JPS6060049B2 - 連続密着焼付装置 - Google Patents

連続密着焼付装置

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JPS6060049B2
JPS6060049B2 JP55068505A JP6850580A JPS6060049B2 JP S6060049 B2 JPS6060049 B2 JP S6060049B2 JP 55068505 A JP55068505 A JP 55068505A JP 6850580 A JP6850580 A JP 6850580A JP S6060049 B2 JPS6060049 B2 JP S6060049B2
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vacuum
transparent
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敏 武内
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/02Exposure apparatus for contact printing
    • G03B27/14Details
    • G03B27/18Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
    • G03B27/20Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は多層型密着焼付方法を利用した連続的に密
着・焼付けを行なう焼付装置に関する。
一般に、フィルムやガラス板などからなる透過性写真
原稿などを原版として他の感光材料に密着焼付法で複写
する場合、高品位複写法として真空密着法が用いられて
いる。この真空密着法を利用した密着焼付装置には第1
図Aに示されるものがある。 この密着焼付装置は、透
明ガラス板等の透明板1とゴムシート等の可撓性を有す
る屈曲板2とから画成されるチャンバ3内に、透過原版
4および感光基材5を介装した後、チャンバ3をパッキ
ン6により密閉する。
その後、排気口7から内部の空気をポンプ(図示せず)
で吸引してチャンバ3を真空にする。この結果、屈曲板
2は第1図Bに示すように大気で押圧され、透明板1側
に密着せしめられる。この真空密着による圧力て中間に
存在する透過原版4と感光基材5とが密着固定されるか
ら、露光により複写を行ない得る。 しカルながら、こ
の真空密着焼付方法では透過原版4や感光基材5の表面
積が大きくなつたり、両者の平滑性が高いと、吸引の際
、両者の間に空気が封じ込められて焼付むらを起こすこ
とが多い。
この欠点を除くためには長時間真空吸引する必要がある
。しかし、長時間の真空吸引後に露光を行なう場合には
作業時間が長く、作業能率が低下する等の問題があつた
。 この問題を解決するために、第2図ANBに示され
るような2層型密着焼付装置が提案されている。
この2層型密着焼付装置は本発明者の提案に係るもので
あり、剛体のボックス状ケーシング8の表面に透明板1
を一体的に取付け内部に形成されるチャンバを屈曲板2
で仕切り、第1チャンバ3Aと第2チャンバ3Aとを形
成したものであり、第1チャンバ3A内に透過原版4と
感光基材5とを介装させている。 そして、密着焼付け
に際しては、両チャンバ3A)3Bを同時に真空吸引す
る。
これにより、両チャンバ3A)3Bの外壁は剛体で囲ま
れているため、両チャンバの圧力変化はほぼ等しく、屈
曲板2は変形しない。したがつて、第1チャンバ3A内
に介装されている透過原版4や感光基材5は真空吸引に
よる圧力変化の影響を受けず、真空吸引前と同じ状態に
保たれる。充分真空にされた後、第2チャンバ3Bのみ
を大気圧に戻すと第2図Bに示されるようになり、屈曲
板2は透明板1側に急速に密着され、内部の透過原版4
と感光基材5とを密着固定させる。この2層型密着焼付
装置の場合には、透過原版4と感光基材5とは単なる載
置状態に維持されたままの状態でチャンバ内の大気が除
去されるから、密着固定時に両者間に空気などの残留が
全くなく、定着むらが生じない。
したがつて、短時間の吸引時間で良質な複写が有効的に
得られる。しかし、この2層型密着焼付装置では同一原
版4から多数の複製を得るためには、その都度、透過原
版4と感光基材5とを第1チャンバ3A内に介装しなけ
ればならず、連続複写を能率的に行なうことができなか
つた。また、第1図A,.Bで示す従来の密着焼付装置
で同一原版から多数の複製を得る場合も同様に、透過原
版4と感光基材5とを複製の都度位置合せしてチャンバ
3内に介装しなければならないので、連続複写を能率的
に行なうことができない。
