JPS606694A - 新規セフアロスポリン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規カセファロスポリン類、具体的には、 一般式 で表わされるセファロスポリン卦よびその塩類に関する
。

而して、本発明の目的とするところは、広範囲力抗菌ス
ペクトルを有し、ダラム陽性菌、グラム陰性菌に対し優
れた抗菌活性を示し、かつバクテリアが産生ずるβ−ラ
クタマーゼに対しても安定な性質を有し、人ならびに動
物の疾病に対し経口および非経口で優れ念治療効果を発
揮する新規なセファロスポリンおよびその塩類を提供す
ることにある。

中、Ｒ６，Ｒ？およびＲ８は前記した意味を有する。）
で表わされる６−オキソ−１，６−シヒドロピリＢＩＯ
および１１１は前記した意味を有する。）で表わされる
２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジニル基が結合し
ているところにその特徴がある。

以下、さらに本発明の詳細な説明する。

本明細書において、特にことわらない限り、アルキルと
は、Ｃ１〜ＣＩ４アルキル、たとえば、メチル、エチル
、ｎ−７’口ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、インブ
チル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−プチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシルまたはラウリ
ルなどを；アルコキシとは、上で定義したアルキル基を
有する→−アルキルを、低級アルキルとは、Ｃ１〜５　
アルキル、たとえばメチル、エチル、ｎ−グー−ピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブーチルまたはペンチルなどを；低級ア
ルコキシとは、上で定義した低級アルキル基を有する一
〇−低級アルキルを；アシルと＃ｉ、Ｃ１〜臆アシル、
たとえば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンゾ
イル、　ナフトイル、ペンタンカルボニル、シクロヘキ
サンカルボニル、フロイルまたはテノイル々どを；アシ
ルオキシとは、上で定義したアシル基を有する→−アシ
ルを；アルキルチオとけ、上で定義したアルキル基を有
するーＳ−アルキルを；アルケニルとは、Ｃ２〜ｉｏア
ルケニル、たとえば、ビニル、７１Ｊル、イソプロペニ
ル％２−ペンテニルまたはブテニルクどを；アルキニル
とは、０２〜１０アルキニル、たとえば、エチニルまた
け２−プロピニルなどを；シクロアルキルとけ％’４Ｎ
？シクロアルキル、たとえば、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルまたはシクロ
ヘプチルなどを；シクロアルキルトｈ、Ｃｓ〜？シクロ
アルケニル、たとえば、シクロペンテニル、シクロヘキ
セニル、シクロヘプテニルなどを；アリールとは、たと
えば、フェニル、ナフチルまたはインダニルなどを；ア
リールオキシとは、上で定義したアリール基を有する一
〇−アリールを；アルアルキルとは、たと、ｔば、ベン
ジル、フェネチル、４−メチルベンジルまたはナフチル
メチル々どを：アルアルキルオキシとは、上で定義した
アルアルキル基を有する一〇−アルア、ルキル基を；複
素環式基とは、酸素。

窒素および硫黄から選択された少なくとも１個の複素原
子を含む複素環式基、たとえば、フリル、チェニル、ピ
ロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサシリル、インオキサシリル、チアジ
アゾリル、オキサジアゾリル、チアトリアゾリル、オキ
サトリアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジ
ル、３−（２−メチル−４−ピロリニル）、３−（４−
ピロリニル）、Ｎ−（メチルピペリジニル）、ピリダジ
ニル、キノリルニ　フエナジニル、１．３−ペンゾジオ
キサラニル、ベンゾフリル、ベンゾチェニル、ペンゾオ
キサソリル、ベンゾチアゾリルまたはクマリニルさどを
；複素環アルキルとは、上で定義した複素環式基および
アルキル基から成る基を；ハロゲン原子とは、たとえば
、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子などをそれぞれ
意味する。

本明細書中の各一般式にかけるＲ１は、水素原子または
カルボキシル基の保ｎ基であり、カルボキシル基の保護
基としては、従来ペニシリンおよびセファロスポリン系
化合物の分野で通常使用されているものが拳げられる。

こｉＬらのカルボキシル基の保護基としては接触還元、
化学的彊元またはその他の緩和な条件下で処理すれば脱
離するエステル形成基、または生体内において容易に脱
離するエステル形成基、または水もしくはアルコールで
処理すれば容易に脱離する有機シリル基、有機リン基も
しくは有機スズ基など、またはその他の種々の公知エス
テル形成基が挙げられる。

この種の保４基のうち好適な保護基としては、具体的に
次のものが挙げられる。

（へ）　アルキル基。

＠　置換基の少なくとも１つがノ・ログン、ニトロ、カ
ルボアルコキシ、アシル、アルコキシ、オキソ、シアン
、シクロアルキル、アｒ）−ル、アルキルチオ、アルキ
ルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルコキシカル
ボニル％５−アルキル−２−オキソ−１，３−ジオキソ
ールー４−イル％１−インダニル、２−インダニル、フ
リル、ピリジル、４−イミダゾリル。

フタルイミド、スクシンイミド、アセチジノ、アジリジ
ノ、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホ
リノ、Ｎ−低級アルキルビペラジノ、ピロリル、ピラゾ
リル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサシリル、イ
ソオキサシリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリルも
チアトリアゾリル、オキサトリアゾリル、トリアゾリル
、テトラゾリル、ピリジル、キノリル、フエナジニル、
ベンゾフリル、ベンゾチェニル、ベンゾオキサシリル、
ベンゾチアゾリル、クマリニル、２，５−ジメチルピロ
リジノ、　１．４，５．６−チトラヒドロビリミジニル
、４−メチルピペリジノ、２，６−シメチルピペリジノ
、３−（２−メチル−４−ピロリニル）、３−（４−ピ
ロリニル）、Ｎ−（メチルピペリジニル）、１．３−ペ
ンゾジオキサラニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミ
ノ、アシルオキシ、アシルチオ、アシルアミノ、ジアル
キルアミノカルボニル、アルコキシカルボニルアミノ、
アルケニルオキシ、アリールオキシ、アルアルキルオキ
シ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、
複素環オキシ、アルコキシカルボニルオキシ、アルケニ
ルオキシカルボニルオキシ、アリールオキシカルボニル
オキシ、アルアルキルオキシカル−ボニルオキシ、複素
環オキシカルボニルオキシ、アルケニルオキシカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、アルアルキルオキシカ
ルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、シクロア
ルケニルオキシカルボニル、複素環オキシカルボニル、
アルキルアニリノまたはハロゲン、低級アルキルもしく
は低級アルコキシで置換されたアルキルアニリノである
置換低級アルキル基。

ｅ）シクロアルキル基；低級アルキル直換シクロアルキ
ルまたは（２，２−ジ低級アルキル−１３−ジオキソ−
ルー４−イル）メチル基。

に）　アルケニル基。

に）　アルキニル基。

（へ）　フェニル基または置換基が小力くとも１つの前
記（ロ）で例示した置換基より任意に選ばれた置換基で
ある置換フェニル基、または式で示される基もしくはそ
の置換誘導体（Ｒ換基は前記（ロ）で例示した置換基よ
り任意に選ばれる）、または式 で示される基もしくはその置換誘導体（＃換基は前記←
）で例示した置換基より任意に選ばれる）のようなアリ
ール基。

（ト）ベンジルまたは置換基が少なくとも１つの前記（
ロ）で例示した置換基より任意ＶＣ選ばれた置換基であ
る置換ベンジルのようなアルアルキル基。

（イ）複素環式基または置換基が少なくとも１つの前記
（ロ）で例示した置換基より任意に選ばれた置換基であ
る置換された複素環式基。

（す）　脂環インダニル、脂環フタリジルまたａｙ置換
基メチルもしくけハロゲンであるそれらの置換誘導体、
脂環テトラヒドロナフチルオたけ置換基がメチルもしく
けハロゲンであるその置換誘導体、トリチル、コレステ
リを、ビシクロ〔４°、４．０）デシルなど。

（ロ）　脂環フタリジリデン低級アルキル基または置換
基がハロゲンもしくは低級アルキル基であるそれらの置
換誘導体。　′ 上で例示したカルボキシル基の保護基は代表例であり、
これら以外にも、つぎの文献に記載されている保睡基を
任意に適訳することができる。

米国特許３，４９９，９０９号％３，５７３．２９６号
および３．６４１，０１８号；西独特許公開公報２，３
０１，０１４畳、２．２５３，２８７号および２，３３
７，１０５号。

これらの中で好ましいカルボキシル基の保護基としては
、たとえば、５−低級アルキルー２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ルー４−イルー低級アルキル基、アシルオキ
シアルキル基、アシルチオアルキル基、フタリジル基、
インダニル基、フェニル基、置換基を有するかもしくは
有しないフタリジリデン低級アルキル基または次の式で
表わされる基のように生体内で容易に脱離する基が挙げ
られる。

さらに、具体的にＩＩ′ｉ、たとえば％５−メチルー２
−オキソー１．３−ジオキソ−ルー４−イル−メチル、
５−エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−
イル−メチル、５−ｎ−プロピル−２−オキソ−１，３
−ジオキソ−ルー４−イル−メチル基などの５−低級ア
ルキルー２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル
−メチル基；アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル
、イソブチリルオキシメチル、バレリルオキシメチル、
１−アセトキシエチル、１−アセトキシ−ｎ−プロピル
、１−ピバロイルオキシエチル、１−ピバロイルオキシ
−ｎ−プロピル基などのアシルオキシアルキル基；アセ
チルチオメチル、ピバロイルチオメチル、ペンツイルチ
オメチル、ｐ−クロロベンゾイルチオメチル、１−アセ
チルチオエチル、１−ピバロイルチオエチル、１−ベン
ゾイルチオエチル、１−（ｐ−クロロベンゾイルチオ）
エチル基などのアシルチオアルキル基；メトキシメチル
、エトキシメチル％ｎ−プロポキシメチル、イソプロポ
キシメチル、ｎ−ブチルオキシメチル基などのアルコキ
シメチル基；メトキシカルボニルオキシメチル、エトキ
シカルボニルオキシメチル、ｎ　−クロボキシカルボニ
ルオキシメチル、インプロポキシカルボニルオキシメチ
ル、■−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、ｔｅｒ
ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシメチル、１−メトキ
シカルボニルオキシ−エチル、１−エトキシカルボニル
オキシ−エチル％　１−　ｎ　−７”ロボキシ力ルポニ
ルオキシーエチル％１−インプロポキシカル、ボニルオ
キシ−エチル％　１−ｎ−ブチルオキシカルボニルオキ
シ−エチルＮ　Ｏトのアルコキシカルボニルオキシ−ア
ルキル基ｉメトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル基などのアルコキシカルボニルメチル基；フ
タリジル基；インダニル基；フェニル基；２−（フタリ
ジル基ン）−エチル、２−（５−フルオロフタｑジリデ
ン）−エチル、　２−（６−クロロフタリジリデン）−
エチル、２−（６−メドキシフタリジリデン）−エチル
基などのフタリジリデンアルキル基などが挙げられる。

