JPS6058991A - オルガノシロキサン及びその製法 - Google Patents
オルガノシロキサン及びその製法Info
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は紫外線吸収特性をもち、また中でも日焼は止め
薬剤として有用な新規な有機ケイ素化合物に関する。
薬剤として有用な新規な有機ケイ素化合物に関する。
多数の有機化合物、一般に有機酸及びその誘導体は紫外
線吸収特性をもつεとが知られており、また日焼は止め
調製品の有効な成分として工業的規模で使用されている
。そのような物質が十分に日焼止め作用を呈するとして
も、該物質を塗布した支持体から該物質は容易に除去さ
れる。例えば化粧品日焼は止め調製品は入浴中に少なく
とも部分的に除去され、従って保護を維持する場合には
塗布を繰り返す必要がある。
線吸収特性をもつεとが知られており、また日焼は止め
調製品の有効な成分として工業的規模で使用されている
。そのような物質が十分に日焼止め作用を呈するとして
も、該物質を塗布した支持体から該物質は容易に除去さ
れる。例えば化粧品日焼は止め調製品は入浴中に少なく
とも部分的に除去され、従って保護を維持する場合には
塗布を繰り返す必要がある。
また活性成分は吸収されるのではなく皮膚上に残在され
ることが望ましい。
ることが望ましい。
米国特許第201,11132号及び同第3,06ベ/
3.3号明細書はケイ素と結合した少なくとも7個のフ
ェニルカルバミルアルキル基あるいはケイ素と結合した
少なくとも1個のアシルアミノアルキル基−を含有する
有機ケイ素化合物を不活性、無毒性、非紫外線吸収キャ
リヤー内に分散してなる日焼は防止組成物を開示してい
る。しかし、分子内に上述の基の比較的大量割合が存在
すると高粘度のシロキサン生成物及び固体生成物さえに
もなることは明らかである。このような生成物は油状の
より低い粘度のシロキサン類よりも化粧品用には一般に
望ましいものではない。
3.3号明細書はケイ素と結合した少なくとも7個のフ
ェニルカルバミルアルキル基あるいはケイ素と結合した
少なくとも1個のアシルアミノアルキル基−を含有する
有機ケイ素化合物を不活性、無毒性、非紫外線吸収キャ
リヤー内に分散してなる日焼は防止組成物を開示してい
る。しかし、分子内に上述の基の比較的大量割合が存在
すると高粘度のシロキサン生成物及び固体生成物さえに
もなることは明らかである。このような生成物は油状の
より低い粘度のシロキサン類よりも化粧品用には一般に
望ましいものではない。
英国特許第t/bQ、3ココ号明細書は日焼は止め薬剤
として有用であり、桂皮酸アルリルと分子中にケイ素と
結合した水素原子をもつオルガノシロキサ/との反応に
よって調製できる有機ケイ素化合物を開示している。2
次転位反応ノ存在のために所望の生成物の収率は通常低
い。
として有用であり、桂皮酸アルリルと分子中にケイ素と
結合した水素原子をもつオルガノシロキサ/との反応に
よって調製できる有機ケイ素化合物を開示している。2
次転位反応ノ存在のために所望の生成物の収率は通常低
い。
−次転位反応を回避する有機ケイ素桂皮酸塩の製造方法
は英国特許第1J73.4t!;g−@明細1に記載さ
れている。該方法は桂皮酸アルリルとメルカプトアルキ
ル基、例えばJ−メルカプトアルキル基を含有するシラ
ンあるいはシロキサンとの反応を含む。しかし、通常原
料であるメルカプトアルキルの臭気が若干生成物中に残
るために化粧品用には適当でないことを示すものである
。
は英国特許第1J73.4t!;g−@明細1に記載さ
れている。該方法は桂皮酸アルリルとメルカプトアルキ
ル基、例えばJ−メルカプトアルキル基を含有するシラ
ンあるいはシロキサンとの反応を含む。しかし、通常原
料であるメルカプトアルキルの臭気が若干生成物中に残
るために化粧品用には適当でないことを示すものである
。
本発明は
で表わされるシラン類、または
で表わされる単位を少なくとも1個有するオルガノシロ
キサン類であって、前記オルガノシロキサン類に存在し
うる他の単位が一般式%式% で表わされるオルガノシロキサン類であって、前記式に
おいて、Rはそれぞれ炭素原子3個以下をもつアルコキ
シ基あるいはアルコキシアルコキシ基、炭素原子/〜グ
個をもつアルキル基、ビニル基あるいはフェニル基を表
わし H/は炭素、水素及び適宜エーテル結合の形態で
存在する゛酸素よりなるコ価の炭化水素基を表わし、る
いは/であり、Yが存在する時aが/の場合Yは−OH
あるいは炭素原子7〜7個をもつアルコキシ基であり、
aがOの場合Yは−OHあるいは−NX2(式中Xは水
