JPS62158288A - 新規セフエム誘導体 - Google Patents
新規セフエム誘導体Info
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- JPS62158288A JPS62158288A JP60296998A JP29699885A JPS62158288A JP S62158288 A JPS62158288 A JP S62158288A JP 60296998 A JP60296998 A JP 60296998A JP 29699885 A JP29699885 A JP 29699885A JP S62158288 A JPS62158288 A JP S62158288A
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- Japan
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- compound
- general formula
- ester
- acid
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なセフェム誘導体に関し、さらに詳しくは
、一般式(1) 〔式中 R1はアミノ基または保護されたアミノ基を、
Rはエステル化されたカルボキシ基を、nは0またはl
を表わす。〕 で示される新規セフェム誘導体およびその塩に関する。
、一般式(1) 〔式中 R1はアミノ基または保護されたアミノ基を、
Rはエステル化されたカルボキシ基を、nは0またはl
を表わす。〕 で示される新規セフェム誘導体およびその塩に関する。
一般式(1)において、Rで示されるエステル化された
カルボキシル基のエステルとしては、例えばアルカノイ
ルオキシアルキルエステル、アルコキシカルボニルオキ
シアルキルエステルなどをあげることができる。
カルボキシル基のエステルとしては、例えばアルカノイ
ルオキシアルキルエステル、アルコキシカルボニルオキ
シアルキルエステルなどをあげることができる。
査3凸
ここでR3は水素原子、アルキル基またはシクロアルキ
ル基であり、Rはアルキル基またはシクロアルキル基で
ある。R,Rのアルキル基は、直鎖拭もしくは分岐状の
、たとえば炭素数l〜12のアルキル基であり、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル基などが用いら
れる。R、Rのシクロアルキル基は、炭素数8〜12の
シクロアルキル基であり、たとえば、シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデ
シル、シクロウンデシル、シクロドデシル基などが用い
られる。
ル基であり、Rはアルキル基またはシクロアルキル基で
ある。R,Rのアルキル基は、直鎖拭もしくは分岐状の
、たとえば炭素数l〜12のアルキル基であり、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチ
ル、イソペンチル、ネオペンチル、tert−ペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル基などが用いら
れる。R、Rのシクロアルキル基は、炭素数8〜12の
シクロアルキル基であり、たとえば、シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデ
シル、シクロウンデシル、シクロドデシル基などが用い
られる。
上記エステルの具体例として、アルカノイルオキシアル
キルエステルとしては、たとえば、アセトキシメチルエ
ステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリル
オキシメチルエステル、イソブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル
、1−アセトキシエチルエステル、l−プロピオニルオ
キシエチルエステル、l−ピバロイルオキシエチルエス
テル、l−アセトキシプロピルエステル等があげられる
。また、アルコキシカルボニルオキシアルキルエステル
としては、たとえば、メトキシカルボニルオキシメチル
エステル、l−メトキシカルボニルオキシエチルエステ
ル、1−メトキシカルボニルオキシプロビルエステル、
エトキシカルボニルオキシメチルエステル、プロピルオ
キシカルボニルオキシメチルエステル、l−エトキシカ
ルボニルオキシエチルエステル、■−プロピルオキシカ
ルボニルオキシエチルエステル等があげられる。
キルエステルとしては、たとえば、アセトキシメチルエ
ステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリル
オキシメチルエステル、イソブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル
、1−アセトキシエチルエステル、l−プロピオニルオ
キシエチルエステル、l−ピバロイルオキシエチルエス
テル、l−アセトキシプロピルエステル等があげられる
。また、アルコキシカルボニルオキシアルキルエステル
としては、たとえば、メトキシカルボニルオキシメチル
エステル、l−メトキシカルボニルオキシエチルエステ
ル、1−メトキシカルボニルオキシプロビルエステル、
エトキシカルボニルオキシメチルエステル、プロピルオ
キシカルボニルオキシメチルエステル、l−エトキシカ
ルボニルオキシエチルエステル、■−プロピルオキシカ
ルボニルオキシエチルエステル等があげられる。
一般式(1)の化合物は、酸との塩を形成することがで
きる。その酸付加塩の好ましい酸としては、たとえば塩
酸、硫酸、リン酸などの無機酸、たとえばギ酸、酢酸、
マレイン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機カルボン酸
または有機スルホン酸などがあげられる。
きる。その酸付加塩の好ましい酸としては、たとえば塩
酸、硫酸、リン酸などの無機酸、たとえばギ酸、酢酸、
マレイン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機カルボン酸
または有機スルホン酸などがあげられる。
一般式CI)の7位側鎖部分
CH3
にはシン体、アンチ体の幾何異性体が存在するが、好ま
しい化合物はシン体である。
しい化合物はシン体である。
一般式(1)の化合物またはその塩においてアミノチア
ゾール基は、その互変異性体であるイミノチアゾリン基
として存在することもある。
ゾール基は、その互変異性体であるイミノチアゾリン基
として存在することもある。
一般式(1)の化合物またはその塩において、セフェム
骨格の4位のエステル部分に不斉炭素が存在する場合に
は、これに基づく二種の光学異性体が存在する。通常は
それらの光学異性体の混合物が用いられる。
骨格の4位のエステル部分に不斉炭素が存在する場合に
は、これに基づく二種の光学異性体が存在する。通常は
それらの光学異性体の混合物が用いられる。
近年感染症の治療薬としてセフェム系抗生物質の開発は
めざましく、抗菌力も強くしかも広範囲の抗菌スペクト
ルを有する化合物が市販されている。しかし、これらの
化合物はいずれも経口投与した際にはほとんど吸収され
ず、注射でのみ効果をあげることができる。
めざましく、抗菌力も強くしかも広範囲の抗菌スペクト
ルを有する化合物が市販されている。しかし、これらの
化合物はいずれも経口投与した際にはほとんど吸収され
ず、注射でのみ効果をあげることができる。
経口投与用のセフェム系抗生物質としては、セファレキ
シン、セファトリジン、セファクロール等の化合物が治
療に供されているが、これらは抗菌力がやや弱く、また
抗菌スペクトルがやや狭く、またベーターラクタメース
を産生する耐生菌には無効であるために、更にこれらに
対して改善された化合物の出現が望まれている。
シン、セファトリジン、セファクロール等の化合物が治
療に供されているが、これらは抗菌力がやや弱く、また
抗菌スペクトルがやや狭く、またベーターラクタメース
