WO2021172463A1 - ホスト基及び／又はゲスト基を有するシロキサン結合含有高分子化合物を含む化粧料 - Google Patents

Abstract

本開示は、優れた使用感を有する化粧料を提供することを目的とする。　ホスト基を有する高分子化合物からなるホスト体及びゲスト基を有する高分子化合物からなるゲスト体、又は、ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物からなるホスト－ゲスト体を含有し、かつ、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる、化粧料。

Description

ホスト基及び／又はゲスト基を有するシロキサン結合含有高分子化合物を含む化粧料

　本開示は、ホスト基及び／又はゲスト基を有するシロキサン結合含有高分子化合物を含む化粧料に関する。

　架橋された高分子化合物を利用することによって、皮膜を形成することが知られている。特に、架橋されたシリコーン樹脂を含む皮膜形成剤が、種々のコーティング剤や化粧料として幅広く利用されている。

　特許文献１は、皮膜形成剤としてトリメチルシロキシケイ酸等を含有する化粧料を開示している。

　また、ホスト基を有する高分子化合物からなるホスト体及びゲスト基を有する高分子化合物からなるゲスト体、又は、ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物からなるホスト－ゲスト体は、そのホスト基及びゲスト基の組み合わせによって、可逆的に結合を形成できることが知られている（特許文献２）。

　特許文献３は、ホスト基含有モノマー、ゲスト基含有モノマー及びアクリル系モノマーの水系溶媒溶液の製造方法について開示している。

特開２０１９－９９５７６号公報 国際公開第２０１２／０３６０６９号 国際公開第２０１３／１６２０１９号

　架橋された高分子化合物を含有する従来の化粧料は、使用感が不十分である場合があった。具体的には、架橋された高分子化合物を含有する従来の化粧料では、肌等への適用後に、密着感、はり感、及び／又はつっぱり感に関して、望ましくない使用感を有する場合があった。

　そこで、本開示は、優れた使用感を有する化粧料を提供することを目的とする。

　本件発明者らは、このような課題を解決するために鋭意検討を重ね、本願を発明するに至った。

　すなわち、本開示に係る発明は、下記の態様を含む：
〈態様１〉
　ホスト基を有する高分子化合物からなるホスト体及びゲスト基を有する高分子化合物からなるゲスト体、又は、ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物からなるホスト－ゲスト体を含有し、かつ、
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる、化粧料
〈態様２〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる、態様１に記載の化粧料。
〈態様３〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖にシロキサン結合を含んでいる、態様１に記載の化粧料。
〈態様４〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖にシロキサン結合を含んでいる、態様３に記載の化粧料。
〈態様５〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物が、側鎖にホスト基を有しており、かつ
　前記ゲスト基を有する高分子化合物が、側鎖にゲスト基を有している、
態様１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様６〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物が、側鎖にホスト基を有しており、かつ
　前記ゲスト基を有する高分子化合物が、末端にゲスト基を有している、
態様１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様７〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物が、末端にホスト基を有しており、かつ
　前記ゲスト基を有する高分子化合物が、側鎖にゲスト基を有している、
態様１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様８〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物の少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、架橋されている、
態様１～７のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様９〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（１）で表される構造を有する、態様１～８のいずれか一項に記載の化粧料：

［式（１）中、Ｒ^１～Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、１価のスピロ環化合物、１価の縮合環化合物、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、Ｎ（Ｈ），若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、若しくはウレタン結合、ウレア結合であるか、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、２価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；複数のＲ^１０は、それぞれ同一でも異なっていてもよい；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい；ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す；Ｒ^Ｙは、ホスト基である；Ｒ^Ｚは、ゲスト基である；ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ、０以上の整数を表し、これらは互いに同一であっても異なっていてもよい；少なくともｊ又はｋが、１以上の整数である；ｎは、１以上の整数を表す。］。
〈態様１０〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、前記式（１）で表される構造を有する、態様９に記載の化粧料。
〈態様１１〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖に、前記式（１）で表される構造を有する、態様９又は１０に記載の化粧料。
〈態様１２〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、
　ビニル主鎖、アクリル主鎖、ウレタン主鎖、エポキシ主鎖、ポリイミド主鎖、ポリエステル主鎖、ポリウレア主鎖、又はポリカーボネート主鎖を有しており、かつ、
　側鎖に、前記式（１）で表される構造を有している、
態様９又は１０に記載の化粧料。
〈態様１３〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（２）で表される構造単位を有する、態様１～１２のいずれか一項に記載の化粧料：

［式（２）中、Ｒ^１～Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、１価のスピロ環化合物、１価の縮合環化合物、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、ＮＨ，若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、若しくはウレタン結合、ウレア結合であるか、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、２価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；複数のＲ^１０は、それぞれ同一でも異なっていてもよい；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ複数ある場合、同一でも異なっていてもよい；ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す；Ｒ^Ｙは、ホスト基である；Ｒ^Ｚは、ゲスト基である；ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ、０以上の整数を表し、これらは互いに同一であっても異なっていてもよく、少なくともｊ又はｋが、１以上の整数である；ｎは、１以上の整数を表す；Ｒ^ｍ１～Ｒ^ｍ３は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、Ｙ^１は、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合であり、Ｒ^ｍ４は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｙ^２は、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、Ｎ（Ｈ），又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、ａ、ｂ、ｃは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す；＊は、高分子化合物の主鎖を構成する単結合を表す。］。
〈態様１４〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、前記式（２）で表される構造を有する、態様１３に記載の化粧料。
〈態様１５〉
　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（３）で表される構造単位をさらに有する、態様１３又は１４に記載の化粧料：

