JPS608252B2 - フレキソ印刷版用シンジオタクチツクポリブタジエン組成物 - Google Patents

フレキソ印刷版用シンジオタクチツクポリブタジエン組成物

Info

Publication number
JPS608252B2
JPS608252B2 JP57172501A JP17250182A JPS608252B2 JP S608252 B2 JPS608252 B2 JP S608252B2 JP 57172501 A JP57172501 A JP 57172501A JP 17250182 A JP17250182 A JP 17250182A JP S608252 B2 JPS608252 B2 JP S608252B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
elastomer composition
composition
cis
polyisoprene
phr
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57172501A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5869235A (ja
Inventor
ミルトン・フア−バ−
ジヨン・リチヤ−ド・ウオ−ンズ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uniroyal Inc
Original Assignee
Uniroyal Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uniroyal Inc filed Critical Uniroyal Inc
Publication of JPS5869235A publication Critical patent/JPS5869235A/ja
Publication of JPS608252B2 publication Critical patent/JPS608252B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/113Binder containing with plasticizer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明はフレキソ印刷システムに使用するように設計さ
れた感光性重合体ェラストマー組成物に関するものであ
る。
フレキソ印刷は軟質ェラストマー印刷版を用いたロータ
リー凸版印刷法である。このシステムにおいては、ェラ
ストマー版の突出面からインキが印刷素材に直接転写さ
れる。軟質感光性重合体プレートに最も望ましい性質と
しては、印刷インキに使用されている幅広い種々の溶剤
に対する耐性、版から素材への良好なインキ転写、適当
な硬度(ジュロメーター)、短い製版時間、耐オゾン亀
裂性、耐酸化性、および耐後硬化性が挙げられる。従来
の軟質感光性重合体印刷版は通常1 弾性重合体マトリ
ックス、 2 アクリルまたはメタクリル酸のェステルによって代
表されるような光重合性エチレン的不飽和架橋剤(「単
量体」)、および3 光照射時に重合および/または橋
かけを開始させる化合物である光開始剤から製造されて
いた。
これ等3成分の化学的性質は多様であったし、また、刷
版製作や性能特性特に印刷品質を改善するために必要な
付加的成分が添加されていた。
従来技術においては、商品として許容し得る感光性重合
体フレキソ印刷版を製造するために多量の即ち5phr
(ゴム10碇部当りの部)以上のエチレン的不飽和光重
合性架橋剤が必要とされていたようである。しかし、本
発明では、シンジオタクチツク1,2ーボリブタジェン
(SBD)と3の重量%以上のcis−1,4ーポリイ
ソプレン(cis一1R)との混合物を使用し、架橋剤
を全く必要としないかまたは添加しても3phr以下の
事で添加するものである。その結果得られたフレキソ印
刷版は優れた印刷品質を示し、フレキソ印刷工程の或る
領域における高濃度オゾンによって起るオゾン亀裂に対
して優れた耐性を有しており、かつ容易に製版される。
先行技術 米国特許第2,760,863号は、高分子増粘剤また
は充填剤、付加重合性単量体、および光重合開始剤を含
有する光重合性システムからしリーフ像を形成する方法
を開示している。
米国特許第3,024,18び号およびカナダ特許第6
14,181号は、1,3−ブタジェンおよびハロゲン