（式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、１１０およびＲ１１
は、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子また
は置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、アリールもしくはアルアルキル基を示す。）で
表わされる基を意味するが、上で述べた種にの基の置換
基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルアルキル
基、アリール基、アルケニル基、ヒドロキシル基、オキ
ソ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ニトロ基、シア
ノ基、−アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、カルボ
キシル基、カルボキシル基、スルホ基、スルファモイル
基ｉ　−Ｎｕ−アルキルで表わされるアルキル アルキルアミノ基、−Ｎ、ヤヤヤで表わされるジアルキ
ルアミノ基ｉ　−Ｎ−アシルで表わされるアルアルキル
；　−Ｃ−Ｏ−アルキルで表わされるアルコキシカルボ
ニル基；アセチルメチル、グロピオニルメチルなどのア
シルアルキル基；アミノメチル、アミノエチルなどのア
ミノアルキル基；Ｎ−メチルアミノメチル％Ｎ−メチル
アミノエチルなどのＮ−アルキルアミノアルキルｌｋ、
　；　Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノメチル、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノエチルなどのＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアル
キル基ｉヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルなどのヒ
ドロキシアルキル基；ヒドロキシイミノメチル、ヒドロ
キシイミノエチルなどのヒドロキシイミノアルキル基；
メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エ
トキシエチル々どのアルコキシアルキル基；カルボキシ
メチル、カルボキシエチルなどのカルボキシアルキル基
；メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチ
ル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエ
チルなどノアルコキシ力ルポニルアルキル基；ベンジル
オキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカルボニルエ
チルなどのアルアルキルオキシ力ルボニルアルキル基；
スルホメチル、スルホエチルナトのスルホアルキル基；
スルファモイルメチル、スルファモイルエチルなどのス
ルファモイルアルキル基；カルバモイルメチル、カルバ
モイルエチルなどのカルバモイルアルキル基；カルバモ
イルアリルなどのカルバモイルアルケニル基；Ｎ−ヒト
ミキシカルバモイルメチル、Ｎ−ヒドロキシカルバモイ
ルエチル々どのＮ−ヒドロキシカルバモイルアルキル基
などが挙げられ、様々の基はこれら一種以上の置換基で
置換されていてもよい。また、これらの置換基のうち、
ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などは通常
当該分野で用いられている適当な保ｄ基で保護されてい
てもよい。

ここにおいてヒドロキシル基の保護基としては、通常ヒ
ドロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含
み、たとえば、テトラヒドロヒラニル、テトラヒドロフ
ラニル％ベンジルオキシカルボニル％４−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３．４
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、４−（フェニ
ルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、４−（４−／トキ
シフェニルアソ）ベンジルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル、１．１−ジメチルプロポキシカ
ルボニル、イングロポキシカルボニル、ジフェニルメト
キシカルボニル、　２．２．２−トリクロロエトキシカ
ルボニル、２．２．２−　）　ＩＪブロモエトキシカル
ボニル、２−フルフリルオキシカルボニル、１−アダマ
ンチルオキシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシ
カルボニル、８−キノリルオキシカルボニル、ホルミル
、アセチル、クロロアセチル、ベンゾイルまたはトリフ
ルオロアセチルナトの脱離しゃすいアシル基；メタンス
ルホニル、エタンスルホニルｆｘ　トｆ）　フルキルス
ルホニル基；フェニルスルホニル、トルエンスルボニル
基嫌どのアリールスルホニル基およびペンシル基、トリ
チル基、メトキシメチル基、Ｏ−ニトロフェニルスルフ
ェニル＆、２１４−ジニトロフェニルスルフェニル基ナ
トカ挙ケラレル。

さらに、アミノ基の保護基としては、通常アミノ基の保
護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ト
リクロロエトキシカルボニル、トリクロロエトキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−）ルエンスル
ホニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル％Ｏ−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、（七ノー、シー、トリ
ー）クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミル
、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル％３．４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、４
−（フェニル７／）ベンジルオキシカルボニル、４−（
４−メトキシフェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル
、ピリジン−１−オキシド−２−イル−メトキシカルボ
ニル、２−フリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキ
シカルボニル、１，１−ジメチルグロボキシカルボニル
、イソプロポキシカルボニル％１−シクロプロピルエト
キシカルボニル、フタロイル、スクシニル、１−アダマ
ンチルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニ
ルなどの脱離しゃすいアシル基；トリチル、０−ニトロ
フェニルスルフェニル％２．４−ジニトロフェニルスル
フェニル、２−ヒドロキシベンジリデン、２−ヒドロキ
シ−５−クロロベンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナ
フチルメチレン、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレ
ン、１−メトキシカルボニル−２−プロピリデン、１−
エトキシカルボニル−２−プロ４゜ＩＪ　テン、３−エ
トキシカルボニル−２−ブチリデン、１−７セチルー２
−７’ロヒリテン、１−ベンゾイル−２−プロピリデン
、１−［Ｎ−（２−／）キシフェニル）カルバモイル］
−２−グロピリデン、１−（Ｎ−（４−メトキシフェニ
ル）カルバモイル）−２−７”ロヒリテン、２−エトキ
シカルボニルシクロへキシリデン％２−エトキシカルボ
ニルシクロベンチリデン％２−アセチルシクロへキシリ
デン、３．３−ジメチル−５−オキソシクロヘキシリデ
ンなどの脱離しやすい基およびジーもしくハトジーアル
キルシリル基などのアミノ基の保護基が挙げられる。

つぎに、カルボキシル基の保護基としては、通常のカル
ボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み
、たとえば、メチル、エチル・ｎ−プロピル、イングロ
ビル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、ジフ
ェニルメチル、トリｆＡｖ、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−
メトキシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル
。

ｐ−＝トロベンゾイルメチル％　Ｐ　−ブロモペンツイ
ルメチル％ｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチル、フ
タルイミドメチル、トリクロロエチル、１．１−ジメチ
ルプロピル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメ
チル、ピノ（ロイルオキシメチル、　１．１−ジメチル
−２−プロペニル、３−メチル−３−７’チニル、スク
シンイミドメチル、１−シクロプロピルエチル、メチル
チオメチル、フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチ
ル、キノリン−１−オキシド−２−イル−メチル、ピリ
ジン−１−オキシド−２−イル−メチル、ビス（ｐ−メ
トキシフェニル）メチルなどの基が挙げられ、さらに四
塩化チタンの如き非金属化合物でカルボキシル基が保護
されている場合並びに特開昭４６−７０７３号およびオ
ランダ国公開公報７１０５２５９号に記載されているよ
うにたとえばジメチルクロロシランの如きシリル化合物
でカルボキシル基が保護されている場合などが挙げられ
る。

また、Ｒ５は水素原子または保護されていてもよいアミ
ノ基を意味し、そのようなアミノ基の保護基としては、
通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用いられる
多くの基が掌げられ、具体的には、Ｒ２について説明し
たアミノ基のすべての保護基が挙げられる。

Ｈｌｌｌは水素原子または置換されていてもよいアルキ
ル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロ
アルケニル、アルアルキル、アリール、複素環式基また
はヒドロキシル保欣基もしＩＩ　、１１Ｂ ・〈は式−Ｐ　（式中、Ｒ１３およびＲ１４は同一また
＼１１４　−） は異なって、ヒドロキシル、アルキル、アルアルキル、
アリール、アルコキシ、アルアルキルオキシまたはアリ
ールオキシ基を示す。）で表わされる基を示し、鳩はシ
ンまたはアンチ異性体または宅れらの混合物でもよいこ
とを示す。〕を意味する。

こζにおいてヒドロキシル基の保護基としては　Ｒ２に
ついて説明したヒドロキシル基の保護基が挙げられる。

さらに、上で示した種々の基の置換基として雌、ノーロ
ゲン原子、オキソ基、シアノ基、ヒドロキシル基、アル
コキシ基、ア（式中％Ｒ１は前記した意味を有し、Ｈｌ
ｌｌ　、　Ｒ１９および−は同一または異なって、水素
原子、アルキル、アルアルキルまたはアリール基を示す
。）で表わされる基が挙げられ、上で示した種々の基は
、これら一種以上の置換基で置換されていてもよい。こ
れらの置換基のうち、ヒドロキシル基およびアきノ基な
どはそれぞれＲ２について説明したヒドロキシル基およ
びアミノ基の保護基で保護されていてもよい。

つぎに、−〇−で表わされるオキシム体には、＋１ （）１１１！ シンおよびアンチ異性体並びにそれらの混合物が存在す
るが、それらのいずれも本発明に包含される。

Ｈａが保護されていてもよいアミノ基の場合は。

つぎの平衡式で示すように互変異性体が存在するが、そ
の互変異性体も本発明に包含される。

Ｌ基を示す。　Ｊ そして、上の式におけるＢｔのイミノ基の保ｎ基として
は、通常ペニシリン、セファロスポリンの分野で用いる
基が挙げられ、具体的には％Ｒ２について説明したアミ
ノ基の保護基のうち１価基と同様の基が挙げられる。

一般式［Ｉ］の化合物の塩類としては、従来ペニシリン
及びセファロスポリン系化合物の分野で周知の塩基性基
または酸性基における塩を挙げることができる。そのよ
うな塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、硝
酸または硫酸などの鉱酸との塩；シュウ酸、コノ−り酸
、ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸などの
有機カルボン酸との塩；メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン９．）ルエンー２−スルホン
酸、トルエン−４−スルホン酸、メシチレンスルホン酸
（２，４，６−）リメチルベンゼンスルホン酸）、ナフ
タレン−１−スルホン酸、ナフタレン−２−スルホン酸
、フェニルメタンスルホン酸、ベンゼン−Ｌ３−ジスル
ホンｉＷ、トルエン−３，５−ジスルホン酸、ナフタレ
ン−１，５−ジスルホン酸、ナフタレン−２，６−ジス
ルホン酸、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸、ベンゼ
ン−１，３，５−）　＋７スルホン酸、ベンゼン−１，
２，４−）ジスルホン酸、ナフタレン−１，３，５−）
ジスルホン酸ナトのスルホン酸との塩を、また酸基性に
おける塩としては、たとえば、ナトリウムまたはカリウ
ムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムまたはマグネ
シウムなどのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩
；プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−
フェネチルアミン、１−エフエナミン、Ｎ、Ｎ−ジベン
ジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメチル
アミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリ
ン、Ｎ−メチルピベリジシ％Ｎ−メチルモルホリン、ジ
エチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなどの含窒素有
機塩素との塩を挙げることができる。

また１本発明は、一般式［Ｉ）のセファロスポリン、そ
の塩類のすべての光学異性体、およびラセミ体ならびに
すべての結晶体および水和物を包含するものである。

さらに具体的に述べれば、一般式ＣＩ）の化合物中、好
ましい例として社、−Ａｍが式−Ｃ−１ 八１１２ で表わされるオキシム体が、その中でも、シン異性体が
、さらにはＢｌｌが水素原子またはアルキル基、特に、
メチル基、エチル基もしくはＲ１２が置換されているア
ルキル基、式−ＣＨ，Ｃ００ＲＩ　（式中、Ｒ１は前記
した意味を有する。）で表わされる各にの基が挙げられ
る。

つぎに、Ｒ２の好ましいものの例としては、式８８は同
一または異なって、水素原子、または低れる基の場合、
Ｒ９、ＲＩＧおよびＲ１１は同一または異なって、水素
原子または低級アルキル基が挙げられる。

一般式［Ｉ］の化合物の中からいくつかの代表的化合物
について抗菌作用を示す。

抗菌作用（表−１） 日本化学療法学会標単法［（ｃｕａｒ／１ｏｒｎｇｕＡ
ｐｙ）第２３巻第１〜２頁（１９７５年）］に従い、Ｈ
ｅａｒｔ　Ｉｎｆｕｓｉｏｎ　ｂｒｏｔｈ　（栄研化学
社製）で３７℃、２０一時間培養した菌液を薬剤を含む
Ｈｅａｒｔ　Ｉｎｆｕｓｉｏｎ　ａｇａｒ培地（栄研化
学社製）に接種し、３７℃、２０時間培養後、菌の発育
の有無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもっ
てＭＩＣ（μｔ／ｍｌ　）とした。ただし、接種菌量は
１０４個／プレート（１０６個／　ｍｅ　）とした。

試験化合物は以下のとおルである。

に）　７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（シン）−メトキシイミノア七ドアミド）−３−
（［１−（４−メチル−６−オキソ−１，６−シヒドロ
ピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カル
ボン酸のトリフルオロ酢酸塩 （Ｂ）　７−　（２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（シン）−カルボキシメｔキシイミノアセト
アミド）−３−（［：１−（２，４−ジメチル−６−オ
キソ−１，６−らヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ
３−−＋フエムー４−カルボン酸のギ酸塩 （Ｃ）　７−　［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−
３−（（１−（２−第４ソー１．２−ジヒドロピリミジ
ニル）〕メタル）−Δ３−セフェムー４−カルボン酸の
ｌリフルオロ酢酸塩 表　−１ 抗　菌　作　用 ン 注　薔　ベニシリネース生産薗 ロ　セファロスボリネース生産菌 つぎに、本発明化合物の製造法について説明する。