素あるいは炭素原子l〜弘個をもつアルキル基を表わす
)であり、Qはヒドロキシル基、炭素原子3個以下をも
つアルコキシ基あるいはアルコキシアルコキシ基、メチ
ル基あるいはフェニル基を表わし、Zは水素原子、1価
の炭化水素基あるいは7価のハロゲン化炭化水素基を表
わし、紙は0./あるいは2であり、Cは0. /、コ
あるいはJであるシラン類(I)またはオルガノシロキ
サン類(11)よりなる有機ケイ素化合物を提供するに
ある。
キサン類であって、前記オルガノシロキサン類に存在し
うる他の単位が一般式%式% で表わされるオルガノシロキサン類であって、前記式に
おいて、Rはそれぞれ炭素原子3個以下をもつアルコキ
シ基あるいはアルコキシアルコキシ基、炭素原子/〜グ
個をもつアルキル基、ビニル基あるいはフェニル基を表
わし H/は炭素、水素及び適宜エーテル結合の形態で
存在する゛酸素よりなるコ価の炭化水素基を表わし、る
いは/であり、Yが存在する時aが/の場合Yは−OH
あるいは炭素原子7〜7個をもつアルコキシ基であり、
aがOの場合Yは−OHあるいは−NX2(式中Xは水
素あるいは炭素原子l〜弘個をもつアルキル基を表わす
)であり、Qはヒドロキシル基、炭素原子3個以下をも
つアルコキシ基あるいはアルコキシアルコキシ基、メチ
ル基あるいはフェニル基を表わし、Zは水素原子、1価
の炭化水素基あるいは7価のハロゲン化炭化水素基を表
わし、紙は0./あるいは2であり、Cは0. /、コ
あるいはJであるシラン類(I)またはオルガノシロキ
サン類(11)よりなる有機ケイ素化合物を提供するに
ある。
シラン類の一般式(I)において、各々のRは例えばメ
トキシ基、エトキシ基、インプロポキシ基、メトキシエ
トキシ基、エトキシエトキシ基、メチル基、エチル基、
ビニル基あるいはフェニル基であることができる。コ価
の基R“ は例えば−(CH2)3 t (”G )4
e−CH,・CHCH,CH,−、−(CH,)、O
CR,−9あるいは−CH,・CHCHsCH20CH
,−であることができる。aがlで置換基Yが存在する
(すなわちn==/)の場合、Yはヒドロキシル基ある
いは低級アルコキシ基例えばメトキシ基を表わす。aが
Oの場合、置換基Yはヒドロキシル基あるいはアミン基
−NX、 (各々のXは例えばメチル基、エチル基ある
いはn−プロピル基を表わす)を表わす。
トキシ基、エトキシ基、インプロポキシ基、メトキシエ
トキシ基、エトキシエトキシ基、メチル基、エチル基、
ビニル基あるいはフェニル基であることができる。コ価
の基R“ は例えば−(CH2)3 t (”G )4
e−CH,・CHCH,CH,−、−(CH,)、O
CR,−9あるいは−CH,・CHCHsCH20CH
,−であることができる。aがlで置換基Yが存在する
(すなわちn==/)の場合、Yはヒドロキシル基ある
いは低級アルコキシ基例えばメトキシ基を表わす。aが
Oの場合、置換基Yはヒドロキシル基あるいはアミン基
−NX、 (各々のXは例えばメチル基、エチル基ある
いはn−プロピル基を表わす)を表わす。
それ数本発明のシラン類の例は以下に記するV+ yに
本発明のオルガノシロキサン類は分子中に少なくとも7
個の一般式(1)の範囲内に入る単位をもつ。該オルガ
ノシロキサンは単位(1)のみよりなるホモポリマー類
あるいは単位(+)及び一般式(11)の範囲内に入る
単位を含有するコポリマー類であってもよい。本発明の
シロキサンホモポリマー類及びコポリマー類を規定する
一般式において、R’、R“@Y@a及びnは上述し、
例示したものである。各々の置換基Qは一〇H基、メチ
ル基、フェニル基、あるいはアルコキシ基あるいはアル
コキシアルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ基、イ
ンプロポキシ基、メトキシエトキシ基あるいはエトキシ
エトキシ基であってもよい。各置換基2は水素、/゛価
の炭化水素基あるいはハロゲン化炭化水素基であっても
よく、炭素原子3個以下のものが好適である。それ故、
各zは例えばH,メチル基、プロピル基、ビニル基、フ
ェニル基あるいはJ、J、、7−ト’)フルオロゾロビ
ル基であってもよい。
個の一般式(1)の範囲内に入る単位をもつ。該オルガ
ノシロキサンは単位(1)のみよりなるホモポリマー類
あるいは単位(+)及び一般式(11)の範囲内に入る
単位を含有するコポリマー類であってもよい。本発明の
シロキサンホモポリマー類及びコポリマー類を規定する
一般式において、R’、R“@Y@a及びnは上述し、
例示したものである。各々の置換基Qは一〇H基、メチ