を産生する耐生菌には無効であるために、更にこれらに
対して改善された化合物の出現が望まれている。
一方、ペニシリン系化合物においてはそのカルボン酸を
エステル化し、いわゆるプロドラッグとして経口吸収性
を高めた化合物が臨床に供されている。すなわちエステ
ル化された化合物は、生体内に吸収された後たとえば血
清、体内組織中に存在する酵素により加水分解され、も
とのカルボン酸の鋭化合物となって効果を発揮すると考
えられている。同様の試みはセファロスポリン系化合物
においてもなされているが、今までのところ十分な経口
吸収性をもった化合物は市販されていない。
エステル化し、いわゆるプロドラッグとして経口吸収性
を高めた化合物が臨床に供されている。すなわちエステ
ル化された化合物は、生体内に吸収された後たとえば血
清、体内組織中に存在する酵素により加水分解され、も
とのカルボン酸の鋭化合物となって効果を発揮すると考
えられている。同様の試みはセファロスポリン系化合物
においてもなされているが、今までのところ十分な経口
吸収性をもった化合物は市販されていない。
すなわちペニシリン系化合物において経口吸収性を高め
るのに有効であったある種のエステル基は、セファロス
ポリン系化合物において同様に有効であるとは限らない
。
るのに有効であったある種のエステル基は、セファロス
ポリン系化合物において同様に有効であるとは限らない
。
本発明酋らは、セファ0スポリン糸上合物のプロドラッ
グによる経口吸収の改善について研究を積み重ねてきた
が、経口吸収性は全く予想しえず、選ばれた粗化合物お
よびエステル部分の構造、性質に太き(依存することが
わかった。
グによる経口吸収の改善について研究を積み重ねてきた
が、経口吸収性は全く予想しえず、選ばれた粗化合物お
よびエステル部分の構造、性質に太き(依存することが
わかった。
本発明は、かかる知見をこ基づいて完成されたものであ
り、前記一般式(1)で示される本発明化合物のうちn
がOであり%R1がアミノ基であり、R2がエステル化
されたカルボキシル基である化合物は、類似の構造を有
する公知化合物からは予測できない高い経口吸収性等を
もつ優れた化合物である。経口吸収された後は R2が
カルボキシル基である粗化合物となって効果を発揮する
と考えられる。この粗化合物は、尿中への移行性が高い
ことも特徴のひとつである。一般式(1)で示される化
合物のうち、nが0であす、 R1がアミノ基であり
R2がカルボキシル基である粗化合物は、ダラム陽性菌
、ダラム陰性閑に対して強い抗菌活性を有すると共にベ
ーターラクタメース産生の耐性菌に対しても強い抗菌活
性を有する有用な化合物である。本発明のエステル化合
物は、かかる有用な化合物を経口で投与してその効果を
発揮させるようにしたもので、細菌感染症の予防および
治療薬として、きわめて価値ある化合物である。
り、前記一般式(1)で示される本発明化合物のうちn
がOであり%R1がアミノ基であり、R2がエステル化
されたカルボキシル基である化合物は、類似の構造を有
する公知化合物からは予測できない高い経口吸収性等を
もつ優れた化合物である。経口吸収された後は R2が
カルボキシル基である粗化合物となって効果を発揮する
と考えられる。この粗化合物は、尿中への移行性が高い
ことも特徴のひとつである。一般式(1)で示される化
合物のうち、nが0であす、 R1がアミノ基であり
R2がカルボキシル基である粗化合物は、ダラム陽性菌
、ダラム陰性閑に対して強い抗菌活性を有すると共にベ
ーターラクタメース産生の耐性菌に対しても強い抗菌活
性を有する有用な化合物である。本発明のエステル化合
物は、かかる有用な化合物を経口で投与してその効果を
発揮させるようにしたもので、細菌感染症の予防および
治療薬として、きわめて価値ある化合物である。
更にまた、本発明化合物のうちnが1であるスルホキシ
ド化合物は、後述するように、上記のR2がエステル化
されたカルボキシル基であるエステル化合物を製造する
際の中間体として有用である。
ド化合物は、後述するように、上記のR2がエステル化
されたカルボキシル基であるエステル化合物を製造する
際の中間体として有用である。
次に、本発明セフェム系化合物の製法について説明する
。
。
本発明化合物は、その方法自体は公知の方法に従って製
造することができる。例えば下記の(a)、Φ) 、
(C)の方法で製造することができる。
造することができる。例えば下記の(a)、Φ) 、
(C)の方法で製造することができる。
(a) 一般式(I[l)
(式中、nは前述に同じ。R3は前述R2と同じ意味を
有するか、またはカルボキシル基もしくはその塩または
保護されたカルボキシル基を示す。) で表わされる7−アミノ−8−(1,2,4−チアジア
ゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カ
ルボン酸誘導体ヲ、一般式(n) CHa で表わされる化合物でアシル化し、必要に応じて保護基
の除去、カルボキシル基のエステル化を行う方法。
有するか、またはカルボキシル基もしくはその塩または
保護されたカルボキシル基を示す。) で表わされる7−アミノ−8−(1,2,4−チアジア
ゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カ
ルボン酸誘導体ヲ、一般式(n) CHa で表わされる化合物でアシル化し、必要に応じて保護基
の除去、カルボキシル基のエステル化を行う方法。
φ)一般式(ff)
(式中、Rおよびnは前述に同じ。Xは一0COCH3
またはハロゲン原子を示す。)で表わされる化合物の3
位Xを8−(置換もしくは無置換)−1,2,4−チア
ジアゾール−5−チオール体で求核置換する方法。
またはハロゲン原子を示す。)で表わされる化合物の3
位Xを8−(置換もしくは無置換)−1,2,4−チア
ジアゾール−5−チオール体で求核置換する方法。
(C) 本発明化合物(1)の7位アシル基を他のア
シル基から誘導する方法。
シル基から誘導する方法。
以下に、上述の方法(a) 、 (b)および(C)を
更に詳細に説明する。
更に詳細に説明する。
(a) 一般式(It)で表わされるカルボン酸また
はその反応性誘導体と、一般式(III)で表わされる
化合物またはその塩とを反応させることにより一般式(
I′) (式中、n+ R’およびR3ば前述に同じ。)で表わ
される化合物またはその塩を得ることができる。更に、
Rで示される基がカルボキシル基またはその塩であると
きは、必要に応じて該化合物をエステル化することによ
って、前記一般式(1)で示される本発明化合物を得る
ことができる。また、Rで示される基が保護されたカル
ボキシル基であるときは、該化合物の保獲基を除去した
後、必要に応じてエステル化する。
はその反応性誘導体と、一般式(III)で表わされる
化合物またはその塩とを反応させることにより一般式(
I′) (式中、n+ R’およびR3ば前述に同じ。)で表わ
される化合物またはその塩を得ることができる。更に、
Rで示される基がカルボキシル基またはその塩であると
きは、必要に応じて該化合物をエステル化することによ
って、前記一般式(1)で示される本発明化合物を得る
ことができる。また、Rで示される基が保護されたカル
ボキシル基であるときは、該化合物の保獲基を除去した
後、必要に応じてエステル化する。
一般式(n)で示される化合物の反応性誘導体とは、一
般式(m)で示される化合物とアミド結合を形成するこ
とができるカルボキシル基の反応性誘導体を意味し、例
えば酸ハライド、酸無水物、酸アゾリド、活性エステル
、酸アジド等があげられる。更に詳述すればジアルキル
リン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジ
ルリン酸、ジアルキル亜リン酸、メタンスルホン酸、ト
ルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アルキル炭
酸、脂肪族カルボン酸(例えば、ピパリン酸、ペンタン
酸、イソペンタン酸、2−エチルブタン酸)、芳香族カ