置換1,3−ブタジェンの重合体を基材としたレリーフ
版を開示しており、そしてこれ等とアリールオレフイン
例えばスチレン、アクリル酸ェステルおよびニトリルと
の共重合体にも言及している。
米国特許第3,674,486号は、スチレンとブタジ
エン(SBS)またはスチレンとイソプレン(SIS)
とのブロック共重合体を基村にした印刷版組成物を開示
している。
米国特許第3,764,324号は、プタジェンとアク
リロニトリルから議導した不飽和共重合体、および飽和
ハロゲン化重合体例えばポリ塩化ビニルからなる印刷版
配合物であって耐溶剤性の硬質の版を生成するものを開
示している。
英国特許第1,552,653号には、重合体マトリッ
クスとしてのSBDおよび可塑剤としてのcis−mを
共に使用することが開示されているが、許容し得る生成
物を得るためには3phrよりはるかに多量の(少なく
とも5phrの)単量体が必須であり、また、該混合物
中のcjs−IRはたった23%以下であることが教示
されている。
米国特許第4,103,057号およびその対応英国特
許第1,481,212号‘ま英国特許第1,552,
653号と同一の所有者に譲渡されており、そこには、
予め機械成形したパターンを不落化するために用いられ
る単量体不含光硬化性SBD組成物が開示されているが
、この組成物を光化学的不溶化によるパターン形成に使
用することは示唆されてない。
米国特許第4,045231号には、【aースチレン3
5〜5の重量%含有スチレン・プタジェンブロック共重
合体:‘b’ポリブタジェンおよびブタジェン・スチレ
ン共重合体からなる群から選択された分子量1,000
〜5,000の液状プレポリマー少なくとも1種:‘c
}グリコールメタクリレートのような少なくとも1個の
ビニル基を含有する単量体:および‘d}ペンゾフェノ
ンのような光重合開始剤からなるフレキソ印刷版用感光
性樹脂組成物が開示されている。英国特許第4,137
,081号には、重合体に結合した少なくとも2個の末
端オレフィン基を有する液状重合体を包含する感光性重
合体組成物が開示されており、この組成物は重合体に対
して1〜約5の重量%のエチレン的不飽和単量体少なく
とも1種の存在下で光重合される。
cis−IRを30%以上有し、かつ、光重合性架橋剤
を含有しないまたは添加しても3phr以下の量で含有
する、SBDとcis−IRとの混合物である重合体マ
トリックスからなる軟質感光性重合体版は、上記資料の
いずれにも開示されてない。
本発明の概要本発明は、{1}シンジオタクチック1,
2−ポリブタジェンとcis−IRの混合物、■化学線
放射によって活性化する付加重合開始剤、(3ー場合に
より、3phr以下の光重合性エチレン的不飽和架橋剤
からなる軟質の感光性重合体の印刷版である。
上記重合性組成物の層を任意に支持層に接着してなる本
発明の製品は、この光重合性層に密着教遣した実質的に
透明領域と不透明領域とからなる製版用透明画を通して
化学線に露出される。製版用透明画の透明領域下に位置
した層領域においては照射によって不溶化が起るが、製
版用透明画の不透明領域下の未露出領域では実質的に不
落化は起らない。露光後、この製品をハロゲン化炭化水
素のような溶剤で処理して、版の未露出の可溶性領域を
除去する。得られたレリーフ表面は印刷用にプレートま
たはスリーブいずれの形態でも使用することができる。
本発明の新規性は、光重合性エチレン的不飽和架橋剤(
「単量体」)を含有しないまたは極めて少量(3phr
以下)含有する、SBDと少なくとも30%のcis−
IRとの混合物から高品質フレキソ印刷版を製造できる
ことが予想外でかつ未知であったと云う事実に在る。
英国特許第1,552,653号には単量体を混合した
SBDから製造された感光性重合体フレキソ印刷版が開
示されている。その特許明細書中には、拳量体を含有し
ない組成物は有効な製品を製造せず、そして単量体の絶
体最低値は5phrであると云うことが明示されている
。上記英国特許第1,552,653号の実施例6にお
いて、現にその発明者は単量体なしの感光性重合体版が
低品質であることを立証している。英国特許第1,55
2,653号は、SBDにcis−ィソプレンを可塑剤
として添加(23%まで)して使用することを開示して
いるが、そのような組合わせを拳量体少量と共にまたは
無しで(即ち0〜3phrの単量体と共に)光硬化して
有効な製品を得ると云うことを何処にも示唆していない
実際、英国特許第1,552,653号にはそのような
組合わせに単量体;メタクリル酸ラウリル30phrお
