JPH02204410A - 紫外線吸収剤 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、化粧料等に配合される紫外線吸収剤に関する
。
。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕近年、
紫外線の皮膚に対する有害性が注目され、皮膚が過度の
紫外線にさらされると小じわが発生したり、じみやそば
かすなどの色素沈着や皮膚の老化が促進され、更に皮膚
癌へと発展することもあることから、美容上、健康上好
ましくないという認識が高まり、この有害な紫外線から
皮膚を保護するため、紫外線吸収剤を配合した化粧料が
多数市販されるようになった。
紫外線の皮膚に対する有害性が注目され、皮膚が過度の
紫外線にさらされると小じわが発生したり、じみやそば
かすなどの色素沈着や皮膚の老化が促進され、更に皮膚
癌へと発展することもあることから、美容上、健康上好
ましくないという認識が高まり、この有害な紫外線から
皮膚を保護するため、紫外線吸収剤を配合した化粧料が
多数市販されるようになった。
従来、これらの用途に使用される紫外線吸収剤としては
、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール誘導体、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン誘導体、4−メトキシケイ皮酸−2−エトキシエチル
等のケイ皮酸誘導体、P−アミノ安息香酸誘導体、サリ
チル酸誘導体等が知られている。
、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール誘導体、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン誘導体、4−メトキシケイ皮酸−2−エトキシエチル
等のケイ皮酸誘導体、P−アミノ安息香酸誘導体、サリ
チル酸誘導体等が知られている。
しかし、これらには経皮吸収、皮膚刺激、溶解性、添加
量の制限等の問題がある。
量の制限等の問題がある。
また、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機顔料も紫
外線防止剤として化粧料に配合することが知られている
が、これらは紫外線を吸収するというよりもむしろ乱反
射により紫外線を防ぐものであり、その効果は十分でな
く、しかも可視光をも遮蔽する。更に、皮膚刺激や毒性
等の問題もある。
外線防止剤として化粧料に配合することが知られている
が、これらは紫外線を吸収するというよりもむしろ乱反
射により紫外線を防ぐものであり、その効果は十分でな
く、しかも可視光をも遮蔽する。更に、皮膚刺激や毒性
等の問題もある。
一方、5i−8i結合を有するオルガノポリシラン類が
紫外線吸収を示すことは知られて才?す。
紫外線吸収を示すことは知られて才?す。
特にジメチルポリシラン類について、ケイ索鎖が長くな
るに従って吸収波長域が長波長側に移行することもw4
察されているが、従来よく知られているジメチルポリシ
ラン類については紫外線吸収域が250nmより短波長
であり、特に皮膚にとって有害な紫外線域とされる29
0nm以上の波長の吸収が不十分であり、またケイ索鎖
を長くすると有機溶媒への溶解度が低下し、化粧料など
への配合性が低下し、その利用が制限される問題がある
。
るに従って吸収波長域が長波長側に移行することもw4
察されているが、従来よく知られているジメチルポリシ
ラン類については紫外線吸収域が250nmより短波長
であり、特に皮膚にとって有害な紫外線域とされる29
0nm以上の波長の吸収が不十分であり、またケイ索鎖
を長くすると有機溶媒への溶解度が低下し、化粧料など
への配合性が低下し、その利用が制限される問題がある
。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので。
290nm以上の紫外線の吸収効果に優れ、かつ経皮吸
収されにくく、皮膚刺激も少なく、毒性も低いため、化
粧料用等として好適に用いられる紫外線吸収剤を提供す
ることを目的とする。
収されにくく、皮膚刺激も少なく、毒性も低いため、化
粧料用等として好適に用いられる紫外線吸収剤を提供す
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明者は、」
;記目的を達成するため種々のオルガノポリシラン類の
紫外線吸収効果について検討した結果、分子中に下記式