ル基、フェニル基、あるいはアルコキシ基あるいはアル
コキシアルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ基、イ
ンプロポキシ基、メトキシエトキシ基あるいはエトキシ
エトキシ基であってもよい。各置換基2は水素、/゛価
の炭化水素基あるいはハロゲン化炭化水素基であっても
よく、炭素原子3個以下のものが好適である。それ故、
各zは例えばH,メチル基、プロピル基、ビニル基、フ
ェニル基あるいはJ、J、、7−ト’)フルオロゾロビ
ル基であってもよい。
本発明のオルガノシロキサン類は分子の大きさにおいて
、ジシロキサン類から高分子量ホモポリマー類及びコポ
リマー類まで変化させることができ、また稠度は自由に
流れる液体類から樹脂状の固体類までの範囲であること
ができる。
、ジシロキサン類から高分子量ホモポリマー類及びコポ
リマー類まで変化させることができ、また稠度は自由に
流れる液体類から樹脂状の固体類までの範囲であること
ができる。
少くとも化粧品に適用するためには油状の液体で実質上
直鎖のオルガノシロキサンホモポリマー類及びコポリマ
ー類が好適である。また化粧品に適用するためには置換
基Q及び2の少なくとも30%、好ましくは少なくとも
70%がメチル基であることが好ましい。
直鎖のオルガノシロキサンホモポリマー類及びコポリマ
ー類が好適である。また化粧品に適用するためには置換
基Q及び2の少なくとも30%、好ましくは少なくとも
70%がメチル基であることが好ましい。
Yが低級アルコキシ基例えばメトキシ基あるコテ0〜3
コOnm)で高い吸光度を示すことが見出された。それ
故この化合物は例えば紫外線スペクトルの上述の領域に
おける吸収が望ましい化粧品日焼は止めの製品用に使用
するために好適である。
コOnm)で高い吸光度を示すことが見出された。それ
故この化合物は例えば紫外線スペクトルの上述の領域に
おける吸収が望ましい化粧品日焼は止めの製品用に使用
するために好適である。
本発明のオルガノシロキサン類は少なくとも有機酸ある
いは酸塩化物との反応によって製造できる。また本発明
のシラン類は同様な手順で製造することができる。それ
数本発明はまたで表わされる化合物と、 (B)一般式 %式% で表わされるシラン、あるいは 一般式 %式% で表わされる少なくとも1個の単位をもつオルガノシロ
キサンであって、前記オルガノシロキサン中に存在しう
る他の単位が一般式 ノケイ素化合物とを反応させることを%徴とする有機ケ
イ素化合物の製法を提供するにある。
いは酸塩化物との反応によって製造できる。また本発明
のシラン類は同様な手順で製造することができる。それ
数本発明はまたで表わされる化合物と、 (B)一般式 %式% で表わされるシラン、あるいは 一般式 %式% で表わされる少なくとも1個の単位をもつオルガノシロ
キサンであって、前記オルガノシロキサン中に存在しう
る他の単位が一般式 ノケイ素化合物とを反応させることを%徴とする有機ケ
イ素化合物の製法を提供するにある。
ここに前記式中のXは−。6”−’cH,基あるいは基
を表わし、MがCt あるいはOHを表わし、RI R
’ t Q* Ys 7s、b* ’as C及びnが
上述したものである。
を表わし、MがCt あるいはOHを表わし、RI R
’ t Q* Ys 7s、b* ’as C及びnが
上述したものである。
本発明方法において使用する反応剤(A)は芳香族有機
酸例えば桂皮酸、メトキシ桂皮酸、オキシ安息香酸及び
p−ジメチルアミノ安息香酸。
酸例えば桂皮酸、メトキシ桂皮酸、オキシ安息香酸及び
p−ジメチルアミノ安息香酸。
あるいは上述の酸に対応する酸塩化物、例えばシナモイ
ルクロライドである。上述のように好適な製造物はYが
低級アルコキシ基あるいは−NX、基である場合に得ら
れたものである。
ルクロライドである。上述のように好適な製造物はYが
低級アルコキシ基あるいは−NX、基である場合に得ら
れたものである。
エポキシ化した有機ケイ素反応剤(B)は一般イ素化合
物と脂肪族性不飽和結合含有エポキシ化合物例えばアル
リルグリシジルエーテル、メタアルリルグリシジルエー
テルあるいはビニルシフ四ヘキセンモノエポキシドとを
反応させる考慮からケツルグリシジルエーテルを使用し
て誘導したシラン類あるいはオルガノシロキサン類が好
ましい。
物と脂肪族性不飽和結合含有エポキシ化合物例えばアル
リルグリシジルエーテル、メタアルリルグリシジルエー
テルあるいはビニルシフ四ヘキセンモノエポキシドとを
反応させる考慮からケツルグリシジルエーテルを使用し
て誘導したシラン類あるいはオルガノシロキサン類が好
ましい。
