置が
提供されるようになった。
（ｃ）従来技術と問題点
第１図に従来および本発明の一実施例におけるパターン
検査装置のブロック図を示す。１はＸＹスデージであり
、被検査体のｐｔ板２をのせ、ＸＹ方向に駆動モータ３
，４により移動する。５はレーザ光源でありその光出力
はレンズ６．７により集束されてＰｔ板２上に光点とな
って投射され、かつ光スキャナ（回転多面鏡）８により
走査される。レーザ光の走査範囲は第１図に図示のＬの
ように比較的狭くこの走査範囲り、！：ステージ１のＸ
およびＹ方向移動とが組合されて図示のようにジグザグ
状にＰｔ板２の全面が走査される。ｐｔ板２を通過した
レーザ光はハーフミラ−を介して光検知器９で光電変換
されパターン信号となる。
検査装置のブロック図を示す。１はＸＹスデージであり
、被検査体のｐｔ板２をのせ、ＸＹ方向に駆動モータ３
，４により移動する。５はレーザ光源でありその光出力
はレンズ６．７により集束されてＰｔ板２上に光点とな
って投射され、かつ光スキャナ（回転多面鏡）８により
走査される。レーザ光の走査範囲は第１図に図示のＬの
ように比較的狭くこの走査範囲り、！：ステージ１のＸ
およびＹ方向移動とが組合されて図示のようにジグザグ
状にＰｔ板２の全面が走査される。ｐｔ板２を通過した
レーザ光はハーフミラ−を介して光検知器９で光電変換
されパターン信号となる。
このパターン信号はｐｔ板２上の導体パターンを白黒画
像データで表わすアナログ信号なので次の信号処理回路
で例えば１０μｍ単位を１ピントと１２てパターン信号
を白レベルか黒レベルのいずれかにする。
像データで表わすアナログ信号なので次の信号処理回路
で例えば１０μｍ単位を１ピントと１２てパターン信号
を白レベルか黒レベルのいずれかにする。
信号処理回路１０では２値データを図示省略したが後述
の２次元レジスタ１００に記憶する。即ちｐｔ板２上の
導体パターンは２次元レジスタ１００における論理デー
タ１，０に置換される。
の２次元レジスタ１００に記憶する。即ちｐｔ板２上の
導体パターンは２次元レジスタ１００における論理デー
タ１，０に置換される。
信号処理回路１０ではこの他バター／認識菊で周知の孤
立ビットの除去、まるめ処８！などを行い、次に欠陥検
知、欠陥の測長なとを行う。一方欠陥の位置は該欠陥が
検出されたときのＸＹステージ制萌ｊ系１１から得られ
るステージ鼠置摺号従ってｐｔ板２のＸ、Ｙ位置と、位
置クロック板１２、光検知器１３から得られるレーザ光
のｌ）を板２上への投射位置（光点アドレス）信号との
合成として検知する。
立ビットの除去、まるめ処８！などを行い、次に欠陥検
知、欠陥の測長なとを行う。一方欠陥の位置は該欠陥が
検出されたときのＸＹステージ制萌ｊ系１１から得られ
るステージ鼠置摺号従ってｐｔ板２のＸ、Ｙ位置と、位
置クロック板１２、光検知器１３から得られるレーザ光
のｌ）を板２上への投射位置（光点アドレス）信号との
合成として検知する。
この信号アドレスは欠陥出力と共に検査装置制御系１４
に入力し、検査結果表示器１５に欠陥の位置が表示され
る。１６は角度検出用の光検知器でエツジ信号を出力し
、これは信号処理回路１７で補間、不要エツジ信号線表
処理などが行われ測長方向が判定される。これは欠陥測
長の角度パラメータを提供する。
に入力し、検査結果表示器１５に欠陥の位置が表示され
る。１６は角度検出用の光検知器でエツジ信号を出力し
、これは信号処理回路１７で補間、不要エツジ信号線表
処理などが行われ測長方向が判定される。これは欠陥測
長の角度パラメータを提供する。
このようにしてパター７検査装置ではｐｔ板２を画像パ
ターンとして走査によりシリアルなパター７アナログデ
ータとして光検知器９より送出し、２値化して２次元レ
ジスタに記憶し、この２次元レジスタ１００のデータを
被検パターントシ先ノｐｔ板２の画像パターンと置換す
る。２次元レジスタ１００の被検バターンテータにおけ
