JPS6081046A - 赤外線反射被膜形成用組成物 - Google Patents
赤外線反射被膜形成用組成物Info
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- JPS6081046A JPS6081046A JP18909883A JP18909883A JPS6081046A JP S6081046 A JPS6081046 A JP S6081046A JP 18909883 A JP18909883 A JP 18909883A JP 18909883 A JP18909883 A JP 18909883A JP S6081046 A JPS6081046 A JP S6081046A
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- infrared
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- glass
- film
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
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- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、硝子の表面に赤外線反坏1膜を形成するため
の薬剤組成物に関するものである。
の薬剤組成物に関するものである。
従来例の構成とその問題点
赤外線反射硝子は、硝子の表面に酸化錫もしくは酸化イ
ンジウムの透明性膜を均一に形成することにより構成さ
れるもので、強度の赤外線反則性能を確保するために、
少量の不純物をドーピングするのが常である。酸化錫に
対しては、アンチモン、弗素元素が導入され、酸化イン
ジウムに7t しては錫元素を用いれば良好な赤外#!
反」(1特性をもたらすことが知られている。酸化イン
ジウム系による場合は、形成された膜の可視光線の透過
性が、不透明化しゃすい念め悪く、また膜の強度も低い
ために傷が4=Iきやすい。現在酸化錫膜を形成した赤
外線反射硝子はこのような欠点が出にくいため賞月され
ている。
ンジウムの透明性膜を均一に形成することにより構成さ
れるもので、強度の赤外線反則性能を確保するために、
少量の不純物をドーピングするのが常である。酸化錫に
対しては、アンチモン、弗素元素が導入され、酸化イン
ジウムに7t しては錫元素を用いれば良好な赤外#!
反」(1特性をもたらすことが知られている。酸化イン
ジウム系による場合は、形成された膜の可視光線の透過
性が、不透明化しゃすい念め悪く、また膜の強度も低い
ために傷が4=Iきやすい。現在酸化錫膜を形成した赤
外線反射硝子はこのような欠点が出にくいため賞月され
ている。
酸化錫膜をもたらす主薬剤としては、塩化第一錫、有機
第一錫のアルコキシド′またはアシフレオキシ化合物(
以下有機第一錫f化合物と称する)やジメチル錫オキシ
ドである。これらの薬剤は、酸化錫膜を形成する方法が
その性状から1沢定されるもので、塩化第一錫は昇華飛
散性が大きいため硝子J3相をあらかじめ460°C以
」二に加熱しておき、その表面にスプレーなどにより微
細粒子状に噴霧し、これをその表171iK、接触熱分
解(以下ホット甚イ1への噴霧法と称する)させる方法
に適し、有機第一錫系化合物は、熱分解に長時間を必要
とすることから、室温において薬剤を41(44表面に
0布乾燥後、徐々に加熱して熱分解(U下コールド塗布
焼成法と称する)させる方法で実施されている。
第一錫のアルコキシド′またはアシフレオキシ化合物(
以下有機第一錫f化合物と称する)やジメチル錫オキシ
ドである。これらの薬剤は、酸化錫膜を形成する方法が
その性状から1沢定されるもので、塩化第一錫は昇華飛
散性が大きいため硝子J3相をあらかじめ460°C以
」二に加熱しておき、その表面にスプレーなどにより微
細粒子状に噴霧し、これをその表171iK、接触熱分
解(以下ホット甚イ1への噴霧法と称する)させる方法
に適し、有機第一錫系化合物は、熱分解に長時間を必要
とすることから、室温において薬剤を41(44表面に
0布乾燥後、徐々に加熱して熱分解(U下コールド塗布
焼成法と称する)させる方法で実施されている。
塩化第一錫によるホ)トノrl:IAへの噴霧法による
酸化錫膜の形成方式では、−回の処理工程で容易に3o
OoX程度の膜厚みまで形成ができるため、膜厚が薄い
と赤外線反射特性が十分でないといういわゆる膜厚によ
る依存性が消去できるという利点を有する反−而、加熱
器囲気内で多量の塩酸ガスや弗化水素ガスの発生があり
、このため設備関係の腐食性が大きく、υ1出ガスの公
害処理は容易なものではない。
酸化錫膜の形成方式では、−回の処理工程で容易に3o
OoX程度の膜厚みまで形成ができるため、膜厚が薄い
と赤外線反射特性が十分でないといういわゆる膜厚によ
