JPH02204410A - 紫外線吸収剤 - Google Patents

紫外線吸収剤

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JPH02204410A
JPH02204410A JP1024246A JP2424689A JPH02204410A JP H02204410 A JPH02204410 A JP H02204410A JP 1024246 A JP1024246 A JP 1024246A JP 2424689 A JP2424689 A JP 2424689A JP H02204410 A JPH02204410 A JP H02204410A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、化粧料等に配合される紫外線吸収剤に関する
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕近年、
紫外線の皮膚に対する有害性が注目され、皮膚が過度の
紫外線にさらされると小じわが発生したり、じみやそば
かすなどの色素沈着や皮膚の老化が促進され、更に皮膚
癌へと発展することもあることから、美容上、健康上好
ましくないという認識が高まり、この有害な紫外線から
皮膚を保護するため、紫外線吸収剤を配合した化粧料が
多数市販されるようになった。
従来、これらの用途に使用される紫外線吸収剤としては
、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール誘導体、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン誘導体、4−メトキシケイ皮酸−2−エトキシエチル
等のケイ皮酸誘導体、P−アミノ安息香酸誘導体、サリ
チル酸誘導体等が知られている。
しかし、これらには経皮吸収、皮膚刺激、溶解性、添加
量の制限等の問題がある。
また、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機顔料も紫
外線防止剤として化粧料に配合することが知られている
が、これらは紫外線を吸収するというよりもむしろ乱反
射により紫外線を防ぐものであり、その効果は十分でな
く、しかも可視光をも遮蔽する。更に、皮膚刺激や毒性
等の問題もある。
一方、5i−8i結合を有するオルガノポリシラン類が
紫外線吸収を示すことは知られて才?す。
特にジメチルポリシラン類について、ケイ索鎖が長くな
るに従って吸収波長域が長波長側に移行することもw4
察されているが、従来よく知られているジメチルポリシ
ラン類については紫外線吸収域が250nmより短波長
であり、特に皮膚にとって有害な紫外線域とされる29
0nm以上の波長の吸収が不十分であり、またケイ索鎖
を長くすると有機溶媒への溶解度が低下し、化粧料など
への配合性が低下し、その利用が制限される問題がある
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので。
290nm以上の紫外線の吸収効果に優れ、かつ経皮吸
収されにくく、皮膚刺激も少なく、毒性も低いため、化
粧料用等として好適に用いられる紫外線吸収剤を提供す
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者は、」
;記目的を達成するため種々のオルガノポリシラン類の
紫外線吸収効果について検討した結果、分子中に下記式
(1) %式%(1) (但し、R1は置換又は未置換の炭素数1〜10のアル
キル基、R1は置換又は未置換の炭素数3以上のアルキ
ル基、シクロアルキル基及びアリール基より選択される
基、nは2以上の整数を示す)で示されるポリシラン構
造単位を含有する有機ケイ素化合物が300〜400n
mの紫外線に対して優れた吸収効果を示し、かっ経皮吸
収や皮膚刺激がなく、化粧料等に配合される紫外線吸収
剤として有効であり、また溶媒等との相溶性を図るため
、上記式(1)の構造単位を有するオルガノポリシラン
にそれ自体紫外線吸収を実際上置さない各種オルガノポ
リシロキサンやアルコキシシランを結合変性した場合も
、同様に式(1)のポリシラン構造単位の作用で優れた
紫外線吸収を示し、従ってかかるポリシラン構造単位を
含有する有機ケイ素化合物が紫外線吸収剤として有効に
使用されることを知見し、本発明をなすに至ったもので
ある。
従って、本発明は、 (A)  分子中に下記式(1) %式%(1) (但し、式中R1は置換又は未置換の炭素数1〜10の
アルキル基、R5は置換又は未置換の炭素数3以上のア
ルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選択さ
れる基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位を含有する有機ケイ素化
合物よりなる紫外線吸収剤、及び(B)  上記(1)
式のポリシラン構造単位と、下記式(2) %式%(2) (但し、式中R3は水素原子、水酸基、置換又は未置換
の一価炭化水素基及びOR’(R’は置換又は未置換の
一価炭化水素基)より選択される基、aはO(a≦4の
正数である。) で示される構造単位とを含有する有機ケイ素化合物より
なる紫外線吸収剤を提供する。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る紫外線吸収剤は、上記(A)、(B)の有
機ケイ素化合物からなるものである。
ここで、R″は置換又は未置換の炭素数1〜10のアル