(1) %式%(1) (但し、R1は置換又は未置換の炭素数1〜10のアル
キル基、R1は置換又は未置換の炭素数3以上のアルキ
ル基、シクロアルキル基及びアリール基より選択される
基、nは2以上の整数を示す)で示されるポリシラン構
造単位を含有する有機ケイ素化合物が300〜400n
mの紫外線に対して優れた吸収効果を示し、かっ経皮吸
収や皮膚刺激がなく、化粧料等に配合される紫外線吸収
剤として有効であり、また溶媒等との相溶性を図るため
、上記式(1)の構造単位を有するオルガノポリシラン
にそれ自体紫外線吸収を実際上置さない各種オルガノポ
リシロキサンやアルコキシシランを結合変性した場合も
、同様に式(1)のポリシラン構造単位の作用で優れた
紫外線吸収を示し、従ってかかるポリシラン構造単位を
含有する有機ケイ素化合物が紫外線吸収剤として有効に
使用されることを知見し、本発明をなすに至ったもので
ある。
;記目的を達成するため種々のオルガノポリシラン類の
紫外線吸収効果について検討した結果、分子中に下記式
(1) %式%(1) (但し、R1は置換又は未置換の炭素数1〜10のアル
キル基、R1は置換又は未置換の炭素数3以上のアルキ
ル基、シクロアルキル基及びアリール基より選択される
基、nは2以上の整数を示す)で示されるポリシラン構
造単位を含有する有機ケイ素化合物が300〜400n
mの紫外線に対して優れた吸収効果を示し、かっ経皮吸
収や皮膚刺激がなく、化粧料等に配合される紫外線吸収
剤として有効であり、また溶媒等との相溶性を図るため
、上記式(1)の構造単位を有するオルガノポリシラン
にそれ自体紫外線吸収を実際上置さない各種オルガノポ
リシロキサンやアルコキシシランを結合変性した場合も
、同様に式(1)のポリシラン構造単位の作用で優れた
紫外線吸収を示し、従ってかかるポリシラン構造単位を
含有する有機ケイ素化合物が紫外線吸収剤として有効に
使用されることを知見し、本発明をなすに至ったもので
ある。
従って、本発明は、
(A) 分子中に下記式(1)
%式%(1)
(但し、式中R1は置換又は未置換の炭素数1〜10の
アルキル基、R5は置換又は未置換の炭素数3以上のア
ルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選択さ
れる基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位を含有する有機ケイ素化
合物よりなる紫外線吸収剤、及び(B) 上記(1)
式のポリシラン構造単位と、下記式(2) %式%(2) (但し、式中R3は水素原子、水酸基、置換又は未置換
の一価炭化水素基及びOR’(R’は置換又は未置換の
一価炭化水素基)より選択される基、aはO(a≦4の
正数である。) で示される構造単位とを含有する有機ケイ素化合物より
なる紫外線吸収剤を提供する。
アルキル基、R5は置換又は未置換の炭素数3以上のア
ルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選択さ
れる基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位を含有する有機ケイ素化
合物よりなる紫外線吸収剤、及び(B) 上記(1)
式のポリシラン構造単位と、下記式(2) %式%(2) (但し、式中R3は水素原子、水酸基、置換又は未置換
の一価炭化水素基及びOR’(R’は置換又は未置換の
一価炭化水素基)より選択される基、aはO(a≦4の
正数である。) で示される構造単位とを含有する有機ケイ素化合物より
なる紫外線吸収剤を提供する。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る紫外線吸収剤は、上記(A)、(B)の有
機ケイ素化合物からなるものである。
機ケイ素化合物からなるものである。
ここで、R″は置換又は未置換の炭素数1〜10のアル
キル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基等が挙げられるが、中でも炭素数3〜10のア
ルキル基であることが好適であり、R2は置換又は未置
換の炭素数3以上のアルキル基、シクロアルキル基又は
アリール基であるが、特にフェニル基であることが好ま
しい、また、R1,R1はその炭素原子に結合した水素
原子の一部又は全部がハロゲン原子などで置換された基
1例えばトリフロロプロピル基等であってもよい、更に
、nは2以上であるが、特に2〜50、より望ましくは
5〜50、更に望ましくは10〜20である。
