JPS6059536A - 磁性薄膜作製装置 - Google Patents
磁性薄膜作製装置Info
- Publication number
- JPS6059536A JPS6059536A JP16675483A JP16675483A JPS6059536A JP S6059536 A JPS6059536 A JP S6059536A JP 16675483 A JP16675483 A JP 16675483A JP 16675483 A JP16675483 A JP 16675483A JP S6059536 A JPS6059536 A JP S6059536A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic thin
- thin film
- evaporating
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体としての磁性薄膜の作製装置に
関する。
関する。
例えばコバルトあるいはコノマルト合金の斜方蒸着膜は
高保磁力、高飽和磁束密度及び薄膜性を有することから
高密度磁気記録媒体として使用されているが、よシ高保
磁力化のためにコノマルト又はコバルト合金を酸素、オ
ゾン等の酸化性雰囲気中で被着基材としてのフィルムに
蒸着し、コノマルト及びコ讐ルト酸化物又はコバルト合
金及びコノ々ルト合金酸化物の薄膜（酸素を含むコバル
ト又はコバルト合金薄膜）としている。しかし従来の磁
性薄膜作製装置は効率のよい薄膜の生産及び安定した操
業が困難である不都合が生じた。これを更に詳細に説明
すると、該作製装置において、真空槽を高真空にした後
、ガスを導入して所定の雰囲気圧にし、次いで蒸発源を
加熱し、所定の蒸発速度になった後シャッターを開き、
酸化雰囲気中を回転支持体に沿って走行する高分子フィ
ルム上に蒸着を開始するが、シャッターを開いた際、蒸
発材料は酸化性ガスと化学的親和性が強いため激しく化
学反応を起こして多量の酸素を消費しながら高分子フィ
ルム面及び真空槽等の壁面に付着する。その結果。
高保磁力、高飽和磁束密度及び薄膜性を有することから
高密度磁気記録媒体として使用されているが、よシ高保
磁力化のためにコノマルト又はコバルト合金を酸素、オ
ゾン等の酸化性雰囲気中で被着基材としてのフィルムに
蒸着し、コノマルト及びコ讐ルト酸化物又はコバルト合
金及びコノ々ルト合金酸化物の薄膜（酸素を含むコバル
ト又はコバルト合金薄膜）としている。しかし従来の磁
性薄膜作製装置は効率のよい薄膜の生産及び安定した操
業が困難である不都合が生じた。これを更に詳細に説明
すると、該作製装置において、真空槽を高真空にした後
、ガスを導入して所定の雰囲気圧にし、次いで蒸発源を
加熱し、所定の蒸発速度になった後シャッターを開き、
酸化雰囲気中を回転支持体に沿って走行する高分子フィ
ルム上に蒸着を開始するが、シャッターを開いた際、蒸
発材料は酸化性ガスと化学的親和性が強いため激しく化
学反応を起こして多量の酸素を消費しながら高分子フィ
ルム面及び真空槽等の壁面に付着する。その結果。
真空槽中のガス圧は急激に変動し、一定の状態になるま
でに長い時間がか＼る。その間高分子フィルム上に形成
される磁性膜の品質は不安定なものとならざるを得なか
った。また高分子フィルム上に蒸着する量は、全体の蒸
発量のｌＯ〜１５ｑ６であシ、真空槽の壁面等の広い面
積の表面に付着するため、高価な磁性材料の回収が困難
になる。さらに広面積の表面に付着した酸素ガスは真空
槽内の圧フハ温度等の変化によシ放出されるため、操業
の不安定要因となる。
でに長い時間がか＼る。その間高分子フィルム上に形成
される磁性膜の品質は不安定なものとならざるを得なか
った。また高分子フィルム上に蒸着する量は、全体の蒸
発量のｌＯ〜１５ｑ６であシ、真空槽の壁面等の広い面
積の表面に付着するため、高価な磁性材料の回収が困難
になる。さらに広面積の表面に付着した酸素ガスは真空
槽内の圧フハ温度等の変化によシ放出されるため、操業
の不安定要因となる。
本発明は従来装置のかかる不都合を無くすととをその目
的としたもので、酸化性ガス雰囲気中を走行する被着基
材上に強磁性材料を斜方蒸着して磁性薄膜を作製する装
置において、前記強磁性材料の蒸発源部と前記被着基材
の走行部とを前記被着基材の斜方蒸着面及び前記蒸発源
部の蒸発面によって規制される大きさのスリットを介し