［式（３）中、Ｒ^ｍ５～Ｒ^ｍ７は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、Ｙ^３は、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合であり、Ｒ^ｍ８は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｙ^４は、水素原子、アルキル基、水酸基、Ｓｉ（ＯＨ）_３、Ｓｉ（Ｒ^１０）_３、ＮＨ_２，Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す；＊は、高分子化合物の主鎖を構成する単結合を表す。］。
〈態様１６〉
　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
　Ｒ^Ｙで表されるホスト基が、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、又はγ－シクロデキストリンであり、かつ、
　Ｒ^Ｚで表されるゲスト基が、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である、
態様９～１５のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様１７〉
　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
　Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５が、メチル基である、
態様９～１６のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様１８〉
　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
　ｋ＝０であり、かつ、
　Ｒ^１～Ｒ^３、Ｒ^５、及びＲ^６が、アルキル基である、
態様９～１６のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様１９〉
　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
　ｋ＝０であり、
　Ｒ^１～Ｒ^３及びＲ^５が、メチル基であり、かつ
　Ｒ^６が、ペンチル基である、
態様９～１６のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様２０〉
　前記式（１）又は（２）において、
　（Ｘ^１）ｐが、－（ＣＨ_２）_３－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）－であり、かつｊが１以上の整数であり、かつ／又は
　（Ｘ^２）ｑが、－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｒ^１１－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^１１は置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキレン基であり、かつｋが１以上の整数である、
態様９～１９のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様２１〉
　前記ホスト基と前記ゲスト基が、以下の組み合わせ（ａ）～（ｃ）のいずれか１種である、態様１～２０のいずれか一項に記載の化粧料：
　（ａ）前記ホスト基が、α－シクロデキストリンであって、かつ、
　　前記ゲスト基が、（１）炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（２）水酸基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（３）カルボキシル基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（４）アミノ基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（５）環状アルキル基、（６）フェニル基、（７）アゾベンゼン基、及び（８）桂皮酸基からなる群から選ばれた少なくとも１種である；
　（ｂ）前記ホスト基が、β－シクロデキストリンであって、かつ、
　　前記ゲスト基が、（１′）ｔ－ブチル基、（２′）アダマンチル基、（３′）アリール基、（４′）水酸基を有するアリール基、（５′）カルボキシル基を有するアリール基、（６′）アミノ基を有するアリール基、（７′）フェロセニル基、（８′）アゾベンゼン基、及び（９′）ダンシル基からなる群から選ばれた少なくとも１種である；
　（ｃ）前記ホスト基が、γ－シクロデキストリンであって、かつ、
　　前記ゲスト基が、（１′′）炭素数１８までのアルキル基、（２′′）水酸基を有する炭素数１８までのアルキル基、（３′′）カルボキシル基を有する炭素数１８までのアルキル基、（４′′）アミノ基を有する炭素数１８までのアルキル基、（５′′）アダマンチル基、（６′′）炭素原子で構成されるクラスター類を有する基、（７′′）アリール基を有するダンシル基、（８′′）フェロセニル基、及び（９′′）アントラセニル基からなる群から選ばれた少なくとも１種である。
〈態様２２〉
　溶媒をさらに含む、態様１～１９のいずれか一項に記載の化粧料。
〈態様２３〉
　前記溶媒が、揮発性のシリコーン、又は揮発性の炭化水素化合物である、態様２０に記載の化粧料。

　本開示によれば、優れた使用感を有する化粧料が提供される。

≪化粧料≫
　本開示に係る化粧料は、
　ホスト基を有する高分子化合物からなるホスト体及びゲスト基を有する高分子化合物からなるゲスト体、又は、ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物からなるホスト－ゲスト体を含有しており、かつ、
　ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる。

　共有結合を介して高分子化合物を架橋させることによって皮膜を形成する従来の化粧料では、肌等に適用した場合に、良好な使用感が得られない場合があった。

　これに対して、本願の発明者らは、ホスト基及び／又はゲスト基を有する高分子化合物を含有する化粧料が、従来の化粧料と比較して優れた使用感を有していることを見出した。具体的には、ホスト基及び／又はゲスト基を有するシロキサン結合含有高分子化合物を含有する化粧料が、密着感、はり感、及びつっぱり感に関して、優れた特性を有することを見出した。さらに、本開示に係る化粧料は、化粧持ちにも優れる。

　理論によって限定する意図はないが、本開示に係る化粧料は、ホスト基及び／又はゲスト基を有する高分子化合物を含有しているため、肌等に適用された場合に、ホスト－ゲスト相互作用を介して高分子化合物同士が結合して、皮膜（化粧塗膜）を形成すると考えられる。そのため、本開示に係る化粧料は、はり感において優れた特性を示すと考えられる。

　また、理論によって限定する意図はないが、ホスト－ゲスト相互作用を介した結合は非共有結合に基づくものであるため、本開示に係る化粧料によって形成される化粧塗膜は、共有結合によって高分子間を結合させることによって形成される化粧塗膜よりも弾性が比較的高く（ヤング率が小さく）、結果として、密着感及びつっぱり感に関して優れた特性を示すと考えられる。

　さらに、本開示に係る化粧料は、シロキサン結合を有する高分子化合物を用いているため、化学的に特に安定な化粧料を提供することができる。

　また、シロキサン結合を有している高分子化合物を含有している化粧料は、炭化水素オイルやシリコーンオイルなどの非極性溶媒への可溶性が比較的高い。ホスト基及び／又はゲスト基を有する従来の高分子化合物は、溶媒への溶解性が不十分である場合があった。これに対して、本開示に係る化粧料に含有される高分子化合物は、シロキサン結合を有しており、それによって、溶解性が向上している。揮発性の非極性溶媒への溶解性が比較的高い場合には、化粧料を塗布によって肌等に適用することが容易となり、かつ、均一でかつ薄い膜を比較的容易に形成することが可能になる。

　本開示に係る化粧料は、特には、日焼け止め（サンスクリーン）乳液、及び日焼け止めクリームなどの紫外線防御化粧料；化粧下地（ベースメイク）、ファンデーション、コンシーラー、頬紅、アイシャドウ、マスカラ、アイライナー、アイブロウ、オーバーコート剤、及び口紅などのメイクアップ化粧料として好適に用いることができる。

　〈ホスト基及びゲスト基〉
　「ホスト－ゲスト相互作用」とは、ホスト基とゲスト基との間で形成される結合のことをいう。ホスト基は、ゲスト基を包接することによって、ゲスト基に結合する。ゲスト基の大きさが、ホスト基の内部空間に取り込まれることに適しており、かつ、ホスト基とゲスト基とが、疎水性相互作用、水素結合、静電相互作用、及び配位結合のうちの少なくとも１つ以上が関与する相互作用を有する場合に、ホスト－ゲスト相互作用が生じる。

（ホスト基）
　ホスト基としては、例えば、シクロデキストリン（ＣＤ）が挙げられる。具体的には、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン及びγ－シクロデキストリンが挙げられる。ホスト基としてこれらの基を用いた場合には、安定的なホスト－ゲスト相互作用を形成することができる。

（ゲスト基）
　ゲスト基は、対応するホスト基に対してゲスト基となりうる基であれば、特に制限されない。ゲスト基としては、例えば、置換基を有してもよいアルキル基、及び置換基を有してもよいアリール基などが挙げられる。ゲスト基としての置換基を有してもよいアルキル基及び置換基を有してもよいアリール基は、１～１８、好ましくは３～１２、より好ましくは３～９の炭素数を有する。また、ゲスト基として、トリアルキルシリル基（例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、及びトリプロピルシリル基、特にはトリメチルシリル基）が挙げられる。

　ゲスト基のうち、置換基を有してもよいアルキル基としては、例えば、直鎖、分岐又は環状のＣ１～１８のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、イソへキシル、ドデシル、オクタデシル、アダマンチル等のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくはアダマンチル基またはブチル基であり、特に好ましくはアダマンチル基である。このアルキル基は、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素等）、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等の置換基を１～３個有していてもよい。有機金属錯体であるフェロセンを置換基として結合させたアルキル基でもよい。