ルボン酸の如き酸との混合酸無水物あるいは対称形酸無
水物;イミダゾール、置換イミダゾール、ジメチルピラ
ゾール、トリアゾール、テトラゾール等との酸アゾリド
;シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、p
−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニル
エステル、トリクロルフェニルエステル、ペンタクロル
フェニルエステル、メタンスルホニルフェニルエステル
、フェニルチオフェニルエステル、p−ニトロフェニル
チオエステル、パラクレジルチオエステル、カルボキシ
メチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエス
テル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステル
、またはN 、 N’−ジメチルヒドロキシルアミン、
1−ヒドロキシ−2(If−1)−ピリドン、N−ヒド
ロキシサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、
もしくはヒドロキシベンツトリアゾールとのエステル等
の如き活性エステル類があげられる。
般式(m)で示される化合物とアミド結合を形成するこ
とができるカルボキシル基の反応性誘導体を意味し、例
えば酸ハライド、酸無水物、酸アゾリド、活性エステル
、酸アジド等があげられる。更に詳述すればジアルキル
リン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジ
ルリン酸、ジアルキル亜リン酸、メタンスルホン酸、ト
ルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アルキル炭
酸、脂肪族カルボン酸(例えば、ピパリン酸、ペンタン
酸、イソペンタン酸、2−エチルブタン酸)、芳香族カ
ルボン酸の如き酸との混合酸無水物あるいは対称形酸無
水物;イミダゾール、置換イミダゾール、ジメチルピラ
ゾール、トリアゾール、テトラゾール等との酸アゾリド
;シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、p
−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニル
エステル、トリクロルフェニルエステル、ペンタクロル
フェニルエステル、メタンスルホニルフェニルエステル
、フェニルチオフェニルエステル、p−ニトロフェニル
チオエステル、パラクレジルチオエステル、カルボキシ
メチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエス
テル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステル
、またはN 、 N’−ジメチルヒドロキシルアミン、
1−ヒドロキシ−2(If−1)−ピリドン、N−ヒド
ロキシサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、
もしくはヒドロキシベンツトリアゾールとのエステル等
の如き活性エステル類があげられる。
また、一般式C11)で示される化合物を遊離酸(もし
くはその塩)の状態で使用する際は、結合AUの存在下
でアミド化反応を実施することができる。結合剤として
は、たとえばN。
くはその塩)の状態で使用する際は、結合AUの存在下
でアミド化反応を実施することができる。結合剤として
は、たとえばN。
N′−ジシクロへキシルカルボジイミド、N−シクロへ
キシル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド、N−
シクロへキシル−N′−(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジ
イミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N
−エチル−*−Ca−ジメチルアミノプロピル)カルボ
ジイミド、N、N’−カルボニルビス(2−メチルイミ
ダゾール)、ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシ
ルイミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミ
ン、アルコキシアセチレン、1−アルコキシ−l−クロ
ルエチレン、虫1リン酸トリアルキルエステル、ポリリ
ン酸エチルエステル、ポリリン酸イソプロピルエステル
、オキシ塩化リン、三塩化リン、増化チオニル、オキサ
、リルクロライド、トリフェニルホスフィン、2−エチ
ル−7−ヒトロキシベンズイソキサゾリウム珈、2−エ
チル−5−(m−スルホニルンイソキサゾリウムヒドロ
キサイト分子内塩、(クロロメチレン)ジメチルアンモ
ニウムクロライド、オキシ塩化リンおよびジメチルポル
ムアミドから製造される化合物等のビルスマイヤー試薬
等をあげることができる。
キシル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド、N−
シクロへキシル−N′−(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジ
イミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N
−エチル−*−Ca−ジメチルアミノプロピル)カルボ
ジイミド、N、N’−カルボニルビス(2−メチルイミ
ダゾール)、ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシ
ルイミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミ
ン、アルコキシアセチレン、1−アルコキシ−l−クロ
ルエチレン、虫1リン酸トリアルキルエステル、ポリリ
ン酸エチルエステル、ポリリン酸イソプロピルエステル
、オキシ塩化リン、三塩化リン、増化チオニル、オキサ
、リルクロライド、トリフェニルホスフィン、2−エチ
ル−7−ヒトロキシベンズイソキサゾリウム珈、2−エ
チル−5−(m−スルホニルンイソキサゾリウムヒドロ
キサイト分子内塩、(クロロメチレン)ジメチルアンモ
ニウムクロライド、オキシ塩化リンおよびジメチルポル
ムアミドから製造される化合物等のビルスマイヤー試薬
等をあげることができる。
この様に、一般にペプチド化学、ペニシリン、セファロ
スポリン化学、またはその他の分野において使用される
アミド化方法が本発明では使用される。
スポリン化学、またはその他の分野において使用される
アミド化方法が本発明では使用される。
TtF化の際、一般式(II)のアミノ基ハ、アミド化
法によっては、保護されている方が好ましい。アミノ基
の保護基としては、公知のアミノ基の保護基、たとえば
ホルミル基、t−ブトキシカルボニル基、トリチル基、
クロルアセチル基、トリクロロエトキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル基などが用いられる。
法によっては、保護されている方が好ましい。アミノ基
の保護基としては、公知のアミノ基の保護基、たとえば
ホルミル基、t−ブトキシカルボニル基、トリチル基、
クロルアセチル基、トリクロロエトキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル基などが用いられる。
−e式(ffl)のカルボキシル基の塩としては、例え
ばナトリウム、カリウム、カルシウムといったアルカリ
金属もしくはアルカリ土類金類との塩;例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、キノリン塩、コリジン塩
といった有機塩基との塩があげられる。
ばナトリウム、カリウム、カルシウムといったアルカリ
金属もしくはアルカリ土類金類との塩;例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、キノリン塩、コリジン塩