て連通させたことを特徴とする。
的としたもので、酸化性ガス雰囲気中を走行する被着基
材上に強磁性材料を斜方蒸着して磁性薄膜を作製する装
置において、前記強磁性材料の蒸発源部と前記被着基材
の走行部とを前記被着基材の斜方蒸着面及び前記蒸発源
部の蒸発面によって規制される大きさのスリットを介し
て連通させたことを特徴とする。
以下本発明の実施例を図面につき説明する。
図において、（１）は磁性薄膜を形成すべき高分子フィ
ルムで、該フィルム（１）ハ巻出ロール（２）から引出
され、回転支持体（３）に泊って走行し巻取ロール（４
）に巻取られるようにした。該回転支持体（３）は内部
に冷熱媒が通流されフィルム（］）を冷却及び加熱でき
るものである。（５）は蒸気流の入射角規制用マスクで
ある。以上のフィルム（１）の搬送系は、図示しない酸
化性ガス導入口を有する真空槽内に配設した。（６）は
コバルト、コバルト合金等の強磁性材料をるつぼに充填
した蒸発源で、該蒸発源（６）は真空槽内に配設した室
（７）に収容し。
ルムで、該フィルム（１）ハ巻出ロール（２）から引出
され、回転支持体（３）に泊って走行し巻取ロール（４
）に巻取られるようにした。該回転支持体（３）は内部
に冷熱媒が通流されフィルム（］）を冷却及び加熱でき
るものである。（５）は蒸気流の入射角規制用マスクで
ある。以上のフィルム（１）の搬送系は、図示しない酸
化性ガス導入口を有する真空槽内に配設した。（６）は
コバルト、コバルト合金等の強磁性材料をるつぼに充填
した蒸発源で、該蒸発源（６）は真空槽内に配設した室
（７）に収容し。
該室（７）の上面の開口部（８）から図示しない電子銃
からの掃引した電子線Ｃ１１）で該蒸発源（６）の強磁
性材料を照射しこれを蒸発すゐようにした。
からの掃引した電子線Ｃ１１）で該蒸発源（６）の強磁
性材料を照射しこれを蒸発すゐようにした。
該室（７）の上面には、また前記電子線によって照射さ
れて蒸発する強磁性材料の蒸発面の長さくＬ）とフィル
ム（１）の蒸着面（９）によって規制される長さ及びフ
ィルム（１）の幅によって規制される幅のスリットσＱ
を形成し、蒸着材料の付着面積を必要最小限に止めるよ
うにした。
れて蒸発する強磁性材料の蒸発面の長さくＬ）とフィル
ム（１）の蒸着面（９）によって規制される長さ及びフ
ィルム（１）の幅によって規制される幅のスリットσＱ
を形成し、蒸着材料の付着面積を必要最小限に止めるよ
うにした。
尚、前記室（７）は蒸着材料の加熱による輻射熱及び蒸
発原子の凝縮潜熱等によ勺高温になるので、付着した蒸
着材料を剥離しやすく回収を一層を容易にするために冷
却することが望ましい。
発原子の凝縮潜熱等によ勺高温になるので、付着した蒸
着材料を剥離しやすく回収を一層を容易にするために冷
却することが望ましい。
次にその作動について説明するに、図示しない真空槽を
高真空にした後、酸化性ガス導入口よ多酸化性ガスを導
入してフィルム（１）のある真空槽内を所定の雰囲気圧
とし、所定の掃引幅で電子線（１１）を蒸発源（６）の
蒸着材料面に照射すると。
高真空にした後、酸化性ガス導入口よ多酸化性ガスを導
入してフィルム（１）のある真空槽内を所定の雰囲気圧
とし、所定の掃引幅で電子線（１１）を蒸発源（６）の
蒸着材料面に照射すると。
照射された蒸着材料は蒸発し始め、蒸気流が定常状態に
なった時図示しないシャッタを開く。
なった時図示しないシャッタを開く。
かくて蒸気流はスリンｌ−（１１を介してフィルム（１
）の蒸着面（９）に到達し付着する。したがって酸化性
ガスの付着反応面積はほぼフィルム（１）の蒸着面（９
）に限定されるから、蒸着工程の初期における酸化性ガ
スの圧力変化が小さくなシ、そのため高分子フィルム（
１）上に形成される磁性薄膜の品質が比較的短時間に安
定する。また真空槽の壁面等からのガス放出も少ないた
め安定した操業ができる。さらに蒸発材料は室（７）内
に限定されるので回収が容易になる。
）の蒸着面（９）に到達し付着する。したがって酸化性
ガスの付着反応面積はほぼフィルム（１）の蒸着面（９
）に限定されるから、蒸着工程の初期における酸化性ガ
スの圧力変化が小さくなシ、そのため高分子フィルム（
１）上に形成される磁性薄膜の品質が比較的短時間に安
定する。また真空槽の壁面等からのガス放出も少ないた
め安定した操業ができる。さらに蒸発材料は室（７）内
に限定されるので回収が容易になる。
このように本発明によれば、酸化性ガス雰囲気中を走行