キル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基等が挙げられるが、中でも炭素数3〜10のア
ルキル基であることが好適であり、R2は置換又は未置
換の炭素数3以上のアルキル基、シクロアルキル基又は
アリール基であるが、特にフェニル基であることが好ま
しい、また、R1,R1はその炭素原子に結合した水素
原子の一部又は全部がハロゲン原子などで置換された基
1例えばトリフロロプロピル基等であってもよい、更に
、nは2以上であるが、特に2〜50、より望ましくは
5〜50、更に望ましくは10〜20である。
また R3は水素原子、水酸基、置換又は未置換の一価
炭化水素基、又はOR’(R’は置換又は未置換の一価
炭化水素基)であるが、これら−価炭化水素基としては
、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基等が挙げられ、またこれらの炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子などで置換された
ものであってもよい。
上述したような有機ケイ素化合物としては、下記のもの
が例示される。
(i)  X刊R’R”Si誉X (R”、 R”、 nは上記と同様の意味を示し、Xは
水素原子又は水酸基を示す。) (…)        A−(R’ R” S i誉Y
(R” R” R13SiO)−fR″5iOVR’R
’SiO’pSiR”R”R10)(式中、Rt、R”
、nは上記と同様の意味を示し。
R5−R13はそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基。
アルケニル基又はアリール基、Aはアルキレン基。
Yは水素原子、水酸基、炭素数1〜3のアルキル基、ア
ルケニル基又はアリール基、b及びCはそれぞれ1以上
の数を示す、) この(it)式の化合物の具体例としては、末端ビニル
官能性ポリシラ:J CH,=CH−qR” R” 5
iiCH=CH。
とSiH含有ポリシロキサン CH,=CH−(R’R”5i3rrCH=CH,と片
末端SiH含有ポリシロキサン とを反応させることにより得られる下記化合物とを反応
させることにより得られる下記化合物などが挙げられる
(iii) Y(R” R” 5iiA−(R” R” 5iotR
” R” 5iO)JSiR” R” R” )及び (但し、(iu)、 (tv)式において、R’、 R
”、 n及びA、Yは上記と同様の意味を示し、R”〜
R″mはそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基、dは1以上の数を示す、) これら、(in)、 (fv)式の化合物の具体例とし
ては、末端ビニル官能性ポリシランなどが挙げられる。
また、末端SiH含有ポリシランH−(R’ R” S
1&Hと末端ビニル官能性ポリシロキサン (CR30)3 S i CB(2CR2−(R” R
2S i雇CH2CH2Sj、(OCH,)。
とを反応させることにより得られる などを挙げることもできる。
(v) (R”O←R6” S 1−A−(R’ R”
 S 1QA−S i R6” ’ (OR” )3 
、J(但し、R’、 R”、 n及びAは上記と同様の
意味を示し、R31は炭素数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基又はアリール基、R”は低級アルキル基又はト
リアルキルシリル基、eはO又は1を示す、) この(v)式の化合物の具体例としては、末端ビニルポ
リシランCH,=CH−(R”R”Si渾CH=CH。
とSiH含有アルコキシシラン(例えばHS i (O
CHz )3 +HCHよS 、i (OC−Hs L
 )との反応生成物である下記化合物 などを挙げることができる。
また、末端SiHポリシランH−(R’R”Si珪Hと
ビニルアルコキシシラン等(例えばCH,=CH8i(
OCH,)、。
CH,=CH3i(O3i(CH,)−)x )とを反
応させることにより得られる下記化合物 (CH,O)3 S、LCH2CH2−(R’ R2S
i脩CI(、CH□5i(OCH,)□などを挙げるこ
ともできる。
なお、上記(3i)〜(v)式において、Aのアルキレ
ン基としては炭素数1−3のもの、特にエチレン基が好
ましく、l)は1〜・10.特に】〜5゜C及びdはそ
れぞれ1〜20、特に2〜20が好ましい。
上記の化合物において、本発明の目的とする紫外線吸収
効果を与える部分は(1)式のオルガノポリシラン部分
であり、これら化合物における(2)式の構造単位部分
は紫外線吸収効果には影響を与えず、これらは溶剤溶解
性を与えるものである0例えば(i)式のオルガノポリ
シランは。
芳香族溶媒への溶解性は良好であるが、脂肪族炭化水素
への溶解性が低く、しかもその溶解性は(i)式中のケ
イ索鎖が長くなるにつれて徐々に低下する傾向があり、
特にアルキルフェニルポリシランは脂肪族炭化水素に溶
解しにくく、ジアルキルポリシランにおいてはケイ索鎖
が長くなるとテトラヒドロフラン等にも溶けにくくなる
。従って、(i)式のオルガノポリシランは、nの数を
大きくしてケイ索鎖を長くすると紫外線吸収極大が長波
長側にシフトすると共に、吸収極大が大きくなって紫外
線吸収能が向上するが、逆に、溶媒との相溶性が低下し
ていくものであるが、これに(2)式の構造単位を導入
し、例えばシロキサン変性してシロキサン鎖を付加する
ことにより、溶媒への溶解性が向上するものである。
なお、上記(1)、 (2)の構造単位を有する有機ケ
イ素化合物の合成は公知の方法が採用される。