本発明の化合物は、たとえば、下に示す方法によって製
造するとと゛ができる。

以下、詳細に説明すると、Ｒ２１けアミノ基、式ｌも＆
一 本発明に包含される。そしてＢＵ　、　Ｒ２４、Ｒ２Ｓ
　、　Ｒ２６およびＲ２７における反応に関与しない有
機残基としては、当該分野で知られている有機残基、た
とえば、置換基を有するかもしくは有しない脂肪族残基
、脂環式残基、芳香族残基、芳香脂肪族残基、複素環残
基、アシル基などが挙げられ、具体的には次のような基
が例示できる。

ｆｌ）　脂肪族残基：たとえば、メチル、エチル、プロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ベンチになどのアルキ
ル基；ビニル、プロペニル、ブテニルなどのアルケニル
基。

（２）脂環式残基：たとえば、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチルｆｌ　、！ｌ”　（Ｄ　シ／
ロアルキル基；シクロペンテニル、シクロヘキセニルな
どのシクロアルケニル基。

（３）芳香族残基：たとえば、フェニル、ナフチルなど
のアリール基。

（４）芳香脂肪族残基：たとえば、ベンジル、フェネチ
ルなどのアルアルキル基。

（５）複素環残基：たとえば、ビロリジ亜ル、ピペラジ
ニル、フリル、チェニル、ピロリル、ピラゾリル、オキ
サシリル、チアゾリル、ピリジル、イミダゾリル、キノ
リル、ベンゾチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジア
ゾリル、トリアゾリル、テトラゾリルなどの分子中にベ
テロ原子（酸素、窒素または硫黄原子）を任意に含有す
る複素環式基。

ω）　アシル基：有機カルボン酸から誘導されるアシル
基であシ、このような有機カルボン酸としては、たとえ
ば、脂肪族カルボン酸；脂環式カルボン酸；脂環式脂肪
族カルボン酸；脂肪族カルボン酸に酸素または硫黄原子
を介してまたは介さずに芳香族残基もしくは複素環式基
が結合した芳香置換脂肪族カルボン酸、芳香族オキシ脂
肪族カルボン酸、芳香族チオ脂肪族カルボン酸、複素環
置換脂肪族カルボン酸、複素環オキシ脂肪族カルボン酸
、複素環チオ脂肪族カルボン酸；カルボニル基に酸素、
窒素または硫黄原子を介して芳香族残基、脂肪族残基も
しくは脂環式残基が結合した有機カルボン酸類；芳香族
カルボン酸；複素環カルボン酸などの有機カルボン酸が
挙げられる。

ここで脂肪族カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、ブタン酸、イソブタン酸、ペンタン酸、メトキ
シ酢酸、メチルチオ酢酸、アクリル酸、クロトン酸など
が挙げられ、脂環式カルボン酸としては、シクロヘキサ
ン酸などが挙げられ、また脂環式脂肪族カルボン酸とし
ては、シクロペンタン酢酸、シクロヘキサン酢酸、シク
ロヘキサンプロピオン酸、シクロヘキサジエン酢酸など
が挙げられる。

また、上述の有機カルボン酸における芳香族残基として
は、フェニル、ナフチルなどが挙げられ、さらに上述の
複素環式基としては、フラン、チオフェン、ビロール、
ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、チアゾール
、イソチアゾール、オキサゾール、インオキサゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、チアトリアゾール
、オキサトリアゾール、テトラゾール、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾフランなどのへテロ原子を環中に１個以上
含む複素環化合物の残基が挙げられる。

そして、これらの有機カルボン酸を構成する各基は、た
とえば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、保護されたヒ
ドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、
ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、カルボキシ
ル基、保護されたカルボキシル基などの置換基でさらに
置換されていてもよい。

ｔ７’ｃ、Ｒ２２のアシルオキシおよびカルバモイルオ
キシ基としては、たとえば、アセトキシ、プロピオニル
オキシまたはブチリルオキシなどのアルカノイルオキシ
基；アクリロイルオキシなどのアルケノイルオキシ基；
ベンツイルオキシまたはナフトイルオキシなどのアロイ
ルオキシ基；およびカルバモイルオキシ基が挙げられ、
これらはハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基、
アシルアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基。

スルファモイル基、カルバモイル基、カルボアルコキシ
カルバモイル基、アロイルカルバモイル基、カルボアル
コキシスルファモイル基、アリール基、カルバモイルオ
キシ基などの−Ｐ４以上の置換基で置換されていてもよ
い。

上述したＲ２２の置換基において、ヒドロキシル基、ア
ミノ基およびカルボキシル基などは通常用いられている
保護基で保護されていてもよく、その保護基としては具
体的にはＲ２について説明したヒドロキシル基、アミノ
基およびカルボキシル基の保護基などが挙げられる。

０）三位変換反応 一般式［ＩＩ）の化合物またはその塩類に、酸または酸
の錯化合物の存在下、一般式％式％ ジン類または一般式印〕の６−オキソ−１，２−ジヒド
ロピリミジン類もしくはそれらの塩類を反応させ、所望
によシついで保護基の脱離またはカルボキシル基を保護
または塩とすることによシ一般式聞〕の７−置換または
非置換アミノ−３−ｆｆｉ換メチルセフェムカルボン酸
類またはその塩類を工業的に容易な操作で、好収率かつ
高純度に製造することができる。

さらに、所望によシ、７位アミノ基の置換基を常法によ
シ除去し、７−非置換アミノ体とすることができる。こ
の方法によれば、Δ３−セフェム化合物のみならずΔ２
−セフェム化合物も用いる仁とができ、Δ２−セフェム
化合物を用いた場合、反応後得られたΔ２−セフェム化
合物をΔ３−セフェム化合物に変換することができる。

また〉ｚが〉Ｓである化合物のみならず、〉ｚが〉Ｓ→
０である化合物も出発原料として用いることができ、そ
の場合、反応中または後処理の段階で〉Ｓ→０を〉ｓ　
とすることができる。

また、この反応における反応試薬として用いられる一般
式０１１ａ）の６−オキソ−１，６−ジヒドロピリミジ
ン類または一般式 ％式％ ジン類本おいて、それらの置換基に塩基性基または酸性
基を有する場合は、必要に応じ、それぞれの塩の形で反
応に供してもよく、その場合の塩基性基における塩また
は酸性基における塩としては、一般式［Ｉ）の化合物の
塩類について説明したと同様の塩基柱基またＦｉ酸性基
における塩が挙げられる。

また、一般式［ｎ）および聞〕の化合物の塩類としては
、塩基性基または酸性基における塩が挙げられ、それら
の塩類は一般式ＣＩ）の化合物の塩類について説明した
と同様の塩基性基または酸性基における塩が挙げられる
。なお、一般式（ＩＩ）の化合物の塩類は予め単離して
用いてもよく、あるいは系内で調製してもよい。

この反応において使用される酸または酸の錯化合物とし
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が誉げられる。プロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類（超強酸とは
１００姿硫酸よシ強い酸を意味し、前述の硫酸類および
スルホン酸類の一部も含まれる）が挙げられ、さらに具
体的には、硫酸、クロロ硫酸、フルオロ硫酸などの硫酸
類；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
などのアルキル（モ／　−１ｆｃはジー）スルホン酸％
またはｐ−トルエンスルホンｒＲナトｆ）７１Ｊ−ル（
モノ−、ジーまたはトリー）スルホン酸などのスルホン
酸類；過塩素酸、マジック酸（Ｆ８０３Ｈ−ｓｂｐ、）
、ＦＳＯ３Ｈ−Ａ３Ｆ、、ＣＦ３　ｓｏｓ　Ｈ−８ｂＦ
！！、ＨＦ−ＢＦｓ％ｎ、５ｏ４−８０３　などの超強
酸知力を挙げられる。

また、ルイス酸としては、たとえば、三弗化硼素などが
挙げられる。、また、ルイス酸の錯化合物としては、た
とえば、三弗化（Ｎｉ　素ト、ジエチルエーテル、−）
−ｎ　−７’ロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル
などとのジアルキルエーテル錯塩；エチルアミン、ｎ−
プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールア
ミンなどとのアミン錯塩；ギ酸エチル、酢酸エチルなど
とのカルボン酸ニス゛誉ル錯塩；酢酸、プロピオン酸な
どとの脂肪酸錯塩；アセトニトリル。

プロピオニトリルなどとのニトリル　錯塩などが挙げら
れる。

また、この反応においては有機溶媒を用いた場合が好ま
しく、用いられる有機溶媒としては１反応に不活性な全
ての有機溶媒、た、！：、ｔば、ニトロメタン、ニトロ
エタン、ニトロプロパンナトノニトロアルカｙｌ；ギ酸
、酢酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン
酸などの有機カルボン酸類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン顛；ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テ
トラビトロフラン、エチレンクリコールジメチルエーテ
ル、アニソール、ジメチルセルソルブな−どのエーテル
類；ギ酸エチル、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、クロロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；
アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル類；塩
化メチレン、クロロホルム、１．２−ジクロロエタンな
どのハロゲン化炭化水素類；スルホランなどのスルホラ
ン類などが誉げられ、これらの溶媒を二種以上混合して
用いてもよい。また、これらの有機溶媒とルイス酸とで
形成される錯化合物を溶媒として使用するこ〜ともでき
る。

酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式〔■〕の化合
物またはその塩類に対し当モル以上であればよく１個り
の場合に応じ適宜増減させることができる。特に、２〜
１０倍モル量の使用が好ましい。酸の錯化合物を用いる
場合には、それ自体を溶媒として用いることができ、二
種以上の錯化合物を混合して用いてもよい。

また、この反応の反応試薬として用いられる一般式（Ｉ
ＩＩａ）の６−オキソ−１，６−ジヒドロピリミジン類
またＩｄ一般式（Ｉｌｌｂ）ｃｏ２−オキソ−１，２−
ジヒドロピリミジン類もしくはそれらの塩類の使用を行
、一般式［１１）の化合物またはその塩類に対し、当モ
ル以上であればよいが、特に１．０〜５．０倍モル量の
使用が好ましい。

この反応は、通常θ〜８０℃で行われ、数分〜数十時間
で完了する。

この反応の系内に水分があると原料または生成物のラク
トン化およびβ−ラクタム環の開裂など好ましくない副
反応を惹起することがあるので、反応系内を無水の状態
に保つことが望ましい。この条件を満たすために、反応
系内に適轟な脱水剤、たとえば、五酸化リン、ポリリン
酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リンなどのリ
ン化合物；Ｎ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトア
ミド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメチルクロ
ロシラン、ジメチルジクロロシランなどの有機シリル化
剤；アセチルクロＩＪ）”、ｐ−トルエンスルホニルク
ロリドなどの有機酸クロリド；無水酢酸。

無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物；無水硫酸マグネ
シウム、無水塩化カルシウム。

モレキュラーシープ、カルシウムカーバイドなどの無機
乾燥剤などを添加してもよい。

Ｒ１がカルボキシル保傅基を示す一般式〔■〕の化合物
を原料として使用した場合、反応後の処理によＦ）　Ｉ
Ｎが水素原子である対応する一般式用〕の化合物が得ら
れることもあるが、所望によシ保腰基を常法で脱離させ
、Ｒ１が水素原子である一般式〔■〕の化合物を得るこ
ともできる。

こ□の反応における反応試蘂として用いられる一般式０
１１．ａ　）の６−オキソ−１，６−ジヒドロピリミジ
ン類または一般式［１１１ｂ：ｌの２−オキソ−１，２
−ジヒドロピリミジン類もしくはそれらの塩類において
、それらの置換基がヒドロキシル基、アミン基、カルボ
キシル基などで置換されている場合、この反応を実施す
るにあたシ、これらの基をＲ２について説明したと同様
の保噛基で保護し、反応終了後、従来の脱離反応に付す
ことによシ、所望の化合物を得ることができる。