キル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基等が挙げられるが、中でも炭素数3〜10のア
ルキル基であることが好適であり、R2は置換又は未置
換の炭素数3以上のアルキル基、シクロアルキル基又は
アリール基であるが、特にフェニル基であることが好ま
しい、また、R1,R1はその炭素原子に結合した水素
原子の一部又は全部がハロゲン原子などで置換された基
1例えばトリフロロプロピル基等であってもよい、更に
、nは2以上であるが、特に2〜50、より望ましくは
5〜50、更に望ましくは10〜20である。
また R3は水素原子、水酸基、置換又は未置換の一価
炭化水素基、又はOR’(R’は置換又は未置換の一価
炭化水素基)であるが、これら−価炭化水素基としては
、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基等が挙げられ、またこれらの炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子などで置換された
ものであってもよい。
炭化水素基、又はOR’(R’は置換又は未置換の一価
炭化水素基)であるが、これら−価炭化水素基としては
、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基等が挙げられ、またこれらの炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子などで置換された
ものであってもよい。
上述したような有機ケイ素化合物としては、下記のもの
が例示される。
が例示される。
(i) X刊R’R”Si誉X
(R”、 R”、 nは上記と同様の意味を示し、Xは
水素原子又は水酸基を示す。) (…) A−(R’ R” S i誉Y
(R” R” R13SiO)−fR″5iOVR’R
’SiO’pSiR”R”R10)(式中、Rt、R”
、nは上記と同様の意味を示し。
水素原子又は水酸基を示す。) (…) A−(R’ R” S i誉Y
(R” R” R13SiO)−fR″5iOVR’R
’SiO’pSiR”R”R10)(式中、Rt、R”
、nは上記と同様の意味を示し。
R5−R13はそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基。
アルケニル基又はアリール基、Aはアルキレン基。
Yは水素原子、水酸基、炭素数1〜3のアルキル基、ア
ルケニル基又はアリール基、b及びCはそれぞれ1以上
の数を示す、) この(it)式の化合物の具体例としては、末端ビニル
官能性ポリシラ:J CH,=CH−qR” R” 5
iiCH=CH。
ルケニル基又はアリール基、b及びCはそれぞれ1以上
の数を示す、) この(it)式の化合物の具体例としては、末端ビニル
官能性ポリシラ:J CH,=CH−qR” R” 5
iiCH=CH。
とSiH含有ポリシロキサン
CH,=CH−(R’R”5i3rrCH=CH,と片
末端SiH含有ポリシロキサン とを反応させることにより得られる下記化合物とを反応
させることにより得られる下記化合物などが挙げられる
。
末端SiH含有ポリシロキサン とを反応させることにより得られる下記化合物とを反応
させることにより得られる下記化合物などが挙げられる
。
(iii)
Y(R” R” 5iiA−(R” R” 5iotR
” R” 5iO)JSiR” R” R” )及び (但し、(iu)、 (tv)式において、R’、 R
”、 n及びA、Yは上記と同様の意味を示し、R”〜
R″mはそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基、dは1以上の数を示す、) これら、(in)、 (fv)式の化合物の具体例とし
ては、末端ビニル官能性ポリシランなどが挙げられる。
” R” 5iO)JSiR” R” R” )及び (但し、(iu)、 (tv)式において、R’、 R
”、 n及びA、Yは上記と同様の意味を示し、R”〜
R″mはそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基、アルケニ
ル基又はアリール基、dは1以上の数を示す、) これら、(in)、 (fv)式の化合物の具体例とし
ては、末端ビニル官能性ポリシランなどが挙げられる。
また、末端SiH含有ポリシランH−(R’ R” S
1&Hと末端ビニル官能性ポリシロキサン (CR30)3 S i CB(2CR2−(R” R
2S i雇CH2CH2Sj、(OCH,)。