<A)と(B)の間の反応は加温下、一般には約SOC
から反応混合物の還流温度までの温度で行うことが好ま
しい。所盟により反応を促進するために触媒を使用する
ことができる。適当な触媒は第3級アミン類、無機塩基
、アルカリ金属塩、及びルイス酸及びルイス塩基を含む
。また所望により反応を促進し、反応生成物の回収を援
助するために溶媒類を使用することができる。適当な溶
媒は例えばトルエン、キシレン、石油エーテル、エステ
ル類、エーテル類及びアルコール類を含む。
から反応混合物の還流温度までの温度で行うことが好ま
しい。所盟により反応を促進するために触媒を使用する
ことができる。適当な触媒は第3級アミン類、無機塩基
、アルカリ金属塩、及びルイス酸及びルイス塩基を含む
。また所望により反応を促進し、反応生成物の回収を援
助するために溶媒類を使用することができる。適当な溶
媒は例えばトルエン、キシレン、石油エーテル、エステ
ル類、エーテル類及びアルコール類を含む。
反応は(/J及び(B)の化孝量論的唇す合あるいは化
学量論的割合よりもわずかに多い量の囚を使用して行う
ことが好ましい。
学量論的割合よりもわずかに多い量の囚を使用して行う
ことが好ましい。
七−v L+ ntJ−kc、k ム j、% レヤ
− NM−’J+V”1≦ブr (1) 対 応イト金
物と酸塩化物との反応により製造できる。もし所望であ
れば前記酸塩化物はヒドロキシル化した有機ケイ素化合
物を製造するために使用した酸と異なる酸から誘導する
ことができる。従って、例えばメトキシ桂皮酸から製造
された有機ケイ素化合物を更にシナモイルクロライドと
反応させ、有機ケイ素化合物中に両方の酸基をもつ有機
ケイ素化合物を提供することができる。
− NM−’J+V”1≦ブr (1) 対 応イト金
物と酸塩化物との反応により製造できる。もし所望であ
れば前記酸塩化物はヒドロキシル化した有機ケイ素化合
物を製造するために使用した酸と異なる酸から誘導する
ことができる。従って、例えばメトキシ桂皮酸から製造
された有機ケイ素化合物を更にシナモイルクロライドと
反応させ、有機ケイ素化合物中に両方の酸基をもつ有機
ケイ素化合物を提供することができる。
従って、酸及び酸塩化物反応剤の適宜な選択により、種
々の吸収スペクトルをもつ有機ケイ素化合物を得ること
ができる。
々の吸収スペクトルをもつ有機ケイ素化合物を得ること
ができる。
本発明化合物は紫外放射線を吸収し、それ故日焼は防止
用薬剤として有用である。本発明化合物は皮膚へそれ自
体塗布できるが、不活性キャリヤー例えばエタノール、
イングロバノール、グリセリン及び鉱油のよ5な溶媒、
及びステアリン酸、プロピレンゲリコール、密ロウ及び
セチルアルコールのようなりリーム基材を用いて組成物
を形成することがより好適である。また他の慣用の成分
例えば香料及び概知の紫外線吸収物質を製造した組成物
中に含有させることができ名。また本発明の有機ケイ素
化合物は例えば、木、プラスチックあるいは金属のよう
な支持体の被覆に際して、該組成物を塗布するがあるい
は塗装用組成物への添加剤として有用である。
用薬剤として有用である。本発明化合物は皮膚へそれ自
体塗布できるが、不活性キャリヤー例えばエタノール、
イングロバノール、グリセリン及び鉱油のよ5な溶媒、
及びステアリン酸、プロピレンゲリコール、密ロウ及び
セチルアルコールのようなりリーム基材を用いて組成物
を形成することがより好適である。また他の慣用の成分
例えば香料及び概知の紫外線吸収物質を製造した組成物
中に含有させることができ名。また本発明の有機ケイ素
化合物は例えば、木、プラスチックあるいは金属のよう
な支持体の被覆に際して、該組成物を塗布するがあるい
は塗装用組成物への添加剤として有用である。
以下に実施例を挙げて本発明を更に説明する。
実施例中、部は重量部を、またMe はメチル基をそれ
ぞれ示す。
ぞれ示す。
実施例/
p−メトキシ桂皮酸qtl<0−コt3モk)、(式中
mは3、nはSである)のシロキサン6−1りI及びト
ルエン/4t4j/をコンデンサー及び温度計を備えた
soomt、フラスコへ装入した。反応混合物の表面上
に窒素を導入し、窒素でガスシールし、次に該反応混合
物を/107:に加熱した。トルエンQl中のN、N−
ジメチルエタノールアミン0d13を前記フラスコへ添
加し、反応混合物をtoz−iisCにダ、3時間保持
した。
mは3、nはSである)のシロキサン6−1りI及びト
ルエン/4t4j/をコンデンサー及び温度計を備えた
soomt、フラスコへ装入した。反応混合物の表面上
に窒素を導入し、窒素でガスシールし、次に該反応混合