さらに、チャンバ内に真空を形成するために透明ガラス
等の透明板1と屈曲板2との間にパッキン6が必要であ
る。このパッキン6は一般的には断面が小さな凸型であ
るため、真空による密着圧でチャンバ3内に大きく突入
して感光基材5と接触し、この基材5を損傷させたり、
圧着跡をつけ易い。また、感光基材5はパッキン6によ
りチヤン.バ3内に封入されるが、感光基材5の肉厚な
どにより、基材5端の密閉が困難で、パッキン6の硬度
や柔軟性の選択が難しく、さらに、基材5が比較的厚い
場合には、いかなるパッキン6を用いても真空化するこ
とが不可能である。このように、従来の密着焼付装置で
連続焼付けする場合には、真空時のパッキンの突入状態
を考慮し、焼付間隔が充分に必要となり、材料損失が大
きく、材料を有効に利用することができない。
この発明は上述した点を考慮し、密着焼付けを一連続的
かつ効率的に行ない、作業能率を高めることができると
ともに、感光基材を有効的に利用することができるその
焼付装置を提供することを目的とする。以下、この発明
の実施例について添付図面を参照して説明する。
第3図AおよびBはこの発明に係る連続密着焼付装置の
一実施例を示す断面図であり、図中符号10は剛体構造
のケーシングを示す。
このケーシング10は中央部に水平方向に延びる真空チ
ャンバ11が形成されている。このチャンバ11は可撓
性を有する屈曲板12により仕切られ、上方の第1チャ
ンバ11Aと下方の第2チャンバ11B)とに区画され
、層状に形成される。この第1チャンバ11Aの上方に
は透明ガラス板等からなる透明板13が一体的に組み込
まれており、この透明板13の下面の所定位置に透過原
版14が粘着テープ等で着脱可能に取付けられる。また
、前記チャンバ11の両側には感光基材15の供給室1
6と格納室17とがそれぞれ設けられている。
供給室11内にはフィルム状感光基材15を巻装したド
ラム18が回転可能に収納されらる一方、このドラム1
8からの感光基材15はガイドローラまたはピン19を
経て第1チャンバ11A内を案内させ、続いてガイドロ
ーラまたはピン20を介して巻取ドラム21に巻装され
る。巻取ドラム21は格納室17内に回転可能に収能さ
れており、第1チャンバ11A内で画像が焼付けられた
感光基材15を巻取り、この格納室17内に格納してい
る。しかして、第1チャンバ11Aは供給室16および
格納室17に連通される一方、両室16,17から延び
るチューブ22が図示しない真空ポンプに接続され、こ
のポンプ作動により真空吸引され、第1チャンバ11A
内が真空にされる。また、第2チャンバ11B内もチュ
ーブ23を介して真空ポンプ(図示せず)に接続され、
そのポンプ作動により吸引され、真空にされる。次に、
この発明の連続密着焼付装置を用いて連続的に密着焼付
けする操作手順について説明する。
初めに、透過原版14を透明板14の所定位置に貼着等
により取付けるとともに、感光基材15を巻装したドラ
ム18および巻取ドラム21を供給室16および格納室
17内にセットし、感光基材15を両ドラム18,21
に掛け渡す。
感光基材15は感光面が透過原版14側を向くように予
めセットされ、張設される。次いで、第1チャンバ11
A1第2チャンバ11Bを真空ポンプ(図示せず)によ
り同時に真空吸引する。
このとき、両チャンバ11A,11B内の圧力降下はほ
ぼ同じであるため、仕切板を兼ねた可撓性の屈曲板12
はバランスを保つて変化しない。両チャンバ11A,1
1Bを充分に吸引した後、第1チャンバ11Aの真空度
をそのままの状態に維持して第2チャンバ11B内の真
空を解除して大気圧に戻すと、第3図Bに示す状態とな
る。この状態で屈曲板12は大気圧を受て透明板13側
に押圧され、透明板13側に密着され、その力で透過原
版14と感光基材15とが密着する。この密着固定され
る際には、第1チャンバ11A内にほとんど大気が存在
しないから、感光基材15と透過原版14との接触面に
空気が残留することなく、完全に密着される。したがつ
て、感光基材15の感光面は透過原版14上に全面にわ
たり完全密着される。この密着状態で露光させることに
より、透過原版14の画像が良好に焼付けられる。この
密着焼付後に、第1チャンバ11A内の真空を解除する
と、屈曲板12は元の状態に戻り、第3図Aに示す状態
でバランスする。
このバランス状態で感光基材15は透過原版14から分
離される。この分離状態で巻取ドラム21を回転させて
所定の長さだけ、格納室17側に移送させ、再び両チャ
ンバ11A,11Bを同時に真空吸引し、次の密着焼付
けに備えられる。続いて、この一連の操作を反復すれば
連続的に密着焼付けすることができる。この連続密着焼
付装置においては従来の装置のようなパッキンを使用し
ないから、パッキンが感光基材に接触することがない。