　ゲスト基のうち、置換基を有してもよいアリール基としては、例えば、単環又は２環以上のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル、トルイル、キシリル、ナフチル、アンスリル、フェナンスリル等が挙げられる。このアリール基は、例えば、アルキル基（例えば、Ｃ１～１８アルキル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素等）、カルボキシル基、エステル基、アミド基、アリール基を有するアゾ基、保護されていてもよい水酸基等の置換基を１～３個有していてもよい。

（ホスト基とゲスト基の組み合わせ）
　本開示に係る１つの実施態様では、化粧料におけるホスト基とゲスト基が、以下の組み合わせ（ａ）～（ｃ）のいずれか１種である：
　（ａ）　ホスト基が、α－シクロデキストリンであって、かつ、
　　ゲスト基が、（１）炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（２）水酸基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（３）カルボキシル基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（４）アミノ基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（５）環状アルキル基、（６）フェニル基、（７）アゾベンゼン基、及び（８）桂皮酸基からなる群から選ばれた少なくとも１種である；
　（ｂ）　ホスト基が、β－シクロデキストリンであって、かつ、
　　ゲスト基が、（１′）ｔ－ブチル基、（２′）アダマンチル基、（３′）アリール基、（４′）水酸基を有するアリール基、（５′）カルボキシル基を有するアリール基、（６′）アミノ基を有するアリール基、（７′）フェロセニル基、（８′）アゾベンゼン基、及び（９′）ダンシル基からなる群から選ばれた少なくとも１種である；
　（ｃ）　ホスト基が、γ－シクロデキストリンであって、かつ、
　　ゲスト基が、（１′′）炭素数１８までのアルキル基、（２′′）水酸基を有する炭素数１８までのアルキル基、（３′′）カルボキシル基を有する炭素数１８までのアルキル基、（４′′）アミノ基を有する炭素数１８までのアルキル基、（５′′）アダマンチル基、（６′′）炭素原子で構成されるクラスター類を有する基、（７′′）アリール基を有するダンシル基、（８′′）フェロセニル基、及び（９′′）アントラセニル基からなる群から選ばれた少なくとも１種である。

〈高分子化合物〉
　「高分子化合物」とは、１種類以上のモノマーからなる重合物を意味し、特には、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が１×１０^３以上（例えば、１×１０^３～１×１０^８）である重合体である。高分子化合物は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。

　本開示に係るホスト基及び／又はゲスト基を有する高分子化合物は、単一のモノマーからなる重合体であってよく、又は、共重合体、ブロック共重合体、若しくはグラフト共重合体であってもよい。

　本開示に係るホスト基及び／又はゲスト基を有する高分子化合物に含有されるシロキサン結合において、シロキサン結合を構成しているケイ素原子（Ｓｉ）は、好ましくは、水素原子、又はＲ^Ｓで表される基を有している。ここで、Ｒ^Ｓは、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は１価の複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｓが複数ある場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ^Ｓは、特には、炭素数１～１２のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基であってよい。Ｒ^Ｓは、好ましくは炭素数１～１２、より好ましくは炭素数１～６、特に好ましくは炭素数１又は２の、アルキル基である。

　好ましくは、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、ポリオルガノシロキサン主鎖を含んでいる。本開示に係る化粧料に含有される高分子化合物が主鎖にシロキサン結合を含んでいる場合、又はポリオルガノシロキサン主鎖を含んでいる場合には、化粧料の化学的な安定性がさらに向上する場合があるため好ましく、また、炭化水素オイル及びシリコーンオイルなどに対してより優れた溶解性を示すため、好ましい。

　本開示に係る高分子化合物は、主鎖又は側鎖に、ポリオルガノシロキサンユニットを有していてよい。本開示に係る高分子化合物がポリオルガノシロキサンユニットを含んでいる場合、ポリオルガノシロキサンユニットの割合は、高分子化合物全体に対して、２０重量％以上、３０重量％以上、若しくは４０重量％以上であってよく、かつ／又は、１００重量％以下、９０重量％以下、８０重量％以下、７０重量％以下、若しくは６０重量％以下であってよい。ポリオルガノシロキサンユニットの割合が当該範囲である場合、高分子化合物の化学的な安定性及び溶解性が、さらに向上する。

　特に好ましくは、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物が、共に、主鎖にシロキサン結合を含んでいる。本開示に係る化粧料に含有されるホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物が、ともに主鎖にシロキサン結合を含んでいる場合には、炭化水素オイル及びシリコーンオイルなどに対する本開示に係る化粧料の溶解性が、さらに向上する。

　本開示に係るホスト基及び／又はゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる場合、そのような高分子化合物（以下、「シロキサン高分子化合物」ともいう）としては、例えば、ポリオルガノシロキサン；ポリオルガノシロキサンと、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、又はポリカーボネート樹脂とのブロック共重合体；ビニル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、又はポリカーボネート樹脂にポリオルガノシロキサンがグラフトされたグラフト共重合体、が挙げられる。これらの樹脂及び／又はポリオルガノシロキサンは、ホスト基及び／又はゲスト基以外の置換基を有していてよい。また、本開示に係るホスト基及び／又はゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる場合、そのような高分子化合物として、例えば、アクリルシリコーン樹脂、アクリル―シリコーン系グラフト共重合体、ポリノルボルネンとシリコーンとの共重合体、プルランとシリコーンとの共重合体、等を挙げることができる。

　ポリオルガノシロキサンとしては、例えば、メチルポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサンが挙げられ、これらのポリシロキサンは、ホスト基及び／又はゲスト基以外の置換基を有していてよい。本開示に係る高分子化合物は、特に好ましくは、メチルポリシロキサン骨格を有する。

　好ましくは、ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（１）で表される構造を有する：

［式（１）中、Ｒ^１～Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、１価のスピロ環化合物、１価の縮合環化合物、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、ＮＨ，若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、若しくはウレタン結合、ウレア結合であるか、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、２価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；複数のＲ^１０は、それぞれ同一でも異なっていてもよい；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい；ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す；Ｒ^Ｙは、ホスト基である；Ｒ^Ｚは、ゲスト基である；ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ、０以上の整数を表し、これらは互いに同一であっても異なっていてもよい；少なくともｊ又はｋが、１以上の整数である；ｎは、１以上の整数を表す。］。

　好ましくは、本開示に係る化粧料において、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物が、上記の式（１）で表される構造を有する。

　本開示に係る樹脂組成物に含有される高分子化合物が上記の式（１）で表される構造を有する場合、当該高分子化合物は、上記の式（１）で表される構造の両端に末端基が結合した構造を有していてよい。

　上記の式（１）で表される構造の末端に結合しうる末端基（Ｒ^Ｅ）としては、炭素原子数が１～１０のアルキル基、特には炭素数１～６のアルキル基、又はＳｉ（Ｒ^Ｅ１）_３－で表される基が挙げられ、ここで、Ｒ^Ｅ１は、水素原子であるか、又は、炭素原子数が１～１０のアルキル基、若しくはアリール基である。