るパターン輪郭（黒白に対応する１、０の反転境界）位
］ｋに相当するアドレス境界を基準とし、パターン輪郭
に隣接する輪郭外および内の有害欠陥発生（危険）領域
をパターン方向と平行に移動させる検査マスクに対応さ
せてアクセスする検査アドレスに得られるデータを論理
演算して輪郭外危険領域における黒点または／および輪
郭外危険領域における白点を欠陥データとして得るもの
である。
ターンとして走査によりシリアルなパター７アナログデ
ータとして光検知器９より送出し、２値化して２次元レ
ジスタに記憶し、この２次元レジスタ１００のデータを
被検パターントシ先ノｐｔ板２の画像パターンと置換す
る。２次元レジスタ１００の被検バターンテータにおけ
るパターン輪郭（黒白に対応する１、０の反転境界）位
］ｋに相当するアドレス境界を基準とし、パターン輪郭
に隣接する輪郭外および内の有害欠陥発生（危険）領域
をパターン方向と平行に移動させる検査マスクに対応さ
せてアクセスする検査アドレスに得られるデータを論理
演算して輪郭外危険領域における黒点または／および輪
郭外危険領域における白点を欠陥データとして得るもの
である。
第２図（ａ） 、 （ｂ）に従来における検査アドレス
の配置例を示す。
の配置例を示す。
第２図（ａ）はパターンの走を方向に対し０°、９０’
。
。
１８０°、２７０°方向にパターン方向を有し該方向に
検査マスクを移動するのに対応する検査アドレスおよび
第２図（ｂ） Ｉ−］：パターンの走査方向に対し４５
１１３５’、２２５°、３１５°方向にパターン方向を
有し該方向に移動するのに対応する＠卦′アドレスであ
る。
検査マスクを移動するのに対応する検査アドレスおよび
第２図（ｂ） Ｉ−］：パターンの走査方向に対し４５
１１３５’、２２５°、３１５°方向にパターン方向を
有し該方向に移動するのに対応する＠卦′アドレスであ
る。
第１の検査アドレスは第２図（ａ）に示すように０°方
向に形成された配線パターン輪郭１１０に直交する９０
°方向の直線配置の複数ビットよりなる黒点検出アドレ
ス１１１□、１１１□と、その牛久両側の３ピント位置
よりなる第１のガードアドレス１１２．。
向に形成された配線パターン輪郭１１０に直交する９０
°方向の直線配置の複数ビットよりなる黒点検出アドレ
ス１１１□、１１１□と、その牛久両側の３ピント位置
よりなる第１のガードアドレス１１２．。
１１２□と、その輪郭内側に配したビット位置群よりな
る第２のガードアドレスより構成される。第２の検査ア
ドレスｌ１−Ｌ第２図（ｂ）に示すように１３５６方向
に形成された配線パターン輪郭１１０ａに直交する４５
°方向に形成された黒点検出アドレス１１１□。
る第２のガードアドレスより構成される。第２の検査ア
ドレスｌ１−Ｌ第２図（ｂ）に示すように１３５６方向
に形成された配線パターン輪郭１１０ａに直交する４５
°方向に形成された黒点検出アドレス１１１□。
１１２２、第１のガードパターン１１２＋ ＋ １１２
２ ｒ第２のガードアドレス１１３＋、１１３２その外
に０°と９０＠の複数ビットよりなる第３リガードアド
レス１１４、．１１４２より構成される。
２ ｒ第２のガードアドレス１１３＋、１１３２その外
に０°と９０＠の複数ビットよりなる第３リガードアド
レス１１４、．１１４２より構成される。
８３図ｈ２次元ｖジｘｐ １ｏｏｉｃＭ２図（ａ）、（
ｂ）に示す検査アドレスを設定したものである。それぞ
れのビットアドレスに得られる出力信号に第１表の記号
を与える。
ｂ）に示す検査アドレスを設定したものである。それぞ
れのビットアドレスに得られる出力信号に第１表の記号
を与える。
この２次元メモ’）１００上における被検パターンデー
タを検査アドレスによりアクセスして得られる信号を第
４図にだす従来に示す論理演算回路により欠陥を検出す
る。即ち検査アドレスの１１１２ＫＪ”４するＤ（！ｌ
：■ぐの境界にパターン隣邦を対応させた検査実行位置