よびジメタクリル酸ネオベンチルグチロールlophr
を併用することを教示している。本発明者は高品質フレ
キソ印刷用感光性重合体プレートが単量体なしでSBD
と30〜75%cis−IRとのブレンドから製造でき
ると云うことを明らかにした。任意に添加される少量の
単量体(0〜3phr)は光化学反応の露出時間を短く
するためにのみ使用されている。多量の単量体(5ph
r以上)は好ましくない、即ち最終製品の硬度を望まし
くなく増加させる。これを抑制するためには可塑剤に頼
らなければならないが、可塑剤は高価であり、物理的性
質を劣化させ、さらに製版および印刷中に表面に浸出す
ることもある。これは極めて望ましくない。本発明の好
ましい態様の説明 上記のように、本発明の軟質感光性重合体印刷版は3つ
の主な要素:【1ーェラストマー重合体マトリックス;
■光開始剤;および{3}任意の光重合性エチレン的不
飽和架橋剤3phr以下からなる。
本発明におけるェラストマーマトリックスのシンジオタ
クチツク1,2ーポリブタジェン成分としては実質的に
0〜約50%の結晶化度を有する重合体が包含される。
結晶化度の実際的制限は最終製品に要求される硬度によ
って定められる。結晶化度が増加すると硬度が高くなり
、その逆も云える。本発明にとって好ましい結晶化度の
範囲は5〜20%である。SBDにおける1,2−ユニ
ット(ピニル側基)の含有率は少なくとも85%であり
、分子量は100,000以上である。ェラストマーマ
トリツクスのCiS−IR成分は天然のもの(「天然ゴ
ム」)であっても合成のものであってもよい。
その分子量は10,000以上になり、そのcjs一1
,4一合有率は少なくとも95%になるであろう。好ま
しい重合体は比重約0.91およびムーニー粘度(10
0qo)30〜65を有する合成物である。ェラストマ
ーマトリックスの組成は30〜7の重量%のSBDおよ
び相応して70〜30%のcjs−IRの範囲で変動可
能である。
好ましい組成範囲はSBD50〜70%およびcis一
1R50〜30%である。cis−IRが30%以上の
量で存在すると、cis−IRが弾性でありSBDが樹
脂状であることから付加的効果が生ずる。この場合、フ
レキソ印刷に必要ないずれのレベルの硬度にも容易に調
整することができる。さらに、cis−IRの未硬化の
強度が高いと未硬化状態における欧質感光性重合体プレ
ートの加工性および取り扱いが改善される。これ等印刷
版の決定的性質:寸法安定性および厚みの一様性はci
s−IRの存在によって強化されている。本発明に有効
な付加重合および/または橋かけ開始剤は化学線放射に
よって活性化されかつ185℃以下で熱的に不活性なも
のである。
これ等のなかには芳香族ケトン例えばペンゾフェノンや
置換ペンゾフェノン、置換または非置換多核キノン類則
ち共役6員炭素環中の環内炭素原子に結合している環内
カルボニル基2個を有する化合物であって、そのカルボ
ニル基含有壕には少なくとも1個の芳香族炭素環が縮合
している、が包含される。そのような開始剤として適当
なものは、9,10−アントラキノン、1−クロロアン
トラキノン、2一クロロアントラキノン、2−メチルア
ントラキノン、2−teれ−ブチルアントラキノン、オ
クタメチルアントラキノン、1,4ーナフトキノン、9
,10−フヱナントレンキノン、1,2ーベンズアント
ラキノン、2,3−ペンズアントラキノン、2ーメチル
ー1,4ーナフトキノン、2,3一ジクロロナフトキノ
ン、1,4−ジメチルアントラキノン、2,3−ジメチ
ルアントラキノン、2ーフエニルアントラキノン、2,
3ージフエニルアントラキノン、アントラキノンQ−ス
ルホン酸のナトリウム塩、3ークロロー2−メチルアン
トラキノン、Q−レテンキノン、7,8,9,10ーテ
トラヒドロナフタセンキノン、および1,2,3,4ー
テトラヒ・ドロヘンズアントラセンー7,12ージオン
がある。他の有効な光重合開始剤は米国特許第2,76
0,863号中に記載されており、隣援ケタルドニル化
合物例えばジアセチル、ペンジル、等々:Q−ケタルド
ニルアルコール例えばペンゾィン、ピバロィン、等々;
アクロィンェーテル例えばペンゾインメチルおよびエチ
ルエーテル等;Q−炭化水素置換芳香族アシロィン例え
ばQーメチルベンゾインQーアリルベンゾイン、Qーフ
エニルベンゾインおよび2,2ージアルコキシ−2−フ
ヱニルアセトフェノンが包含される。好ましい開始剤の
なかには、2,2−ジメトキシー2−フエニルアセトフ
エノン、ベンゾインのC,〜C5アルキルエーーテル、