　本開示に係る１つの好ましい実施態様では、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖に、上記の式（１）で表される構造を有する。

　本開示に係る高分子化合物は、例えば、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、若しくはポリカーボネート樹脂と、上記の式（１）で表される構造を有するポリオルガノシロキサンとの、ブロック共重合体であってよい。

　本開示に係る別の好ましい実施態様では、化粧料に含有される高分子化合物が、
　ビニル主鎖、アクリル主鎖、ウレタン主鎖、エポキシ主鎖、ポリイミド主鎖、ポリエステル主鎖、ポリウレア主鎖、又はポリカーボネート主鎖を有しており、かつ、
　側鎖に、前記式（１）で表される構造を有している。

　具体的には、本開示に係る高分子化合物は、例えば、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、若しくはポリカーボネート樹脂などに、上記の式（１）で表される構造を有するポリオルガノシロキサンがグラフトされたグラフト重合体であってよい。

　本開示に係る別の好ましい実施態様では、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（２）で表される構造単位を有する：

［式（２）中、Ｒ^１～Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、複素環基、１価のスピロ環化合物、１価の縮合環化合物、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、Ｎ（Ｈ），若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、若しくはウレタン結合、ウレア結合であるか、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、２価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；複数のＲ^１０は、それぞれ同一でも異なっていてもよい；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ複数ある場合、同一でも異なっていてもよい；ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す；Ｒ^Ｙは、ホスト基である；Ｒ^Ｚは、ゲスト基である；ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ、０以上の整数を表し、これらは互いに同一であっても異なっていてもよく、少なくともｊ又はｋが、１以上の整数である；ｎは、１以上の整数を表す；Ｒ^ｍ１～Ｒ^ｍ３は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、Ｙ^１は、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合であり、Ｒ^ｍ４はアルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｙ^２は、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、Ｎ（Ｈ）、又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、ａ、ｂ、ｃは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す；＊は、高分子化合物の主鎖を構成する単結合を表す。］

　本開示に係る好ましい実施態様では、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、上記の式（２）で表される構造単位に加えて、下記の式（３）で表される構造単位を有する：

［式（３）中、Ｒ^ｍ５～Ｒ^ｍ７は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、Ｙ^３は、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合であり、Ｒ^ｍ８は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｙ^４は、水素原子、アルキル基、水酸基、Ｓｉ（ＯＨ）_３、Ｓｉ（Ｒ^１０）_３、ＮＨ_２，Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す；＊は、高分子化合物の主鎖を構成する単結合を表す。］。

　好ましくは、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物が、上記の式（２）で表される構造単位、及び随意に上記の式（３）で表される構造単位、を有する。

　上記の式（２）で表される構造単位を有する高分子化合物の末端に末端基（Ｒ^Ｅ）が結合していてもよい。末端基としては、炭素原子数が１～１０のアルキル基、又はＳｉ（Ｒ^Ｅ１）_３－で表される基が挙げられ、ここで、Ｒ^Ｅ１は、水素原子であるか、又は、炭素原子数が１～１０、１～６、１～３、若しくは１～２のアルキル基、若しくはアリール基である。

　上記の式（２）及び（３）で表される構造単位を有する高分子化合物は、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互配列コポリマー等であってよく、構成単位の配列順序は特に限定されない。

　上記の式（２）で表される構造単位を有する高分子化合物における構成単位の含有割合は特に限定されない。例えば、上記の式（２）で表される構造単位を有する高分子化合物を構成する構成単位（モノマー単位）全体に対して、上記の式（２）で表される構成単位の含有割合が、０．０１モル％以上、０．１モル％以上、１．０モル％以上、５モル％以上、１０モル％以上、若しくは１５モル％以上であってよく、かつ／又は、９０モル％以下、７５モル％以下、５０モル％以下、２５モル％以下、若しくは２０モル％以下であってよい。

　また、上記の式（２）及び（３）で表される構造単位を有する高分子化合物を構成する構成単位（モノマー単位）全体に対して、上記の式（２）で表される構成単位の含有割合が、０．０１モル％以上、０．１モル％以上、１．０モル％以上、５モル％以上、１０モル％以上、若しくは１５モル％以上であってよく、かつ／又は、３０モル％以下、２５モル％以下、若しくは２０モル％以下であってよく、かつ、上記の式（３）で表される構成単位の含有割合が、７０モル％以上、７５モル％以上、若しくは８０モル％以上であってよく、かつ／又は、９９．９９モル％以下、９９．９モル％以下、９９モル％以下、９５モル％以下、若しくは９０モル％以下であってよい。

　上記の式（２）において、Ｒ^ｍ１～Ｒ^ｍ３は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、好ましくは、水素原子、又は炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。Ｒ^ｍ１～Ｒ^ｍ３は、好ましくは、互いに同一である。

　上記の式（２）において、Ｒ^ｍ４は、好ましくは、炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキレン基であるか、又は炭素数６～１２のアリーレン基であり、特に好ましくは、炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキレン基である。

　上記の式（２）において、Ｙ^２は、好ましくは、エーテル結合、アミド結合、エステル結合、Ｎ（Ｈ），又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、特に好ましくは、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合である。

　上記の式（２）において、ａ、ｂ、ｃは、好ましくは、それぞれ独立に、０～２の整数であり、特に好ましくは、０又は１である。

　上記の式（３）において、Ｒ^ｍ５～Ｒ^ｍ７は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、好ましくは、水素原子、又は炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。Ｒ^ｍ１～Ｒ^ｍ３は、好ましくは、互いに同一である。

　上記の式（３）において、Ｒ^ｍ８は、好ましくは、炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキレン基であるか、又は炭素数６～１２のアリーレン基であり、特に好ましくは、炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキレン基である。

　上記の式（３）において、Ｙ^４は、好ましくは、炭素数１～１２、１～６若しくは１～３のアルキル基、Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、又はＮ（ＣＯＣＨ_３）である。

　上記の式（２）において、ｄ、ｅは、好ましくは、それぞれ独立に、０～２の整数であり、特に好ましくは、０又は１である。

　好ましい１つの実施態様においては、上記の式（２）におけるＲ^ｍ１、Ｒ^ｍ２、Ｒ^ｍ３、Ｒ^ｍ４、Ｙ^１、ａ、及びｂが、それぞれ、上記の（３）におけるＲ^ｍ５、Ｒ^ｍ６、Ｒ^ｍ７、Ｒ^ｍ８、Ｙ^３、ｄ、及びｅと同じである。

　上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｒ^Ｙで表されるホスト基は、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、又はγ－シクロデキストリンであることが好ましい。Ｒ^Ｚで表されるゲスト基は、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であることが好ましい。