1&Hと末端ビニル官能性ポリシロキサン (CR30)3 S i CB(2CR2−(R” R
2S i雇CH2CH2Sj、(OCH,)。
とを反応させることにより得られる
などを挙げることもできる。
(v) (R”O←R6” S 1−A−(R’ R”
S 1QA−S i R6” ’ (OR” )3
、J(但し、R’、 R”、 n及びAは上記と同様の
意味を示し、R31は炭素数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基又はアリール基、R”は低級アルキル基又はト
リアルキルシリル基、eはO又は1を示す、) この(v)式の化合物の具体例としては、末端ビニルポ
リシランCH,=CH−(R”R”Si渾CH=CH。
S 1QA−S i R6” ’ (OR” )3
、J(但し、R’、 R”、 n及びAは上記と同様の
意味を示し、R31は炭素数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基又はアリール基、R”は低級アルキル基又はト
リアルキルシリル基、eはO又は1を示す、) この(v)式の化合物の具体例としては、末端ビニルポ
リシランCH,=CH−(R”R”Si渾CH=CH。
とSiH含有アルコキシシラン(例えばHS i (O
CHz )3 +HCHよS 、i (OC−Hs L
)との反応生成物である下記化合物 などを挙げることができる。
CHz )3 +HCHよS 、i (OC−Hs L
)との反応生成物である下記化合物 などを挙げることができる。
また、末端SiHポリシランH−(R’R”Si珪Hと
ビニルアルコキシシラン等(例えばCH,=CH8i(
OCH,)、。
ビニルアルコキシシラン等(例えばCH,=CH8i(
OCH,)、。
CH,=CH3i(O3i(CH,)−)x )とを反
応させることにより得られる下記化合物 (CH,O)3 S、LCH2CH2−(R’ R2S
i脩CI(、CH□5i(OCH,)□などを挙げるこ
ともできる。
応させることにより得られる下記化合物 (CH,O)3 S、LCH2CH2−(R’ R2S
i脩CI(、CH□5i(OCH,)□などを挙げるこ
ともできる。
なお、上記(3i)〜(v)式において、Aのアルキレ
ン基としては炭素数1−3のもの、特にエチレン基が好
ましく、l)は1〜・10.特に】〜5゜C及びdはそ
れぞれ1〜20、特に2〜20が好ましい。
ン基としては炭素数1−3のもの、特にエチレン基が好
ましく、l)は1〜・10.特に】〜5゜C及びdはそ
れぞれ1〜20、特に2〜20が好ましい。
上記の化合物において、本発明の目的とする紫外線吸収
効果を与える部分は(1)式のオルガノポリシラン部分
であり、これら化合物における(2)式の構造単位部分
は紫外線吸収効果には影響を与えず、これらは溶剤溶解
性を与えるものである0例えば(i)式のオルガノポリ
シランは。
効果を与える部分は(1)式のオルガノポリシラン部分
であり、これら化合物における(2)式の構造単位部分
は紫外線吸収効果には影響を与えず、これらは溶剤溶解
性を与えるものである0例えば(i)式のオルガノポリ
シランは。
芳香族溶媒への溶解性は良好であるが、脂肪族炭化水素
への溶解性が低く、しかもその溶解性は(i)式中のケ
イ索鎖が長くなるにつれて徐々に低下する傾向があり、
特にアルキルフェニルポリシランは脂肪族炭化水素に溶
解しにくく、ジアルキルポリシランにおいてはケイ索鎖
が長くなるとテトラヒドロフラン等にも溶けにくくなる
。従って、(i)式のオルガノポリシランは、nの数を
大きくしてケイ索鎖を長くすると紫外線吸収極大が長波
長側にシフトすると共に、吸収極大が大きくなって紫外
線吸収能が向上するが、逆に、溶媒との相溶性が低下し
ていくものであるが、これに(2)式の構造単位を導入
し、例えばシロキサン変性してシロキサン鎖を付加する
ことにより、溶媒への溶解性が向上するものである。
への溶解性が低く、しかもその溶解性は(i)式中のケ
イ索鎖が長くなるにつれて徐々に低下する傾向があり、
特にアルキルフェニルポリシランは脂肪族炭化水素に溶
解しにくく、ジアルキルポリシランにおいてはケイ索鎖
が長くなるとテトラヒドロフラン等にも溶けにくくなる
。従って、(i)式のオルガノポリシランは、nの数を
大きくしてケイ索鎖を長くすると紫外線吸収極大が長波
長側にシフトすると共に、吸収極大が大きくなって紫外
線吸収能が向上するが、逆に、溶媒との相溶性が低下し
ていくものであるが、これに(2)式の構造単位を導入
し、例えばシロキサン変性してシロキサン鎖を付加する
ことにより、溶媒への溶解性が向上するものである。