といった有機塩基との塩があげられる。
一般式(@においてRとしては前述のRで例示したエス
テル体の他に、エステル化またはアミド化されて保護さ
れたカルボキシル基があげられる。保護されたカルボキ
シル基はアシル化反応後、たとえば酸性または弱アルカ
リ性媒質中で加水分解またはアルコリシス、水素添加分
解、還元、酸化、親核的置換、光反応、または酵素反応
によって、容易に分解して遊煕のカルボン酸を与えるよ
うな基が望ましい。そのような保護されたカルボキシル
墓誌導体としてはシリルエステル、有機スズエステル、
トルエンスルホニルエチルエステル、バラニトロベンジ
ルエステル、ジフェニルメチルエステル、トリチルエス
テル、トリクロルエチルエステル、フタルイミドメチル
エステル、2−ニトロベンジルエステル、2.2−ジニ
トロベンジルエステルなど、公知のカルボン酸の保護基
があげられる。シリルエステルの際にはシリル化するこ
とが可能な部位、即ちアミノ基がシリル化されていても
よい。またアミノ基は、トルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、テトラリンスルホン酸の如き有機スルホ
ン酸と、あるいは、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸と塩を
形成していてもよい。
テル体の他に、エステル化またはアミド化されて保護さ
れたカルボキシル基があげられる。保護されたカルボキ
シル基はアシル化反応後、たとえば酸性または弱アルカ
リ性媒質中で加水分解またはアルコリシス、水素添加分
解、還元、酸化、親核的置換、光反応、または酵素反応
によって、容易に分解して遊煕のカルボン酸を与えるよ
うな基が望ましい。そのような保護されたカルボキシル
墓誌導体としてはシリルエステル、有機スズエステル、
トルエンスルホニルエチルエステル、バラニトロベンジ
ルエステル、ジフェニルメチルエステル、トリチルエス
テル、トリクロルエチルエステル、フタルイミドメチル
エステル、2−ニトロベンジルエステル、2.2−ジニ
トロベンジルエステルなど、公知のカルボン酸の保護基
があげられる。シリルエステルの際にはシリル化するこ
とが可能な部位、即ちアミノ基がシリル化されていても
よい。またアミノ基は、トルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、テトラリンスルホン酸の如き有機スルホ
ン酸と、あるいは、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸と塩を
形成していてもよい。
更に詳述すれば一般式(n)で示される化合物と一般式
佃)で示される化合物との反応に使用される不活性な溶
媒としては、ジクロルメタン、クロロホルム、アセトン
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、
メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド、スルホランといった極性溶
媒、またはヘンセン、トルエン、石油エーテル、n−ヘ
キサンといった非極性溶媒、あるいはそれらの混合温媒
が使用される。場合によってはそれらの含水混合温媒も
使用することができる。
佃)で示される化合物との反応に使用される不活性な溶
媒としては、ジクロルメタン、クロロホルム、アセトン
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、
メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド、スルホランといった極性溶
媒、またはヘンセン、トルエン、石油エーテル、n−ヘ
キサンといった非極性溶媒、あるいはそれらの混合温媒
が使用される。場合によってはそれらの含水混合温媒も
使用することができる。
一般式(n)で示されるカルボン酸またはその反応性誘
導体と一般式([1)で示される化合物またはその塩、
またはその誘導体との反応温度は任急の温度が設定でき
るが、通常は50’C以下である。
導体と一般式([1)で示される化合物またはその塩、
またはその誘導体との反応温度は任急の温度が設定でき
るが、通常は50’C以下である。
以上のようにして前記一般式(1)で示される化合物を
製造することができる。ここでR3で示される基が、カ
ルボキシル基またはその塩である場合には、該化合物を
エステル化剤と反応させることにより、前記一般式(1
)においてR2で示される基がエステル化されたカルボ
キシル基である本発明化合物を製造することができる。
製造することができる。ここでR3で示される基が、カ
ルボキシル基またはその塩である場合には、該化合物を
エステル化剤と反応させることにより、前記一般式(1
)においてR2で示される基がエステル化されたカルボ
キシル基である本発明化合物を製造することができる。
エステル化反応は、それ自体公知の方法で行うことがで
きる。たとえば、一般式(1)においてR3で示される
基がカルボキシ、ル基のアルカリ金属塩である化合物と
、エステルを形成するアルコール部分に対応するハロゲ
ン体(好ましくはヨウ素、ブロムまたはクロル体)とを
不活性溶媒中で反応させてエステル化合物を製造するこ
とができる。このとき、クラウンエーテルの存在下また
は相間移動触媒の存在下でエステル化を実施する方法等
の公知の方法が使用できる。また、本エステル化反応は
塩基の存在下に実施するのが有利であり、塩基としては
例えばトリエチルアミンのような有機塩基あるいは例え
ば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような無機塩基等が
有利に使用される。
きる。たとえば、一般式(1)においてR3で示される
基がカルボキシ、ル基のアルカリ金属塩である化合物と
、エステルを形成するアルコール部分に対応するハロゲ
ン体(好ましくはヨウ素、ブロムまたはクロル体)とを
不活性溶媒中で反応させてエステル化合物を製造するこ
とができる。このとき、クラウンエーテルの存在下また
は相間移動触媒の存在下でエステル化を実施する方法等
の公知の方法が使用できる。また、本エステル化反応は
塩基の存在下に実施するのが有利であり、塩基としては
例えばトリエチルアミンのような有機塩基あるいは例え
ば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような無機塩基等が
有利に使用される。
エステル化剤としてアルコールが使用される場合には、
反応は縮合剤の存在下に行うことが好ましい。そのよう
な縮合剤の例としては、たとえばN、N’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジイ
ミド、N−シクロへキシル−N’ −(4−ジエチルア
ミノシクロヘキシル)カルボジイミドのようなカルボジ
イミド化合物、たとえば1−(・t−クロロベンゼンス
ルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾ
ールのようなN−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体
のスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸クロリド、
ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、オキシ塩化リン
などのハロゲン化合物との反応で生成した、いわゆるビ
ルスマイヤー試薬などが挙げられる。
反応は縮合剤の存在下に行うことが好ましい。そのよう
な縮合剤の例としては、たとえばN、N’−ジシクロへ
キシルカルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジイ
ミド、N−シクロへキシル−N’ −(4−ジエチルア
ミノシクロヘキシル)カルボジイミドのようなカルボジ
イミド化合物、たとえば1−(・t−クロロベンゼンス
ルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾ
ールのようなN−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体
のスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸クロリド、
ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、オキシ塩化リン
などのハロゲン化合物との反応で生成した、いわゆるビ
ルスマイヤー試薬などが挙げられる。
反応温度は特に限定されないが、通常50℃以下で行な
われる。エステル化に使用される不活性な溶媒としては
、前記アミド化反応に使用される不活性溶媒が、同様に
使用される。
われる。エステル化に使用される不活性な溶媒としては
、前記アミド化反応に使用される不活性溶媒が、同様に
使用される。
上述のエステル化反応で得られる生成物は、nが0であ
るスルフィド化合物であるときには、不純物として2−
セフェム体を含有する場合がある。この場合には、生成
物を再結晶、再沈澱、カラム精製等の操作に付すること
により、2−セフェム体を除去することができる。ある
いは、2−セフェム体を含有する生成物をメタクロロ過
安息香酸、過酢酸、過ヨウ素酸などにより酸化して、8
−セフェム−1−オキシド体として、ついでそれを例え
ば三塩化リン、塩化第一スズとアセチルクロリドとの組
み合わせなどで還元することにより、実質的に純粋な8
−セフェムのエステル体を得ることができる。セフェム
環の硫黄原子の酸化は、通常の方法に従って実施するこ
とができる。その際使用する酸化剤によりSおよびR−
オキサイドが生じるが、いずれ6も本発明に含まれる。
るスルフィド化合物であるときには、不純物として2−
セフェム体を含有する場合がある。この場合には、生成
物を再結晶、再沈澱、カラム精製等の操作に付すること
により、2−セフェム体を除去することができる。ある
いは、2−セフェム体を含有する生成物をメタクロロ過
安息香酸、過酢酸、過ヨウ素酸などにより酸化して、8
−セフェム−1−オキシド体として、ついでそれを例え
ば三塩化リン、塩化第一スズとアセチルクロリドとの組
み合わせなどで還元することにより、実質的に純粋な8
−セフェムのエステル体を得ることができる。セフェム
環の硫黄原子の酸化は、通常の方法に従って実施するこ
とができる。その際使用する酸化剤によりSおよびR−
オキサイドが生じるが、いずれ6も本発明に含まれる。
セフェム環の硫黄原子の酸化およびその還元は、たとえ
ば、E、 Flynn編「Cephalosporin
s and penicillins 。
ば、E、 Flynn編「Cephalosporin
s and penicillins 。
Chemistry and Biology J (
Academic Press1972)第48第18
5頁に記載されている。
Academic Press1972)第48第18
5頁に記載されている。
一般式(n)で示される原料化合物は、たとえば、日本
化学会誌1981 、 (5) 、 785 。
化学会誌1981 、 (5) 、 785 。
Chem、 Pharm、 Bull、 25.311
5 (1977)。
5 (1977)。
The Journal of Antibiotic
s 84 、 l 7 J(1981)、特開昭51
−149296号公報に記載される方法で製造される。
s 84 、 l 7 J(1981)、特開昭51
−149296号公報に記載される方法で製造される。
また一般式(III)で示される原料化合物は、たとえ
ば7−アミノセファロスポラン酸と1.2.4−チアジ
アゾール−5−チオール体とを反応させる公知の方体(
たとえば米国特許第8.979.888 号明細書、
特開昭53−98987号、55−9048号、55−
049888号、57−82892号公報に記載され゛
ている)によって製造することができる。
ば7−アミノセファロスポラン酸と1.2.4−チアジ
アゾール−5−チオール体とを反応させる公知の方体(
たとえば米国特許第8.979.888 号明細書、
特開昭53−98987号、55−9048号、55−
049888号、57−82892号公報に記載され゛
ている)によって製造することができる。
(b) 一般式(ff)
0式中、R’、R3,nおよびXは前述に同じ。)で表
わされる化合物の3位Xを1.2.4−チアジアゾール
−5−チオール体で求核置換することによって前記一般
式(1)で示される本発明化合物を得ることができる。
わされる化合物の3位Xを1.2.4−チアジアゾール
−5−チオール体で求核置換することによって前記一般
式(1)で示される本発明化合物を得ることができる。
求核置換する方法自体は公知の方法が適用できる。〔た
とえば、E、 FlynnaiI「Cephalosp
orins andpenicillins、 Che
mistry and Biology J(Acad
emic Press 1972 )第4章第158頁
、特開昭58−130689号明細書、J Elks編
集「Recent Advances in the
Chemistry ofβ−Lactam Anti
biotics、Cambridge 、 Engla
nd 、 28−80 June 。
とえば、E、 FlynnaiI「Cephalosp
orins andpenicillins、 Che
mistry and Biology J(Acad
emic Press 1972 )第4章第158頁
、特開昭58−130689号明細書、J Elks編
集「Recent Advances in the
Chemistry ofβ−Lactam Anti
biotics、Cambridge 、 Engla
nd 、 28−80 June 。
1976 J (The Chemical 5oci
ety 。
ety 。
Burlington House 、 London
wlv OBN )第109頁、 Tetrahed
ron Letters 22 。
wlv OBN )第109頁、 Tetrahed
ron Letters 22 。
8915(1981)に記載されている。〕一般式(I
T)の化合物は、一般式(n)のカルボン酸と一般式(
V) (式中、X、Rs、nは前述に同し。)で表わされる化
合物とを、一般式(1)で表わされる化合物を得る方法
と同様に反応させて製造することができる。また、一般
式(5)で表わされる化合物のうちXがハロゲン原子で
ある化合物はたとえばJ Elks編集1’−Rec
entAdvances in the Chemis
try ofβ−LactamAntibiotics
Cambridge 、 England 、 28
−80 June 、 1976 J (the C
hemicalSociety 、 Burlingt
on House 、 London wlvOBN)
第106頁、 Tetrahedron Letter
s22.8915(1981)に記載の方法でも製造で
きる。ハロゲン原子とはヨウ素原子、臭素原子および塩
素原子を示す。
T)の化合物は、一般式(n)のカルボン酸と一般式(
V) (式中、X、Rs、nは前述に同し。)で表わされる化
合物とを、一般式(1)で表わされる化合物を得る方法
と同様に反応させて製造することができる。また、一般
式(5)で表わされる化合物のうちXがハロゲン原子で
ある化合物はたとえばJ Elks編集1’−Rec
entAdvances in the Chemis
try ofβ−LactamAntibiotics
Cambridge 、 England 、 28
−80 June 、 1976 J (the C
hemicalSociety 、 Burlingt
on House 、 London wlvOBN)
第106頁、 Tetrahedron Letter
s22.8915(1981)に記載の方法でも製造で
きる。ハロゲン原子とはヨウ素原子、臭素原子および塩
素原子を示す。