　Ｒ^１～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、又はアリールオキシ基であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、又はアリール基、アリールオキシ基であることがより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基であることが特に好ましく、アルキル基であることが最も好ましい。Ｒ^１～Ｒ^５としてのアルキル基は、好ましくは、１～１０、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～３、最も好ましくは１～２の炭素原子を有する。

　上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｒ^Ｙ及びＲ^Ｚについては、本開示における上記のホスト基及びゲスト基に関する記載を参照することができる。

　上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３，Ｒ^４及びＲ^５が、メチル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３，Ｒ^４及びＲ^５がメチル基である場合には、炭化水素化合物又はシリコーンなどの非極性溶媒への溶解性がさらに向上する。

　合成がさらに容易になるため、上記の式（１）及び／又は式（２）において、好ましくは、Ｒ^６が、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－ＣＯＯ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である。Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、炭素数１～８、炭素数１～６、又は炭素数１～３のアルキル基又はアルキレン基であってよい。

　特には、上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｒ^１～Ｒ^５がメチル基であってよく、かつ／又は、Ｒ^６が、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基若しくは－Ｒ^Ｒ２－ＣＯＯ－Ｒ^Ｒ３で表される基であってよい。

　本開示に係る化粧料は、ホスト－ゲスト相互作用に基づく自己修復性に起因して、改善された化粧持ちなどの優れた物性をもたらす場合がある。理論によって限定する意図はないが、例えば、本開示に係る化粧料を化粧塗膜として用いた場合には、ホスト－ゲスト相互作用を介して高分子化合物同士が可逆的に再結合することによって化粧塗膜の傷（目視できない微小な傷を含む）が塞がれ、結果として、化粧料の化粧持ちがさらに向上することが考えられる。

　本開示に係る好ましい１つの実施態様では、上記の式（１）及び／又は上記の式（２）において、ｋ＝０であり、かつ、Ｒ^１～Ｒ^３、Ｒ^５、及びＲ^６が、アルキル基である。この場合には、特に優れた化粧持ちを示す化粧料が得られることがあるため、好ましい。理論によって限定する意図はないが、ホスト基を有する高分子化合物の主鎖又は側鎖を構成するＳｉ原子がアルキル基で修飾されている場合には、比較的高い極性を有する置換基で修飾されている場合と比較して、ホスト基を有する高分子化合物とゲスト基を有する高分子化合物との相溶性が向上し、その結果、ホスト－ゲスト相互作用に基づく結合（再結合）が促進されるため、化粧料の自己修復性がさらに向上すると考えられる。

　特には、上記の式（１）及び／又は上記の式（２）において、
　ｋ＝０であり、Ｒ^１～Ｒ^３及びＲ^５がメチル基であり、かつ、Ｒ^６が、炭素数２以上のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数４以上のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素原子数４～３０、炭素原子数４～２４、炭素原子数４～１８、炭素原子数４～１２、又は炭素数４～８のアルキル基であり、特にはペンチル基である。この場合には、特に優れた自己修復性を有する化粧料を得ることができる。

　合成がさらに容易になるため、上記の式（１）及び／又は式（２）において、ｐ及び／又はｑは、それぞれ、１～３であることが好ましく、１又は２であることがより好ましい。

　Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｎ（Ｈ），若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、若しくはアリーレン基であることが好ましく、Ｎ（Ｈ）若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はアルキレン基であることがより好ましい。

　Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基であることが好ましく、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基であることがより好ましく、水素原子であるか、又はアルキル基であることが特に好ましい。アルキル基としてのＲ^１０は、好ましくは１～１０、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～３の炭素数を有する。

　合成がさらに容易になるため、上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｘ^１は、炭素数１～１０のアルキレン基、Ｎ（ＣＯＣＨ_３）、アミド結合、又はカルボニル基であることが、好ましい。アルキレン基としてのＸ^１は、好ましくは１～６、より好ましくは１～４、特に好ましくは１～２の炭素数を有する。

　上記の式（１）及び／又は式（２）において、好ましくは、（Ｘ^１）_ｐが、Ｒ^Ｐ１－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）又は（ＣＨ_２）_２－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）である。また、上記の式（１）及び／又は式（２）において、特に好ましくは、－（Ｘ^１）_ｐ－Ｒ^Ｙが、－Ｒ^Ｐ１－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）－Ｒ^Ｙで表される。Ｒ^Ｐ１は、置換基を有していてもよいアルキレン基であり、好ましくは、１～１０、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～３の炭素数を有する。Ｒ^Ｐ１は、好ましくは、置換基を有しない。特に好ましくは、上記の式（１）及び／又は式（２）において、（Ｘ^１）_ｐが、（ＣＨ_２）_３－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）である。

　合成がさらに容易になるため、上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｘ^２は、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキレン基、アミド結合、又はカルボニル基であることが、好ましい。アルキレン基としてのＸ^２は、好ましくは１～８、より好ましくは１～６、特に好ましくは１～３の炭素数を有する。

　上記の式（１）及び／又は式（２）において、（Ｘ^２）_ｑは、特に好ましくは、－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｎ（Ｈ）－である。また、上記の式（１）及び／又は式（２）において、特に好ましくは、－（Ｘ^２）_ｑ－Ｒ^Ｚが、－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｏ－Ｒ^Ｚ、又は－ＣＯ－Ｎ（Ｈ）－Ｒ^Ｚで表される。Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキレン基であり、好ましくは、１～１０、より好ましくは１～６、特に好ましくは２～４、最も好ましくは３の炭素数を有する。Ｒ^１１は、好ましくは、置換基を有しない。

　上記の式（１）及び／又は式（２）において、特に好ましくは、
　（Ｘ^１）_ｐが、－（ＣＨ_２）_３－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）－であり、かつｊが１以上の整数であり、かつ／又は
　（Ｘ^２）_ｑが、－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｎ（Ｈ）－であり、Ｒ^１１は置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキレン基、特には炭素数３～６のアルキレン基であり、かつｋが１以上の整数である。

　合成がさらに容易になるため、上記の式（１）及び／又は式（２）において、Ｘ^１及びＸ^２のうちの少なくともいずれかがＳｉ（Ｒ^１０）_２で表される場合、Ｒ^１０が、水素原子、メチル基、又はフェニル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましく、メチル基であることが最も好ましい。

　ｎは、５以上、１０以上、２０以上、若しくは５０以上の整数であってよく、かつ／又は、１０００以下、５００以下、２５０以下、２００以下、１５０以下、若しくは１００以下の整数であってよい。

　上記の式（１）～（３）に関して、アルキル基としては、例えば、置換基を有してもよいアルキル基、直鎖、分岐又は環状のＣ１～１８のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、イソへキシル、ドデシル、オクタデシル、アダマンチル等のアルキル基が挙げられる。アルキレン基としては、例えば、直鎖、分岐又は環状のＣ１～１８のアルキレン基、メチレン、エチレン、ｎ－プロピレン、イソプロピレン、ｎ－ブチレン、イソブチレンを挙げることができる。