例えば、ポリシラン類はオルガノクロロシランとアルカ
リ金g (M)とをトルエン、キシレン。
テトラヒドロフラン等の溶媒中で反応させることにより
得ることができる。
R”R25xCff、 + M−+−(R”R”Sxk
 + MCQR’ R”R” S I Cl/ R” 
R” S z CQz + M  →RI RII R
Ill S i (R″R”Si)mSiR’R”R”
 + MCQこの場合、塩素数を選択することにより偵
状ポリマーあるいは三次元ポリマーを得ることができる
。なお、モノクロロシランは鎖長停止剤として作用し、
重合度を調節することができる。
また、アルケニル基の導入は、例えば次のようにビニル
クロロシラン類を用いることにより行なうことができる
(CH,= CH)R’ R” S ic克/R″R”
SiCら十M→  CH,=CH(R’R”5i)nC
H=CH。
更に、S i I4基の導入は、例えばHR’R”5i
(J/R’R”・5iCQ、+ M→  H−(R’R
”・Si汗H の反応を採用することができる。
このようにして得られるポリシラン類を変性して上記式
(it)〜(V)の化合物を得る場合も公知の方法を利
用することができ、上述したようにS 1−CH=CH
,と5i−Hとの付加反応が好適に採用されるが、更に
例えば(J−(R’R”Si址C12とクロロシランの
共加水分解法、CJI−(R’R”Si誉C11とCJ
I−(R’R”S i O)−S i R’ R”CJ
Iト(i’)Naニよる縮合反応などを利用して製造す
ることができる。
本発明の紫外線吸収剤は、上述した有機ケイ素化合物の
1種又は2種以上から構成されるが、この場合、上記(
1)式の構造単位を有するオルガノポリシランは上述し
たように一般に芳香族系溶媒によく溶けるが、アルキル
フェニルポリシランは脂肪族系溶媒に溶けにくい傾向が
あり、またジアルキルポリシランは重合度が大きくなる
とテトラヒドロフランへの溶解性も低下する傾向がある
従って、化粧料等に配合する場合はその配合性を考慮し
て、溶媒等に応じてその相溶性の点から式(n)〜(v
)の化合物等を適宜選択して使用することが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤は、化粧料、その他紫外線吸収を
必要とする各種用途に使用し得るが、その使用量は適宜
選択され1例えば、化粧料に配合する場合は全体の0.
1〜20重量%、特に1〜10重量%とすることが有効
である。なお、化粧料は、皮膚用、毛髪用等として、ま
たクリーム状、液状、エマルジョン状等として調整でき
、化粧料の種類等に応じた公知の成分を用いて常法によ
り製造することができる。
〔発明の効果〕
本発明の紫外線吸収剤は、300〜400nmの紫外線
を効果的に吸収し、かっ経皮吸収、皮膚刺激、毒性の問
題も少なく、配合性も良好であり、このため化粧料等に
対する紫外線吸収成分として有効に使用される。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが1
本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
〔実施例1〕 第1表に示す両末端がE S i Hである種々の重合
度及び有機基を持つオルガノポリシランの紫外線吸収極
大波長(λwax )と吸収係数(ε)を日立11U−
3400分光光度計(IC11標準セル)を用いて測定
した。結果を第1表に併記する。
第 表 Pr:プロビル基 Buニブチル基 Hax:ヘキシル基 C−Haxニジクロヘキシル基O
at:オクチル基 Ph:フェニル基(実施例2〕 童貞1」− 機械的スタージー、温度計、コンデンサー滴下ロート及
び窒素導入管をそれぞれ取り付けたIQの4つ目フラス
コにトルエン400g及び金属ナトリウム片23gを入
れ、窒素中で加熱してナトリウムを溶融した。次いで、
激しく撹拌しながらメチルフエニルジクロロシラン90
g(0,47モル)を1時間かけて滴下し、その後3、
時間還流した。冷却した後、固体を炉別し、炉液から溶
媒を除去し1次いでテトラヒドロフラン/イソプロパツ
ール溶液で残留物を洗浄して、分子量uni、1000
 (GPC)の固体生成物(H−(CHaC,H,Si
′t−H)  29 g (収率52%)を得た。
査履外叉 合成例1と同じ装置を使用し、同様の方法でトルエン4
00g、金属ナトリウム片23g、メチルフエニルジク
ロロシラン80g (0,42モル)及びメチルフェニ
ルビニルクロロシラン14.6g (0,08モル)を
用いて反応を行ない、反応後冷却し、固体をン戸別した
。炉液から溶媒を除去し、次いで石油エーテル、アセト
ンで洗浄して分子量Mn 1850 (GPC)の半固
体生成物(CH,=C:H(C:H,C,H,St)、
、CH−=CH,)23g(収率3B%)を得た。
次いで、−ヒで得られたオルガノポリシラン10gをト
ルエン120gに溶かし、塩化白金酸−ブタノール触媒
(白金2重量%)を約0.5d加え、60℃に加熱し、
これにH(CHl >x S j、(OS i(CHl
)a)tllOS 、i(CHl)=8.0gを滴下し
て反応させ。粘稠生成物H3 15g(収率83%)を得た。
次に、上記合成例1,2の化合物を濃度3■/10〇−
及び6■/100−でヘキサンに溶解し、日立製U−3
400の分光光度計(1cm標準セル)を用いて紫外線
透過率を測定した。その結果をそれぞれ第1図(合成例
1)、第2図(合成例2)に示す。
また、比較のため市販の紫外線吸収剤のフェニルサリシ
レート(vソーブ201) の25g/100−イソプロピルアルコール溶液、2.
