JPS6067842U - ウエハ研ま装置 - Google Patents

ウエハ研ま装置

Info

Publication number
JPS6067842U
JPS6067842U JP16021683U JP16021683U JPS6067842U JP S6067842 U JPS6067842 U JP S6067842U JP 16021683 U JP16021683 U JP 16021683U JP 16021683 U JP16021683 U JP 16021683U JP S6067842 U JPS6067842 U JP S6067842U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer polishing
polishing equipment
polishing
semiconductor wafers
belt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16021683U
Other languages
English (en)
Inventor
稲田 義一
Original Assignee
日本電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気株式会社 filed Critical 日本電気株式会社
Priority to JP16021683U priority Critical patent/JPS6067842U/ja
Publication of JPS6067842U publication Critical patent/JPS6067842U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の一実施例を示す正面図で、第2図は
その側面図である。 1・・・・・・研磨ヘッド部、2・・・・・・回転モー
タ、3・・・・・・研磨ベルト、4・・・・・・旋回機
構部、5・・・・・・上下調整部、6・・・・・・回転
部、7・・・・・・半導体ウェハ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウェハを研磨するウェハ研磨装置において、エン
    ドレスベルト状の研磨ベルトを具備し、旋回および上下
    可能な研磨ヘッド部と半導体ウェハを吸着し回転させる
    回転部とで構成したことを特徴とするウェハ研磨装置。
JP16021683U 1983-10-17 1983-10-17 ウエハ研ま装置 Pending JPS6067842U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16021683U JPS6067842U (ja) 1983-10-17 1983-10-17 ウエハ研ま装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16021683U JPS6067842U (ja) 1983-10-17 1983-10-17 ウエハ研ま装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6067842U true JPS6067842U (ja) 1985-05-14

Family

ID=30352455

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16021683U Pending JPS6067842U (ja) 1983-10-17 1983-10-17 ウエハ研ま装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6067842U (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120109342A (ko) * 2011-03-25 2012-10-08 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 연마 장치 및 연마 방법
JP2017132034A (ja) * 2011-03-25 2017-08-03 株式会社荏原製作所 研磨装置
CN111716253A (zh) * 2019-03-19 2020-09-29 东芝存储器株式会社 研磨装置及研磨方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120109342A (ko) * 2011-03-25 2012-10-08 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 연마 장치 및 연마 방법
JP2017132034A (ja) * 2011-03-25 2017-08-03 株式会社荏原製作所 研磨装置
CN111716253A (zh) * 2019-03-19 2020-09-29 东芝存储器株式会社 研磨装置及研磨方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6067842U (ja) ウエハ研ま装置
JPS59183748U (ja) 平面研削用定盤
JPS6080479U (ja) 複写機等のクリ−ニング装置
JPS6144831U (ja) ウエ−ハ乾燥装置
JPS59129112U (ja) コ−ド
JPS5853149U (ja) ウエハ搬送装置
JPS6068635U (ja) 半導体製造装置
JPS60103142U (ja) ベルヌイ型半導体基板搬送装置
JPS60194457U (ja) ウエハ−研摩装置
JPS59122592U (ja) 磁気デイスクモジユ−ル検査装置
JPS6072211U (ja) 半導体ウエハのスクライブ装置
JPS58121726U (ja) 傾斜移送装置
JPS59107723U (ja) デイスク固定装置
JPS60156751U (ja) 半導体ウエハ用収納治具
JPS602830U (ja) 半導体ウエハのエツチング槽
JPS59104536U (ja) ウエハ−吸着機構
JPS60123727U (ja) カセツトケ−スの再生面表示装置
JPS5967932U (ja) 半導体装置製造装置
JPS59192836U (ja) ジエツトスクラバ−装置の載置台
JPS59173341U (ja) 回転塗布装置
JPS58120661U (ja) 半導体装置
JPS5885344U (ja) 半導体基板用キヤリア
JPS6067843U (ja) 円盤グラインダ−
JPS58132573U (ja) 回転塗布装置
JPS6094835U (ja) 半導体装置