　上記の式（１）～（３）に関して、アリール基としては、置換基を有してもよいアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、単環又は２環以上のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル、トルイル、キシリル、ナフチル、アンスリル、フェナンスリル等が挙げられる。アリーレン基としては、単環又は２環のアリーレン基、フェニレンなどが挙げられる。

　上記の式（１）～（３）に関して、アルケニル基としては、直鎖又は分岐鎖状の炭素数２～２０のアルケニル基、例えば、ビニル、１－プロペン－１－イル、２－プロペン－１－イル、イソプロぺニル、２－ブテン－１－イル、４－ペンテン－１－イル、及び５－ヘキセン－１－イルが挙げられる。

　上記の式（１）～（３）に関して、アルコキシ基としては、炭素数１～１０のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基が挙げられる。

　上記の式（１）～（３）に関して、置換基としては、メチル基及びエチル基等のアルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、エステル基、アミド基、並びに水酸基が挙げられる。

（ポリオルガノシロキサン構造を構成する各構成単位の存在比率）
　上記の式（１）又は式（２）において、ｈ、ｉ、ｊ、及びｋそれぞれによって添え字されている各構成単位について、上記の式（１）又は式（２）で表される構造を構成する構成単位の全ての合計に対する各構成単位の存在比率Ｐ_ｈ，Ｐ_ｉ、Ｐ_ｊ，及びＰ_ｋを、それぞれ、下記のとおり定義することができる。
　Ｐ_ｈ＝１００　×　ｈ／（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）
　Ｐ_ｉ＝１００　×　ｉ／（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）
　Ｐ_ｊ＝１００　×　ｊ／（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）
　Ｐ_ｋ＝１００　×　ｋ／（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）

　Ｐ_ｈ，Ｐ_ｉ、Ｐ_ｊ，及びＰ_ｋは、上記の式（１）又は式（２）で表される構造を構成するすべての構成単位の合計のモル数に対する、ｈ、ｉ、ｊ、及びｋそれぞれによって添え字されている各構成単位のモル数の割合を表している。

　Ｐ_ｈの値は、７０ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってよく、９０ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であることが好ましく、９５ｍｏｌ％～９８ｍｏｌ％であることがより好ましく、９６ｍｏｌ％～９７ｍｏｌ％であることがさらに好ましい。

　Ｐ_ｉの値は、０ｍｏｌ％～３０ｍｏｌ％であってよく、０ｍｏｌ％～２０ｍｏｌ％であることが好ましく、０．５ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％であることがより好ましく、１ｍｏｌ％～５ｍｏｌ％であることがさらに好ましい。

　Ｐ_ｊの値は、０．０１ｍｏｌ％～２５ｍｏｌ％、０．０１ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％、０．１ｍｏｌ％～５ｍｏｌ％、又は０．１ｍｏｌ％～２ｍｏｌ％であってよい。好ましくは、Ｐ_ｊの値が、０．１ｍｏｌ％～０．９ｍｏｌ％、０．２ｍｏｌ％～０．８ｍｏｌ％、０．３ｍｏｌ％～０．７ｍｏｌ％、又は０．４ｍｏｌ％～０．６ｍｏｌ％であり、この場合には、膜状又はフィルム状の化粧料が、特に良好な弾性を有しうる。

　Ｐ_ｋの値は、０．０１ｍｏｌ％～２５ｍｏｌ％、０．０１ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％、０．１ｍｏｌ％～５ｍｏｌ％、又は０．５ｍｏｌ％～３ｍｏｌ％であってよい。

　Ｐ_ｈ，Ｐ_ｉ、Ｐ_ｊ，及びＰ_ｋの値は、ｈ、ｉ、ｊ、及びｋそれぞれによって添え字されている各構成単位を製造するために使用した原料の仕込み量、及び、高分子化合物に関する^１Ｈ－ＮＭＲ測定データから算出することができる。

（ホスト基及びゲスト基の位置）
　本開示に係る化粧料の１つの実施態様では、
　化粧料に含有されるホスト基を有する高分子化合物が、側鎖にホスト基を有しており、かつ
　化粧料に含有されるゲスト基を有する高分子化合物が、側鎖にゲスト基を有する。

　本開示に係る化粧料の別の実施態様では、
　化粧料に含有されるホスト基を有する高分子化合物が、側鎖にホスト基を有しており、かつ
　化粧料に含有されるゲスト基を有する高分子化合物が、末端にゲスト基を有する。

　本開示に係るさらに化粧料の別の実施態様では、
　化粧料に含有されるホスト基を有する高分子化合物が、末端にホスト基を有しており、かつ
　化粧料に含有されるゲスト基を有する高分子化合物が、側鎖にゲスト基を有する。

（シロキサン結合を含まない高分子化合物）
　本開示に係る１つの実施態様では、化粧料に含まれるホスト基を有する高分子化合物又はゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいない。この実施態様において、シロキサン結合を含んでいない高分子化合物（以下、「非シロキサン高分子化合物」ともいう。）としては、例えば、ビニル化合物、アクリル化合物、オレフィン、スチレン、アクリル酸エステル、及びメタクリル酸エステルから選択される少なくとも１つのモノマーの重合体及び共重合体、並びにこれらの重合体及び共重合体を含むブロック共重合体、が挙げられ、例えば、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、又はポリカーボネート樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、ホスト基及び／又はゲスト基以外の置換基を有していてよい。ゲスト基及び／又はホスト基を有しており、かつシロキサン結合を含まない高分子化合物については、特許文献２の記載を参照することができる。

（化粧料に含まれる高分子化合物の組み合わせ）
　例えば、本開示に係る化粧料は、下記（ｉ）～（ｉｖ）のうちの少なくともいずれかの高分子化合物を有していてよい：
　（ｉ）ホスト基を有する非シロキサン高分子化合物、及び、ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物；
　（ｉｉ）ホスト基を有するシロキサン高分子化合物、及び、ゲスト基を有する非シロキサン高分子化合物；
　（ｉｉｉ）ホスト基を有するシロキサン高分子化合物、及び、ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物；
　（ｉｖ）ホスト基及びゲスト基を有するシロキサン高分子化合物。

（ホストとゲストの割合）
　化粧料が、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物を含む場合、化粧料におけるそれぞれの含有割合は、特に限定されない。例えば、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物の合計に対して、ホスト基を有する高分子化合物の含有量が１０～９０質量％であってよく、かつゲスト基を有する高分子化合物の含有量が９０質量％～１０質量％であってよい。