また、一般式［ＩＶＩの化合物は、所望によシ、常法に
従ってカルボキシル基を保６ｔたは塩とするこ°とがで
き、“目的の化合物を得ることもできる。また、Ｒ２１
がアミノ基である一般式（ＩＶ）の化合物は、常法によ
シ、後述のようなアミノ基における反応性誘導体とする
ことができる。

（ロ）　アシル化反応 狭止の方法で得られた一般式〔■〕の化合物またはその
アミノ基における反応性誘導体もしくはそれらの塩類に
、一般式〔Ｖ〕、（：Ｖｌ）、〔■〕、〔■〕または［
ＸＩ’Ｊ）の化合物またはそのカルボキシル基における
反応性誘導体もしくはそれらの塩類を反応させれば、一
般式ＣＩ）、［ＩＸ）、〔Ｘ〕、（ＸＩ）まタハ［ＸＩ
Ｖ〕ノ化合物またはその塩類が得られる。

まだ、一般式〔Ｖ）、［Ｖｌ）、〔■）、（ＶＩＩＩ］
、〔■〕、［Ｘ］、ＣＸＩ）、Ｉ：ｍＩ）　”！　タｔ
、ｉ　［ＮＶ　］　（７）　化合物の塩類としては、塩
基性基または酸性基における塩が挙げられ、それらの塩
類は一般式〔Ｉ〕の化合物の塩類について説明したと同
様の塩基性基または酸性基における塩が挙げられる。

一般式［ＩＶ）の化合物のアミノ基における反応性誘導
体としては、たとえば、インシアネート、一般式（ＩＶ
Ｉの化合物またはその塩類とビス（トリメチルシリル）
アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド、トリメ
チルシリルクロライドなどのシリル化などのリン化合物
または（０４Ｈ９）３８ｎＣＩなどのスズ化合物との反
応によシ生成するシリル誘導体、リン誘導体またはスズ
誘導体など、アシル化反応において繁用されるものはす
べて包含される。

一般式〔Ｖ〕、〔Ｖ１〕、〔■〕、［ＶＩＩＩ　）また
に′１（ＸＩＩＩ　］の化合物のカルボキシル基におけ
る反応性誘導体としては、具体的には、酸ノ・ロゲン化
物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性エス
テルならびに一般式〔Ｖ〕。

（ＶＩ〕、〔■〕、■■〕またはα■〕の化合物とビル
スマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。混
合酸無水物としては、たトｔｔｒｘ、炭酸モノエチルエ
ステル、炭酸モノイソブチルエステルなどの炭酸モノア
ルキルエステルとの混合酸無水物、ピバリン酸やトリク
ロロ酢酸などのハロゲンで置換されていてもよい低級ア
ルカン酸との混合酸無水物などが用いられる。活性１浚
アミドとしては、たとえば、Ｎ−アシルサッカリン、Ｎ
−アシルイミダゾール、Ｎ−アシルベンソイルアミ）”
、　Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシル−Ｎ−アシル尿素、Ｎ
−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎに、活
性エステルとしては、たと−えば、シアノメチルエステ
ル％置換フェニルエステル、置換ベンジルエステル、置
換チェニルエステルなどが用いられる。

また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としては、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミドなどの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニル、
三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン
、トリクロロメチル調クロロポルメート、塩化オキザリ
ルなどのハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマイ
ヤー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。

一般式〔Ｖ〕、〔■〕、〔■〕、［ＶＩＩＩ］またけ巳
“■〕の各々の化合物を遊離酸または塩の状態で使用す
る場合は、適当な縮合剤を用いる。

このような縮合剤としては、たとえば、Ｎ。

シージシクロへキシルカルボジイミドのようなＮ、Ｎ’
−ジ置換カルボジイミド；Ｎ、Ｎ’−チオニルジイミダ
ゾールのようなアゾライド化合物；Ｎ−エトキシカルボ
ニル−２−工Ｉ・キシ−１，２−ヒドロキシキノリン、
オキシ塩化燐、アルコキシアセチレンなどの脱水剤；２
−クロロピリジニウムメチルヨーシト、２−フルオロピ
リジニウムメチルヨーシトなどの２−ハロゲノピリジニ
ウム塩などが用いられる。

このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中、塩基の存在
または不存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、塩化メチレンなどのノ・ロゲン化炭化水
素類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
ａ　ｉ　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、アセトン、水またはこれらの混合物
などが使用できる。

また、塩基としては、水酸化アルカリ、炭酸水素アルカ
リ、炭酸アルカリまたは酢酸アルカリなどの無機塩基；
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモル
ホリン、ルチジン、コリジンなどの第３級アミンあるい
はジシクロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどの第２
級アミンなどの有機塩基が挙げられる。

なお、本発明の一般式［Ｉａ］または［Ｉｂ）の化合物
もしくはそれらの塩類に銹導することができる一般式〔
■〕の化合物ま六はその塩類は、次のようにして製造す
ることもできる。

一般式〔■〕の化合物またはその塩類を使って一般式（
ＩＸＩの化合物またはその塩類を得るには、ジケテンと
塩素、もしくは臭素などのハロゲンとの反応〔ジャーナ
ル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ、９７゜ワ＼ １９８７（１９１０））に゛よシ得られる４−ハロゲノ
−３−オキソ−ブチリルハライドと、一般式口Ｖ〕の化
合物またはその塩類とを常法に従って反応させればよい
。この反応条件及び操作は、当該分野で知られた条件お
よび操作が適用できる。また、一般式（ＩＸ）の化合物
の塩類は、常法に従って容易に得ることができ、その塩
類としては、前述の一般式［Ｉ］の化合物の塩のところ
で説明したと同様の塩基性基または酸性基における塩が
挙げられる。得られる一般式［ＩＸ）の化合物またはそ
の塩類は、常法によって単離Ｍ製してもよいが、単離す
ることなく、次の反応に用いることもできる。

なお、一般式ＣＶ〕、［ＶＩ）、〔■〕、［ＶＩ）また
はα■〕の化合物またはそのカルボキシル基における反
応性誘導体もしくはそれらの塩類の使用量は一般式［Ｉ
Ｖ）の化合物またはそのアミノ基における反応性誘導体
もしくはそれらの塩類１モルに対し、それぞれ通常的１
−数モル程度が好ましい。

これらの反応は、通常−５０〜４０℃で行われ、ｌＯ分
〜４８時間で完了する。

また、このアシル化反応において、保護基の導入および
脱離ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応す
る目的化合物に変換することができる。以上のようにし
て得られた一般式ＣＩ）、（ＩＸ）、［Ｘ］、（Ｘ［）
またはα■〕の化合物もしくはそれらの塩類は、公知の
手段によシ単離精製できるが、さらに一般式〔■〕、〔
Ｘ〕、〔Ｍ〕またはα■〕の化合物もしくはそれらの塩
類は単離することなく次の反応の原料として用いること
もできる〇 （−９ニトロン化反応 つぎに一般式［ＪＸ）の化合物またはその塩類から一般
式〔Ｘ）の化合物またはその塩類を得るには、一般式（
ＩＸ）の化合物またはその塩類に、ニトロソ化剤を反応
させる。

この反応は、通常溶媒中で行われ、溶媒としては、水、
酢酸、ベンゼン、メタノール、エタノール、テトラヒド
ロフラン、ソの他の反応に不活性な溶媒が使用できる。

ニトロソ化剤の好ましい例としては、硝酸およびその誘
導体、たとえば、塩化ニトロシル、臭化ニトロシルなど
のハロゲン化ニトロシル；亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カ
リウムなどの亜硝酸アルカリ金属＃Ａ＝亜硝酸ブチルエ
ステル、亜硝酸ペンチルエステルなどの亜硝酸アルキル
エステルなど艇挙げられる。ニトロソ化剤として亜硝酸
の塩を使用するときには、塩酸、硫酸、ギ酸、酢酸など
の無機もしくけ有機の酸の存在下に反応を行うのが好ま
しい。亜硝酸アルキルエステルをニトロソ化剤として使
用する場合如け、アルカリ金属アルコキシドのような強
塩基の存在下に行うのが好ましい。

−反応は一般に一１５〜３０℃で行われ％１０分から１
０時間で完了す−る。また、一般式〔Ｘ〕の化合物の塩
類は常法に従って容易に得るととができ、その塩類とし
ては、一般式〔■〕の化合物の塩のところで説明したと
同様の塩基性基または酸性基における塩が挙げられる。

さらに、保護基の導入および脱離は常法に従って行い、
対応する目的化合物に変換することができる。

このようにして得られる一般式〔Ｘ〕の化合物またはそ
の塩類は、常法によって単離精製してもよいが、単離す
ることなく次の反応に用いることもできる。

（→　エーテル化反応およびホスホリル化反応つぎに、
一般式（Ｘ）の化合物まだはその塩類から一般式（ＸＩ
）の化合物またはその塩類を得るには、一般式［Ｘ）の
化合物またはその塩類をエーテル化反応またはホスボリ
ル化反応に付す。このエーテル化反応およびホスホリル
化反応は特開昭５３−１３７９８８号、特開昭５５−１
０５６８９号、特開昭５５−１４９２９５号などに記載
しであるエーテル化反応およびホスホリル化反応などの
通常の方法で行うことができる。たとえば、アルキル化
反応は常法に従って行うことができる。反応は一般に一
２０〜６０℃で行われ、５分から１０時間で完了する。

溶媒としては本反応を阻害しない限シいかなるものでも
よく、たとえば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メ
タノール、エタノール、クロロホルム、塩化メチレン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、　Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、水など、または
これらの混合物などが用いられる。

アルキル化剤としては、たとえば、ヨウ化メチル、臭化
メチル、ヨウ化エチル、臭化エチルなどのハロゲン化低
級アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ジアゾメタ
ン、シアソエタンｔたはｐ−）ルエン貰ルホン藏メチル
などが用いられる。ジアゾメタン、ジアゾエタン以外の
アルキル化剤を用いるときは、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、トリ
エチルアミン、ピリジ／’、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン
などの塩基の存在下に一般に行う。

また、一般式［ＸＩ］の化合物の塩類は常法に従って容
易に得ることができ、その塩類としては、一般式［Ｉ］
の化合物の塩のところで説明したと同様の塩基性基また
は酸性基における塩が挙げられる。さらに保護基の導入
および脱離は常法に従って行い、対応する目的化合物に
変換することができる。

このようにして得られる一般式（ＸＩ）の化合物普たは
その塩類は、常法によって単離精製してもよいが、単離
することなく次の反応に用いることもできる。

に）閉環反応 つぎに一般式［ＩＸ）、〔Ｘ）または［ＸＩ］の各化合
物もしくはそれらの塩類に、一般式〔■〕のチオホルム
アミドまたはチオ尿素類を反応させれば、本発明の一般
式［Ｉａ〕または（Ｉｂ）の化合物もしくはそれらの塩
類が得られる。

この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、木
反応を阻害しない限りいかなるものでもよいが、たとえ
は、水、メタノール、エタノール、ア＋トン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルビリド
ンなど、またはこれら二種以上の混合溶媒が用いられる
。脱酸剤の添加は、特に必要としないが、セファロスポ
リン骨格に変什を与えない範囲の基の脱酸剤を添加する
と円滑に反応が進行す　（ることもある。この反応に用
いられる脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸
水素アルカリ金属塩、トリエチルアミン。

ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリンなどの無機または
有機塩基が挙げられる。

反応は一般に０〜１００℃の範囲で行われる。通常、一
般式（ＩＸ、Ｉ、（Ｘ：ｌまたは〔■〕の化合物もしく
はそれらの塩類１当量に対し、それぞれ１〜数当景のチ
オホルムアミドまたはチオ尿素類が用いられる。反応時
間け、通常、１〜４８時間、好ましくは１〜１０時間で
ある。

また、との閉環反応において、保６基の導入および脱離
ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応する目
的化合物に変換することができる。以上のようにして得
られた本発明の一般式［Ｉａ）または（Ｉｂ）の目的化
合物もしくはそれらの塩類は、常法によって単離するこ
とができる。