およびペンゾフェノンが包含される。濃度範囲はェラス
トマー10碇部当り0.5〜5部であり、1〜3部が好
ましい。本発明における任意に添加される光重合性エチ
レン的不飽和架橋剤としての使用に適するものは、ポリ
オールの不飽和ェステル特にQーメチレンカルボン酸の
ェステル例えばエチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、グリセロールジア
クリレート、グリセロールトリアクリレート、マニトー
ルポリアクリレート、ソルビトールポリアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、1,3−プロパ
ンジオールジメタクリレート、1,2,4−ブタントリ
オ一ルトリメタクリレート、1,4ーブタンジオールジ
アクリレートおよびジメタクリレ−ト、1,4ーシクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−ベンゼンジ
オールジメタクリレート、イソソルビデンジアクリレー
ト、ベンタエリトリトールジー、トリ−、およびテトラ
ーメタクリレート、ジベンタエリトリトールポリアクリ
レート、ベンタエリトリトールジー、トリー、およびテ
トラーアクリレート、1,3ープロパンジオールジアク
リレート、1,6ーヘキサンジオールジアクリレートお
よびジメタクリレート、1,5−ペンタンジオールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
トおよびトリメタクリレート、分子量200〜4,00
0のポリエチレングリコールのビスアクリレートおよび
メタクリレート;不飽和アミド特にQ−メチレンカルボ
ン酸からのものおよび特にQ−、の−ジアミンおよび酸
素中断のージアミンからのもの例えばメチレンビスアク
リルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、エチレン
ビスメタクリルアミド、1,6ーヘキサメチレンビスア
クリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリル
アミド、1,2ージ(y−メタクリルアミドプロポキシ
)エタン、8ーメタクリルアミドエチルメタクリレート
、N−(B−ヒドロキシヱチル)−2一(メタクリルア
ミド)ーエチルアクリレートおよびN,Nーピス(8−
メタクリルイルオキシエチル)アクリルアミド;ビニル
ェステル例えばコハク酸ジビニル、アジピン酸ジビニル
、フタル酸ジビニル、テレフタル酸ジビニル、ジビニル
ベンゼン−1,3−ジスルホネート、ジビニルブタンー
1,4−ジスルホネートおよび不飽和アルデヒド例えば
ソルブアルデヒド(ヘキサジェナール)がある。
付加重合性架橋剤として特に好ましいものは、o−メチ
レンカルボン酸や飽和カルボン酸とポリオールおよびポ
リアミンとのエステルおよびアミドであり、そのヒドロ
キシル基とアミノ基の間の分子鎖は炭素のみであるかま
たは酸素で中断された炭素鎖である。任意に添加される
光重合性エチレン的不飽和架橋剤ぐ単量体Jの量は約0
〜3phr好ましくは0.5〜本hrの範囲である。
これは最終印刷版を作製するための光化学反応の露出時
間を短縮することが必要な場合にのみ使用される。これ
を使用しなくとも高品質の版を製造することができる。
多量の単量体(5phr以上)は組成物の硬度の望まし
くない増加をもたらすので好ましくない。感光性組成物
は溶液中で開放式ロール機によってまたは密閉式ミキサ
ーによって成分を均一化するに十分な時間通常数分間混
合せしめることによって製造される。それから組成物を
注入成形、圧縮成形または押出成形して所望の厚さのシ
ートまたはスリーブ状にする。次いで高強度の紫外光源
によって、露出城が硬化して耐溶剤性になるに十分な時
間黒白透明画を通して露出する。それから、溶剤で未露
出領域をブラッシングまたは洗浄除去すると、架橋した
不溶性重合体がレリーフ版画像として残留する。この版
を強制風炉中で乾燥する。感光性配合物用支持体は寸法
安定性がよくかつ耐溶剤性でなければならない。
普通使用されている支持体はアルミニウムのようなシー
ト状金属、およびポリエステルやポリアミドのようなプ
ラスチックである。次に実施例によって本発明を説明す
る。
実施例 1 結晶化度約15%、メルトフローインデツクス3(15
000で)、および密度0.901を有するシンジオタ
クチック1,2−ポリブタジェン(SBD)50部と、
ムーニー粘度(10000)50〜65および比重0.