(C) 一般式(1)で表わされる化合物の7位アシ
ル基を他のアシル基から化学的に誘導する方法としては
、たとえば次の方法がある。
ル基を他のアシル基から化学的に誘導する方法としては
、たとえば次の方法がある。
一般式(ロ)
(式中、Rは前述に同じ。)
で表わされるカルボン酸又はその反応性誘導体と、一般
式(In)で表わされる化合物もしくはその塩またはそ
の誘導体とを反応させ一般式(式中、n、R,Rは前述
に同じ。) で表わされる化合物を得、ついでメトキシアミンを反応
させて前記一般式(1)で示される本発明化合物を得る
方法。
式(In)で表わされる化合物もしくはその塩またはそ
の誘導体とを反応させ一般式(式中、n、R,Rは前述
に同じ。) で表わされる化合物を得、ついでメトキシアミンを反応
させて前記一般式(1)で示される本発明化合物を得る
方法。
あるいは、一般式(■)
(式中、R,R,Xおよびnは前述に同じ。
で表わされる化合物の8位Xを1.2.4−チアジアゾ
ール−5−チオール体で求核置換することによって一般
式(IX) (式中、R,Rおよびnは前述に同じ。)で表わされる
化合物を得、ついでメトキシアミンを反応させて前記一
般式(1)で示される本発明化合物を得る方法。
ール−5−チオール体で求核置換することによって一般
式(IX) (式中、R,Rおよびnは前述に同じ。)で表わされる
化合物を得、ついでメトキシアミンを反応させて前記一
般式(1)で示される本発明化合物を得る方法。
あるいは一般式(X)
素原子または臭素原子を表わす。)
)で表わされる化合物にチオホルムアミドを反応させて
前記一般式(1)で示される本発明化合物を得る方法が
ある。
前記一般式(1)で示される本発明化合物を得る方法が
ある。
一般式(vl)で表わされるカルボン酸は公知化合物で
あり、たとえば、特開昭58−112895号公報、T
he Journal of Antibiotics
36゜846(1988)に記載されている。
あり、たとえば、特開昭58−112895号公報、T
he Journal of Antibiotics
36゜846(1988)に記載されている。
一般式(ロ)で表わされる化合物と一般式([11)で
表わされる化合物とを反応させて一般式(4)で表わさ
れる化合物を得る方法は、前述の一般式(II)で表わ
される化合物と一般式(ill)で表わされる化合物と
を反応させて一般式(1)で表わされる化合物を得る方
法と同様にして実施することができる。
表わされる化合物とを反応させて一般式(4)で表わさ
れる化合物を得る方法は、前述の一般式(II)で表わ
される化合物と一般式(ill)で表わされる化合物と
を反応させて一般式(1)で表わされる化合物を得る方
法と同様にして実施することができる。
一般式(ロ)で表わされる化合物とメトキシアミンとの
反応は公知の方法に準じて実施することができる。(た
とえば、特開昭54−52096号公報) また、一般式(■)で表わされる化合物の8位求核置換
反応は、前記(b)で説明した方法と同様に行なうこと
ができる。
反応は公知の方法に準じて実施することができる。(た
とえば、特開昭54−52096号公報) また、一般式(■)で表わされる化合物の8位求核置換
反応は、前記(b)で説明した方法と同様に行なうこと
ができる。
一般式(X)で表わされる化合物も公知の方法に準じて
製造することができる。(たとえば特開昭53−135
996号公報) −ff A (X)で表わされる化合物にチオホルムア
ミドを反応させて、一般式(1)で表わされる化合物を
得る方法も公知の反応条件に従って実施することができ
る。
製造することができる。(たとえば特開昭53−135
996号公報) −ff A (X)で表わされる化合物にチオホルムア
ミドを反応させて、一般式(1)で表わされる化合物を
得る方法も公知の反応条件に従って実施することができ
る。
前述したように、Rで示される基がエステル化されたカ
ルボキシル基である本発明化合物は、経口吸収性に優れ
ているので、経口投与できる抗菌剤として有用である。
ルボキシル基である本発明化合物は、経口吸収性に優れ
ているので、経口投与できる抗菌剤として有用である。
かかる本発明化合物を経口投与する場合には、通常の経
口投与用処方によってカプセル剤、粉剤、顆粒剤、錠剤
等を製造し、投与することができる。そして通常の賦形
剤、結合剤、滑沢剤、崩壊剤等を含有することができる
。また、一般式(1)で示される本発明化合物は、直腸
用組成物(たとえば串刺または貯留浣腸)として、ある
いは注射薬として処方することもできる。
口投与用処方によってカプセル剤、粉剤、顆粒剤、錠剤
等を製造し、投与することができる。そして通常の賦形
剤、結合剤、滑沢剤、崩壊剤等を含有することができる
。また、一般式(1)で示される本発明化合物は、直腸
用組成物(たとえば串刺または貯留浣腸)として、ある
いは注射薬として処方することもできる。
投与量は、年令、体重、症状等によって異なるが、通常
、成人に対し1日0.22ないし2ノを1回ないし数回
に分けて投与することができる。
、成人に対し1日0.22ないし2ノを1回ないし数回
に分けて投与することができる。
次に本発明化合物の優れた性買を明らかにするために、
経口吸収試験結果および抗菌試験結果を示す。
経口吸収試験結果および抗菌試験結果を示す。
抗菌力データ
S、オーレウス 209P O
,1O5,エビテリレミディス IAMl 296
0.2 O8,フェカー
リス ATCC194883,18B、ズブチリス
ATCC663(0,05E、コリ NIH
JJC−2≦0.018に、ニューモニア ATCC1
0081<o、o18P、ミラビリス GN2425
≦o、otaP、エルギノーザ T
12.5S、マルセッセンスx1
00 0.lOC,フロインディ G
N846 0J9次に実施例をあげて
本発明化合物の製造法を具体的に説明するが、本発明は
これによって限定されるものではない。
,1O5,エビテリレミディス IAMl 296
0.2 O8,フェカー
リス ATCC194883,18B、ズブチリス
ATCC663(0,05E、コリ NIH
JJC−2≦0.018に、ニューモニア ATCC1
0081<o、o18P、ミラビリス GN2425
≦o、otaP、エルギノーザ T
12.5S、マルセッセンスx1
00 0.lOC,フロインディ G
N846 0J9次に実施例をあげて
本発明化合物の製造法を具体的に説明するが、本発明は
これによって限定されるものではない。
(1,2,4−チアジアゾール−5−
一カルボン酸
ジメチルホルムアミド0.8(IPを含むテトラヒドロ
フラン20 txtの溶液を水冷し、これにオキシ塩化
リン1.67Fを加え0℃で32分間攪拌した。これに
■−2−(メトキシイミノ)−2−(2−(ホルミルア
ミノ)チアゾール−4−イル〕酢酸2.299を加え、
同温度で45分間攪拌した。一方、7−アミノ−8−(
1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−
8−セフェム−4−カルボン酸8.80pを酢酸エチル
Bowlに懸濁シ、これに室温下、ビス(トリメチルシ
リル)アセトアミド5.0811’を加え30分間攪拌
したシリル体の溶液を調製しておく。このシリル体の溶
液を0℃に冷却し、前記反応液を15分間かけて滴下し
た。0℃で1時間45分攪拌した後、反応液に酢酸エチ
ルso’gt、水80m1を加え、酢酸エチル層を分液
して得た。水層は、さらに酢酸エチル80ttlで抽出
して前記酢酸エチル層といっしょにした。争缶壬千−f
b−B→ ゛H■Hト1→1++−r←汁酢
酸エチル層を一反、食塩水で 洗浄した後、垂留水(GaHCOs 0.84 P /
水15st )で2回抽出した。抽出した軍凹水層に6
N塩酸を加えて、そのpHを2に調整し、酢酸エチル1
00 wrl及び5(lvJで各1回抽出した。この時
、生ずる不溶物は濾過した。(この不溶物を乾燥すると
i、oapあり、目的物を含有していた。)酢酸エチル
J−は飽和食塩水85耐にて洗浄した後、硫酸マグネシ
ウムにて乾燥した。酢酸エチル層を減圧上濃縮して1.