にあるとき即ちＤに１ 、 Ｋに０が得られたとき論理
演算におけるＡＮＤ １２８をイネーブルする。次に第
２カイトアドレスは正常時は同イ１号となるのでＧ＋：
、ＧＤをＥＸＮＯＲ１２２に人力し正常ならばｌ、異常
ならば０を出方せしめ、第ｉ、第３ガードアドレス１１
２．，１１２□、 １１４１１１１４２は正常時は１個
以上の白点を含むのでＧＡＩ〜Ａ３゜ＧＢｌ−Ｂｓ ＋
ＧＥ＋−Ｅｎ、ＧＦ、 〜ｒｎをＮＡＮＤ １２３ 。
タを検査アドレスによりアクセスして得られる信号を第
４図にだす従来に示す論理演算回路により欠陥を検出す
る。即ち検査アドレスの１１１２ＫＪ”４するＤ（！ｌ
：■ぐの境界にパターン隣邦を対応させた検査実行位置
にあるとき即ちＤに１ 、 Ｋに０が得られたとき論理
演算におけるＡＮＤ １２８をイネーブルする。次に第
２カイトアドレスは正常時は同イ１号となるのでＧ＋：
、ＧＤをＥＸＮＯＲ１２２に人力し正常ならばｌ、異常
ならば０を出方せしめ、第ｉ、第３ガードアドレス１１
２．，１１２□、 １１４１１１１４２は正常時は１個
以上の白点を含むのでＧＡＩ〜Ａ３゜ＧＢｌ−Ｂｓ ＋
ＧＥ＋−Ｅｎ、ＧＦ、 〜ｒｎをＮＡＮＤ １２３ 。
１２４．１２６，１２７により検出し、正常ならば１゜
異常ならば０となる。黒点検出アドレス１１１１は黒点
検出であるから０Ｒ１２５の出力となる。以上の論理演
算回路の内Ａグループの検出条件をとれば第２図（ａ）
の検査アドレスによる検出条件奮、へ十Ｂグループの論
理稙を得れば第２図（ｂ）の検査アドレスによる検出条
件を満足するものでちる。この結果ＡＮＤ １２８の出
力信号が１であれば欠陥と判定される。従来のパターン
検査装置では以上のように構成されているので第５図（
ａ） または（ｂ）の様な黒点があった場合何れも欠陥
として検出する。
異常ならば０となる。黒点検出アドレス１１１１は黒点
検出であるから０Ｒ１２５の出力となる。以上の論理演
算回路の内Ａグループの検出条件をとれば第２図（ａ）
の検査アドレスによる検出条件奮、へ十Ｂグループの論
理稙を得れば第２図（ｂ）の検査アドレスによる検出条
件を満足するものでちる。この結果ＡＮＤ １２８の出
力信号が１であれば欠陥と判定される。従来のパターン
検査装置では以上のように構成されているので第５図（
ａ） または（ｂ）の様な黒点があった場合何れも欠陥
として検出する。
しかし第５図（ａ）のような場合黒点があっても近接す
る他の４体パターンがなＯれば支障なく製品として使用
出来るので過剰品質となる欠点があり欠陥としない方が
製品コスト上望ましい。
る他の４体パターンがなＯれば支障なく製品として使用
出来るので過剰品質となる欠点があり欠陥としない方が
製品コスト上望ましい。
（ｃｌ） 発明の目的
本発明の目的は上記の欠点を除去するため従来における
検査アドレスに加え輪郭外危険領域の外部隣接領域にお
ける近接パターンの有無を検知するアドレスを加え該検
知アドレスによる信号を論理演算回路に加え、黒点検知
アドレスに対応する黒点があっても検知アドレスによる
信号を論理積信号として印加し該検知信号がないときは
論理演算回路の出力送出を抑止してその黒点を無害欠陥
として処理するパターン欠陥選択方式を提供しようとす
るものである。
検査アドレスに加え輪郭外危険領域の外部隣接領域にお
ける近接パターンの有無を検知するアドレスを加え該検
知アドレスによる信号を論理演算回路に加え、黒点検知
アドレスに対応する黒点があっても検知アドレスによる
信号を論理積信号として印加し該検知信号がないときは
論理演算回路の出力送出を抑止してその黒点を無害欠陥
として処理するパターン欠陥選択方式を提供しようとす
るものである。
（ｅ） 発明の構成
この目的は、被検査体となる画像を光走査して得る画像
パターンを２値化して記憶する２次元レジスタ上に置換
した被検パターンデータについて、該被検パターンデー
タのパターン輪郭位置に相当するアドレス境界を基準と