なお、上記(1)、 (2)の構造単位を有する有機ケ
イ素化合物の合成は公知の方法が採用される。
イ素化合物の合成は公知の方法が採用される。
例えば、ポリシラン類はオルガノクロロシランとアルカ
リ金g (M)とをトルエン、キシレン。
リ金g (M)とをトルエン、キシレン。
テトラヒドロフラン等の溶媒中で反応させることにより
得ることができる。
得ることができる。
R”R25xCff、 + M−+−(R”R”Sxk
+ MCQR’ R”R” S I Cl/ R”
R” S z CQz + M →RI RII R
Ill S i (R″R”Si)mSiR’R”R”
+ MCQこの場合、塩素数を選択することにより偵
状ポリマーあるいは三次元ポリマーを得ることができる
。なお、モノクロロシランは鎖長停止剤として作用し、
重合度を調節することができる。
+ MCQR’ R”R” S I Cl/ R”
R” S z CQz + M →RI RII R
Ill S i (R″R”Si)mSiR’R”R”
+ MCQこの場合、塩素数を選択することにより偵
状ポリマーあるいは三次元ポリマーを得ることができる
。なお、モノクロロシランは鎖長停止剤として作用し、
重合度を調節することができる。
また、アルケニル基の導入は、例えば次のようにビニル
クロロシラン類を用いることにより行なうことができる
。
クロロシラン類を用いることにより行なうことができる
。
(CH,= CH)R’ R” S ic克/R″R”
SiCら十M→ CH,=CH(R’R”5i)nC
H=CH。
SiCら十M→ CH,=CH(R’R”5i)nC
H=CH。
更に、S i I4基の導入は、例えばHR’R”5i
(J/R’R”・5iCQ、+ M→ H−(R’R
”・Si汗H の反応を採用することができる。
(J/R’R”・5iCQ、+ M→ H−(R’R
”・Si汗H の反応を採用することができる。
このようにして得られるポリシラン類を変性して上記式
(it)〜(V)の化合物を得る場合も公知の方法を利
用することができ、上述したようにS 1−CH=CH
,と5i−Hとの付加反応が好適に採用されるが、更に
例えば(J−(R’R”Si址C12とクロロシランの
共加水分解法、CJI−(R’R”Si誉C11とCJ
I−(R’R”S i O)−S i R’ R”CJ
Iト(i’)Naニよる縮合反応などを利用して製造す
ることができる。
(it)〜(V)の化合物を得る場合も公知の方法を利
用することができ、上述したようにS 1−CH=CH
,と5i−Hとの付加反応が好適に採用されるが、更に
例えば(J−(R’R”Si址C12とクロロシランの
共加水分解法、CJI−(R’R”Si誉C11とCJ
I−(R’R”S i O)−S i R’ R”CJ
Iト(i’)Naニよる縮合反応などを利用して製造す
ることができる。
本発明の紫外線吸収剤は、上述した有機ケイ素化合物の
1種又は2種以上から構成されるが、この場合、上記(
1)式の構造単位を有するオルガノポリシランは上述し
たように一般に芳香族系溶媒によく溶けるが、アルキル
フェニルポリシランは脂肪族系溶媒に溶けにくい傾向が
あり、またジアルキルポリシランは重合度が大きくなる
とテトラヒドロフランへの溶解性も低下する傾向がある
。
1種又は2種以上から構成されるが、この場合、上記(
1)式の構造単位を有するオルガノポリシランは上述し
たように一般に芳香族系溶媒によく溶けるが、アルキル
フェニルポリシランは脂肪族系溶媒に溶けにくい傾向が
あり、またジアルキルポリシランは重合度が大きくなる
とテトラヒドロフランへの溶解性も低下する傾向がある
。
従って、化粧料等に配合する場合はその配合性を考慮し
て、溶媒等に応じてその相溶性の点から式(n)〜(v
)の化合物等を適宜選択して使用することが好ましい。
て、溶媒等に応じてその相溶性の点から式(n)〜(v
)の化合物等を適宜選択して使用することが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤は、化粧料、その他紫外線吸収を
必要とする各種用途に使用し得るが、その使用量は適宜
選択され1例えば、化粧料に配合する場合は全体の0.
1〜20重量%、特に1〜10重量%とすることが有効
である。なお、化粧料は、皮膚用、毛髪用等として、ま
たクリーム状、液状、エマルジョン状等として調整でき
、化粧料の種類等に応じた公知の成分を用いて常法によ
り製造することができる。
必要とする各種用途に使用し得るが、その使用量は適宜
選択され1例えば、化粧料に配合する場合は全体の0.