91を有する不均一重合ェラストマhであるcis−1
,4−ポリイソプレン(cis−IR)5碇都とを90
00〜100qoの2本ロール機で混合した。
ロール機上でこの混合物に対し光重合開始剤として2,
2−ジメナキシ−2−フエニルアセトフエノン(DMP
A)3部をおよび酸化防止剤としてテトラキスメチレン
ー3一(3′蔓 5′ージーtem−ブチルー4′−ヒ
ドロキシフエニル)プロピオネートメチン(lrga血
×lolmm)005部を添加した。この組成物を「透
明な0.005″ポリエステルフィルムの間で0.07
0″のシートに圧縮成形した。ポリエステルフィルムは
一枚が支持体として作用し他の一枚が除去可能なカバー
シートとして作用した。カバーシートを除去し、感光性
重合体配合物のシートを「階光一露出器によって黒色透
明画を通して背面から40秒そして前面から1び分間露
出した。
透明画は広域画像「線画像およびハーフトーン画像を有
している。それから、回転ブラシ洗浄ユニット中で禾露
出領域をベルクロロェチレンで洗い流し、この版を65
qoで乾燥した。製版を完了するため「後露光2分を表
面から施し、3鼠砂間酸性次亜塩素酸塩洗浄漂白裕中に
浸潰した後水洗して粘着防止した。最終的にこの版は良
好な解像度、直線の細い線、0.029″しりーフ、お
よびショアAジュロメーター硬度46を示した。実施例
2 上記実施例と同種のSBDとcis一1Rを70/30
比で使用して上記実施例と同機の混合物を製造した。
DMPA2部も 2, 6−ジーtert−ブチル−p
ークレゾール(BHT)0.2部およびlrga肌xl
ol比mo.05部を2本ロール機上で添加し、生成物
を実施例1と同様の0.070″シートに成形した。「
階光一ユニットを用いて黒白透明画を通して背面から3
の砂、前面から8分露出した後、上記の方法で処理して
「良好な解像度、0.031″レリーフおよびショアA
硬度55を有する印刷版を得た。実施例 3実施例1で
使用したと同種のSBDとcis−IRを含有する次の
配合物を調製した;これ等成分をシグマプレードミキサ
−中で120℃で混合し「 それから130ooでフラ
ットダィから押出成形して厚さ0.112″のシートに
した。
これ等シートは透明な0.005″ポリエステルフィル
ム支持体に永久的に付着しており、さらに同様の除去可
能なカバーシートを有していた。各シートはカバーシー
トを取り除いてから〜「脂光一露出ユニットによって黒
色透明圏を通して背面から2.5分そして前面から8分
露出した。未露出領域をベルクロロェチレンで除去した
後、完成した版は良好な解像度、0.33″〜0.03
8″しりーフおよびショアAジュロメータ‐硬度48(
3Aの場合)と55(斑の場合)を有していた。実施例
4 この実施例は25%程度の低量のSBDとcjs−IR
の混合物を用いても光硬化して許容できるフレキソ印刷
版が製造されることを示すものである。
このためには、実施例1で使用したSBDとcis−I
Rを25対75の比率で配合し、さらにDMPA2部、
BHTO.2部およびlrga血×lol瓜mo.05
部を加えた。この配合物の0.070″シートを「晴光
一ユニット中で透明画を通して背面から3明@そして前
面から8分露出し、良好な品質の0.031″レリーフ
およびショアAジュロメーター55を有するフレキソ印
刷版を最終的に得た。実施例 5 光重合性架橋剤5phr以上を含有するSBD/cis
−IR感光性重合体組成物が望ましくない硬度を示すこ
とを明らかにした具体例である。
DMPA3phrおよびlrga血×lol仇mo.0
5phrを含有する、SBD/cis−瓜の50ノ50
ブレンドを調製し、この混合物を分割したものに、架橋
剤(単母体)HDDAをそれぞれ0,1, 2,3,5
,10,2岬hr添加した。
これ等温合物を厚さ0.070″の平坦なプレートに圧
縮成形した。それから、これ等を「階光一ユニット中で
黒色透明画を通して紫外光に露出し、処理し、乾燥した
。縛られた結果を第1表に示す。HDDAが3phrよ
り高い場合には硬度が60を越えるので、フレキソ印刷
版として極めて好ましくない。
実施例 6 実施例1に記載されていると同じSBD7礎部と、数平
均分子量2,500,000、ム−ニー粘度(100℃
)55〜60 および比重0.班を有するcis−IR
30部とをトルェンとメチルエチルケトンの3:1混合
液中で溶液にした。
この溶液にDMPAかhrおよびHDDAIphrを添
加した。この溶液を固形分20%で、0.005″ポリ
エステルフィルム上にキヤスティングし、溶剤を蒸発さ
せた。乾燥膜厚0.067″の多層になるまで、この方
法でキャスティングを重ねた。
こうして得た製品のサンプルを「階光一ユニット中で透
明画を通して背面から15秒、前面から5分露出した。
それから未露出重合体を除去するためベルクロロェチレ
ン中で洗浄し、2分間後援出し、次亜塩素酸塩で処理し
、次いで乾燥した。完成版をモデル650Webtro
nフレキソ印刷機に装着して、溶剤としてエタノールを
用いた黒色フレキソ印刷インキを使用して、100フィ
ート/分の速度で紙に印刷した。印刷品質は極めて良好
で、インキ転写も良く細部の解像力も良かった。実施例
7 HDDAの代りにトリメチロールプロパントリアクリレ
ート1部を用いて実施例3と同じ配合物を調製した。
これ等成分を90〜100つ0の2本ロール機上で混合
し、透明な0.005″ポリエステルフィルムの間で圧
縮成形して0.0070″シートにした。「階光一ユニ
ット中で像保持透明画を通して紫外光に露出し、先の実
施例に記載したように処理して、優れた解像度と直線画
像を有する優れた品質のフレキソ印刷版を得た。実施例
8 インキ受容性を良くするために高圧放電ぐコロナ放電J
処理したポリエチレンフィルム上への印刷にいまいまフ
レキソ印刷版が使用されている。
高圧放電器の周辺はオゾン濃度が高くなっているので、
フレキソ印刷版が耐オゾン亀裂性を有していると極めて
好ましい。実施例1に従って製造した完成印刷版を2″
直径マンドレル上に装着して、空気中に0.5ppmオ
ゾンを有する雰囲気下の1000Fのテストチャンバー
中に保存した。30餌時間保存後でも、版表面は変化な
くそして亀裂の徴候はなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (A)シンジオタクチツク1,2−ポリブタジエン
    とcis−1,4−ポリイソプレンの混合物および(B
    )化学線放射によつて活性化する光重合開始剤0.1〜