る依存性が消去できるという利点を有する反−而、加熱
器囲気内で多量の塩酸ガスや弗化水素ガスの発生があり
、このため設備関係の腐食性が大きく、υ1出ガスの公
害処理は容易なものではない。
有機第一錫系化合物によるコールド塗布り°t1成法で
は、腐食性ガスの発生が大幅に軽減できるが、薬剤の分
解が不均一化しやすく部分的に白濁した不連続の膜にな
りやすい。したがって、この欠点を避けようとするため
、−回の処理で形成できる赤外線反射膜の厚みが600
A以下になり、赤外線波長域1イ1ミが不十分であった
。ざらに有機第一錫系化合物を使用する場合、」、(材
表面での有機第一錫系化合物の酸化錫への熱分解移行が
遅く、赤外線反構、]特性の向上を目的として使用する
ドーピング剤が加熱分解時に飛散しやすく十分なドーピ
ング効果が得られていない。有機aウー錫系化合物のホ
ノ1〜l、i 4Bへの噴霧法によれば、形成された1
1ノは未分解有機物を包含するため着色が大きく実用に
供しえないものとなる。したがって、公害処理上有利で
ある有機第一錫系化合物を使用して、++J視光線の透
過性に優れ、赤外線反射特性の良い赤外線反則硝子の形
成を可能とする薬剤組成物が強く望まれていた。
は、腐食性ガスの発生が大幅に軽減できるが、薬剤の分
解が不均一化しやすく部分的に白濁した不連続の膜にな
りやすい。したがって、この欠点を避けようとするため
、−回の処理で形成できる赤外線反射膜の厚みが600
A以下になり、赤外線波長域1イ1ミが不十分であった
。ざらに有機第一錫系化合物を使用する場合、」、(材
表面での有機第一錫系化合物の酸化錫への熱分解移行が
遅く、赤外線反構、]特性の向上を目的として使用する
ドーピング剤が加熱分解時に飛散しやすく十分なドーピ
ング効果が得られていない。有機aウー錫系化合物のホ
ノ1〜l、i 4Bへの噴霧法によれば、形成された1
1ノは未分解有機物を包含するため着色が大きく実用に
供しえないものとなる。したがって、公害処理上有利で
ある有機第一錫系化合物を使用して、++J視光線の透
過性に優れ、赤外線反射特性の良い赤外線反則硝子の形
成を可能とする薬剤組成物が強く望まれていた。
発明の目的
本発明は、前記の事情に鑑みて公害J−の支障が極めて
軽度であり、−回の形成処理により着色がなoiJ視光
線の透過性と赤外線反I・1性能に優れた赤外線反射硝
子形成用組成物を提供することを目的とする。
軽度であり、−回の形成処理により着色がなoiJ視光
線の透過性と赤外線反I・1性能に優れた赤外線反射硝
子形成用組成物を提供することを目的とする。
発明の構成
本発明の赤外線反射硝子形成用組成物は、一般式5n(
OR)2で表わされるアルコキシド化合物及び一般式5
n(OOCR)2で表わされるアシルオキシ化合物(た
だし、前記のRは炭素数4〜8のア第−アミン類(ただ
し、R’ I−i炭素数1〜6のア/レキルJWを表わ
す。)と三弗化硼素との錯化合物を混合してなるもので
ある。また、上記組成物にさらに塩化パラジウムまたは
塩化白金酸を混合してなるものである。
OR)2で表わされるアルコキシド化合物及び一般式5
n(OOCR)2で表わされるアシルオキシ化合物(た
だし、前記のRは炭素数4〜8のア第−アミン類(ただ
し、R’ I−i炭素数1〜6のア/レキルJWを表わ
す。)と三弗化硼素との錯化合物を混合してなるもので
ある。また、上記組成物にさらに塩化パラジウムまたは
塩化白金酸を混合してなるものである。
本発明の赤外線反射硝子形成用組成物は、反則膜の形成
力法として、ホット水利への噴霧法やコールド塗布焼成
法に適用して、本発明の目的を満足する赤外線反則硝子
の形成を可能にするように構成されているものである。
力法として、ホット水利への噴霧法やコールド塗布焼成
法に適用して、本発明の目的を満足する赤外線反則硝子
の形成を可能にするように構成されているものである。
実施例の説明
以下、本発明を実施例に基づき詳細1に説明する。
前記有機第一錫系化合物は、これ単独でアルコールなど
の溶剤により溶液として、ポット基利への噴霧法により
容易に1000〜300’Oλのj膜厚みが得られる。
の溶剤により溶液として、ポット基利への噴霧法により
容易に1000〜300’Oλのj膜厚みが得られる。
しかし、暗赤色ないし暗褐色のイ孕めて着色度の大きい
可視光線透過性の悪い状態になる。この赤外線反a、I
特性は、g=ab日立製作所製R−280型赤外線分光
々度計にIRR−3形光外線反射シールを取り伺け、ク
ロム鏡面の反極j率を100%とした装置により測定し
た結果、縦軸に赤外線反4.1率%をと9、lil’i
軸は赤外線波長域。l)とした第1図において、ガラス
ノi(祠のみの赤外線反射特性を示す曲線1に比較して
曲線2であシ、ほとんど反則効果か見られない。丑た可
視光線平均透過率()→は、Il采島津製作所製分光々
度計t+V−120装置により波長域0.4〜2.6μ
の可視光線透過率のNl’:均顧としてめたところ、1
漠厚1000人及び3000Aと父えた場合、第1表中