　化粧料に含有されるホスト基の量とゲスト基の割合は、特に限定されない。好ましくは、化粧料に含有されるホスト基とゲスト基のモル比が、０．１：１～１：０．１であってよい。あるいは、化粧料において、ホスト基を有する高分子化合物１００質量部に対して、ゲスト基を有する高分子化合物が、１質量部以上、１０質量部以上、若しくは２０質量部以上含有されていてよく、かつ／又は、１０００質量部以下、２５０質量部以下、若しくは１００質量部以下含有されていてよい。

≪高分子化合物の製造≫
〈高分子化合物の製造：ホスト基を有する非シロキサン高分子化合物〉
　ホスト基を有する高分子化合物であってシロキサン結合を含まないもの（ホスト基を有する非シロキサン高分子化合物）は、公知の方法によって製造することができ、例えば、特許文献２に記載されている方法によって製造することができる。

〈高分子化合物の製造：ゲスト基を有する非シロキサン高分子化合物〉
　ゲスト基を有する高分子化合物であってシロキサン結合を含まないもの（ゲスト基を有する非シロキサン高分子化合物）は、公知の方法によって製造することができ、例えば、特許文献２に記載されている方法によって製造することができる。

〈高分子化合物の製造：ホスト基を有しかつシロキサン結合を有する高分子化合物の製造〉
　ホスト基を有するシロキサン高分子化合物は、例えば、下記の工程を有する方法によって製造することができる：
　（ｉ）シロキサン結合を有する高分子化合物（シロキサン高分子化合物）を提供する、高分子提供工程、
　（ｉｉ）ホスト基前駆体化合物を提供する、ホスト基前駆体提供工程
　（ｉｉｉ）シロキサン高分子化合物及びホスト基前駆体化合物を、金属触媒の存在下で反応させて、ホスト基を有するシロキサン高分子化合物を得る、ホスト基付加反応工程。

（高分子提供工程）
　高分子提供工程では、シロキサン結合を有する高分子化合物（シロキサン高分子化合物）を提供する。シロキサン結合を有する高分子化合物は、好ましくは、ポリオルガノシロキサンである。シロキサン結合を有する高分子化合物は、好ましくは、ホスト基前駆体化合物との反応に適した構造を有しており、例えば、Ｓｉに直接結合した水素原子を有している。

　高分子提供工程で提供されるシロキサン高分子化合物は、例えば、ＳｉＨ含有シリコーンであってよく、具体的には、例えば、下記の式（４）で表される構造を有する高分子であってよい：

［式（４）中、Ｘは、１以上の整数を表す；ｎは、１以上の整数を表す］。

　上記式（４）において、Ｘは、２以上、５以上、１０以上、若しくは２０以上であってよく、かつ／又は、９５以下、９０以下、７５以下、若しくは５０以下であってよい。上記式（３）において、ｎは、５以上、１０以上、若しくは５０以上であってよく、かつ／又は、１０００以下、５００以下、２５０以下、１００以下、若しくは７５以下であってよい。

（ホスト基前駆体提供工程）
　ホスト基前駆体提供工程では、ホスト基前駆体化合物を提供する。ホスト基前駆体化合物は、好ましくは、シロキサン結合を有する高分子化合物に結合するためのリンカー構造を有する。ホスト基前駆体化合物としては、例えば、リンカー構造を有するシクロデキストリンが挙げられる。リンカー構造としては、例えば、ビニル基が挙げられ、特には下記の式（Ｘ_Ｌ）で表される基が挙げられる。
　Ｃ（Ｈ）_２＝Ｃ（Ｈ）－Ｃ（Ｈ）_２－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）－＊　・・・（Ｘ_Ｌ）
［式（Ｘ_Ｌ）中、＊は、シクロデキストリンとの単結合を表す。］

（ホスト基付加反応工程）
　ホスト基付加反応工程では、シロキサン高分子化合物及びホスト前駆体化合物を、金属触媒の存在下で反応させて、ホスト基を有するシロキサン高分子化合物を得る。例えば、主鎖のＳｉに直接結合した水素原子を有するシロキサン高分子化合物と、リンカー構造としてビニル基を有するシクロデキストリンとを、金属触媒の存在下で反応させることによって、シクロデキストリンがリンカー構造を介して主鎖のＳｉ原子に結合したシロキサン高分子化合物を得ることができる。

　好ましくは、ホスト基付加反応の後で、高分子化合物においてＳｉ原子に直接結合している水素原子を置換する。これによって、得られる樹脂材料の化学的な安定性が、さらに向上する。この置換に用いることができる化合物としては、アクリル酸エステル、又は炭素数２以上のアルケンが挙げられる。炭素数２以上のアルケンを用いた場合には、得られる化粧料の自己修復性が特に優れるため、好ましい。炭素数２以上のアルケンのうち、より好ましい化合物は、炭素数５以上のアルケンであり、さらに好ましい化合物は、炭素数５～３０、炭素数５～２４、炭素数５～１８、炭素数５～１２、又は炭素数５～８のアルケンであり、特には１－ペンテンである。

（金属触媒）
　上記のホスト基付加反応工程で使用される金属触媒としては、白金（Ｐｔ）が挙げられる。

〈高分子化合物の製造：ゲスト基を有しかつシロキサン結合を有する高分子化合物の製造〉
　ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物は、例えば、下記の工程を有する方法によって製造することができる：
　（ｉ）シロキサン結合を有する高分子化合物（シロキサン高分子化合物）を提供する、高分子提供工程、
　（ｉｉ）ゲスト基前駆体化合物を提供する、ゲスト基前駆体提供工程、
　（ｉｉｉ）シロキサン高分子化合物及びゲスト基前駆体化合物を溶媒中で反応させて、ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物を得る、反応工程。

（高分子提供工程）
　高分子提供工程では、カルボキシ基を有するシロキサン結合を有する高分子化合物を提供する。シロキサン結合を有する高分子化合物は、好ましくは、ポリオルガノシロキサンである。高分子提供工程で提供されるシロキサン結合を有する高分子化合物は、好ましくは、ゲスト基前駆体化合物と反応してゲスト基を有するシロキサン高分子化合物を生ずるために適した構造を有しており、例えば、炭素数１～１２のアルキレン基を介して主鎖のＳｉに結合したカルボキシ基を有する。

（ゲスト基前駆体提供工程）
　ゲスト基前駆体提供工程では、ゲスト基前駆体化合物を提供する。ゲスト基前駆体化合物は、好ましくは、シロキサン結合を有する高分子化合物に結合するためのリンカー構造を有する。ゲスト基前駆体化合物としては、具体的には、例えば、リンカー構造を有するアダマンチルが挙げられる。リンカー構造としては、例えば、アミノ基が挙げられる。