→　オキシム化反応 一般式ＣＸＭ）の化合物またはその塩類に、一般式［Ｘ
Ｖ）の化合物またはその塩類を反応させることによって
、一般式［Ｉｂ］の化合物またはその塩類が得られる。

一般式［ＸＶ）の化合物の塩類としては、たとえば、塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸基などが挙げられる。そして
、この反応は、通常、水、アルコールなどの溶媒のｉｔ
かに、反応に不活性な溶媒、またはこれらの混合溶媒中
で行われ、反応は通常、０〜１００℃、好ましくは１０
〜５０℃の範囲で行われ、１０分〜４８時間で完了する
。

一般式ＣＸＩＶ）の化合物また社その塩類１当量に対し
て、１〜数当景の一般式［ＸＶ）の化合物またはその塩
類が用いられる。

尚、一般式［ＸＶ）の化合物の塩類はそのまま木反応に
用いることができるが、たとえば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属、水酸化マグ
ネシラム、水酸化カルシウムなどの水酸化アルカリ土類
金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカ
リ全屈、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸
アルカリ土類金鳳、炭酸水素す）　ＩＪウム、炭酸水−
素カリウムなどの炭酸水素アルカリ金属。

リン酸マグネシウム、リン酸カルシウムなどのリン酸ア
ルカリ土類金属、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素
２カリウムなどのリン酸水素アルカリ金属などの無機塩
基、または酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどの酢酸ア
ルカリ金属、トリメチルアミン。

トリエチルアミンなどのトリアルキルアミン、ピコリン
、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１．
５−ジアザビシクロ［４，３，０）　−５−ノネン、１
．４−ジアザビシクロ［２，２，２）オクタン、１，５
−ジアザビシクロ（５，４，０）　−７−ウンデセンな
どの有機塩基などの塩基の存在下に反応させることもで
きる。

また、このオキシム化反応において、保護基の導入およ
び脱離ならびに塩類への変換は常法に従って行い、対応
する目的化合物に変換することができる。以上のように
して得られた本発明の一般式ＣＩ）の化合物またはその
塩類は常法によって単離することができる。

つぎに、Ｒ３がアルコキシである一般式〔関の化合物ま
たはその塩は、自体公知の方法、たとえば、有機合成協
会誌３５巻７号、５６３〜５７４頁（１９７７年）の記
載の方法に基づいてＲ３が水素原子である一般式〔ＩＶ
〕の化合物またはその塩を使って合成することができる
。

さらにＲ３がアルコキシである一般式ＩＩＩ）、ＣＩａ
＞　［Ｉｂ］、（ＩＸ）、　（Ｘ）、［ＸＩ）または（
ＸＩＶ）の化合物もしくけそれらの塩は、自体公知の方
法、たとえば、特開昭５４−２４８８８号および特開昭
５４−１０３８８９号に記載の方法に基づいて　ＢＳが
水素原子である一般式〔Ｉ上［Ｉａ）、　［Ｉｂ）、　
［：ＩＸ］、〔Ｘ〕、α〕または〔Ｘりの化合物もしく
はそれらの塩を使用して合成することができる。

以上のようにして得られた一般式ＣＩ）の化合物または
その塩類は、遊離酸の形、非−毒性塩または生理的に許
容されるエステルの形で細菌感染症の治療および予防の
ために人および動物に投与することができ、遊離酸の形
もしくは非毒性塩の形で非経口的投与方法、または生理
的に許容されるエステルの形で経口的投与方法を適用す
ることが好ましい。その場合１通常セファロスポリン系
薬剤に適用されている剤形、たとえば、錠剤、カプセル
剤、散剤、顆粒剤、細粒剤、シロップ剤、注射剤（点滴
剤も含む）。

坐剤などの形に調製−すればよい。上の薬剤を調製する
際、必要に応じ、たとえば、デンプン、乳糖、砂糖、リ
ン酸カルシウム、炭酸カルシウムなどの賦形剤；アラビ
アゴム、デンプン、結晶セルロース、カルボキシメチル
セルロース、ヒドロキシグロビルセルロース−１ｘＥの
結合剤；タルク、ステアリン酸マグネシウムなどの滑沢
剤；およびカルボキシメチルカルシウム、タルクなどの
崩壊剤などの希釈剤および／または添加剤を用いてもよ
い。

また、一般式ＣＩ）の化合物またはその塩類を投与する
場合、症状によって投与量、投与回数および投与方法は
適宜選択できるが、一般に成人１人当シ、１同量約５０
〜５０００キを１日１〜４回程度経口または非経口投与
すればよい。・ つぎに、本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明けこれらに限定されるものではない。

参考例１ 三弗化硼素２．７１　ｆを含む酢酸エチル溶液Ｋ、７−
アミノセファロスポラン酸（以下、７−ＡＣＡと略記す
る。）２．７２Ｆおよび２．４−ジメチル−６−オキソ
−１，６−シヒドロビリミジン１．３６ｔを加えて溶解
させた後、室温で１６時間反応させる。

反応終了後、反応液を冷却下メタノール５０ゴ中へ導入
し、ついで、ピリジン３．’Ｊ−６ｔヲ滴下する。析出
晶を戸数し、メタノールで十分洗浄した後、乾燥すれば
、融点２００℃以上を示す７−アミノ−３−（［１−（
２，４−ジメ、チル−６−オキソ−１，６−ジヒドロピ
リミジニル）〕メチル）−Δ３−七フエムー４−カルボ
ン酸１．８８ｔ（収率５５．９チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）Ｃｍ””　；　ｙｃ＝ｏ　１８００１１
６７５＃１６１ＯＮＭＲ（ＣＦ、ＧＯＯＤ）δ値； ３　、７２（２Ｈ、ｂｓ　、ｃ、　−Ｈ）　。

５．５０　（２Ｈｅ　ｂ　ｓ　＋　Ｃ６Ｈ＋　Ｃ７−”
）　ｒｓ、７３（２ａ、ｂｅ’、）ｃｏ、−）　。

６．８０（ＩＨ，ａ、）ｎ） 参考例２ （１）三弗化硼素２７．ＩＪを含むスルホラン溶液１０
０ゴに％７−　ＡＣＡ　２７．２　ｆおよび２，４−ジ
メチル−６−オキソ−１，６−シヒドロビリミジン１２
．４　ｆを加え、室温で４時間反応させる。

反応終了後、反応液を水冷下メタノール５ＯＯｄ中へ導
入し、ついで、ピリジン３１．６ｆｔ滴下する。析出晶
を戸取し、メタノールで十分洗浄した後、乾燥すれば、
７−アミノ−３−［（１−２，４−ジメチル−６−オキ
ソ−１，６−ジヒドロピリミジニル）］メチル）−Δ３
−セフェムー４−カルボン酸の粗結晶３０．５　ｔ　（
収率９０．８チ）を得る。

同様にして、次の化合物の粗結晶を得た。

０７−アミノ−３−（［１−（６−オキソ−１，６−ジ
ヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４
−カルボン酸ｏ７−アミノ−３−（［１−（４−メチル
−６−オキソ−１，６−ジヒドロピリミジニル）〕メチ
ル）−Δ３−セフェムー４−カルボン酸 ０７−アきノー３−（（１−（２−メチル−６−オキソ
−１，６−ジヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−
セフェムー”−４−カルボン酸 ０７−アミノ−’３−　（［１−（２−オキソ−１，２
−ジヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェム
ー４−カルボン酸（２）　（１）で得られた７−アミノ
−３−（（１−（′２，４−ジメチルー６−オキソー１
，６−ジヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフ
ェムー４−カルボン酸の粗結晶２５ｆ　をメタノール２
５０ｉに懸濁させ、これにｐ−トルエンスルホン酸−１
水利物１２．７ｆを加える。ついでジフェニルジアゾメ
タン４３．３１を徐々に加え、室温で１５分間反応させ
る。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物に酢酸エチル２５０ｍおよび水２５０ｄを加え、炭酸
水素ナトリウムを加えてｐＨ７，０に調整する。ついで
不溶物をＦ別した後、有機層を分取し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去する。残留物
をカラムクロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２０
０；　溶ｍｌ　Ｍ　、ベンゼン；酢酸エチル＝１：３）
で精製すれば、融点１４０〜１４２℃（分解）を示すジ
フェニルメチル；７−アミノ−３−（［１−（２，４−
ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニル
）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート
１４．６ｆ（収率３９．１ｇ６）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−”　；　ｙ’ａ＝ｏ　１７７０．
１７２０．１６７５ＮＭＲ（ｄ６−　ＤＭＳＯ）δ値； ２．１５　（６Ｈ＋　８　、トＨｓ　Ｉ　Ｎ％ＣＨｓ　
）　＋３．３１（２Ｈ，ｂｓ、ｃ２−Ｈ）　。

４．８０　、５．３４（２Ｈ，ＡＢ　ｑ、Ｊ＝１５Ｈｚ
　、旬叫−）−４，９２（ｆＨｅ　ｄ　−Ｊ＝＝５Ｈｚ
　−Ｃ＠−Ｈ）　Ｃ７，０２（ＩＨ，ａ、−ＣＨぐ）。

７．１２〜７．７１（ＩＯＨ，■−■×２）同様にして
、表−３の化合物を得る。

（３）（２）で得られたジフェニルメチル−７−アミノ
−３−［［１−（４−メチル−６−オキソ−１，６−シ
ヒドロピリミジニル）］メチル）−Δ３−セフェムー４
−カルボキシレー）ｉＦをトリフルオロ酢酸５ｄおよび
アニソール２ゴの混合溶媒に溶解させ、室温で２時間反
応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物
にジエチルエーテルを加えて結晶を加数すれば、融点１
６４〜１６７℃（分解）を示す７−アミノ−３−（〔１
−（４−メチル−６−オキソ−１，６−シヒドロビリミ
ジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボン酸
のトリフルオロ酢酸塩０．７７　ｔ　（収率８６．５係
）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）Ｃｍ−１；νｃ＝ｏ　１７８Ｌ１７２０
．ｉ６６５ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＤ）δ値； ２．５９（ａＨ，、、Ｎ）ｃａｓ）　。

ａ　−９２（２Ｈ＃　ｓ　＊　ｃ、−ｕ）　１５−４０
（２Ｈ１８ｓＣ１１−Ｈ＋Ｃ７−Ｈ）　ｅ５．４２（２
１Ｌ　ｂｓ　、ｓ、；Ｌ　漁−）　。

６−８１（１”＊ａ−４）。

９．７７（ＩＨ，、、、？−Ｈ） 同様にして、表−４の化合物を得た。

（４）　（２）で得られたジフェニルメチル：７−アミ
ノ−３−（Ｃ１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１
，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフ
ェムー４−カルボキシレートｌｆをトリフルオロ酢酸５
　ｍｌおよびアニソール２ｄの混合溶媒に溶解させ、室
温で２時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留
去し、残留物にジエチルエーテルを加え結晶を戸数する
。ついでこの結晶に水５ゴを加え、水冷下、２８％−ア
ンモニア水を加えてｐＨ３，５に調整する。析出晶を戸
数し、水２−およ゛びアセトン２　ｍｌで順次洗浄した
後乾燥すれば、融点２００℃以上を示す７−アミノ−３
−（（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−
シヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー
４−カルボン酸０．３６　ｙ　（収率５３．７チ）を得
る。