届1のソーダ(11g子のみに比較して塵2〜3に示す
ように著しく低く、膜の着色度も大きいものとなる。一
方、前記有機第一錫系化合物単独のアルコールなどの溶
剤による溶液を水利表面に塗布し乾燥後550°Cで3
0分間加熱分解して得たいわゆるコールド倹イ[j焼成
法によって形成した11労の膜1νは、600A及び1
600Aであり、これらの可視光線平均透過率%と膜の
着色状態は第1表/164〜5に示す結果であり、赤外
線反極1勤性は、第1図中の曲線2に包含されてしまう
状態である。一般式5n(OR)2で表わされるアルコ
キシド化合物及び一般式5n(OOCR)、で表わされ
るアシルオキシ化合物(ただし、前記のRは炭素数4〜
8のアlレキル)、(を表わす。)よりなる群から選ん
だ少なくとも一種に、一般式R’−NH,,で表わされ
る脂肪族第一アミン類(ただし、R′は炭素数1〜6の
アルキ)v堰を表わす。)と三弗化硼素との錯化合物を
赤外線反極1硝子を形成し、この赤外線成因特性を第1
図中曲線3 (11急1享1000A ) 、 4 (
膜厚3000A )に示した。壕だ、可視光線平均透過
率%は第1表届6〜γに示した。この組成物をコ−/レ
ド塗布か°L成法てより赤外線反身]硝子を形成し、こ
の赤外線反射特性を第1図中曲線6(膜厚600過率%
は、第1表中筋8〜9に示した。これらの状態から本発
明による赤外線反則硝−r形成用組成物は、コールド塗
布焼成法で赤外線反射硝子を形成した場合、赤外線反則
膜の膜厚が1600A程度まで良好な可視光線の透過1
府−を示し、かつ実用上最低限必要であると考えられる
5o%以」二の赤外線反極1特V1ミが確保できること
から、本発明の目的を十分満足できるものとなる。しか
し、ナノ1−基利への噴霧法てよる赤外線反、I11.
j硝子の形成に苅しては、薬剤組成物の噴霧された微粒
子が、加熱された#H(イg表面に接触した瞬間に有機
第一錫系化合物から酸化錫への熱分解が完全に終結せず
、形成された赤外線反射11の中に未分解41機物を包
含することとなり、着色が大きくかつ可視光線平均透過
率の十分でない状態となる。本発明において、ホ7)水
利への噴霧法を採用する場合、特に、塩化白金酸または
塩化パラジウムを加えた組成物とすることで、可視光線
平均透過性9着色の消失に顕著な効果を示すものとなる
。この結果を第1表中高10〜11に示す。この塩化白
金酸または塩化パラジウムを加えた本発明の組成物は、
コールド塗布焼成法に適用しても何等シ障はなく、より
好捷しい結果をもたらす。
可視光線透過性の悪い状態になる。この赤外線反a、I
特性は、g=ab日立製作所製R−280型赤外線分光
々度計にIRR−3形光外線反射シールを取り伺け、ク
ロム鏡面の反極j率を100%とした装置により測定し
た結果、縦軸に赤外線反4.1率%をと9、lil’i
軸は赤外線波長域。l)とした第1図において、ガラス
ノi(祠のみの赤外線反射特性を示す曲線1に比較して
曲線2であシ、ほとんど反則効果か見られない。丑た可
視光線平均透過率()→は、Il采島津製作所製分光々
度計t+V−120装置により波長域0.4〜2.6μ
の可視光線透過率のNl’:均顧としてめたところ、1
漠厚1000人及び3000Aと父えた場合、第1表中
届1のソーダ(11g子のみに比較して塵2〜3に示す
ように著しく低く、膜の着色度も大きいものとなる。一
方、前記有機第一錫系化合物単独のアルコールなどの溶
剤による溶液を水利表面に塗布し乾燥後550°Cで3
0分間加熱分解して得たいわゆるコールド倹イ[j焼成
法によって形成した11労の膜1νは、600A及び1
600Aであり、これらの可視光線平均透過率%と膜の
着色状態は第1表/164〜5に示す結果であり、赤外
線反極1勤性は、第1図中の曲線2に包含されてしまう
状態である。一般式5n(OR)2で表わされるアルコ
キシド化合物及び一般式5n(OOCR)、で表わされ
るアシルオキシ化合物(ただし、前記のRは炭素数4〜
8のアlレキル)、(を表わす。)よりなる群から選ん
だ少なくとも一種に、一般式R’−NH,,で表わされ
る脂肪族第一アミン類(ただし、R′は炭素数1〜6の
アルキ)v堰を表わす。)と三弗化硼素との錯化合物を
赤外線反極1硝子を形成し、この赤外線成因特性を第1
図中曲線3 (11急1享1000A ) 、 4 (
膜厚3000A )に示した。壕だ、可視光線平均透過
率%は第1表届6〜γに示した。この組成物をコ−/レ
ド塗布か°L成法てより赤外線反身]硝子を形成し、こ
の赤外線反射特性を第1図中曲線6(膜厚600過率%
は、第1表中筋8〜9に示した。これらの状態から本発
明による赤外線反則硝−r形成用組成物は、コールド塗
布焼成法で赤外線反射硝子を形成した場合、赤外線反則
膜の膜厚が1600A程度まで良好な可視光線の透過1
府−を示し、かつ実用上最低限必要であると考えられる
5o%以」二の赤外線反極1特V1ミが確保できること
から、本発明の目的を十分満足できるものとなる。しか
し、ナノ1−基利への噴霧法てよる赤外線反、I11.