75Fの粗生成物を得た。
フラン20 txtの溶液を水冷し、これにオキシ塩化
リン1.67Fを加え0℃で32分間攪拌した。これに
■−2−(メトキシイミノ)−2−(2−(ホルミルア
ミノ)チアゾール−4−イル〕酢酸2.299を加え、
同温度で45分間攪拌した。一方、7−アミノ−8−(
1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−
8−セフェム−4−カルボン酸8.80pを酢酸エチル
Bowlに懸濁シ、これに室温下、ビス(トリメチルシ
リル)アセトアミド5.0811’を加え30分間攪拌
したシリル体の溶液を調製しておく。このシリル体の溶
液を0℃に冷却し、前記反応液を15分間かけて滴下し
た。0℃で1時間45分攪拌した後、反応液に酢酸エチ
ルso’gt、水80m1を加え、酢酸エチル層を分液
して得た。水層は、さらに酢酸エチル80ttlで抽出
して前記酢酸エチル層といっしょにした。争缶壬千−f
b−B→ ゛H■Hト1→1++−r←汁酢
酸エチル層を一反、食塩水で 洗浄した後、垂留水(GaHCOs 0.84 P /
水15st )で2回抽出した。抽出した軍凹水層に6
N塩酸を加えて、そのpHを2に調整し、酢酸エチル1
00 wrl及び5(lvJで各1回抽出した。この時
、生ずる不溶物は濾過した。(この不溶物を乾燥すると
i、oapあり、目的物を含有していた。)酢酸エチル
J−は飽和食塩水85耐にて洗浄した後、硫酸マグネシ
ウムにて乾燥した。酢酸エチル層を減圧上濃縮して1.
75Fの粗生成物を得た。
粗生成物を前記1.08Fの不溶物とあわせ、玉鱈水に
浴解し、逆相系液体クロマトグラフィー〔カラA :
Lichroprep■RP−8、サイズC(メルク社
製);移動相:Q、91Mリン酸緩衝液−アセトニトリ
ル(85−15゜v/v)〕にかけた。必要なフラクシ
ョンをとり減圧上濃縮した後6N塩酸にてp )11.
5とし、酢酸エチル(こて油田した。酢酸エチル層を食
塩水にて洗浄し硫酸マグネシウムにて乾燥後、酢酸エチ
ルを減圧下留云して目的物の精製体を白色の粉末として
得た。収k1.212 。
浴解し、逆相系液体クロマトグラフィー〔カラA :
Lichroprep■RP−8、サイズC(メルク社
製);移動相:Q、91Mリン酸緩衝液−アセトニトリ
ル(85−15゜v/v)〕にかけた。必要なフラクシ
ョンをとり減圧上濃縮した後6N塩酸にてp )11.
5とし、酢酸エチル(こて油田した。酢酸エチル層を食
塩水にて洗浄し硫酸マグネシウムにて乾燥後、酢酸エチ
ルを減圧下留云して目的物の精製体を白色の粉末として
得た。収k1.212 。
HNMR(DMSO−da ) δ値;8.58.8.
78(ABq、2H,J=18Hz。
78(ABq、2H,J=18Hz。
C2H2) %8.89 (S 、 3H,CH8)、
4,32゜4.61 (ABq、2H,J=18Hz
、C3−CH2)、5.16(d、LH,J=5Hz
、Ca−H)、5.82(dd、LH,J=8.5Hz
、Cy−H)、7.41(s、IH,チアゾール5位H
)、8.51(S。
4,32゜4.61 (ABq、2H,J=18Hz
、C3−CH2)、5.16(d、LH,J=5Hz
、Ca−H)、5.82(dd、LH,J=8.5Hz
、Cy−H)、7.41(s、IH,チアゾール5位H
)、8.51(S。
LH,旦C0NH−)、8.71(S、LH,チアジア
ゾ−Jl/ 8 位H)、9.70(d、tI(、J=
8 Hz 、 −CONH−)、12.62(s、LH
。
ゾ−Jl/ 8 位H)、9.70(d、tI(、J=
8 Hz 、 −CONH−)、12.62(s、LH
。
HCON旦−)
2−[2−(ホルミルアミノ)チアゾ
ール−4−イル〕アセトアミド〕−3
−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸ナトリウム
実施例1で得た7 −[(Z) −2−メトキシイミノ
−2−(2−(ホルミルアミノ)チアゾール−4−イル
〕アセトアミド〕−3−(1,2,4−チアジアゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸0.50Fを酢酸エチル5 yslとアセトン6、5
atからなる浴液に懸濁し、これに2−エチルヘキサ
ン酸ナトリウム0.1849、酸Xエチル5 mlから
なる溶液を滴下し、室温下45分間撹拌した。結晶をγ
戸数し、酢酸エチルにて洗浄後減圧下乾燥して0.51
Fの温和化合物を得た。
−2−(2−(ホルミルアミノ)チアゾール−4−イル
〕アセトアミド〕−3−(1,2,4−チアジアゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸0.50Fを酢酸エチル5 yslとアセトン6、5
atからなる浴液に懸濁し、これに2−エチルヘキサ
ン酸ナトリウム0.1849、酸Xエチル5 mlから
なる溶液を滴下し、室温下45分間撹拌した。結晶をγ
戸数し、酢酸エチルにて洗浄後減圧下乾燥して0.51
Fの温和化合物を得た。
ルエステル
7− ((Z)−2−メトキシイミノ−2−〔2−(ホ
ルミルアミノ)チアゾール−4−イル〕アセトアミド)
−8−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボン峻ナトリウム50
01n9をジメチルホルムアミド8 art及びジメチ
ルスルホキシド2 txlの溶液に溶解し、水冷下、ピ
/<ロイルオキシメチルアイオダイド258In9を加
え攪拌した。25分後、ピパロイルオキシメチルアイオ
ダイド100rrI9を追加し、さらに85分間攪拌し
た。この反応液を酢酸エチル80m1.水15g?から
なる攪拌浴液中に注塩化カルシウム上、減圧乾燥して温
和化合物18ηを得た。
ルミルアミノ)チアゾール−4−イル〕アセトアミド)
−8−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボン峻ナトリウム50
01n9をジメチルホルムアミド8 art及びジメチ
ルスルホキシド2 txlの溶液に溶解し、水冷下、ピ
/<ロイルオキシメチルアイオダイド258In9を加
え攪拌した。25分後、ピパロイルオキシメチルアイオ
ダイド100rrI9を追加し、さらに85分間攪拌し
た。この反応液を酢酸エチル80m1.水15g?から
なる攪拌浴液中に注塩化カルシウム上、減圧乾燥して温
和化合物18ηを得た。
’HNIvlR(DMSO−da ) δ値:1.1
5 [s 、 9H、(CHa)a ]、8.62 、
8.84(ABq 、 2H、J=t 8Hz 、 C
2−H2)、8.82 (s 、 8M 、0CHa
)、4.24 、4.64(ABq、2H,J=18H
z、C3−CH2)、5.18(d 、LH,J=5H
z 、C6−H)、5.7〜6.0 (m 、 8H、
Cy−H、−COOCH20−)、6.73(s、tH
,チアゾール5位H)、7.28(S 、 2)1、−
NH2)、8.72(s、lH,チアジアゾール3位H
)、9.61 (d 、 IH,J=8Hz 、C0N
H) ? −[(Z) −2−メトキシイミノ−2−(2−(
ホルミルアミノ)チアゾール−4−イル〕アセトアミド
)−8−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チ
オメチル−8−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム5
20ηをジメチルホルムアミド8 x!及びジメチルス
ルホキシド2 mlの溶液に溶解し、水冷下、■−ヨウ
ドエチルエチルカーボネート4501M/(l−ブロム
エチルエチルカーボネートとヨウ化ナトリウムよりアセ
トン溶媒中で製造した。)を加え、攪拌した。45分後
に1−ヨウドエチルエチルカーボネート880 ”fを
追加し、さらに20分攪拌した。この反応液を酢酸エチ