    5phrからなる印刷用に適するエラストマー組成物。 2 (A)が30〜75重量%のcis−1,4−ポリ
    イソプレンを含有している、特許請求の範囲第1項のエ
    ラストマー組成物。3 (A)シンジオタクチツク1,
    2−ポリブタジエンとcis−1,4−ポリイソプレン
    の混合物;(B)化学線放射によつて活性化する光重合
    開始剤0.1〜5phr;および(C)光重合性エチレ
    ン的不飽和化合物から由来する3phrまでの架橋剤か
    らなる印刷用に適するエラストマー組成物。 4 (A)が約30〜75重量%のcis−1,4−ポ
    リイソプレンを含有している、特許請求の範囲第3項の
    エラストマー組成物。 5 (C)が上記架橋剤0.5〜2.0phrからなる
    、特許請求の範囲第3項のエラストマー組成物。 6 (C)がアクリル酸のエステルからなる、特許請求
    の範囲第5項のエラストマー組成物。 7 (C)がメタクリル酸のエステルからなる、特許請
    求の範囲第5項のエラストマー組成物。 8 (C)がエチレングリコールジアクリレート、エチ
    レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
    ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
    ート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,4
    −ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサン
    ジオールアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメ
    タクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
    ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、また
    はこれ等の混合物からなる群から選択された光重合性エ
    チレン的不飽和化合物からなる、特許請求の範囲第5項
    のエラストマー組成物。 9 (C)がエチレングリコールジアクリレートからな
    る、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成物。 10 (C)がエチレングリコールジメタクリレートか
    らなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成物。 11 (C)がジエチレングリコールジアクリレートか
    らなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成物。
    12 (C)がジエチレングリコールジメタクリレート
    からなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成物
    。13 (C)が1,4−ブタンジオールジアクリレー
    トからなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成
    物。 14 (C)が1,4−ブタンジオールジメタクリレー
    トからなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成
    物。 15 (C)が1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
    トからなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成
    物。 16 (C)が1,6−ヘキサンジオールジメタクリレ
    ートからなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組
    成物。 17 (C)がトリメチロールプロパントリアクリレー
    トからなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組成
    物。 18 (C)がトリメチロールプロパントリメタクリレ
    ートからなる、特許請求の範囲第8項のエラストマー組
    成物。 19 (B)がベンゾフエノンである、特許請求の範囲
    第8項のエラストマー組成物。 20 (B)がベンゾインのC_1〜C_5アルキルエ
    ーテルである、特許請求の範囲第8項のエラストマー組
    成物。 21 (B)がベンジルである、特許請求の範囲第8項
    のエラストマー組成物。 22 (B)がベンジルのC_1〜C_5アルキルモノ
    ケタールである、特許請求の範囲第8項のエラストマー
    組成物。 23 (B)が2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセ
    トフエノンである、特許請求の範囲第8項のエラストマ
    ー組成物。 24 (A)がシンジオタクチツクポリブタジエン50
    %とcis−1,4−ポリイソプレン50%の混合物で
    あり;(B)が2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセ
    トフエノン2〜3phrであり;そして(C)がヘキサ
    ンジオールジアクリレート1〜2phrである、特許請
    求の範囲第3項のエラストマー組成物。 25 (A)がシンジオタクチツクポリブタジエン70
    %とcis−1,4−ポリイソプレン30%の混合物で
    ある、特許請求の範囲第24項のエラストマー組成物。 26 上記シンジオタクチツクポリブタジエンが結晶化
    度5〜20%である、特許請求の範囲第3項のエラスト
    マー組成物。27 上記cis−1,4−ポリイソプレ
    ンが100℃でムーニー粘度30〜65を有する、特許
    請求の範囲第26項のエラストマー組成物。 28 上記混合物(A)が30〜70重量%のシンジオ
    タクチツク1,2−ポリブタジエンおよび対応して70
    〜30重量%のcis−1,4−ポリイソプレンからな
    る、特許請求の範囲第26項のエラストマー組成物。
JP57172501A 1981-10-01 1982-09-30 フレキソ印刷版用シンジオタクチツクポリブタジエン組成物 Expired JPS608252B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US307360 1981-10-01