j硝子の形成に苅しては、薬剤組成物の噴霧された微粒
子が、加熱された#H(イg表面に接触した瞬間に有機
第一錫系化合物から酸化錫への熱分解が完全に終結せず
、形成された赤外線反射11の中に未分解41機物を包
含することとなり、着色が大きくかつ可視光線平均透過
率の十分でない状態となる。本発明において、ホ7)水
利への噴霧法を採用する場合、特に、塩化白金酸または
塩化パラジウムを加えた組成物とすることで、可視光線
平均透過性9着色の消失に顕著な効果を示すものとなる
。この結果を第1表中高10〜11に示す。この塩化白
金酸または塩化パラジウムを加えた本発明の組成物は、
コールド塗布焼成法に適用しても何等シ障はなく、より
好捷しい結果をもたらす。
塩化パラジウム捷たは塩化白金酸は、有機第一錫系化合
物と共に熱分解される場合に酸化促進的触媒効果が加え
られ、有機成分の分解飛散が極めてスムーズにかつ完全
に酸化錫成分への移行を完結するものとなる。
物と共に熱分解される場合に酸化促進的触媒効果が加え
られ、有機成分の分解飛散が極めてスムーズにかつ完全
に酸化錫成分への移行を完結するものとなる。
本発明の赤外練成1.1硝子形成用組成物による反月・
1膜の膜厚変化による赤外線反則特性の状態を示した第
2図において、曲線1(膜厚600A )。
1膜の膜厚変化による赤外線反則特性の状態を示した第
2図において、曲線1(膜厚600A )。
曲線2(膜厚1000A )、曲線3(膜厚2o00A
)1曲線4(膜厚3000A )、曲線5(膜厚4oo
o; )、曲線6(膜厚6000X )の結果から、赤
外線反A、]特性の膜1ワ依存性は3000A寸では大
きいが、これを越える1摸j!?では極めて僅少となる
。本発明による赤外練成創硝子形成用組成物は、コール
ド塗布焼成法によれば1500A 。
)1曲線4(膜厚3000A )、曲線5(膜厚4oo
o; )、曲線6(膜厚6000X )の結果から、赤
外線反A、]特性の膜1ワ依存性は3000A寸では大
きいが、これを越える1摸j!?では極めて僅少となる
。本発明による赤外練成創硝子形成用組成物は、コール
ド塗布焼成法によれば1500A 。
ホット水利への噴霧法によれば膜厚3000Aでも着色
がなく、可視光線平均透過性が良好で、実用−に最低限
必要であると考えられる60%以上の赤外線反則特性が
確保できる。
がなく、可視光線平均透過性が良好で、実用−に最低限
必要であると考えられる60%以上の赤外線反則特性が
確保できる。
赤外線反則特性が最高となる最適のドーピング利の組合
せ状態であっても、膜厚の依存性が3oooX程度捷で
あることから、本発明で使用する一般式S n (OR
)2または5n(OOGR)2であられされるアルコキ
シドまたはアシルオキシ化合物において、Rで示される
アルキル 以下の場合各種の溶剤に溶解しにくく、本発明の目的に
適さない。また炭素数が多くなればなるほど膜形成時の
熱分解飛散量が多くなシ、形成される赤外線反射膜の膜
厚はコールド塗布焼成法の適用においては影響が大きい
。縦軸を赤外線反射硝子の膜厚(A)、横軸は有機第一
錫系化合物のアルキル基の炭素数とした第3図に示すコ
ールド′鹸布焼成法による赤外線反射硝子の赤外線反則
膜厚を示す曲線において、50%以上の赤外線反則特性
が確保できる(膜厚1 000A以上が形成できる)有
機第一錫系化合物のアルキルJ,Qの炭素数は8以内が
目的を満足するものとなる。
せ状態であっても、膜厚の依存性が3oooX程度捷で
あることから、本発明で使用する一般式S n (OR
)2または5n(OOGR)2であられされるアルコキ
シドまたはアシルオキシ化合物において、Rで示される