ル4(1+7.水20xlからなる攪拌溶液中に注入し
、分液した。水I−をさらに酢酸エチル20yglで抽
出し、前の酢酸エチル層といっしょにした。酢酸エチル
層を食塩水(20gJX8回)で洗浄した後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧上留去した。残渣
を酢酸エチル10gtに溶解し、n −ヘキサン40t
qtを滴下した。析出品をP取し、減圧上乾燥して60
0ηの温和化合物を得た。
5 [s 、 9H、(CHa)a ]、8.62 、
8.84(ABq 、 2H、J=t 8Hz 、 C
2−H2)、8.82 (s 、 8M 、0CHa
)、4.24 、4.64(ABq、2H,J=18H
z、C3−CH2)、5.18(d 、LH,J=5H
z 、C6−H)、5.7〜6.0 (m 、 8H、
Cy−H、−COOCH20−)、6.73(s、tH
,チアゾール5位H)、7.28(S 、 2)1、−
NH2)、8.72(s、lH,チアジアゾール3位H
)、9.61 (d 、 IH,J=8Hz 、C0N
H) ? −[(Z) −2−メトキシイミノ−2−(2−(
ホルミルアミノ)チアゾール−4−イル〕アセトアミド
)−8−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チ
オメチル−8−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム5
20ηをジメチルホルムアミド8 x!及びジメチルス
ルホキシド2 mlの溶液に溶解し、水冷下、■−ヨウ
ドエチルエチルカーボネート4501M/(l−ブロム
エチルエチルカーボネートとヨウ化ナトリウムよりアセ
トン溶媒中で製造した。)を加え、攪拌した。45分後
に1−ヨウドエチルエチルカーボネート880 ”fを
追加し、さらに20分攪拌した。この反応液を酢酸エチ
ル4(1+7.水20xlからなる攪拌溶液中に注入し
、分液した。水I−をさらに酢酸エチル20yglで抽
出し、前の酢酸エチル層といっしょにした。酢酸エチル
層を食塩水(20gJX8回)で洗浄した後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧上留去した。残渣
を酢酸エチル10gtに溶解し、n −ヘキサン40t
qtを滴下した。析出品をP取し、減圧上乾燥して60
0ηの温和化合物を得た。
7−((Z) −2−メトキシイミノ−2−(2−(ホ
ルミルアミノ)チアゾール−4−イル〕−アセトアミド
) −8−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸l−エトキ
シカルボニルオキシエチルエステル0.60 Fをテト
ラヒドロフラン5 ml 、メタノール5 mlからな
るf6Hに溶解し、これに濃塩酸0.485’を加え、
室温下1時間25分攪拌した。反応液を約半散まで減圧
上濃縮した後、水80 ml中に加えた。これに酢酸エ
チル20M1を加え、重傅水を加えて水層のpHを5〜
6に調整した。分液して酢酸エチル層を分離した。水層
はさらに酢酸エチル20Mtで抽出し、工の酢酸エチル
層と会わせた。酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムにて乾燥した後、酢酸エチルを減圧上留去し
た。残渣を酢酸エチルl(1+lに溶解し、石油エーテ
ル30m1中に滴下し、析出晶を戸数した。減圧上乾燥
して0.42Fの温和の化合物を得た。
ルミルアミノ)チアゾール−4−イル〕−アセトアミド
) −8−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸l−エトキ
シカルボニルオキシエチルエステル0.60 Fをテト
ラヒドロフラン5 ml 、メタノール5 mlからな
るf6Hに溶解し、これに濃塩酸0.485’を加え、
室温下1時間25分攪拌した。反応液を約半散まで減圧
上濃縮した後、水80 ml中に加えた。これに酢酸エ
チル20M1を加え、重傅水を加えて水層のpHを5〜
6に調整した。分液して酢酸エチル層を分離した。水層
はさらに酢酸エチル20Mtで抽出し、工の酢酸エチル
層と会わせた。酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムにて乾燥した後、酢酸エチルを減圧上留去し
た。残渣を酢酸エチルl(1+lに溶解し、石油エーテ
ル30m1中に滴下し、析出晶を戸数した。減圧上乾燥
して0.42Fの温和の化合物を得た。
’HNMR(DMSO−ds→ δ値:1.18,1.
21(tx2,8H,−CH2C旦8)、1.58(m
、8H,−CH−)、3.68 、8.81Ha (ABq 、2H,J=18H2、C2−H2)、8.
84 (s 、 8H、OCH8)、4.0〜4.4
(m 。
21(tx2,8H,−CH2C旦8)、1.58(m
、8H,−CH−)、3.68 、8.81Ha (ABq 、2H,J=18H2、C2−H2)、8.
84 (s 、 8H、OCH8)、4.0〜4.4
(m 。
8 H、−CH2CH3、Ca −CH)、4.60(
dX2゜1)1.J=18Hz 、Ca−CH)、5.
18(みカケt 、 IH、Ca−H)、5.85(m
、IH。
dX2゜1)1.J=18Hz 、Ca−CH)、5.
18(みカケt 、 IH、Ca−H)、5.85(m
、IH。
Cy−H)、6.78(SX2.H,チアゾール5位H
)、6.88(m、LH,−C且−)、Ha
)、6.88(m、LH,−C且−)、Ha
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基を
、R^2はエステル化されたカルボキシル基を、nは0
または1を表わす。) で示される新規セフェム誘導体またはその塩。 (2)シン異性体である特許請求の範囲第1項記載のセ
フェム誘導体またはその塩。 (8)エステル化されたカルボキシル基が、アルカノイ
ルオキシアルキルエステルまたはアルコキシカルボニル
オキシアルキルエステルである特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載のセフェム誘導体またはその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60296998A JPS62158288A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 新規セフエム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60296998A JPS62158288A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 新規セフエム誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62158288A true JPS62158288A (ja) | 1987-07-14 |
Family
ID=17840926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60296998A Pending JPS62158288A (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 新規セフエム誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62158288A (ja) |
-
1985
- 1985-12-28 JP JP60296998A patent/JPS62158288A/ja active Pending
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