しそのパターン方向と平行に移動させる横置マスクに相
当してアクセスする検査アドレスに得られるデータを論
理演算して、被検パターンデータのパターン方向に隣接
して検出アドレスの対象とする輪郭外危険領域にお＆＋
／、 、ＩｊＡ占−１−２−ノ斗 ／七、ｌ−７ｆｆｔ
Ａｍｒｊ、”１ａｌｌＡｒｄｉＪＪＬ ｌ／ 山 １ｕ
Ｗ白点を欠陥デー、夕として出力せしめるパターン検
査装置において、２次元レジスタ上の輪郭外危険領域を
指定する検出゛アドレスの外部隣接アドレスを近接パタ
ーン検知アドレスとする手段を具備し、該検知アドレス
に得られる信号を前記論理演算における論理積信号とし
て印加し、検知アドレスに出力信号が得られぬときは輪
郭りｌ危険頭載に検出される信号による論理演算出力を
抑止して黒点を無害欠陥として処理することを特徴とす
るパターン欠陥選択方式を提供することによって達成す
ることが出来る。
パターンを２値化して記憶する２次元レジスタ上に置換
した被検パターンデータについて、該被検パターンデー
タのパターン輪郭位置に相当するアドレス境界を基準と
しそのパターン方向と平行に移動させる横置マスクに相
当してアクセスする検査アドレスに得られるデータを論
理演算して、被検パターンデータのパターン方向に隣接
して検出アドレスの対象とする輪郭外危険領域にお＆＋
／、 、ＩｊＡ占−１−２−ノ斗 ／七、ｌ−７ｆｆｔ
Ａｍｒｊ、”１ａｌｌＡｒｄｉＪＪＬ ｌ／ 山 １ｕ
Ｗ白点を欠陥デー、夕として出力せしめるパターン検
査装置において、２次元レジスタ上の輪郭外危険領域を
指定する検出゛アドレスの外部隣接アドレスを近接パタ
ーン検知アドレスとする手段を具備し、該検知アドレス
に得られる信号を前記論理演算における論理積信号とし
て印加し、検知アドレスに出力信号が得られぬときは輪
郭りｌ危険頭載に検出される信号による論理演算出力を
抑止して黒点を無害欠陥として処理することを特徴とす
るパターン欠陥選択方式を提供することによって達成す
ることが出来る。
（ｆ） 発明の実施例
以下図面を参照しつ＼本発明の一冥り例について説明す
る。
る。
第６図は本発明の一実施例にＪ？ける検音および検知ア
ドレスの配置例図およびさ）７図は本発明の一実施例に
おける陥埋演算回＆′６のブロック図を示す。
ドレスの配置例図およびさ）７図は本発明の一実施例に
おける陥埋演算回＆′６のブロック図を示す。
図において１１０は被検パターン方向タの輪郭、１１１
＋ 、１１１．は黒点検出アドレス、］１２．．＋１２
つは第１ガードアドレス、１１３＋１１１３２は第２ガ
ードアドレス、１１４１’、 １１４２は第３ガードア
ドレス、１１５は従来の輪郭外危険領域に外接する領域
における近接バター／に対応する検知アドレス、更に１
２１＋・すＮＯＴ、１２２はＥＸＮＯＲ，１２３，１２
４゜１２６．１２７はＮＡＮＤ、１２５はＯＲおよび１
２８はＡＮＤである。図の構成部材を示す符号で従来の
それと共通する符号を有する構成部材とその機能および
特性は従来に共通である。従って検知アドレス１１５に
得られる信号をＰＩ−Ｐｎとし第７図に示す従来の演算
回路に併せて論理積信号として印加すれは、ＰＩ〜Ｐｎ
のすべてが１即ち近接パターンが存在するときは従来と
同様に輪郭外危険領域の黒点に対してＰ１〜Ｐｎ入力条
件のない従来と同様に検出信号を送出するがＰＩ−Ｐｎ
の伺れかに０が送出されるときはＡＮ’Ｄ１２８に論理
積が得られぬので近接パターンのない論理となり８１〜
Ｓｎによる欠陥信号の送出を抑止する。
＋ 、１１１．は黒点検出アドレス、］１２．．＋１２
つは第１ガードアドレス、１１３＋１１１３２は第２ガ
ードアドレス、１１４１’、 １１４２は第３ガードア
ドレス、１１５は従来の輪郭外危険領域に外接する領域
における近接バター／に対応する検知アドレス、更に１
２１＋・すＮＯＴ、１２２はＥＸＮＯＲ，１２３，１２
４゜１２６．１２７はＮＡＮＤ、１２５はＯＲおよび１