US06/307,360 US4394435A (en) 1981-10-01 1981-10-01 Syndiotactic polybutadiene composition for a photosensitive printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5869235A JPS5869235A (ja) 1983-04-25
JPS608252B2 true JPS608252B2 (ja) 1985-03-01

Family

ID=23189411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57172501A Expired JPS608252B2 (ja) 1981-10-01 1982-09-30 フレキソ印刷版用シンジオタクチツクポリブタジエン組成物

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4394435A (ja)
EP (1) EP0076588B1 (ja)
JP (1) JPS608252B2 (ja)
KR (1) KR840001488A (ja)
AU (1) AU8853082A (ja)
BR (1) BR8205601A (ja)
CA (1) CA1178474A (ja)
DE (1) DE3274502D1 (ja)
PL (1) PL238443A1 (ja)
ZA (1) ZA826871B (ja)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3372550D1 (en) * 1982-11-04 1987-08-20 Ciba Geigy Ag Compositions photocurable in the presence of sensitizers, and their use
US4686172A (en) * 1985-07-18 1987-08-11 Uniroyal Plastics Co., Inc. Photosensitive elastomeric composition for flexographic printing plates having improved softness
DE3600774C1 (de) * 1986-01-14 1987-05-07 Du Pont Deutschland Verfahren zum Verkleben von photopolymerisierbaren Druckplatten oder Druckformen fuer den Flexodruck
JPS63208035A (ja) * 1987-02-25 1988-08-29 Toray Ind Inc フレキソ印刷版材
DE3630474A1 (de) * 1986-09-06 1988-03-10 Basf Ag Verfahren zur herstellung von aufzeichnungsschichten und deren verwendung zur herstellung von flexodruckformen
US5354645A (en) * 1988-08-23 1994-10-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of flexographic printing reliefs
AU628399B2 (en) 1988-08-23 1992-09-17 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of flexographic printing reliefs
GB2235927B (en) * 1989-09-14 1992-10-21 Asahi Chemical Ind A sulfonic acid group-containing polyurethane and a photosensitive resin composition containing the same
JPH0418564A (ja) * 1990-01-22 1992-01-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性エラストマー組成物用現像剤
DE4007248A1 (de) * 1990-03-08 1991-09-12 Du Pont Deutschland Verfahren zur herstellung flexographischer druckformen
US5171790A (en) * 1990-04-04 1992-12-15 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Elastomer blend for sound and vibration damping
NZ237919A (en) * 1990-04-26 1994-09-27 Grace W R & Co Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates
DE10118987A1 (de) 2001-04-18 2002-10-24 Basf Drucksysteme Gmbh Lasergravierbare Flexodruckelemente mit reliefbildenden elastomeren Schichten enthaltend syndiotaktisches 1,2,-Polybutadien
GB0129474D0 (en) * 2001-12-08 2002-01-30 Tun Abdul Razak Res Ct Thermoplastic elastomer compositions
US8071260B1 (en) * 2004-06-15 2011-12-06 Inphase Technologies, Inc. Thermoplastic holographic media
JP4982988B2 (ja) * 2004-12-28 2012-07-25 Jsr株式会社 レーザー加工用組成物、レーザー加工用シート、及びフレキソ印刷版