物を/107:に加熱した。トルエンQl中のN、N−
ジメチルエタノールアミン0d13を前記フラスコへ添
加し、反応混合物をtoz−iisCにダ、3時間保持
した。
次に反応混合物をt、oCに放冷し、r過により過剰の
p−メトキシ桂皮酸を除去した。
p−メトキシ桂皮酸を除去した。
r液を圧力! OmH7、温度/30Cで揮発性物質を
除去し、下記の構造をもつ粘稠な淡茶色の液体tslを
得た: 上述のポリマーは最大吸収波長λ:: J Ofnmで
桂皮酸1モル当りコqoooのモル吸光係数を持ってい
た。メチレンクロライド中の7%溶液の吸光係数は4+
’J7であった。
除去し、下記の構造をもつ粘稠な淡茶色の液体tslを
得た: 上述のポリマーは最大吸収波長λ:: J Ofnmで
桂皮酸1モル当りコqoooのモル吸光係数を持ってい
た。メチレンクロライド中の7%溶液の吸光係数は4+
’J7であった。
実施例コ
実施例1に記載した方法及びmが?j、nが3である上
述のシロキサンを使用して、次に記載するポリマーを製
造した。
述のシロキサンを使用して、次に記載するポリマーを製
造した。
上述のポリマーは最大吸収波長λ= J Og nmで
桂皮−酸塩1モル当り/ 3.000のモル吸光係数を
持っていた。メチレンクロライド中の1%溶液の吸光係
数は73であった。
桂皮−酸塩1モル当り/ 3.000のモル吸光係数を
持っていた。メチレンクロライド中の1%溶液の吸光係
数は73であった。
実施例3
実施例/に記載した一般的な方法を使用して、p−メト
キシ桂皮酸と各末端ケイ素原子に結合したエポキシ置換
有機基をもつポリジノチルシロキサンとを触媒として無
水酢酸カルシラノ・を使用して反応させた。下記のポリ
マーが得られ(式中人は下記の基を表わす: 1 −0CCH=CHC1−OMe ) このポリマーjOI及びトルエン10Iを7ラスコに装
入し、トルエンiog中にシナモイルクロライド/kl
を溶解した溶液を室温でゆつくりフラスコに添加した。
キシ桂皮酸と各末端ケイ素原子に結合したエポキシ置換
有機基をもつポリジノチルシロキサンとを触媒として無
水酢酸カルシラノ・を使用して反応させた。下記のポリ
マーが得られ(式中人は下記の基を表わす: 1 −0CCH=CHC1−OMe ) このポリマーjOI及びトルエン10Iを7ラスコに装
入し、トルエンiog中にシナモイルクロライド/kl
を溶解した溶液を室温でゆつくりフラスコに添加した。
次に反応混合物を100Cに加熱し、該温度を7時間保
持した。
持した。
冷却時にトリメチルアミン?、6.9を添加し、HCl
で中和し、得られた混合物を1過し、P液を圧力j O
wxHg、温度/’?9Cで揮発性物質を除去(ストリ
ップ)した。
で中和し、得られた混合物を1過し、P液を圧力j O
wxHg、温度/’?9Cで揮発性物質を除去(ストリ
ップ)した。
生成物は下記の構造をもち、J!rcで、360cBの
粘度の油状液体であった: 実施例弘 サリチル酸31゜/11、無水酢酸ナトリウムコ、su
g、酢酸アミル弘o11及びシロキサン1007/をコ
ンデンサー、攪拌器及び窒素パージを備えた7゛ラスコ
に装入した。混合物を/弘ot3に加熱し、/り時間こ
の温度を保持した。冷却後混合物を1過し、減圧下で加
熱し、揮発性物質を除去し、再び濾過した。得られた生
成物は下記の特性をもつオレンジ色のシロキサンポリマ
ーであった: 粘度(/、5−tj A10cP 最夫吸収波長λmax 、? 07 nmモル吸光係数
lt6コ3 実施例S 実施例ヶに記載したエポキシシロキサン反応剤コg、!
? 、 p−アミノ安息香酸7゜4411.N、N−ジ
メfkエタノールアミンo、oqi 及び酢酸アミル3
Stを実施例tと同様に装備したフラスコに装入し、混
合物を100〜lユ9tl: Vcb、h時間加熱した
。1過及び揮発性物質の除去後、最大吸収波長λmax
=29−6乙nmの粘稠なオフフジ色のシロキサンポ
リマーが得られた。このポリマーはジクロロメタンに溶
解した。
粘度の油状液体であった: 実施例弘 サリチル酸31゜/11、無水酢酸ナトリウムコ、su
g、酢酸アミル弘o11及びシロキサン1007/をコ
ンデンサー、攪拌器及び窒素パージを備えた7゛ラスコ
に装入した。混合物を/弘ot3に加熱し、/り時間こ
の温度を保持した。冷却後混合物を1過し、減圧下で加
熱し、揮発性物質を除去し、再び濾過した。得られた生
成物は下記の特性をもつオレンジ色のシロキサンポリマ
ーであった: 粘度(/、5−tj A10cP 最夫吸収波長λmax 、? 07 nmモル吸光係数
lt6コ3 実施例S 実施例ヶに記載したエポキシシロキサン反応剤コg、!