したがつて、フィルム状感光基材15に傷や圧着跡がつ
かず、必要な量づつ順次送り出して焼付ければ、高価な
感光基材を有効に利用することができる。また、感光基
材15の送り量を正確に行なえば、画像を連続的に焼付
けることができる。また、密着系にパッキンが不要であ
るから、感光基材15の肉厚が厚くても、容易に良好な
密着焼付けが得られる。次に、連続した密着焼付け操作
をより高速化した第2の操作手順について説明する。
前述した第1の密着焼付けの操作手順においては第1チ
ャンバ11Aを真空にして焼付けた後、再び大気圧に戻
して感光基材15を透過原版14から離し、所定量だけ
送り、反復焼付けを行なう例について説明した。
しかし、感光基材15の供給室16と格納室17とを含
む第1チャンバ11Aの容積は比較的大きいから、所定
の真空度に到達するのに相当時間を要する。
この到達時間を短縮するためには、より大きな排気量の
真空ポンプが必要となる。第2の操作手順は、所定の真
空度に達する時間゛を短縮したものであり、この短縮の
ために大型の真空ポンプを必要としないものである。し
かして、第2の操作手順は第1の操作手順と同様、透過
原版14およびドラム18、巻取ドラム19、感光基材
15を所定位置にセットする。
このセット後に、第1チャンバ11Aと第2チャンバ1
1Bとを同時に真空にする。次いで、第2チャンバ11
B内に大気を導入して密着焼付けを行なう。焼付け完了
と同時に第1チャンバ11内にわずかな大気導入を行な
う。例えば760wr1nHgの”真空度に対し、60
0〜700mnHg程度まで下げればよい。一方、第2
チャンバ11Bの大気は同時に吸引を始め、760Ts
nHgに到達するようにする。第2チャンバ11Bの真
空度が600〜70CymHgを過ぎると、第1チャン
バ11Aよりも第2チャンバ11Aの方がより高い真空
となるから、両チャンバ11A,11Bの圧力差で屈曲
板12が透明板13側から離れ、第2チャンバ11B側
に屈曲し、原位置に復帰する。この復帰状態で感光基材
15を送ると同時に、第1チャンバ11A内の真空度を
上昇させる。その際、第1チャンバ11Aは室内が既に
ある程度高真空状態に保たれているので、真空吸引によ
る排気吸引量は少なくてすむ。したがつて、短時間の真
空吸引により、第1チャンバ11A内は所定の真空度(
最高真空度)に到達する。この場合、第2チャンバ11
Bの容積は原理的に小さいから、このチャンバ11Bは
大気圧から最高真空度に到達する時間は短かくて済む。
しかして、両チャンバ11A,11Bが所定の真空状態
に達した後、第2チャンバ11B内に大気を導入すると
、屈曲板12は透明板13側に押圧され、感光基材15
を透過原版14側に押圧され、密着固定される。
この状態で露光させ、画像焼付けを行なえばよい。以後
、この操作を反復することにより、感光基材15の感光
面上への画像の密着焼付けを短時間で連続的に行ない得
る。また、第2の操作手順に示された密着焼付方法にお
いては、第1チャンバ11Aの真空度を各工程毎に変化
させる例いついて説明したが、この第1チャンバの真空
度を予め600wr!NHg〜70−Hgの値に保持し
ておき、第2チャンバの真空度を、第1チャンバ以上に
したり、大気圧に戻したりして反復操作すれば、第1チ
ャンバ11Aの真空状態を固定したまま、屈曲板12を
透明板13側に進退自在に密着させることができる。一
方、必要な密着圧は焼付ける感光基材の柔軟性により決
定されるが、0.3Wr!n厚さ以下の薄いフィルム類
ては450〜500TnmHgでよく、例えばプラスチ
ック板やアルミニウム板、PS板などのように一般のよ
り厚い材料でも700T$1Hg以下で充分な品質の複
写ができる。
このように、屈曲板性、可撓性を有する感光基材を用い
る場合には、760顛Hgまで真空度を上げる必要がな
い。760TK1nHgに近い真空度を必要とする感光
基材は、屈曲性の少ないガラス板や剛体類であるが、こ
の場合には巻取ドラムなどの使用はできない。
なお、この発明の実施例の説明においては、チャンバを
層状にした2層型密着焼付装置を用いてフィルム状感光
基材に密着焼付けさせる場合について説明したが、この
2層状チャンバに代え、第4図A,B,Cに示すように
3つのチャンバ11A,11B,11Cを層状に積層し
てもよい。
この3層型連続密着焼付装置の原理は2層型の場合とほ
とんど等しい。この3層型連続密着焼付装置は透明板1
3自体を一時的に真空系内に入れ、比較的薄い透明板1
3ても使用できるようにしたものである。このため、透
明板13の上方に第3チャンバ11Cを画成し、この第
3チャンバ11Cを蓋板25で取外し自在に覆うように
したものである。一般に、透明板にはガラス板が使用さ
れている。
しかし、このガラス板の表面面積が大きくなると、強度
保持か難しく、大気圧差により約1t0n/dもの外力