尚、この化合物の物性（ｌＲおよびＮＭＲ）は参考例１
で得られたものと一致した。

実施例１ （１）　２−　（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキ
サミトチアゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキ
シイミノ酢酸３．１５　ｔ　ヲＮ、Ｎ−ジメチルアセト
″アミド３１．５１１ｔ　に溶解させ、−１０℃でオキ
シ塩化燐ｉ、６ｉｒを滴下し、−５〜θ℃で１時間反応
させる。ついでジフェニルメチル＝７−アミノ〜３−（
（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒ
ドロビリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−
カルボキシレー）　５．０２ｔ’を加え、−５〜０℃で
１時間反応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル１
００ｍおよび水１００−の混合溶媒中へ導入し、炭酸水
素ナトリウムを加えてｐＨ６，５に調整する。ついで有
機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減
圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加え
て結晶を戸数すれば、融点９３〜９６℃（分解）を示す
ジフェニルメチル：７　（２−（２＝ｔｅｒｔ　−アき
ルオキシヵルボキサミドチアゾールー４−イル）−２−
（シン）−メトキシイミノア七ドアミド）−３−（［１
−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロ
ピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カル
ボキシレー）　６．５２　ｔ　（収率８１．６％）を得
る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−”　；　νｃ＝ｏ　１７８０．１
７２０．１６６ＯＮｙｎ（ｄｓ−ｎＭｓｏ　）δ値； １．０１　（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝ｅａ、、−〇−ＯＨ，ＣＨ
，）。

―　― ３−４２　（２Ｈ−ｂＢ　＊　ｃ、−ｕ）　−３，９５
（３Ｈ，ｓ、−０ＣＨｓ）。

４．９１　、ｓ、＜ｏ（ｚｎ、ｈｎ　ｑ、、ｒ＝ｘ５Ｈ
ｚ　、　Ｑ　ｇ−）　。

５．３２　（ＩＨ＝　ｄｓに５Ｈｚ　、０ｓ−Ｈ）　−
７，０９（ＩＨ，ａ、−ＣＨ（）。

７．２０〜７．８２値Ｈ中（Ｑｘ２．”、Ｉ□）。

９．８８（ＩＨｌｄ、Ｊ−４３Ｈ２，−〇〇ＮＨ−）。

１１．９１（ＩＨ，ｂ８．−ＣＯ匪−）。

同様にして、表−５の化合物を得た。

（２１２−（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミ
トチアゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイ
ミノ酢酸０．５ｆ、ジフェニルメチル＝７−アミノ−３
−（（１−（６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニ
ル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー
ト０．７５ｔおよび１−ヒドロキシベンズトリアゾール
０．３２’をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解させ
、水冷下Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド０
．３９　ｆを加え、室温で１時間反応させる。反応終了
後、反応液を酢酸エチル３０ｄおよび水３０−の混合溶
媒中に導入し、炭酸水禦ナトリウムでｐＨ７，０に調整
する。ついで不溶物を除去した後有機層を分取し、水２
０−で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフ
ィー（和光シリカゲルＣ−２００、溶離液；クロロホル
ム：メ０−に＝　１００　：　１）で精製すれば、融点
１５７〜１６０℃（分解）を示すジフェニルメチル＝７
−［２−（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミト
チアゾール４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノ
アセトアミド）−３−［１−［（６−オキソ−１，６−
シヒドロピリミジニル）］メチル）−Δ３−セフェムー
４−カルボキシレート０．２５？　（収率２０．３チ）
を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ−１；　Ｉｌｌ　ｃ＝ｏ　１７Ｂ
０．１７２０，１．６７５３．４４（！Ｈ，ｂｌｉ　、
Ｃ２−Ｈ）　−３，９７（３ｎ、、、−ｏｃ）Ｉ３）　
。

４．６４．５．１７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１５Ｈｚ、　
）−ＣＨ＊→。

５．１１（ＩＨ，（１、Ｊ＝５Ｈ２，Ｃ，−）１）　。

６．１０（ＩＨ，（１（１ｗＪ＝５Ｈｚ　、Ｊ−８Ｈｚ
　、ｃ、−ＩＩ）。

６．３８（ｊＨ，ａＪ嘲（ｚ、　Ｊｕ　）。

６．９３（−４ｕ、ｓ、−ＯＨで）。

７．００〜７．６０（ＩＨ９ｓ＊　ｓ［：、ｒω×２）
。

７．５ｘ（ｔａ、ａ、Ｊ＝ｓａｚ、、’！ａ）。

８　、ｊ８（１）Ｉ４　、Ｊ−４Ｈｚ　、−ＣＯＮＨ−
）　。

８．２８（ＩＨ，１１，、＞ｙｘ）。

９．４３（１ｕ、ｂ、、−〇〇ＮＨ−）（３）　（１）
で得うれたジフェニルメチル＝７−［：２−　（２−ｔ
ｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミトチアゾール−４−
イル）−２−（シン）−、メトキシイミノアセトアミド
）−３−（（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１
，６−シヒドロビリεジニル）〕メチル）−Δ３−セフ
ェムー４−カルボキシレート５．Ｏｌをトリフルオロ酢
酸２５−およびアニソール１０１１ｔｌｔの混合溶媒に
溶解させ、室温で２時間反応させる。反応終了後、減圧
下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて
結晶を戸数する。ジエチルエーテルで十分洗浄し乾燥す
れば、融点１６０〜１６２℃（分解）を示す７−［２−
（２−７ミノチアゾールー４−イル−２−（シン）−メ
トキシイミノアセトアミド）−３−（（１−（２，４−
ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロビリミジニル
）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボン酸のトリ
フルオ＝酢酸塩８．５５　ｔ　（収率８９．６％）を得
る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１；ｓｚｃ：＝ｏ　１７７（Ｌ１
７２（Ｌ１６６ＯＮＭｎ（ｄ、−ＤＭ８０）δ値； ２．２５（３Ｈ＊　８＋　Ｎ）ｃＩｓ　）　。

ａ、ｓ７　（３Ｈ−ｓ　−ｕ＞ｃＨｓ　）。

８．３９（２Ｈ，ｂａ　、Ｃ，−Ｈ）。

４．０２（３Ｈ，、、−ＯＣＨＭ）　１５．０４〜５．
５０（３Ｈ、ｖａ　、　Ｑ　ｇ、−、Ｃ，−Ｈ）　。

’ｌ−０４（ＩＨＴｔｓ　、５ＴＪｌ）　−１０ｆ１２
（ＩＨ，ｄ　、Ｊ−８Ｈｚ　、−〇〇ＮＨ−）同様にし
て１表−６の化合物を得た。

実施例２ 実施例１−（３）で得られた７−（２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノ
アセトアミド）−３−（１−［２，４−ジメチル−６−
オキソ−１，６−シヒドロヒリミジニル）〕メチル）−
Δ３−セフェムー４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩
２．０９をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍに溶解
させ、−１０℃で１．８−ジアザビシクロ（５，４゜０
〕−７−ウンデセン０．９１Ｐおよび１−ピバロイルオ
キシエチルヨージド１．２１　ｔ　ヲ加、ｔ、＝１０℃
〜０℃で３０分間反応させる。反応終了後、反応液を酢
酸エチル３０−および水３０１Ｒ１の混合溶媒中へ導入
する。ついで有機層を分取し水３０ｍ／！で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留
去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結晶を戸数す
れば、融点１１８〜１２１７Ｃ（分解）を示す１−ピバ
ロイルオキシエチル＝７−（２−（２−７ミノチアゾー
ルー４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノアセト
アミド）−３−（１−（（２，４−ジメギ′ルー６−オ
キソー１．６−シヒドロビリミジニル）〕メチル）−Δ
３−セフェムー４−カルボキシレート１．５ａｙ（収率
７５．０％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　ｙｃ＝ｏ　１７８０．１７
４０．１６６ＯＮＭＲ（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ値； １−２１　（９Ｈ０ａｅ−（ＣＨｓ）ｓ）−８，３３（
２Ｈ，ｂａｓＣｔ−Ｈ）− ８，９８（３Ｋ　、、　、−０ＣＨｓ）　。

４．９４−５−２７　（２Ｈ、ＡＢ　ｑ　＊Ｊ＝１５Ｈ
ｚ　、８美咀−）。

５．１０　（ＩＨ＊’ａ　−Ｊ＝５Ｈｚ　ｌＣ＠−Ｈ）
　。

６．７５　ＣＩＨ＝８　、”、１．）　。

同様にして、表−７の化合物を得た。

実施例３ （１）　ジケテン１．Ｏｆを無水塩化メチレン１０ｍｅ
に溶解させ、臭素１．９０ｆを一３０℃で滴下し、−６
０゛〜−２０℃で３０分間反応させる。ついでこの反応
液をジフェニルメチル＝７−アミノ−３−（［１−（２
，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロビリミ
ジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシ
レート５．ＯｆおよびＮ、Ｎ−ジメチルアニリン８．６
２ｆを含む無水塩化メチレン５０ｍの溶液中へ一３θ〜
＝２０℃で滴下する。滴下後、−２０〜−１（１℃で１
時間□反１シサせる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、残留物に酢酸エチル１００　ａ！および水１００ｍ
／を加え有機層を分取する。ついで水１００−で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を
留去する。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
（和光シリカゲルＣ−２００，溶離液；クロロホルム：
メタノール＝１００！１）で精製すれば。

融点９５〜９７℃（分解）を示すジフェニルメチル＝７
−（４−プロモー３−オキソブチルアミド−３−（（１
−（，２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒド
ロビリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カ
ルボキシレート＋、５ｘｔｃ収率７２．７％）を得る。

ｏｔ（ｘｎｒ）ａｍ−ｔ　；νｃ＝ｏ　１７８０，１７
２５．１６９０．１６６５ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値； ２．００　（３Ｈ＊　ａ　、１ＣＨ３）　。

２．２３　（３Ｈ，ａ　＞ＣＨ３）。

８．２０．８．６９（２Ｈ、ＡＢｑ　−Ｊ＝１８Ｈｚ　
−Ｃ２−（（）＝４．１７（２Ｈ，１Ｂ、−ｃｏｃｘｚ
２ｃｏ−）ｔ４．３５（２Ｈ，、、ＢｒＣＨ２Ｃｏ−）
　。

５．０２．５．６１　（２Ｈ、ＡＢ（１、Ｊ＝１５Ｈｚ
　、８．Ｌ−凱−）　。

５．１１（ＩＨ，６，Ｊ＝５Ｈ２，ｃ６−Ｈ）。

６．０３（ＩＨ，ｄａ　、Ｊ＝５Ｈ２’　、　−Ｈｚ　
ｔｃ、−Ｈ）　。

６．４０　（１ｍ、　１９１５Ｐ−Ｈ）　＃７．２２（
ＩＨ，ｓ、−ＣＨ）。

＼ ７．３５〜７．８２（ＩＯＨ，ｍ、つ×２）。

８．６２（ＩＨ、ｅｌ　、Ｊ−８Ｈｚ　、−ＣＯＮＨ−
）　□＋２）　（１）で得られたジフェニルメチル＝７
−（４−７”ロモー３−オキシプチルアミ）”　）　−
３−［（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６
−シヒドロピリミジニル）］メチル）−Δ３−セフェム
ー４−カルボキシレート４．ｏｙｔ酢酸１６艷に溶解さ
せ、水冷下皿硝酸ナトリウム０．４９９を含む水’２．
０　ｍｅの溶液を滴下し、室温で２時間反応させる。反
応終了後、反応液を水２００＃＋７ｉ中に導入し、析出
晶を戸数し、水で十分洗浄した後乾燥する。ついでこの
結晶をクロロホルムに溶解させ、カラムクロマトグラフ
ィー（和光シリカゲルＣ−２００，溶離液；クロロホル
ム：メタノール＝　１００　：　１　）で精製すれば、
融点１５８〜１６２℃（頒）を示すジフェニルメチル＝
７−（４−ｙ”クモ−２−ヒドロキシイミノ−３−オキ
ソブチルアミド）−３−（［１−（２，＋−ジメチル−
６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル
）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート８．３６ｔ
（収率８０．４チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１ｓ　νｃ＝ｏ　１７７０，１７
２０．１７００．１６６５ＮＭＲ（（１１−ＤＭ８０　
＋　ＣＤＣｌ５　）δ値；２．１５　（３Ｈ、ｓ　−Ｎ
）ＣＨｓ　）　＃２．２３（３Ｈｚ　ｇ　、＞ＣＨｓ）
＋８．３９（２Ｈｔｂａ　、ｃ、−ｕ）　＋４．８２（
２Ｌ＠、ＢｒＣＨｚＣＯ−）　。