1〜20重量%、特に1〜10重量%とすることが有効
である。なお、化粧料は、皮膚用、毛髪用等として、ま
たクリーム状、液状、エマルジョン状等として調整でき
、化粧料の種類等に応じた公知の成分を用いて常法によ
り製造することができる。
本発明の紫外線吸収剤は、300〜400nmの紫外線
を効果的に吸収し、かっ経皮吸収、皮膚刺激、毒性の問
題も少なく、配合性も良好であり、このため化粧料等に
対する紫外線吸収成分として有効に使用される。
を効果的に吸収し、かっ経皮吸収、皮膚刺激、毒性の問
題も少なく、配合性も良好であり、このため化粧料等に
対する紫外線吸収成分として有効に使用される。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが1
本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
〔実施例1〕
第1表に示す両末端がE S i Hである種々の重合
度及び有機基を持つオルガノポリシランの紫外線吸収極
大波長(λwax )と吸収係数(ε)を日立11U−
3400分光光度計(IC11標準セル)を用いて測定
した。結果を第1表に併記する。
度及び有機基を持つオルガノポリシランの紫外線吸収極
大波長(λwax )と吸収係数(ε)を日立11U−
3400分光光度計(IC11標準セル)を用いて測定
した。結果を第1表に併記する。
第
表
Pr:プロビル基 Buニブチル基
Hax:ヘキシル基 C−Haxニジクロヘキシル基O
at:オクチル基 Ph:フェニル基(実施例2〕 童貞1」− 機械的スタージー、温度計、コンデンサー滴下ロート及
び窒素導入管をそれぞれ取り付けたIQの4つ目フラス
コにトルエン400g及び金属ナトリウム片23gを入
れ、窒素中で加熱してナトリウムを溶融した。次いで、
激しく撹拌しながらメチルフエニルジクロロシラン90
g(0,47モル)を1時間かけて滴下し、その後3、
時間還流した。冷却した後、固体を炉別し、炉液から溶
媒を除去し1次いでテトラヒドロフラン/イソプロパツ
ール溶液で残留物を洗浄して、分子量uni、1000
(GPC)の固体生成物(H−(CHaC,H,Si
′t−H) 29 g (収率52%)を得た。
at:オクチル基 Ph:フェニル基(実施例2〕 童貞1」− 機械的スタージー、温度計、コンデンサー滴下ロート及
び窒素導入管をそれぞれ取り付けたIQの4つ目フラス
コにトルエン400g及び金属ナトリウム片23gを入
れ、窒素中で加熱してナトリウムを溶融した。次いで、
激しく撹拌しながらメチルフエニルジクロロシラン90
g(0,47モル)を1時間かけて滴下し、その後3、
時間還流した。冷却した後、固体を炉別し、炉液から溶
媒を除去し1次いでテトラヒドロフラン/イソプロパツ
ール溶液で残留物を洗浄して、分子量uni、1000
(GPC)の固体生成物(H−(CHaC,H,Si
′t−H) 29 g (収率52%)を得た。
査履外叉
合成例1と同じ装置を使用し、同様の方法でトルエン4
00g、金属ナトリウム片23g、メチルフエニルジク
ロロシラン80g (0,42モル)及びメチルフェニ
ルビニルクロロシラン14.6g (0,08モル)を
用いて反応を行ない、反応後冷却し、固体をン戸別した
。炉液から溶媒を除去し、次いで石油エーテル、アセト
ンで洗浄して分子量Mn 1850 (GPC)の半固
体生成物(CH,=C:H(C:H,C,H,St)、
、CH−=CH,)23g(収率3B%)を得た。
00g、金属ナトリウム片23g、メチルフエニルジク
ロロシラン80g (0,42モル)及びメチルフェニ
ルビニルクロロシラン14.6g (0,08モル)を
用いて反応を行ない、反応後冷却し、固体をン戸別した
。炉液から溶媒を除去し、次いで石油エーテル、アセト
ンで洗浄して分子量Mn 1850 (GPC)の半固
体生成物(CH,=C:H(C:H,C,H,St)、
、CH−=CH,)23g(収率3B%)を得た。
次いで、−ヒで得られたオルガノポリシラン10gをト
ルエン120gに溶かし、塩化白金酸−ブタノール触媒
(白金2重量%)を約0.5d加え、60℃に加熱し、
これにH(CHl >x S j、(OS i(CHl
)a)tllOS 、i(CHl)=8.0gを滴下し
て反応させ。粘稠生成物H3 15g(収率83%)を得た。
ルエン120gに溶かし、塩化白金酸−ブタノール触媒
(白金2重量%)を約0.5d加え、60℃に加熱し、
これにH(CHl >x S j、(OS i(CHl
)a)tllOS 、i(CHl)=8.0gを滴下し
て反応させ。粘稠生成物H3 15g(収率83%)を得た。
次に、上記合成例1,2の化合物を濃度3■/10〇−
及び6■/100−でヘキサンに溶解し、日立製U−3
400の分光光度計(1cm標準セル)を用いて紫外線
透過率を測定した。その結果をそれぞれ第1図(合成例
1)、第2図(合成例2)に示す。
及び6■/100−でヘキサンに溶解し、日立製U−3
400の分光光度計(1cm標準セル)を用いて紫外線
透過率を測定した。その結果をそれぞれ第1図(合成例
1)、第2図(合成例2)に示す。
また、比較のため市販の紫外線吸収剤のフェニルサリシ
レート(vソーブ201) の25g/100−イソプロピルアルコール溶液、2.