? 、 p−アミノ安息香酸7゜4411.N、N−ジ
メfkエタノールアミンo、oqi 及び酢酸アミル3
Stを実施例tと同様に装備したフラスコに装入し、混
合物を100〜lユ9tl: Vcb、h時間加熱した
。1過及び揮発性物質の除去後、最大吸収波長λmax
=29−6乙nmの粘稠なオフフジ色のシロキサンポ
リマーが得られた。このポリマーはジクロロメタンに溶
解した。
実施例6
実施例qに使用]−たエポキシ置換シロキサン生成物/
00 f、 p−N、N−ジメチルアミノ安息香酸、
7 /、 / j’、 N、N−ジメチルエタノールア
ミン0.2りt及び酢酸アミル39.39 ’litフ
ラスコに装入し、1kOCで’74時間反応させた。f
4過及び揮発性物質の除去後、下記の特性をもつ黄色の
液体が得られた。
00 f、 p−N、N−ジメチルアミノ安息香酸、
7 /、 / j’、 N、N−ジメチルエタノールア
ミン0.2りt及び酢酸アミル39.39 ’litフ
ラスコに装入し、1kOCで’74時間反応させた。f
4過及び揮発性物質の除去後、下記の特性をもつ黄色の
液体が得られた。
粘度(,1,s−[) コ000 cP最大吸収波長λ
maX 3 / 3 nlllモル吸光係数 21’)
30 実施例り 平均構造 ASiMe、 (ト1eSiO)、、 SI
Me2A10. 1式中人は−(CH,)、OCH,0CH−C八を表わ
す)をもつシロキサン/ククt、p−メトキシ桂皮酸4
1g。39.無水酢酸カリウムq。3g及び酢酸アミル
s、i、qiを混合し、1aoCで窒素パージ下6時間
加熱した。濾過及び揮発性物質の除去後。
maX 3 / 3 nlllモル吸光係数 21’)
30 実施例り 平均構造 ASiMe、 (ト1eSiO)、、 SI
Me2A10. 1式中人は−(CH,)、OCH,0CH−C八を表わ
す)をもつシロキサン/ククt、p−メトキシ桂皮酸4
1g。39.無水酢酸カリウムq。3g及び酢酸アミル
s、i、qiを混合し、1aoCで窒素パージ下6時間
加熱した。濾過及び揮発性物質の除去後。
下記の特性をもつ淡黄色の液体が得られた:粘度(−1
左C) /コダcP 最大吸収波長λmax j / Onm吸光係数(CH
2Cl2中のlチ溶液〕 127このシロキサン生成物
39.ポリジメチルシロキサンr粘esθcPl:1.
#、セチルアルコールユを及びボラワックスcP :1
00 (Polawax cPPoo)atを混合する
ととによって水中油型エマルジョンを製造した、この溶
合物をりOCに加熱し、70Cの水gqiへ攪拌しなが
ら添加した。継いクリームエマルションが得られ、更に
シルバージョンミキサ(Silversonmixer
) V使用し、更に均一化し、より粘稠にした。
左C) /コダcP 最大吸収波長λmax j / Onm吸光係数(CH
2Cl2中のlチ溶液〕 127このシロキサン生成物
39.ポリジメチルシロキサンr粘esθcPl:1.
#、セチルアルコールユを及びボラワックスcP :1
00 (Polawax cPPoo)atを混合する
ととによって水中油型エマルジョンを製造した、この溶
合物をりOCに加熱し、70Cの水gqiへ攪拌しなが
ら添加した。継いクリームエマルションが得られ、更に
シルバージョンミキサ(Silversonmixer
) V使用し、更に均一化し、より粘稠にした。
参考例
水り3 # 、 塩化ナトリウムクff下記の組成7も
つ油相に添加し、シロキサン油中水型エマルジョンを調
製した: 実施例7のシロキサン生成物tt エトキシル化第コ級アルコール類 〔l−シト−/l/(Tergitol> /!r S
、? 〕シクロメチコン l11Qf シクロメチコン/ジメチコンコポリマー 9゜3fエマ
ルジヨンは皮膚用ローションとして有用な水ようクリー
ムである0機械市況合促(シルバージョン)を使用して
更に均一化した後、増粘したクリームが得られた。
つ油相に添加し、シロキサン油中水型エマルジョンを調
製した: 実施例7のシロキサン生成物tt エトキシル化第コ級アルコール類 〔l−シト−/l/(Tergitol> /!r S
、? 〕シクロメチコン l11Qf シクロメチコン/ジメチコンコポリマー 9゜3fエマ
ルジヨンは皮膚用ローションとして有用な水ようクリー
ムである0機械市況合促(シルバージョン)を使用して
更に均一化した後、増粘したクリームが得られた。
特許出願人代理人 曽 我 道 照i
手続補正書(自発)
昭和59年10月1日
特許庁長官殿
1、事件の表示
昭和59年特許願第170536号
2、発明の名称
育成ケイ素化合物及びその製法及びその使用法3、補正
をする者 事件との関係 特許出願人 名称 ダウ・コーニング・リミテッド 4、代理人 〒100 住所 東京都千代田区丸の内二丁目4番1号丸の内ビル
ディング4階 (1)明細書の発明の詳細な説明の41’l’16、補
正の内容 明細書第22頁14行の「シクロメチコン」を[シクロ
メチコン【環式ジメチルポリシロA−サン化合物1−(
式中11は平均3〜6である)を持つl](CTI”A
Cos+netic I n)7redient D
ict、io1+aryを参照されたい。)1と補正す
る。
をする者 事件との関係 特許出願人 名称 ダウ・コーニング・リミテッド 4、代理人 〒100 住所 東京都千代田区丸の内二丁目4番1号丸の内ビル
ディング4階 (1)明細書の発明の詳細な説明の41’l’16、補
正の内容 明細書第22頁14行の「シクロメチコン」を[シクロ
メチコン【環式ジメチルポリシロA−サン化合物1−(
式中11は平均3〜6である)を持つl](CTI”A
Cos+netic I n)7redient D
ict、io1+aryを参照されたい。)1と補正す
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 で表わされるシラン類、または で表わされる単位を少なくとも7個もつオルガノシロキ
サン類であって、前記オルガノシロキサン類に存在しう
る他の単位が一般式%式% で表わされるオルガノシロキサン類であって、前記式に
おいて、Rはそれぞれ炭素原子3個以下をもつアルコキ
シ基あるいはアルコキシアルコキシ基、炭素原子/〜q
個をもつアルキル基、ビニル基あるいはフェニル基を表
わし、R′は炭素、水素及び適宜ニー チル結合の形態
で存在する酸素よりなるコ価の炭化水あるいはNH,で
ある以外はCt あるいはa及びnはそれぞれOあるい
はlであり、Yが存在するときは、aがlの場合YはO
H基あるいは炭素原子l−弘個をもつアルコキシ基であ
り、aがOの場合Yは−OHあるいは−NX、(式中X
は水素あるいは炭素原子/〜グ個をもつアルキル基を表
わす)であり、Qはヒドロキシル基、炭素原子3個以下
のアルコキシ基あるいはアルコキシアルコキシ基、メチ
ル基あるいはフェニル基を表わし、2は水素原子、1価
の炭化水素基あるいは7価のハロゲン仕訳化水素基を表
わし、bはOまたは/または−であり、Cは0または1
または2またはJであるシラン類(I)またはオルガノ
シロキサン類(II)よりなる有機ケイ素化合物0 ユ(A)一般式 で表わされる化合物と、 (B)一般式 %式% で表わされるシラン、あるいは 一般式 %式% で表わされる単位を分子中に少t’x くとも7個もつ
オルガノシロキサン中に存在しうる他の単位が一般式 を表わし、MがCt あるいはOH基を表わし、Rはそ
れぞれ炭素原子3個以下をもつアルコキシ基あるいはア
ルコキシアルコキシ基、炭素原子7〜す個をもつアルキ
ル基、ビニル基あるいはフェニル基を表わし、R′は炭
素、水素及か適宜エーテル結合の形態で存在する酸素よ
りなる1価の炭化水素基を表わし、R“−OH1あるい
はYが−OHあるいはNH,であるOあるいはlであり
、Yが存在する時aがlの場合Yは−OHあるいは炭素