２８はＡＮＤである。図の構成部材を示す符号で従来の
それと共通する符号を有する構成部材とその機能および
特性は従来に共通である。従って検知アドレス１１５に
得られる信号をＰＩ−Ｐｎとし第７図に示す従来の演算
回路に併せて論理積信号として印加すれは、ＰＩ〜Ｐｎ
のすべてが１即ち近接パターンが存在するときは従来と
同様に輪郭外危険領域の黒点に対してＰ１〜Ｐｎ入力条
件のない従来と同様に検出信号を送出するがＰＩ−Ｐｎ
の伺れかに０が送出されるときはＡＮ’Ｄ１２８に論理
積が得られぬので近接パターンのない論理となり８１〜
Ｓｎによる欠陥信号の送出を抑止する。
本実施例では以上のように構成されているので従来にお
ける輪郭外危険領域において検出する黒薇について該領
域に外接する近接・ζターンのないときは該黒点を無害
欠陥とし、て無視する・くターン欠陥処理方式が得られ
る。
ける輪郭外危険領域において検出する黒薇について該領
域に外接する近接・ζターンのないときは該黒点を無害
欠陥とし、て無視する・くターン欠陥処理方式が得られ
る。
尚以上はバクーン有りを１．パターン無しを０として説
明したが都合によってその逆でも論理を反転しても同様
に実現出来、１だ第１図における光走査を光反射と光投
過の両様としたが光反射のみによっても同様に実現出来
ることはいう迄もない。尚検知パターン１１５のドツト
故は予測される近接パターンに対応して設定するもので
ある。
明したが都合によってその逆でも論理を反転しても同様
に実現出来、１だ第１図における光走査を光反射と光投
過の両様としたが光反射のみによっても同様に実現出来
ることはいう迄もない。尚検知パターン１１５のドツト
故は予測される近接パターンに対応して設定するもので
ある。
更に検車および検知アドレスによるレジスタのアクセス
は２次元レジスタをローまたはカラム毎にまたはその組
合せによるパターンと・１−行にレジスタのビットを直
列に読出して該アドレスデータと照合するか、又はその
逆に訣アドレスのビットをパターンと平行方向にシフト
して照合する手段によれば良い。
は２次元レジスタをローまたはカラム毎にまたはその組
合せによるパターンと・１−行にレジスタのビットを直
列に読出して該アドレスデータと照合するか、又はその
逆に訣アドレスのビットをパターンと平行方向にシフト
して照合する手段によれば良い。
（，９） 発明の詳細
な説明したように本発明によれば従来近接ノくターンの
有無に拘らず欠陥として検出していた黒点について近接
する他の導体パターンがなければ無害欠陥として無視す
る実用的な製品コスト上からも望ましいパターン欠陥選
択方式が得られるので有用である。
有無に拘らず欠陥として検出していた黒点について近接
する他の導体パターンがなければ無害欠陥として無視す
る実用的な製品コスト上からも望ましいパターン欠陥選
択方式が得られるので有用である。
第１図は従来および本発明の一実施例におけるパターン
検査装置のブロック図、第２図（ａ） 、 （ｂ）は従
来における検査アドレスの配置倒閣、第３図は２次元レ
ジスタ上に第２図（ａ） 、 （ｂ）による検査アドレ
スを設定した図、第４図は従来における論理演算回路の
ブロック図、第５図はパターン輪郭と黒点の対応を示す
図、第６図（ａ） 、 （ｂ）は本発明の一実施例にお
ける検査および検知アドレスの配置倒閣および第７図は
本発明の一実施例における演算論理回路のブロック図を
示す。図においてＩＫＸＹステージ、２は被検査体の画
像こ＼ではプリント配線基板（Ｐｔ板）、５はレーザ光
源、８は光スキャナ、９．１３は光検知器、ｌＯは信号
処理回路、１４は検査装置制御系、１００は２次元レジ
スタ、１１０は被検パターンデータの輪郭、１１１．．
１１１２は黒点検出アドレス、１１２．、１１２□け第
１ガードアドレス、１１３．．１１３２は第２ガードア
ドレス、１１４＋、 １１４２は第３ガードアドレス、