４．９７　、５．５４　（２Ｈ、ＡＢｑ　ｅＪ＝１５Ｈ
ｚ−ユ、魁−）。

５−２８　（Ｉ　Ｈ−７１ｅ　Ｊ＝５　Ｈｚ　−Ｃ６−
Ｈ）　＋７．１１（ＩＨｌａｓ−ＣＨｓ　）１ ７．３１〜７．７７（ＩＯＨ，、ｗ＋、べ◇ｘ２）。

９．６３（ＩＨ，ｌ、Ｊ−８Ｈｚ、−ＣＯＮＨ−）　。

１３．２１（ＩＨ，ａ、　−〇Ｈ） ＋３）　（２）で得られたジフェニルメチル＝７−（４
−プロモー２−ヒドロキシイミノ−３−オキソブチルア
ミド）−３−（［１−（２，４−ジメチル−６−オキソ
−１，６−シヒドロビＩＪミジニル）〕メチル）−Δキ
ーセフェム−４−カルボキシレート８．Ｏｆをテトラヒ
ドロ７ラン４５−に溶解させ、０〜５℃で過剰のジアゾ
メタンを溶解したジエチルエーテル溶液をゆっ〈シ加え
、同温度で３０分間反応させる。反応終了後、減圧下に
溶媒を留去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（和
光シリカゲルＣ−２００・溶離液冨クロロホルム２メタ
ノール＝１００　：　１　）−１”精製すれば、融点８
８〜９０℃（分解）を示すジフェニルメチル＝７−Ｃ４
−プａモー２−（シン）−メトキシイミノ−３−オキソ
ブチルアミド）−３−（Ｅｘ−（２，４−ジメチル−６
−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）
−Δ３−セフェムー４−カルボキシレート１．８７Ｆ（
襠６１．１チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：　ｙｃ＝ｏ　１７８０＋１７
２０＋１６６ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）δ値； ２．１３　（３Ｈ、龜１本１ｃａ３）。

２．２２　（３Ｈ，龜＋＞ＣＨ３）＋ ８．３１　（２Ｈ，ｂ、　、Ｃ，−Ｈ）。

８．９０　（３Ｈ，ｓ＋ｒＯｃＨｓ）。

４．５７（ｕ、６．ｎｒｃａ＝ｃｏ−）。

５．０６　（ｌＨ，ａ　、Ｊ＝５Ｈ２，ｃ、−Ｈ）　。

５．０７　、５．５４　（２Ｈ、ＡＢｑ　Ｊ’＝１５Ｈ
ｚ　、　旬ｅｎｔ’−）　。

５．９４　（ＩＨ，ａ、ｖａ、Ｊ＝ｓ■ｚ　＃Ｊ補Ｈｚ
　＋　Ｃ７−Ｈ）　＋６−２３　（ＩＨ＝ｓ　＊貞）。

７．０４（ＩＨ，ｓ、−ＣＭぐ　）。

７．１８〜７．６０（ＩＯＨ，ｔ、（石）Ｘ２）。

８．２１（１Ｂ、ａ　、Ｊ＝８Ｈｚ　、−ＣＯＮＨ−）
（４）　（３）で得られたジフェニルメチル＝７−［４
−プロモー２−（シン）−メトキシイミノ−３−オキソ
ブチルアミド］−３−（［１−（２，４−ジメチル−６
−オキソ−１，６−シヒドロヒリミジニル）〕メチル）
−Δ３−＋７エムー４−カルホ中シレー）１．Ｏｆおよ
びチオ尿素０．１６ｆをＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
５ｄに溶解させ、室温で２時間反応させる。反応終了後
、反応液を酢酸エチル２０−および水２０ｄ中に導入し
、炭酸水素ナトリウムを加えてｐｉ　７．０に調整する
。ついで有機層を分取し、水２０ｍで洗浄した後、無水
硫酸ｉグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。

残留物にジエチルエーテルを加えて結晶を戸数すれば、
融点１４５〜１４７℃（分解）を示すジフェニルメチル
＝７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−３−（（
１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒド
ロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カ
ルボキシレー）０．６８９（収率７ｏ、１チ）を得る。

２．３３　（３Ｈ、ｓ　、　＞ＣＨ３）。

８．５４　（２Ｈ、ｂｓ　、Ｃ２−Ｈ）　。

８．９６　（３Ｈ、ｓ、、、−、ＯＣＨ３）。

４．９１（２Ｈ，ｂａ’、ユ咀−）。

５．２７　（ＩＨ＝６　、Ｊ＝＝５１１ｚ　、Ｃ６−Ｈ
）　＋５．５３　（ＩＨ＊　ｄ’１．−’＝＝５ｉｚ　
ｅＪ補Ｈｚ　、Ｃ７Ｈ）　。

（５，２８（Ｈｔ、　１．　＞ａ）。

７．０ｓ（１ａ、ｓ、、−ｃｕく　）。

７．２５〜７．８８（ＩＯＨ，■、ベニ％ｘ２）。

９．９２　（ＩＨ、（１１Ｊ−８Ｈ２、−ＣＯＮＨ−）
（５）　（４）で得られたジフェニルメチル＝７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（シン）
−メトキシイミノアセトアミド〕−３−（（１−（２，
４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジ
ニル）〕メチ、ル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシ
レート０．５ｔをトリフルオロ酢！！２２．５ｍおよび
アニソール１ｍの混合溶媒に溶解させ、室温で１時間反
応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物
にジエチルエーテルを加えて結晶を戸数すれば、融点１
６０〜１６２℃（分解）を示す７−［２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミ
ノアセトアミド〕−３−（［１−（２，４−ジメチル−
６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジ二ｋ）Ｉ’！−
ル〕）−Δ３−セフェムー４−１ルポン酸のトリフ゛ル
オロ酢酸ｍ　Ｏ，４２ｔ　（収率９１．３％）を得る。

尚この化合物の物性（ｒｎおよびＮ１１ｔＲ値）は実施
例１−（３）で得たものと一実施例４ （１）　２’−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸１．０ｆｆｔＮ、Ｎ−ジメチ　。

ルアセトアミド５．０−に懸濁させ、−２０℃でオキシ
塩化燐０．８１Ｆを滴下し、同温度で２時間反応させる
。ついでジフェニルメチル＝７−アミノ−３−（（１−
（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロピ
リミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボ
キシレー）２．５１Ｆを含む無水塩化メチレン溶液１３
ｍを−３０〜−２０℃で滴下し、−２０〜−１θ℃で１
時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、
残留物に酢酸エチル５０ｍ１および水５０＃ｊを加え、
炭酸水素す）　＋７ウムでｐＨ７，０に調整する。つい
で不溶物を除去し、有機層を分取し水５０−で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、残留物をカラムクロマトグラフィー（和光シリ
カゲルＣ−２００，溶離液；クロロホルム：メタノール
＝１００２１）で精製すれば、融点１２９〜１３１℃（
分解）を示すジフェニルメチル＝７−１：２−（２−ホ
ルムアミドチアゾール−４−イル）グリオキシルアミド
〕−３−（（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１
，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフ
エムー４−カルボキシレート２．４８ｔ（収率７２．５
％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１；　ｙｃ＝ｏ　１７７５．１７
２０，１６８０．１６６ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１，）δ値； ２．０７（３ｕ、ａ、　Ｎ’）−ｃＨｓ）。

２．２２　（３Ｈ、ｓ　、　＞Ｈ３）−＆１８　、８．
６２　Ｃ２１１、ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈ２ＩｃＩＩ−Ｈ）
　、　−４，９９−５，５８（２ｎ　、ＡＢｑ　、Ｊ＝
＝１５Ｈｚ　ｅ　＞　咀−）　。

５．１８　（ＩＨ，６Ｊ　判Ｈｚ　、Ｃ６−Ｈ）　Ｃ６
，０３（ＩＨ、ａｄ　、Ｊ　＝＝５Ｈｚ　＊Ｊ＝８Ｈｚ
　、ｃ、−ｎ）　。

６．３４（ＩＨ，、、イＨ）。

７．１８（ＩＨ，ｓ、−ＣＨぐ　）。

７．３０〜７．７７（１０Ｈ，ｍバ→×２）。

８．４３（ＩＨ，ｓｔχ）。

８、Ｆ１５　（ＩＨ、ｓ　、ｎｃｏ−）　。

９．２２（ＩＨ，１ＩＪ−８ｕｚ、−ｃｏＮＨ−）（２
１（１１で得られたジフェニルメチル＝７−［２−−（
２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド］−３−（１−（（２，４−ジメチル−６−オキ
ソ−１，６−シヒドロビリミジニル）〕メチル）−Δ３
−セフェムー４−カルボキシレート１．ＯｆをＮ、Ｎ−
ジメチルアセトアミド５．０−に溶解させ、水冷下メト
キシアミン・塩酸塩０．１８Ｆを加え、室温で３時間反
応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル３０ゴおよ
び水３０ゴの混合溶媒中へ導入し、有機層を分取し水３
０−で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

６ついで、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエ
ーテルを加えて結晶を戸数すれば、融点１４９〜１５１
℃（分解）を示スジフェニルメチル−７−（２−（２−
ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−（シン）−
メトキシイミノアセトアミド〕−３−（（１−（２，４
−ジメチル−６−オキソー１．６−シヒドロビリミジニ
ル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー
ト０．７９ｔ（収率７６．０チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１；　ｙｃ−ｏ　１７８０．１７
２０．１６８５，１６７ＯＮＭＲ（ｄ８−ＤＭＳＯ）δ
値； ２．３６　（３Ｈ−Ｂ　、Ｎ）ＣＨｓ　）　−２，６３
（３Ｈ、ｓ　−Ｎ）ＣＨｓ　）　＃ａ、５４　（２Ｈ、
ｈａ　ａ　Ｃｚ　−Ｈ）　＋８．９６　（３ＩＬ　Ｂ、
−０ＣＨ３）　。

５．２６（２Ｈ，ｂｍ、美虫−）・ ５．３１（Ｉ　Ｈ＝　ｄ　、に５Ｈｚ　−Ｃ６Ｈ）　＋
８．６２　（１ｕ、ａ　、ＨＣＯ−）　。

９．９１　（ＩＨ＝　６−Ｊ−８Ｈ２、−〇〇ＮＨ−）
１２．６５（ｉｎ、　ｂｓ　、−ＣＯＮＨ−）（３）　
（２）で得られたジフェニルメチル＝７−（２−（２−
ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−（シン）−
メトキシイミノアセトアミド）−３−（［１−（２，４
−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロビリミジニ
ル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー
）０．７Ｆをメタノール５ｔｔｔｌに溶解させ、濃塩酸
０．２５ｄを加え３５〜４０℃で２時間反応させる。

反応終了後、反応液を酢酸エチル２０ｍ１および水２０
ｄ　の混合溶媒中・へ導入し、炭酸水素ナトリウムを加
えてｐｕｏ、ｏに調整する。ついで有機層を分取し、水
２０ゴで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する
。減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを
加えて結晶をＦ取ずれば、融点１４５〜１４７℃（分Ｍ
）を示すジフェニルメチル＝７−（２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（シン）−メトキシイミノ
アセトアミド〕−３−（［１−（２，４−ジメチル−６
−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）
−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー）０．５４Ｆ（
収率８０．６％）を得る。尚この化合物の物性（ＸＲお
よびＮＭＲ値）は実施例３−（ａ）で得られたものと一
致した。