原子/〜弘個をもつアルコキシ基であり、aがOの場合
Yは−OHあるいは−NX、(式中Xは水素あるいは炭
素原子/〜弘個をもつアルキル基を表わす)であり、Q
はヒト西キシル基、炭素原子8個以下をもつアルコキシ
基あるいはアルコキシアルコキシ基、メチル基あるいは
フェニル基を表わし、2は水素原子、7価の炭化水素基
あるいは1価のハロゲン化水素基を衣わし、bはOまた
は/またはコであり、CはOまたは/またはコまたは3
であることを特徴とする有機ケイ素化合物の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB838322317A GB8322317D0 (en) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | Organosilicon compounds |
GB8322317 | 1983-08-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6058991A true JPS6058991A (ja) | 1985-04-05 |
JPH0150711B2 JPH0150711B2 (ja) | 1989-10-31 |
Family
ID=10547528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59170536A Granted JPS6058991A (ja) | 1983-08-18 | 1984-08-17 | オルガノシロキサン及びその製法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4554369A (ja) |
EP (1) | EP0138321B1 (ja) |
JP (1) | JPS6058991A (ja) |
AT (1) | ATE44033T1 (ja) |
AU (1) | AU572543B2 (ja) |
CA (1) | CA1245230A (ja) |
DE (1) | DE3478687D1 (ja) |
ES (1) | ES8602024A1 (ja) |
GB (1) | GB8322317D0 (ja) |
GR (1) | GR80125B (ja) |
IL (1) | IL72801A (ja) |
ZA (1) | ZA846355B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009249326A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Jsr Corp | シルセスキオキサン化合物およびその製造方法並びに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8327668D0 (en) * | 1983-10-15 | 1983-11-16 | Dow Corning Ltd | Organosilicon compounds |
GB8405731D0 (en) * | 1984-03-05 | 1984-04-11 | Dow Corning Ltd | Preparation of organosiloxanes |
JPS60197610A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-07 | Kao Corp | 乳化化粧料およびその製造法 |
US4697026A (en) * | 1986-01-06 | 1987-09-29 | Dow Corning Corporation | Acryl functional silicone compounds |
JPH0830051B2 (ja) * | 1986-05-21 | 1996-03-27 | 武田薬品工業株式会社 | 4−ハロゲノ−2−置換オキシイミノ−3−オキソ酪酸のエステルまたはアミドの製造法 |
JPH0751584B2 (ja) * | 1987-05-26 | 1995-06-05 | ダウコーニングアジア株式会社 | シリル基含有アミン化合物の製造法 |
GB8718140D0 (en) * | 1987-07-31 | 1987-09-09 | Dow Corning Ltd | Organosilicon compounds |
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US5315022A (en) * | 1988-07-08 | 1994-05-24 | Shiseido Company Ltd. | Silicone type cinnamic acid derivative, preparation method thereof, UV-ray absorber, and external skin treatment agent |
FR2642968B1 (fr) * | 1989-02-15 | 1991-06-07 | Oreal | Utilisation en cosmetique de diorganopolysiloxanes a fonction benzotriazole et nouvelles compositions cosmetiques contenant ces composes, destinees a la protection de la peau et des cheveux |
FR2642967B1 (fr) * | 1989-02-15 | 1991-06-07 | Oreal | Utilisation en cosmetique de diorganopolysiloxanes a fonction benzalmalonate et nouvelles compositions cosmetiques contenant ces composes, destinees a la protection de la peau et des cheveux |
US4879378A (en) * | 1989-03-30 | 1989-11-07 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Polysiloxanes with pendant sterically hindered phenol moiety connected to the silicon atom via a carbonylyoxy-containing link |
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KR0179115B1 (ko) * | 1995-11-20 | 1999-05-01 | 구자홍 | 액정배향용 감광성물질 및 이를 이용한 액정표시장치 |
FR2756288B1 (fr) * | 1996-11-28 | 1998-12-24 | Oreal | Nouveaux derives de filtres silicies sur leur partie ester, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
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WO2002003934A2 (en) | 2000-07-10 | 2002-01-17 | The Procter & Gamble Company | Transfer-resistant makeup removing compositions |