するフィルム上に強磁性材料を斜方蒸着して磁性薄膜を
作製する装置において、該強磁性材料の蒸発源部と前記
フィルムの走行部とを前記フィルムの斜方蒸着面及び蒸
発源部の蒸発面によって規制された大きさのスリットを
介して連通させたので、効率の良い磁性薄膜の生産及び
安定した操業ができる等の効果を有する。
するフィルム上に強磁性材料を斜方蒸着して磁性薄膜を
作製する装置において、該強磁性材料の蒸発源部と前記
フィルムの走行部とを前記フィルムの斜方蒸着面及び蒸
発源部の蒸発面によって規制された大きさのスリットを
介して連通させたので、効率の良い磁性薄膜の生産及び
安定した操業ができる等の効果を有する。
図面は本発明の１実施例の模式図を示す。
（１）・・・フィルム （３）・・・回転支持体（５）
・・・入射規制用マスク （６）・・・蒸発源（７）・
・・室 （９）・・・斜方蒸着面σＱ・・・スリット
（１１）・・・電子線特許出願人 太陽誘電株式会社
・・・入射規制用マスク （６）・・・蒸発源（７）・
・・室 （９）・・・斜方蒸着面σＱ・・・スリット
（１１）・・・電子線特許出願人 太陽誘電株式会社
Claims (1)
- 酸化性ガス雰囲気中を走行する被着基材上に強磁性材料
を斜方蒸着して磁性薄膜を作製する装曾において、前記
強磁性材料の蒸発源部と前記被着基材の走行部とを前記
被着基材の斜方蒸着面及び前記蒸発源部の蒸発面によっ
て規制される大きさのスリットを介して連通させたこと
を特徴とする磁性薄膜作製装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16675483A JPS6059536A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁性薄膜作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16675483A JPS6059536A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁性薄膜作製装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059536A true JPS6059536A (ja) | 1985-04-05 |
Family
ID=15837111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16675483A Pending JPS6059536A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁性薄膜作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059536A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56143519A (en) * | 1980-04-08 | 1981-11-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and manufacturing device |
| JPS59141211A (ja) * | 1983-02-01 | 1984-08-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着装置 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16675483A patent/JPS6059536A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56143519A (en) * | 1980-04-08 | 1981-11-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and manufacturing device |
| JPS59141211A (ja) * | 1983-02-01 | 1984-08-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 真空蒸着装置 |
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