実施例５ ＋１）　２−　（２−）リチルアミノチアゾールー４−
イル）−全一（シン）　−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルメトキシイミノ酢Ｒｏ、６ｓｔｆｉ−Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド８．２５−に溶解させ、−１０℃でオキ
シ塩化燐０．１９Ｆを滴下し、−５〜θ℃で１時間反応
させる。ついでジフェニルメチル＝７−アミノ−３−（
（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒ
ドロピリミシニル）〕メチル）−Δ３−＋フエムー４−
カルポキシレー）０．５Ｆを加え、０〜５℃で２時間反
応させる。反応終了後、反応液を酢酸エチル５０ＩＲｔ
および水５０ｄの混合溶媒中へ導入し、有機層を分取し
水３０−で洗浄した後、・無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。ついで減圧下に溶媒を留去し、残留物をカラムク
ロマトグラフィー（和光シリカゲルＣ−２００，溶離液
；ベンゼン：酢酸エチル＝３２１　）で精製すれば、融
点１０９〜１１３℃（分解）を示すシフーエニルメチル
”７−（：２−（２−）リチルアミノチアゾールー４−
イル）−２−（シン）−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
メトキシイミノアセトアミド）−３−（（１−（２，４
−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニ
ル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー
トｏ、７７ｔｃ収率７４．８チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−ｔ　；νｃ＝ｏ　１７Ｂ５，１７
２５＊１６７ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩＩＩ　）δ値； １．４５（９Ｈ，ｓ、−Ｃ（ＣＨｓ）ｓ）。

２．０８　（３Ｈ＃　８　＃　、）−ＣＨＩ　）　。

２．２３（３に、、、ＮとＣＨ３）　。

８．０７−８．４４　（２Ｈ，ＡＢｑ　、Ｊ＝１８Ｈｚ
　、＜、−ｎ）　。

４．８０　（２Ｈ，、、−０ＣＲ，Ｃｏ−）　。

５．０５　、’５．５８　（２Ｈ、ＡＢ　Ｑ−Ｊ＝１５
Ｈ２−８）−Ｃ１ｈ　−）　。

５．０８　（ＩＨｅ　６−Ｊ＝５Ｈｚ　、Ｃ６−Ｈ）　
。

６．８９（ＩＨ，、、−ＣＨぐ）。

７．０７（ＩＨ♂ス） ７．１８〜７．６２　（２５Ｈ、■、つ×５）。

８−１８　（ＩＨ−ｂｓ　、−ＨＮ＜、　）　＋８．９
９（ＩＨ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、−ＣＯＮＨ−）＋２）　＋
１）で得られたジフェニルメチル＝７−［２−〔２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−（シン）　
−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノア七ド
アミド）−３−（［１−（２，４−ジメチル−６−オキ
ソ−１，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３
−セフエムー４−カルボキシレー）０．７ｆｔ）リフル
オロ酢酸８．５−およびアニソール１．４ｍｅの混合溶
媒に溶解させ、室温で１時間反応させる。反応終了後、
減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加
えて結晶を戸数する。ついでこの結晶を５０チギ酸水溶
液５ｄＫ溶解させ、４０〜５０℃で１時間反応させる。

反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢゛酸エ
チルを加えて結晶を戸取する。酢酸エチルで十分洗浄し
乾燥すれば、融点１１３〜１１６℃（分解）を示す７−
（２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（シ
ン）−カルボキシメトキシイミノアセトアミド〕−３−
（（１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−１，６−シ
ヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４
−カルボン酸ツキＩＩＩ　塩０．３９ｆ（収率９２．９
チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−ｘ；ｐｃ＝ｏ　１７７０．１７２
０〜１６２ＯＮＭＲ（ｄ６−ＤＭ、ＳＯ）δ値； ’２ｒ−２０（”　、ｓ　；　Ｎ＞−Ｃ”ａ　−Ｎとｃ
Ｉ（、）。

８．３４　（２Ｈｅ　ｂ　ａ　１ＣｒＨ）　−４，７０
（２Ｈ、ｓ　、−ＯＣＨ鵞ｃｏ−）。

５−０５　、５．３８　（２Ｈ、ＡＲｑ　ｅＪ＝１５Ｈ
ｚ　−’、’−偽）　。

５．２１　（ＩＨ，６Ｊ＝５Ｈｚ　、Ｃ＠−Ｈ）　−９
，０９（３ｆ１．ｂｓ、温３）。

９．６９　（ＩＨ，６、Ｊ−８Ｈｚ　、−ＣＯＮＨ−）
実施例６ （１）　２−　（２−ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキ
サミトチアゾール−４−イル）酢酸１ｔを無水塩化メチ
レン２Ｍに溶解させ、Ｎ−メチルモルホリン０．４１ｆ
を加えて一３０℃に冷却する。

ついでクロル炭酸エチル０．４２ｆヲ加工、−５０〜−
２０℃で１時間反応させた後、ジフェニルメチル＝７−
アミルｉ−（［１−（２，４−ジメチル−６−オキソ−
１，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３−セ
フェムー４−カルポキシレー）１．８５Ｆを加え、−１
０〜θ℃で２時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶
媒を留去し、残留物に酢酸エチル３０ｍおよび水３０ゴ
を加える。有゛機層を分取し再び水３０ｄを加え、炭酸
水素ナトリウムを加えてｐＨ７，０に調整する。有機層
を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した□後渡圧下
に溶媒を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶を戸数すれば、融点１１５〜１１９℃（分解）を示す
ジフェニルメチル＝７□−［２−（２−ｔｅｒｔ−アミ
ルオキシカルボキサミトチアゾール−４−イル）アセト
アミド）−３−（（１−（２，４−ジメチル−６−オキ
ソ−１，６−シヒドロピリミジニル）〕メチル）−Δ３
−セフェムー４−カルボキシレートｓ、１ｏｉ（収率７
５．５％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１；　ｖｃ＝ｏ　１７６５．１７
］、５．１６６５＊ｊ１１Ｒ（ｃｎｃｌｓ）δ値； ２．０４（３Ｈ山Ｎ＞Ｃ馬）。

２．２５　（３Ｈ，８，＞ＣＨ，）　。

８．２６（２Ｈ；ｂ、、ｃ、−Ｈ）。

８．７８（２）ｉ、ｓ、”、ｌｒ虫力。

４．９８　（ＩＨ，６、Ｊ−５Ｈｚ　、Ｃ６−Ｈ）　。

４＋、９９．５．６０　（２Ｈ’−ＡＢ　Ｑ　、Ｊ＝１
５Ｈｚ　−８＞’　ＣＨｌ　）　。

５．９９　（Ｉ　ＩＩ　＝　ｄｄ　−Ｊ＝５Ｈｚ　−Ｊ
　＝＝ｇｌ（ｚ　、Ｃ７−Ｈ）　＃６．３２（ｌｉｉ、
ｓ、　”Ａｎ）。

６．７６（ＩＨ＝ｓ−シミ）。

ｑ、ｏ７Ｃｘｍｍｓａ−ｃｍ、　）Ｃ ７，２９〜７，６２で１０１１山＠ｘ２）。

８．１４（ＩＨ，６，Ｊ８Ｈ２，−ＣＯＮＨ−）。

１０．３５　（１）ｆ、ｂｓ　、−ＣＯＮＫ−）＋２１
　（１１で得られたジフェニルメチル＝７−［２（２−
ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボキサミトチアゾール−４
−イル）アセトアミド〕−３−（［１−（２，４−ジメ
チル−６−オキソ−１，６−シヒドロビリミジニル）〕
ジメチル−Δ３−セフェムー４−カルボキシレー）　１
．Ｏｆをトリフルオロ酢酸５　ｍｌおよびアニソ７−ル
２ｄの混合溶媒中に溶解させ、室温で２時間反応させる
。反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジエチ
ルエーテルを加えて結晶を戸数すれば、融点９６〜１０
２°Ｃ（分解）を示す７−［２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド）−３−（［１−（２，４
−ジメチル−６−オキソ−１，６−シヒドロピリミジニ
ル）〕ジメチル−Δ３−セフェムー４−カルボン酸のト
リフルオロ酢酸塩０．７１Ｆ（収率９１．０％）を得る
。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１ｉ　ｖｃ−ｏ　１７７５．１７
３０．１６９０．１６７０２．２２（３Ｈ，ａ、　、＞
傭３）。

２．５０　（３Ｈ＊　ａ　＊　Ｈ＞ＣＨｓ）＋８．４０
　（２Ｈ９ｂｓ、Ｃ１Ｈ）　。

５．２５　（３ｎ　、ｂｓ　、ｓＱ　惺−、Ｃ１１−Ｈ
）　。

５．８１　（Ｉ　Ｈ、ｅｉ　ｄ　−Ｊ＝５　Ｈｚ　、Ｊ
’＝＝３［ｚ　ｅ　Ｃ７−）Ｉ　）　。

６．３９（ＩＨ山襖Ｈ）。

６．８１　（ＩＨ、ＩＩ　、Ｎ５Ｔｌ（）。

９、４　ｏ　（ｌｘｉ　、ａ　、ＪＩＨｚ　、−ＣＯＮ
Ｈ−）第１頁の続き ０発　明　者　才用勇 富山市大泉中町７−５２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　−ｆｆ＆　、３ で表わされるセファロスポリンおよびその塩類。 （２）　Ｒ”が水素原子である特許請求の範囲用（１）
   項記載の→ζζフロスボリンおよびその塩類。 （３）　Ｒ’が水素原子である特許請求の範囲第（１）
   またｔｒｉ　（２）　項記載のセファロスポリンおよび
   その塩類。 （４）　Ｒ’がアミノ基である特許請求の範囲第＋１）
   〜（３）項いずれかの項記載のセファロスポリンおよび
   その塩類。 た意味を有する６）で表わされる基である＠鍔午請求の
   範囲第（１）〜（４）項いずれかの項記載のセファロス
   ポリンおよびその塩類。 （６）　Ｒ１２が置換されていてもよいアルキル基であ
   る特許請求の範囲第（１）〜（５）項いずれかの項記載
   のセファロスポリンおよびその塩類。 ゝＯＣＲ。 で表わされる基である特許請求の範囲第＋１）〜（６）
   項いずれかの項記載のセファロスポリンおよびその塩類
   。 ’ＯＣＨ＊Ｃ０ＯＲ’ であり　１１は前記した意味を有する。）で表わされる
   基である特許請求の範囲第（１）〜（６）項いずれかの
   項記載のセファロスポリンおよびその塩前記した意味を
   有する。）で表わされる基である特許請求の範囲第（１
   ）〜（８）項いずれかの項記載のセファロスポリンおよ
   びその塩類。 ある特許請求の範囲第（１）〜（８）項いずれかの項記
   載のセファロスポリンおよびその塩類。 ａυ　７−（２−（２−７ミノチアゾールー４−イル）
   −２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−３−
   （［１−（６−オキソ−１，６−シヒドロビリミジニル
   ）〕メチル）−Δ３−七フエムー４−カルボン酸、その
   エステルまたｈそれらの塩である特許請求の範囲第（９
   ）項記載の化金物。 （１２＋　７−（２−（２−ア“ε−ソノチアゾール−
   ４−イル−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド
   ）−３−（［１−（２−メチル−６−オキソ−１，６−
   シヒドロビリミジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー
   ４−カルボン酸、そのエステルまたはそれらの塩である
   特許請求の範囲第０）項記載の化合物。 μ３１　７−（２−（２、τアミノチアゾールー４−イ
   ル）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−
   ３−（［１−（４−メチル−６−オギンー１，６−シヒ
   ドロビリきジニル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−
   カルボン酸、そのエステルまたはそれらの塩である特許
   請求の範囲第（１１項記載の化合物。 （１４７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
   −２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド］−ａ−
   （［−（２，４−ジメチル−６−オ゛キソ−１，６−シ
   ヒドロピリミジニル）］メチル）−Δ３−セフェムー４
   −カルボン酸、ソのエステル捷たはそれらの塙である特
   許請求の範囲第Ｏ）項記載の化合物。 （ｉω　７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
   ）−２−（シン）−カルボキシメトキシイミノアセトア
   ミド）　−ａ　−（（１−（２，４−ジメチル−６−オ
   キソ−１，６−シヒドロビリミジエル）〕メチル）−Δ
   ３−セフェムー４−カルボン°　酸、そのエステルまた
   はそれらの塩である特許請求の範囲第ｅ）項記載の化合
   物。 α６）　７−（２−（２−アミノチアゾール−４−イル
   ）−２−（シン）−メトキシイミノアセトアミド）−３
   −（［１−（２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジニ
   ル）〕メチル）−Δ３−セフェムー４−カルボン酸、そ
   のエステルまたはそれらの塩である特許請求の範囲第（
   １１項記載の化合物。