JPWO2007066652A1 (ja) * 2005-12-09 2009-05-21 Jsr株式会社 紫外線硬化性重合体組成物、樹脂成形品及びその製造方法
JP4958571B2 (ja) * 2006-07-20 2012-06-20 富士フイルム株式会社 レーザー分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料
JPWO2010071200A1 (ja) * 2008-12-19 2012-05-31 Jsr株式会社 感光性樹脂組成物、感光性積層体及びフレキソ印刷版
JP2010163572A (ja) * 2009-01-19 2010-07-29 Lintec Corp 架橋ゴムの製造方法
JP2010180370A (ja) * 2009-02-09 2010-08-19 Lintec Corp 架橋ゴムの製造方法
US20120129097A1 (en) * 2010-11-18 2012-05-24 Jonghan Choi Photopolymer Printing Plates with In Situ Non-Directional Floor Formed During Extrusion

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5228041B2 (ja) * 1973-04-06 1977-07-23
AU476446B2 (en) * 1974-04-18 1976-09-23 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd Photosensitive composition
US4045231A (en) * 1975-03-15 1977-08-30 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition for flexographic printing plates
FR2318441A1 (fr) * 1975-07-17 1977-02-11 Nippon Paint Co Ltd Composition

Also Published As

Publication number Publication date
EP0076588A3 (en) 1983-05-25
US4394435A (en) 1983-07-19
BR8205601A (pt) 1983-08-30
CA1178474A (en) 1984-11-27
JPS5869235A (ja) 1983-04-25
DE3274502D1 (en) 1987-01-15
AU8853082A (en) 1984-04-05
ZA826871B (en) 1983-07-27
EP0076588A2 (en) 1983-04-13
KR840001488A (ko) 1984-05-07
PL238443A1 (en) 1983-06-06
EP0076588B1 (en) 1986-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS608252B2 (ja) フレキソ印刷版用シンジオタクチツクポリブタジエン組成物
US4517279A (en) Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates - processable in semi-aqueous basic solution or solvent systems
GB2066495A (en) Multilayered elastomeric printing plate
JPH05150451A (ja) 感光性樹脂組成物
JPH10104833A (ja) 感光性混合物、感光印刷版、およびフレキソ印刷版
CA1135108A (en) Photopolymerizable composition containing chlorosulfonated polyethylene
US4686172A (en) Photosensitive elastomeric composition for flexographic printing plates having improved softness
US4517278A (en) Flexographic printing plates and process for making the same
GB2064151A (en) Photopolymerisable composition
CA1203107A (en) Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates, processable in semi- aqueous basic solution or solvent
JP2985655B2 (ja) 感光性組成物、感光性ゴム版およびその製法並びにフ レキソ印刷版およびその製法
AU596101B2 (en) Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plate
EP0154512B1 (en) Tapered di-block copolymer photopolymerizable composition
US4689290A (en) Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plate
GB2179360A (en) Aqueous developable photopolymer compositions
JP2581094B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPH07134411A (ja) 感光性樹脂組成物
JP3240781B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP3521630B2 (ja) 印刷版用感光性樹脂組成物および印刷版材
JP2772081B2 (ja) 耐オゾン性フレキソ印刷版を製版するための光重合性エラストマー混合物およびこの混合物を含有する記録材料
JPH06202331A (ja) 感光性エラストマー組成物及びそれを用いた感光性フレキソ版
JPH0541979B2 (ja)
JPS5940640A (ja) フレキソ印刷版用水現像型感光性樹脂組成物
JPH04271351A (ja) フレキソ印刷用光重合性印刷プレート
JPS63167350A (ja) 感光性樹脂組成物