アルキル 以下の場合各種の溶剤に溶解しにくく、本発明の目的に
適さない。また炭素数が多くなればなるほど膜形成時の
熱分解飛散量が多くなシ、形成される赤外線反射膜の膜
厚はコールド塗布焼成法の適用においては影響が大きい
。縦軸を赤外線反射硝子の膜厚(A)、横軸は有機第一
錫系化合物のアルキル基の炭素数とした第3図に示すコ
ールド′鹸布焼成法による赤外線反射硝子の赤外線反則
膜厚を示す曲線において、50%以上の赤外線反則特性
が確保できる(膜厚1 000A以上が形成できる)有
機第一錫系化合物のアルキルJ,Qの炭素数は8以内が
目的を満足するものとなる。
赤外線反則特性を確保するために本発明で使用する一般
式R’−NH2であられされる脂肪W.第一アミン類と
三弗化硼素とのりII化合物において、R′で示される
アルキル基の炭素数は、板厚3朋のソーダ硝子の片面の
みに、ジェトキシ錫1o○重量部に対して、脂肪族第一
アミンの炭素数が1.2。
式R’−NH2であられされる脂肪W.第一アミン類と
三弗化硼素とのりII化合物において、R′で示される
アルキル基の炭素数は、板厚3朋のソーダ硝子の片面の
みに、ジェトキシ錫1o○重量部に対して、脂肪族第一
アミンの炭素数が1.2。
4、5,6,そして8と変化させた三弗化硼素銘化合物
を8重量部加えたアルコールによる均一混合組成物を使
用し、赤外線反射膜を2000Xとした赤外線反射硝子
についてiiJ視光線平均透過率%をめ第4図の曲線を
得た。この結果から脂肪族第一アミン類と三弗化硼素と
の錯化合物(BF3:NH2−R’ )のR′の有効な
炭素数は6以内である。
を8重量部加えたアルコールによる均一混合組成物を使
用し、赤外線反射膜を2000Xとした赤外線反射硝子
についてiiJ視光線平均透過率%をめ第4図の曲線を
得た。この結果から脂肪族第一アミン類と三弗化硼素と
の錯化合物(BF3:NH2−R’ )のR′の有効な
炭素数は6以内である。
この条件をAjl−足する脂肪族第一アミン類と三弗化
硼素との錯化合物は、三弗化硼素メチルアミン錯化合物
、三弗化硼素エチルアミン錯化合物、三弗化研1素プロ
ピIレアミン錯化合物、三弗化硼素ブチルアミン錯化合
物、三弗化硼素ペン4−/vアミン錯化合物、三弗化硼
素ヘキシルアミン錯化合物である。
硼素との錯化合物は、三弗化硼素メチルアミン錯化合物
、三弗化硼素エチルアミン錯化合物、三弗化研1素プロ
ピIレアミン錯化合物、三弗化硼素ブチルアミン錯化合
物、三弗化硼素ペン4−/vアミン錯化合物、三弗化硼
素ヘキシルアミン錯化合物である。
脂肪族第一アミン類と三弗化硼素との釘,化合物の有機
第一錫系化合物に対する組合せる量は、本発明において
特に限定するものではないが、有機第一錫系化合物に対
する組合せ量を適宜変化させたアルコール均一溶解組成
物により赤外線反射膜の膜厚を2000’Aとした場合
の赤外線反射膜°rによる赤外練成4、1特性は、赤外
線波長3.7 5 p(500’C)における反IA.
1率を縦軸にとり、横軸は脂肪族第一アミン類と三弗化
硼素との錯化合物の使用量−とじた第6図に示すとおり
であり、有機第一錫系化合物100重量部に苅して、好
ましくは3重量部以上である。しかし良好な透明性を確
保する観点から16重組部以内にするのが好ましい。
第一錫系化合物に対する組合せる量は、本発明において
特に限定するものではないが、有機第一錫系化合物に対
する組合せ量を適宜変化させたアルコール均一溶解組成
物により赤外線反射膜の膜厚を2000’Aとした場合
の赤外線反射膜°rによる赤外練成4、1特性は、赤外
線波長3.7 5 p(500’C)における反IA.