2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン(サ
イア’/−ブUV24)の5IIg1100ml!Qト
ルエン溶液、及びベンゾトリアゾール誘導体(Tinu
vin 320 )の5./100−クロロホルム溶液
の紫外線透過率を測定した結果をそれぞれ第3図〜第5
1!Iに示す。
レート(vソーブ201) の25g/100−イソプロピルアルコール溶液、2.
2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン(サ
イア’/−ブUV24)の5IIg1100ml!Qト
ルエン溶液、及びベンゾトリアゾール誘導体(Tinu
vin 320 )の5./100−クロロホルム溶液
の紫外線透過率を測定した結果をそれぞれ第3図〜第5
1!Iに示す。
〔実施例3〕
上記合成例1と同様の方法により、トルエン400 g
e金属ナトリウム片23g、ジ−n−プロピルジクロ
ロシラン74g (0,4モル)を用いて反応させ、冷
却後、固体を炉別し、炉液よリメタノールを加えてポリ
マーを沈殿させ、ジ−n−プロピルポリシラン〔分子量
Hn 2000(GPC))23g (収率50%)を
得た。
e金属ナトリウム片23g、ジ−n−プロピルジクロ
ロシラン74g (0,4モル)を用いて反応させ、冷
却後、固体を炉別し、炉液よリメタノールを加えてポリ
マーを沈殿させ、ジ−n−プロピルポリシラン〔分子量
Hn 2000(GPC))23g (収率50%)を
得た。
次に、このポリシランを第2表シJ示す組成のクリーム
に配合した。
に配合した。
即ち、下記組成の油相成分を加熱撹拌混合し、70℃に
保ち、これに水相成分を70℃に加熱して加え、乳化状
態とした後、ホモミキサーで均一に乳化し、撹拌しなが
ら冷却してクリームを得た。
保ち、これに水相成分を70℃に加熱して加え、乳化状
態とした後、ホモミキサーで均一に乳化し、撹拌しなが
ら冷却してクリームを得た。
第 2 表
上記クリームをエタノールに10重量%の濃度で分散し
、その紫外線透過率を測定した。また比較のため、同様
に市販の日焼は止めクリームをエタノールに10重量%
の濃度で分散し、その紫外線透過率を測定した。その結
果(紫外線透過率スペクトル)を第6図に示す。
、その紫外線透過率を測定した。また比較のため、同様
に市販の日焼は止めクリームをエタノールに10重量%
の濃度で分散し、その紫外線透過率を測定した。その結
果(紫外線透過率スペクトル)を第6図に示す。
第1図及び第2図はそれぞれ実施例の紫外線吸収剤の紫
外線吸収スペクトル、第3図はフェニルサリシレートの
紫外線吸収スペクトル、第4図は2.2′−ジヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノンの紫外線吸収スペクト
ル、第5図はベンゾトリアゾール誘導体の紫外線吸収ス
ペクトル、第6図は本発明に係る紫外線吸収剤を配合し
たクリームと市販の日焼は止めクリームの紫外線吸収ス
ペクトルである。 出願人 信越化学工業株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司 j〒9 ン(2I) 図 2田 ;L 乳 (1鷹) 第41図 娘 &(ルベ) 第1図 第2図 5E、表(9゜) 第5図 (fL感)
外線吸収スペクトル、第3図はフェニルサリシレートの
紫外線吸収スペクトル、第4図は2.2′−ジヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノンの紫外線吸収スペクト
ル、第5図はベンゾトリアゾール誘導体の紫外線吸収ス
ペクトル、第6図は本発明に係る紫外線吸収剤を配合し
たクリームと市販の日焼は止めクリームの紫外線吸収ス
ペクトルである。 出願人 信越化学工業株式会社 代理人 弁理士 小 島 隆 司 j〒9 ン(2I) 図 2田 ;L 乳 (1鷹) 第41図 娘 &(ルベ) 第1図 第2図 5E、表(9゜) 第5図 (fL感)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、分子中に下記式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (但し、式中R^1は置換又は未置換の炭素数1〜10
のアルキル基、R^2は置換又は未置換の炭素数3以上
のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選
択される基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位を含有する有機ケイ素化
合物よりなる紫外線吸収剤。 2、分子中に下記式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (但し、式中R^1は置換又は未置換の炭素数1〜10
のアルキル基、R^2は置換又は未置換の炭素数3以上
のアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基より選
択される基、nは2以上の整数である。) で示されるポリシラン構造単位と、下記式(2)R^3
aSiO_(_4_−_a_)_/_2・・・(2)(
但し、式中R^3は水素原子、水酸基、置換又は未置換
の一価炭化水素基及びOR^4(R^4は置換又は未置
換の一価炭化水素基)より選択される基、aは0<a≦
4の正数である。) で示される構造単位とを含有する有機ケイ素化合物より
なる紫外線吸収剤。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1024246A JPH02204410A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 紫外線吸収剤 |
US07/472,110 US5086127A (en) | 1989-02-02 | 1990-01-30 | Silicone UV absorbers containing silane units |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1024246A JPH02204410A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 紫外線吸収剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02204410A true JPH02204410A (ja) | 1990-08-14 |