１１５け検知アドレス、１２１はＮＯＴ、１２２はＥＸ
ＮＯＲ。 １２３．１２４，１２６，１２７はＮＡＮＤ、１２５は
ＯＲおよび１２８はＡＮＤである。 寮４酊 瞥り唄
検査装置のブロック図、第２図（ａ） 、 （ｂ）は従
来における検査アドレスの配置倒閣、第３図は２次元レ
ジスタ上に第２図（ａ） 、 （ｂ）による検査アドレ
スを設定した図、第４図は従来における論理演算回路の
ブロック図、第５図はパターン輪郭と黒点の対応を示す
図、第６図（ａ） 、 （ｂ）は本発明の一実施例にお
ける検査および検知アドレスの配置倒閣および第７図は
本発明の一実施例における演算論理回路のブロック図を
示す。図においてＩＫＸＹステージ、２は被検査体の画
像こ＼ではプリント配線基板（Ｐｔ板）、５はレーザ光
源、８は光スキャナ、９．１３は光検知器、ｌＯは信号
処理回路、１４は検査装置制御系、１００は２次元レジ
スタ、１１０は被検パターンデータの輪郭、１１１．．
１１１２は黒点検出アドレス、１１２．、１１２□け第
１ガードアドレス、１１３．．１１３２は第２ガードア
ドレス、１１４＋、 １１４２は第３ガードアドレス、
１１５け検知アドレス、１２１はＮＯＴ、１２２はＥＸ
ＮＯＲ。 １２３．１２４，１２６，１２７はＮＡＮＤ、１２５は
ＯＲおよび１２８はＡＮＤである。 寮４酊 瞥り唄
Claims (1)
- 被検査体となる画像を光走査して得る画像パターンを２
値化して記憶する２次元レジスタ上に置換した被検パタ
ーンデータについて、該被検パターンデータのパターン
輪郭位置に相当するアドレス境界を基準としそのパター
ン方向と平行に移動させる検査マスクに相当してアクセ
スする検査アドレスに得られるデータを論理演算して、
被検パターンデータのパターン輪郭に隣接して検出アド
レスの対象とする輪郭外危険領域における黒点または／
および輪郭外危険領域における白点を欠陥データとして
出力せしめるパターン検査装置において、２次元レジス
タ上の輪郭外危険領域を指定する検出アドレスの外部隣
接アドレスを近接パターン検知アドレスとする手段を具
備し、該検知アドレスに得られる信号を前記論理演算に
おける論理積信号として印加し、検知アドレスに出力信
号が得られぬときは輪郭外危険領域に検出される信号に
よる論理演算出力を抑止して黒点を無害欠陥として処理
することを特徴とするパターン欠陥選択方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58191621A JPS6082837A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | パタ−ン欠陥選択方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58191621A JPS6082837A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | パタ−ン欠陥選択方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6082837A true JPS6082837A (ja) | 1985-05-11 |
Family
ID=16277680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58191621A Pending JPS6082837A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | パタ−ン欠陥選択方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6082837A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61200116U (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-15 | ||