1率を縦軸にとり、横軸は脂肪族第一アミン類と三弗化
硼素との錯化合物の使用量−とじた第6図に示すとおり
であり、有機第一錫系化合物100重量部に苅して、好
ましくは3重量部以上である。しかし良好な透明性を確
保する観点から16重組部以内にするのが好ましい。
本発明における赤外練成1、1硝子形成用組成物におい
て、特にホット水利への噴霧法で可視光線平均透過率が
良好で膜の着色除去に顕著な効果を示ス塩化パラジウム
は、三価パラジウム(Pdc62)である。また塩化白
金酸は塩化第一白金酸(H2( Ptcg4) )アル
イij、塩化第二白金酸(H2〔PtC66))のいず
れであっても本発明の目的に合致するものであり、結晶
水を有していても特に支tζtはない。本発明で使用す
る有機第一錫系化合物に7・1する塩化パラジウムまた
は塩化白金酸の使用すべき爪の;面囲は特に限定するも
のではないが、有4長第−賜氷化合物の熱分解に寄りす
るに必夛にして最少111を、得られる赤外線反射膜1
j!1子の価格面を考慮して決めれば良い。
て、特にホット水利への噴霧法で可視光線平均透過率が
良好で膜の着色除去に顕著な効果を示ス塩化パラジウム
は、三価パラジウム(Pdc62)である。また塩化白
金酸は塩化第一白金酸(H2( Ptcg4) )アル
イij、塩化第二白金酸(H2〔PtC66))のいず
れであっても本発明の目的に合致するものであり、結晶
水を有していても特に支tζtはない。本発明で使用す
る有機第一錫系化合物に7・1する塩化パラジウムまた
は塩化白金酸の使用すべき爪の;面囲は特に限定するも
のではないが、有4長第−賜氷化合物の熱分解に寄りす
るに必夛にして最少111を、得られる赤外線反射膜1
j!1子の価格面を考慮して決めれば良い。
赤外線反則硝子形成用組成物の各種の薬剤を混合して均
一な溶液系を保持することは、本発明の目的を満足する
赤外線反射硝子を形成する上で重要である。これを実現
する溶剤としては、特にアルコール系力Y+ Htでア
リ、−価アルコール、二価アルコール(グリコール類)
や多価アルコールの少量混合系が採用され、適宜選定し
て使用すれば特に支障はない。
一な溶液系を保持することは、本発明の目的を満足する
赤外線反射硝子を形成する上で重要である。これを実現
する溶剤としては、特にアルコール系力Y+ Htでア
リ、−価アルコール、二価アルコール(グリコール類)
や多価アルコールの少量混合系が採用され、適宜選定し
て使用すれば特に支障はない。
赤外線反射硝子を形成するに必・決な基材としての条件
は、特に限定するものではなく、セラミック、磁器、ホ
ーロなどの無機質のもので膜の形成が+’iJ能である
耐熱性を有していれば良いが、のぞき窓的な用途に使用
する目的であるならば、ソーダ硝子、あるいは耐熱硝子
など透明度のあるものが好ましい。
は、特に限定するものではなく、セラミック、磁器、ホ
ーロなどの無機質のもので膜の形成が+’iJ能である
耐熱性を有していれば良いが、のぞき窓的な用途に使用
する目的であるならば、ソーダ硝子、あるいは耐熱硝子
など透明度のあるものが好ましい。
実施例1
ジブトキシ錫 92.0重量部
三弗化硼素エチルアミン@1.li化合物 8.0市′
il’l:部へキシルアルコ−7し 16.5lji部
ブチルアルコール 16.5 重量g((」二記のイ′
A判を均一に混合し、赤外線反射硝子形成用組成物を作
製した。板厚3顧、大きさ10゜X100闘のソーダ硝
子をこの組成物中に浸漬し、引上げた後、160’Qで
30分間乾燥し、再度同じ操作を繰返した後、片面をア
セトンを含ませた布で拭きとり、650°Cで30分間
焼成し、て、赤外線反A、1硝子を形成した。この膜厚
を、乳lは:PANKPRECISION INDUS
TRIKS LTD製TALYSTEP−1により赤外
線反射硝子の一部を亜鉛末と塩酸により還元剥離させ、
その露出した硝子面との段差をt(す定した結果140
0Aであった。この赤外線反射硝子は着色がなり、Il
朱島津製作所製分光々度計UV−120装置により波長
域0.4〜2.5μのijJ視光線平均透過率をめた結
果、74.0%を示した。前記に示したと同一の方法に
より赤外線反牙1特姓を測定した結果は第2表篤1に示