が作用するため、破損し易くなる。このガラス破損を防
止するため、透明板13を真空系内に介在させ、圧力的
なバランスを容易に保ち得るようにしたものである。ま
た、実施例で説明したものにおいては、巻取り可能なフ
ィルム状感光基材について説明したが、必ずしもこれに
限定されず、折畳み可能なシート材料からなる感光基材
であつてもよい。
この場合には、感光基材供給室にシート材料を積層させ
ておき、公知の送り装置により、格納室側へ1コマづつ
順送りできるようにすればよい。さらに、この発明は次
のような用途に適用することができる。
巻取ドラムを用いた場合にはフレキシルプリント板の感
光製版や、銀塩フィルムで多数の複製し得ること、グラ
ビア製版用巻取テイシユにスクリーン焼付けをする場合
、その他種々利用できる。
また、ネサガラスやセラミック板のように小形状で剛体
の感光基材上にホトレジスト製版する場合には、この小
物体が丁度納まる凹部を設けたフレキシブルシートに仮
接着しておき、巻取化して焼付処理を行なうようにして
もよい。巻取り可能なシート材、例えば新聞社などにお
いて同一原稿から多数複版するためのPS板焼付けや、
金属エッチング加工の金属シート材上への焼付け等に利
用することもできる。
以上に述べたように、この発明においては大気を除去し
た後に原版と感光基材との密着固定操作が行なわれ、両
者の接触面に空気の残留がなく、完全に密着固定される
したがつて、鮮明でかつ良好な画像を感光基材に焼付け
ることができるとともに、上記焼付けを連続的に行ない
得るから、密着焼付け作業を能率的にかつ短時間て行な
うことができる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図AおよびBは従来の密着焼付装置を示す断面図、
第2図AおよびBは2層型密着焼付装置を示す断面図、
第3図AおよびBはこの発明に係る連続密着焼付装置の
一実施例てあつて、感光基材の移送(巻取)時と密着焼
付け時とをそれぞれ示す断面図、第4図A,BおよびC
はこの発明の変形例を示す3層型連続密着焼付装置を示
す部分断面図てある。 10・・・ケーシング、11A,11B,11C・・チ
ャンバ、12・・・屈曲板、13・・・透明板、14・
・透過原版、15・・・感光基材、16・・・供給室、
17・・・格納室、18・・・ドラム、21・・・巻取
ドラム、22,23,22A,23A,24A・・・チ
ューブ、25・・・蓋板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ケーシング内に可撓性の屈曲板で仕切られた第1お
    よび第2のチャンバを層状に形成し、上記第1チャンバ
    の一側を感光基材供給室に、その他側を感光基材格納室
    に連通させる一方これら両室に巻装及び巻取ドラムをそ
    れぞれ配設して感光基材を連続供給可能とし、前記両室
    の連通部にのみ前記屈曲板を配設し、前記第1チャンバ
    の屈曲板に対向する壁を透明ガラス等の透明板で形成し
    、この透明板に内側から原版を取付けてなり、上記原版
    を第1チャンバ内を通る感光基材の感光面と密着可能と
    し、さらに前記第1および第2チャンバを真空装置に接
    続し、個別に真空化可能としたことを特徴とする連続密
    着焼付装置。
JP55068505A 1979-08-24 1980-05-23 連続密着焼付装置 Expired JPS6060049B2 (ja)

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US06/179,517 US4360266A (en) 1979-08-24 1980-08-19 Contact printing method and apparatus
DE19803031415 DE3031415A1 (de) 1979-08-24 1980-08-20 Verfahren und vorrichtung zum herstellen von kontaktabzuegen.
GB8027342A GB2057152B (en) 1979-08-24 1980-08-22 Contact printing
FR8018373A FR2463945B1 (fr) 1979-08-24 1980-08-22 Procede et appareil de photocopie utilisant le vide pour maintenir l'original et le materiau sensible en contact intime pendant l'exposition
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