| US5528806A (en) * | 1989-09-21 | 1996-06-25 | Nihon Musen Kabushiki Kaisha | Tunable composite longitudinal vibration mechanical filter manufacturing method |
-
1983
- 1983-10-13 JP JP58191621A patent/JPS6082837A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61200116U (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-15 | ||
| JPH0225463Y2 (ja) * | 1985-05-31 | 1990-07-12 | ||
| US5528806A (en) * | 1989-09-21 | 1996-06-25 | Nihon Musen Kabushiki Kaisha | Tunable composite longitudinal vibration mechanical filter manufacturing method |
| US5740595A (en) * | 1989-09-21 | 1998-04-21 | Nihon Musen Kabushiki Kaisha | Composite longitudinal vibration mechanical filter's method of manufacturing including undesired vibration absorber |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3187827B2 (ja) | パターン検査方法および装置 | |
| JPH02148180A (ja) | パターン検査方法及び装置 | |
| KR960013357B1 (ko) | 화상데이타 검사방법 및 장치 | |
| JP2007163259A (ja) | 差分比較検査方法および差分比較検査装置 | |
| JPS6082837A (ja) | パタ−ン欠陥選択方式 | |
| JPS6156865B2 (ja) | ||
| JPH04221748A (ja) | 画像処理装置 | |
| JPS6326510A (ja) | 実装部品検査装置 | |
| JPH01320585A (ja) | 回路部品実装状態検査装置 | |
| JPH0213802A (ja) | 回路部品実装状態検査装置 | |
| JPH0877357A (ja) | パターン位置合わせ装置 | |
| JP2942171B2 (ja) | プリント基板のパターン検査装置 | |
| JPS6112538B2 (ja) | ||
| JPS6227933Y2 (ja) | ||
| JP2690839B2 (ja) | スルーホールの孔詰まり検査装置 | |
| JPH0254495B2 (ja) | ||
| JPH0145735B2 (ja) | ||
| JPH0720060A (ja) | パターン欠陥および異物検査装置 | |
| JPH0312783A (ja) | パターン検査方法 | |
| JPH0241072B2 (ja) | ||
| JPS6080224A (ja) | パタ−ン検査装置 | |
| JP2929755B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JPS62282249A (ja) | パタ−ン検知装置 | |
| JPS6412383B2 (ja) | ||
| JP2002271633A (ja) | 画像処理装置 |