した。
il’l:部へキシルアルコ−7し 16.5lji部
ブチルアルコール 16.5 重量g((」二記のイ′
A判を均一に混合し、赤外線反射硝子形成用組成物を作
製した。板厚3顧、大きさ10゜X100闘のソーダ硝
子をこの組成物中に浸漬し、引上げた後、160’Qで
30分間乾燥し、再度同じ操作を繰返した後、片面をア
セトンを含ませた布で拭きとり、650°Cで30分間
焼成し、て、赤外線反A、1硝子を形成した。この膜厚
を、乳lは:PANKPRECISION INDUS
TRIKS LTD製TALYSTEP−1により赤外
線反射硝子の一部を亜鉛末と塩酸により還元剥離させ、
その露出した硝子面との段差をt(す定した結果140
0Aであった。この赤外線反射硝子は着色がなり、Il
朱島津製作所製分光々度計UV−120装置により波長
域0.4〜2.5μのijJ視光線平均透過率をめた結
果、74.0%を示した。前記に示したと同一の方法に
より赤外線反牙1特姓を測定した結果は第2表篤1に示
した。
実施例2
シフ冒−キン錫 92,0重量部
三弗化硼素エチルアミン錯化合物 8.0i’T量部塩
化白金酸〔H2(PtC16)・eH20) 0.5重
量部へキシルアルコ−/l/ 25.0 重−jJt部
ブチlレアルコー/L” 26.0重量部」二記の利料
を均一に混合して赤外線反則硝子形成用組成物を作製し
た。板厚3朋、大きさ100×100朋のソーダ硝子を
600 ’Cに加熱し、その片面上に、圧力2.0 K
g/Cm2の空気圧力によりスプレー噴霧し、3000
Aの赤外線反射膜を有する赤外線反射硝子を形成した。
化白金酸〔H2(PtC16)・eH20) 0.5重
量部へキシルアルコ−/l/ 25.0 重−jJt部
ブチlレアルコー/L” 26.0重量部」二記の利料
を均一に混合して赤外線反則硝子形成用組成物を作製し
た。板厚3朋、大きさ100×100朋のソーダ硝子を
600 ’Cに加熱し、その片面上に、圧力2.0 K
g/Cm2の空気圧力によりスプレー噴霧し、3000
Aの赤外線反射膜を有する赤外線反射硝子を形成した。
この硝子は着色がなく、可視光線平均透過率は71%を
示し、赤外反射特性は第2表遡2の結果を得た。
示し、赤外反射特性は第2表遡2の結果を得た。
実施例3
実施例1と同一の操作により、実施例2に示した赤外線
反則硝子形成用組成物を用いて、コールド塗布焼成法に
よる赤外線反射硝子を形成した。
反則硝子形成用組成物を用いて、コールド塗布焼成法に
よる赤外線反射硝子を形成した。
この反射硝子の膜厚I′11200A″′C:あり、白
濁や着色は全く認められず、可視光線平均透過率は73
%を示し、赤外線反射特性は第2表届3の結果を得た。
濁や着色は全く認められず、可視光線平均透過率は73
%を示し、赤外線反射特性は第2表届3の結果を得た。
第2表
発明の効果
本発明の赤外線反則硝子形成用組成物は、以」―の説明
からも明らかなように、ホット基材へのIIa霧法、コ
ールド塗布焼成法に適用して、−回の焼成により着色が
なく、可視光線平均透過性に優れ、良好な赤外線反射膜
を容易に形1iiすることができる。また、赤外線反則
硝子形成の処即過程で従来使用していた塩化第一錫を薬
剤とする組成物による場合のように、多量の塩酸ガスの
発生がなく、設備の腐食性はほとんどなく、排気の公害
処理も(tめで軽度である。本発明の赤外線反則硝子形
成用組成物は、いずれの膜形成方法によっても、100
0A以」―の膜厚が確保できることから、赤外線反則?
+71子としての各種用途に供した場合の耐引掻傷性が
確保される。
からも明らかなように、ホット基材へのIIa霧法、コ
ールド塗布焼成法に適用して、−回の焼成により着色が
なく、可視光線平均透過性に優れ、良好な赤外線反射膜
を容易に形1iiすることができる。また、赤外線反則
硝子形成の処即過程で従来使用していた塩化第一錫を薬
剤とする組成物による場合のように、多量の塩酸ガスの
発生がなく、設備の腐食性はほとんどなく、排気の公害
処理も(tめで軽度である。本発明の赤外線反則硝子形
成用組成物は、いずれの膜形成方法によっても、100
0A以」―の膜厚が確保できることから、赤外線反則?