JPH0512325B2 JPH0512325B2 (ja) | 1993-02-17 |
Family
ID=12132894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1024246A Granted JPH02204410A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 紫外線吸収剤 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5086127A (ja) |
JP (1) | JPH02204410A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005314408A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Shiseido Co Ltd | シリコンクラスター又はゲルマニウムクラスターを含む紫外線吸収剤及び発光剤並びにそのクラスターを用いた皮膚外用剤 |
JP2015528840A (ja) * | 2012-07-03 | 2015-10-01 | バーニング ブッシュ グループ、 エルエルシー | 高性能ケイ素系コーティング組成物 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5204381A (en) * | 1990-02-13 | 1993-04-20 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Hybrid sol-gel optical materials |
US5750588A (en) * | 1996-09-27 | 1998-05-12 | Three Bond Co., Ltd. | Radiation-curable silicone composition |
WO2001058420A1 (fr) * | 2000-02-10 | 2001-08-16 | Rhodia Chimie | Utilisation, dans les compositions cosmetiques, de polyorganosiloxane fonctionnalise comme agent mouillant et dispersant des particules minerales |
WO2014014542A2 (en) | 2012-04-27 | 2014-01-23 | Burning Bush Group | High performance silicon based coating compositions |
US10138381B2 (en) | 2012-05-10 | 2018-11-27 | Burning Bush Group, Llc | High performance silicon based thermal coating compositions |
US9006355B1 (en) | 2013-10-04 | 2015-04-14 | Burning Bush Group, Llc | High performance silicon-based compositions |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4590253A (en) * | 1981-08-26 | 1986-05-20 | Kurosaki Refractoris Co., Ltd. | Organosilicon polymer and process for production thereof |
US4654408A (en) * | 1985-03-14 | 1987-03-31 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable silicone composition |
US4626583A (en) * | 1985-07-11 | 1986-12-02 | Petrarch Systems Inc. | Polysilane-siloxane oligomers and copolymers and methods of making the same |
US4783495A (en) * | 1987-11-20 | 1988-11-08 | Ciba-Geigy Corporation | (Hydroxyphenyl) silane stabilizers |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP1024246A patent/JPH02204410A/ja active Granted
-
1990
- 1990-01-30 US US07/472,110 patent/US5086127A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005314408A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Shiseido Co Ltd | シリコンクラスター又はゲルマニウムクラスターを含む紫外線吸収剤及び発光剤並びにそのクラスターを用いた皮膚外用剤 |
JP2015528840A (ja) * | 2012-07-03 | 2015-10-01 | バーニング ブッシュ グループ、 エルエルシー | 高性能ケイ素系コーティング組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5086127A (en) | 1992-02-04 |
JPH0512325B2 (ja) | 1993-02-17 |
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