US6475500B2 (en) | 2000-07-10 | 2002-11-05 | The Procter & Gamble Company | Anhydrous cosmetic compositions |
GB0125778D0 (en) | 2001-10-26 | 2001-12-19 | Procter & Gamble | Silicone elastomer emulsion cosmetic composition comprising colorant inclusive internal phase |
US20030190336A1 (en) * | 2002-03-18 | 2003-10-09 | Adams Christine Helga | Personal care compositions comprising solid particles enterapped in a gel network |
WO2009025386A1 (ja) * | 2007-08-21 | 2009-02-26 | Jsr Corporation | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 |
US7655805B2 (en) | 2008-04-24 | 2010-02-02 | Ufc Corporation | Method for synthesizing benzotriazole |
JP5454772B2 (ja) * | 2008-11-17 | 2014-03-26 | Jsr株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜およびその形成方法ならびに液晶表示素子 |
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---|---|---|---|---|
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US3529055A (en) * | 1966-03-18 | 1970-09-15 | Nat Starch Chem Corp | Suntan composition and method containing alkali soluble polymeric sun screening agents |
NL6702199A (ja) * | 1966-04-08 | 1967-10-09 | ||
FR1527781A (fr) * | 1966-12-23 | 1968-06-07 | Rhone Poulenc Sa | Nouveaux composés organosiliciques à fonctions ester |
BE791682A (fr) * | 1971-11-22 | 1973-05-21 | Dow Corning | Cinnamates organosiliciques et copolymeres de |
DE2215629A1 (de) * | 1972-03-30 | 1973-10-04 | Dynamit Nobel Ag | Kernsubstituierte aralkylsilane |
DE2933206A1 (de) * | 1978-08-18 | 1980-02-28 | Ciba Geigy Ag | Phenolhaltige silane und deren verwendung als schmiermittelzusaetze |
US4293678A (en) * | 1979-11-26 | 1981-10-06 | Union Carbide Corporation | Radiation-curable acrylated epoxy silicone compositions |
DE3132145A1 (de) * | 1981-08-14 | 1983-03-03 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Oxidativ vernetzbare polysiloxanharze, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als lackbindemittel |
US4472590A (en) * | 1982-02-17 | 1984-09-18 | General Electric Company | Silicone compounds |
-
1983
- 1983-08-18 GB GB838322317A patent/GB8322317D0/en active Pending
-
1984
- 1984-08-14 DE DE8484305520T patent/DE3478687D1/de not_active Expired
- 1984-08-14 EP EP84305520A patent/EP0138321B1/en not_active Expired
- 1984-08-14 AT AT84305520T patent/ATE44033T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-08-15 ZA ZA846355A patent/ZA846355B/xx unknown
- 1984-08-16 CA CA000461133A patent/CA1245230A/en not_active Expired
- 1984-08-16 GR GR80125A patent/GR80125B/el unknown
- 1984-08-16 US US06/641,523 patent/US4554369A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-08-17 ES ES535276A patent/ES8602024A1/es not_active Expired
- 1984-08-17 JP JP59170536A patent/JPS6058991A/ja active Granted
- 1984-08-17 AU AU32056/84A patent/AU572543B2/en not_active Ceased
- 1984-08-29 IL IL72801A patent/IL72801A/xx unknown
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---|---|---|---|---|
JP2009249326A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Jsr Corp | シルセスキオキサン化合物およびその製造方法並びに屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料 |
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ATE44033T1 (de) | 1989-06-15 |
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CA1245230A (en) | 1988-11-22 |
ZA846355B (en) | 1985-03-27 |
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EP0138321A1 (en) | 1985-04-24 |
GR80125B (en) | 1984-12-14 |
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