+71子としての各種用途に供した場合の耐引掻傷性が
確保される。
なお、本発明の組成物より形成される赤外練成fA;1
(it’i子は良好な導電性を有することから、透明導
電膜としての用途、例えば液晶表示用電極、抵抗体など
に供することもできる。
(it’i子は良好な導電性を有することから、透明導
電膜としての用途、例えば液晶表示用電極、抵抗体など
に供することもできる。
第1図は赤外線波長域3.4〜7.0μにおける従来品
と本発明の一実施例量の赤外線反極j特性比較図、第2
図は第1図と同一の赤外線波長域における本発明の実施
例における赤外線反射硝子形成用組成物による赤外線反
A、I硝子の膜厚変化による赤外線反射特性図、第3図
は本発明の実施例による赤外線反射硝子形成用組成物を
構成する有機第一錫系化合物のアルキ/l/塞の大きさ
が及ばず赤外線反射1漢の膜厚変化を示す図、第4図は
本発明の実施例の組成物に組合わせる二弗化硼素第一ア
ミン類のアミンを形づくるアルキル基の変化が及ぼす赤
外線反則膜の可視光線平均透過率を示す図、第5図は有
機第一錫系化合物に組合わせる二弗化硼素第一アミン類
の添加量が及ぼす赤外線取’、1.l特1生の関係図で
ある。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 3.5 4 4,55 5.5 6 δ57jhミクト
線う8ξ−& CAL) 第2図 3.5 4 4.5 5 .5,5 4 6.5 ’7
jトタト線娶11F (μ) 第3図 1り沙l幻」11− 第4図 アル午ル基の炭素数
と本発明の一実施例量の赤外線反極j特性比較図、第2
図は第1図と同一の赤外線波長域における本発明の実施
例における赤外線反射硝子形成用組成物による赤外線反
A、I硝子の膜厚変化による赤外線反射特性図、第3図
は本発明の実施例による赤外線反射硝子形成用組成物を
構成する有機第一錫系化合物のアルキ/l/塞の大きさ
が及ばず赤外線反射1漢の膜厚変化を示す図、第4図は
本発明の実施例の組成物に組合わせる二弗化硼素第一ア
ミン類のアミンを形づくるアルキル基の変化が及ぼす赤
外線反則膜の可視光線平均透過率を示す図、第5図は有
機第一錫系化合物に組合わせる二弗化硼素第一アミン類
の添加量が及ぼす赤外線取’、1.l特1生の関係図で
ある。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 3.5 4 4,55 5.5 6 δ57jhミクト
線う8ξ−& CAL) 第2図 3.5 4 4.5 5 .5,5 4 6.5 ’7
jトタト線娶11F (μ) 第3図 1り沙l幻」11− 第4図 アル午ル基の炭素数
Claims (2)
- (1)一般式5n(OR)2で表わされるアルコキシド
化合物及び一般式5n(OOCR) 2で表わされるア
シルオキシ化合物(ただし、前記のRは炭素数4〜8の
アルキル基を表わす。)よりなる群から選んだ少なくと
も一槌に、一般式R’ −NH2で表わされる脂肪族第
一アミン類(ただし、Kは炭素数1〜6のアルキ/I/
基を表1f′)v、)と三弗化硼素との錯化合物を混合
してなることを特徴とする赤外線反射硝子形成用組成物
。 - (2)一般式5n(OR)2で表わされるアルコキシド
化合物及び一般式5n(OOCR)2で表わされるアシ
ルオキシ化合物(ただし、前記のRは炭素数4〜8のア
ルキlし基を表わす。)よりなる群から選んだ少なくと
も一種と、一般式R’−NH2わ で表される脂肪族第一アミン類(ただし、R′ハ は炭素数1〜6のアルキル基を表わす。)と三弗化硼素
との錯化合物と、塩化パラジウムもしくは塩化白金酸と
を混合してなることを特徴とする赤外線反射硝子形成用
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18909883A JPS6081046A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 赤外線反射被膜形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18909883A JPS6081046A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 赤外線反射被膜形成用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6081046A true JPS6081046A (ja) | 1985-05-09 |
JPH0478575B2 JPH0478575B2 (ja) | 1992-12-11 |
Family
ID=16235312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18909883A Granted JPS6081046A (ja) | 1983-10-07 | 1983-10-07 | 赤外線反射被膜形成用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6081046A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0312879A2 (de) * | 1987-10-21 | 1989-04-26 | Th. Goldschmidt AG | Flüssige Zubereitung zur Herstellung elektrisch leitfähiger und infrarot reflektierender fluordotierter Zinnoxidschichten auf Glas- oder Glaskeramikoberflächen |
-
1983
- 1983-10-07 JP JP18909883A patent/JPS6081046A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0312879A2 (de) * | 1987-10-21 | 1989-04-26 | Th. Goldschmidt AG | Flüssige Zubereitung zur Herstellung elektrisch leitfähiger und infrarot reflektierender fluordotierter Zinnoxidschichten auf Glas- oder Glaskeramikoberflächen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0478575B2 (ja) | 1992-12-11 |
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