2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン(サ
イア’/−ブUV24)の5IIg1100ml!Qト
ルエン溶液、及びベンゾトリアゾール誘導体(Tinu
vin 320 )の5./100−クロロホルム溶液
の紫外線透過率を測定した結果をそれぞれ第3図〜第5
1!Iに示す。
〔実施例3〕 上記合成例1と同様の方法により、トルエン400 g
 e金属ナトリウム片23g、ジ−n−プロピルジクロ
ロシラン74g (0,4モル)を用いて反応させ、冷
却後、固体を炉別し、炉液よリメタノールを加えてポリ
マーを沈殿させ、ジ−n−プロピルポリシラン〔分子量
Hn 2000(GPC))23g (収率50%)を
得た。
次に、このポリシランを第2表シJ示す組成のクリーム
に配合した。
即ち、下記組成の油相成分を加熱撹拌混合し、70℃に
保ち、これに水相成分を70℃に加熱して加え、乳化状
態とした後、ホモミキサーで均一に乳化し、撹拌しなが
ら冷却してクリームを得た。
第      2      表 上記クリームをエタノールに10重量%の濃度で分散し
、その紫外線透過率を測定した。また比較のため、同様
に市販の日焼は止めクリームをエタノールに10重量%
の濃度で分散し、その紫外線透過率を測定した。その結
果(紫外線透過率スペクトル)を第6図に示す。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図はそれぞれ実施例の紫外線吸収剤の紫
外線吸収スペクトル、第3図はフェニルサリシレートの
紫外線吸収スペクトル、第4図は2.2′−ジヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノンの紫外線吸収スペクト
ル、第5図はベンゾトリアゾール誘導体の紫外線吸収ス
ペクトル、第6図は本発明に係る紫外線吸収剤を配合し
たクリームと市販の日焼は止めクリームの紫外線吸収ス
ペクトルである。 出願人  信越化学工業株式会社 代理人  弁理士 小 島 隆 司 j〒9 ン(2I) 図 2田 ;L 乳 (1鷹) 第41図 娘 &(ルベ) 第1図 第2図 5E、表(9゜) 第5図 (fL感)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、分子中に下記式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (但し、式中R^1は置換又は未置換の炭素数1〜10
    のアルキル基、R^2は置換又は未置換の炭素数3以上
    のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選
    択される基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位を含有する有機ケイ素化
    合物よりなる紫外線吸収剤。 2、分子中に下記式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (但し、式中R^1は置換又は未置換の炭素数1〜10
    のアルキル基、R^2は置換又は未置換の炭素数3以上
    のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選
    択される基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位と、下記式(2)R^3
    aSiO_(_4_−_a_)_/_2・・・(2)(
    但し、式中R^3は水素原子、水酸基、置換又は未置換
    の一価炭化水素基及びOR^4(R^4は置換又は未置
    換の一価炭化水素基)より選択される基、aは0<a≦
    4の正数である。) で示される構造単位とを含有する有機ケイ素化合物より
    なる紫外線吸収剤。
JP1024246A 1989-02-02 1989-02-02 紫外線吸収剤 Granted JPH02204410A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1024246A JPH02204410A (ja) 1989-02-02 1989-02-02 紫外線吸収剤
US07/472,110 US5086127A (en) 1989-02-02 1990-01-30 Silicone UV absorbers containing silane units

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1024246A JPH02204410A (ja) 1989-02-02 1989-02-02 紫外線吸収剤

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JPH02204410A true JPH02204410A (ja) 1990-08-14
JPH0512325B2 JPH0512325B2 (ja) 1993-02-17

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ID=12132894

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1024246A Granted JPH02204410A (ja) 1989-02-02 1989-02-02 紫外線吸収剤

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