（反応工程）
　反応工程では、シロキサン高分子化合物及びゲスト基前駆体化合物を溶媒中で反応させて、ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物を得る。例えば、アルキル基を介して主鎖のＳｉに結合したカルボキシ基を有するシロキサン高分子化合物と、リンカー構造としてアミノ基を有するアダマンチルとを、縮合剤の存在下において溶媒中で反応させることによって、ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物を得ることができる。なお、この場合、ゲスト基を有するシロキサン高分子化合物は、アダマンチルが、リンカー構造を介してシロキサン高分子化合物の主鎖を構成するＳｉ原子に結合した構造を有している。縮合剤としては、例えば、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ；東京化成工業株式会社、Ｈ０４６８、Ｃａｓ：８００２９－４３－２）及びＮ，Ｎ′－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ；ナカライテスク株式会社、１１９１３－５２、Ｃａｓ：５３８－７５－０）を挙げることができる。

〈高分子化合物の製造：ホスト基及びゲスト基を有するシロキサン高分子化合物〉
　ホスト基及びゲスト基を有するシロキサン高分子化合物は、例えば、上記の方法によって製造されたホスト基を有するシロキサン高分子化合物、及び上記の方法によって製造されたゲスト基を有するシロキサン高分子化合物を重合させてブロック共重合体を形成することによって得ることができる。

〈高分子化合物の製造：ホスト基及び／又はゲスト基を有しかつシロキサン結合を有する高分子化合物の製造〉
　ホスト基及び／又はゲスト基を有しかつシロキサン結合を有する高分子化合物は、例えば、下記の式（５）で表されるモノマーと式（６）で表されるモノマーとを重合反応させて製造することもできる。重合反応の様式は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。

　上記の式（５）及び式（６）における各記号については、上述の式（２）及び式（３）における各記号ついての記述を参照することができる。なお、Ｒ^Ｅは、末端基を表す。Ｒ^Ｅについても、上述の記載を参照することができる。

（架橋）
　本開示に係る化粧料の１つの実施態様では、ホスト基を有する高分子化合物及びゲスト基を有する高分子化合物の少なくともいずれか、又はホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、架橋されている。架橋は、ホスト－ゲスト相互作用以外の、例えば共有結合による架橋（例えばシロキサン架橋）であってよい。

　例えば、ホスト基を有する高分子化合物は、架橋されることによってホスト体を形成してよく、かつ／又は、ゲスト基を有する高分子化合物は、架橋されることによってゲスト体を形成してよい。

　高分子化合物を架橋する方法及び架橋剤としては、高分子化合物の種類に応じて公知のものを使用してよい。架橋は、例えば、光照射によって形成されてよい。架橋剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ′－メチレンビスアクリルアミド（ＭＢＡＡｍ）、及びエチレングリコールジメタクリレート（ＥＤＭＡ）が挙げられる。

≪化粧料の製造≫
　本開示に係る化粧料は、例えば、ホスト基を有する高分子化合物と、ゲスト基を有する高分子化合物とをそれぞれ個別に製造し、得られたホスト基を有する高分子化合物と、ゲスト基を有する高分子化合物とをそれぞれ混合することで調製することができる。ホスト基を有する高分子化合物と、ゲスト基を有する高分子化合物とを混合するにあたっては、例えば、両者とも固体状態で混合してよく、一方若しくは両方が液体の状態で混合してもよく、又は、一方若しくは両者を溶液にした状態で混合してよい。一方の高分子化合物の溶液に、他方の高分子化合物を固体状態で添加する方法でもよい。

　ホスト基を有する高分子化合物とゲスト基を有する高分子化合物とを混合させる条件は、特に限定されない。例えば、混合時の温度、混合時間、混合手段等は適宜の条件で行うことができる。

　本開示に係る化粧料の１つの実施態様では、化粧料が、室温においてペースト状である。化粧料に含有される高分子化合物として、室温においてペースト状のものを選択することによって、ペースト状の化粧料を得ることができる。あるいは、高分子化合物を溶媒に溶解させることによって、液体状の化粧料を得てもよい。室温において液体状又はペースト状である化粧料は、成膜が比較的容易であることから、特に好ましい。

　室温において液体状である高分子化合物は、例えば、ポリオルガノシロキサンを主鎖に有する高分子化合物、特にはジメチルポリシロキサンを挙げることができる。

　化粧料の製造の際に高分子化合物を溶解させる溶媒は、特に限定されないが、例えば、シリコーンオイル、炭化水素油剤が挙げられる。シリコーンオイルとしては、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、ジメチルポリシロキサン、カプリリルメチコンから選ばれる１種又は２種以上が好ましく、デカメチルシクロペンタシロキサン、ジメチルポリシロキサンから選ばれる１種または２種以上がより好ましく、重合度１０以下のジメチルポリシロキサンがさらに好ましい。炭化水素油剤としては、トルエン、及びイソドデカンを挙げることができ、イソドデカンが好ましい。

　本開示に係る化粧料に含まれる高分子化合物は、ホスト－ゲスト相互作用によって互いに結合していてもよく、ホスト－ゲスト相互作用によって互いに結合していなくてもよい。

　化粧料は、膜状に形成することができる。化粧料が膜状であれば、肌等の上に適用される化粧塗膜として使用することができる。化粧料が膜状である場合の厚みは特に制限されず、用途に応じて適宜の厚みに設定することができる。例えば、化粧料は、１ｎｍ～１ｃｍに調節することができ、成膜性が良好であるという点では１μｍ～１００μｍに調節することができる。

（成形）
　化粧料を化粧塗膜として成形する方法は特に限定されない。例えば、高分子化合物の溶液又は分散液を調製し、この溶液又は分散液を塗布することによって、化粧料を化粧塗膜に形成することができる。

　化粧料の製造方法は、例えば、下記の工程を含んでよい：
　ホスト基を有する高分子化合物を溶媒に溶解させてホスト溶液を作製すること、及び
　このホスト溶液にゲスト基を有する高分子化合物を加えることによって化粧料Ａを作製すること。

　上記の方法において、代替的には、ゲスト基を有する高分子化合物を溶媒に溶解させてゲスト溶液を作製し、かつ、このゲスト溶液にホスト基を有する高分子化合物を加えることによって、化粧料Ａを作製してもよい。

　上述のようにして製造された化粧料Ａを化粧塗膜にする工程は、例えば、下記の操作を含んでよい：
　化粧料Ａを指で対象物に塗布し、かつ乾燥させて、化粧塗膜を形成すること。

　本開示の別の実施態様では、化粧料の製造方法は、例えば、下記の工程を含んでよい：
　ペースト状又は液体状のホスト基を有する高分子化合物と、ペースト状又は液体状のゲスト基を有する高分子化合物とを混合して化粧料Ｂを作成すること。

　上述のようにして製造された化粧料Ｂを化粧塗膜にする工程は、例えば、下記の操作を含んでよい：
　上記の化粧料Ｂを、対象物に塗布して、化粧塗膜を形成すること。

　なお、上記の化粧料Ｂの製造方法において、ホスト基を有する高分子化合物又はゲスト基を有する高分子化合物のいずれかが、ペースト状又は液体状であってもよい。

≪溶媒≫
　本開示に係る化粧料は、上述の成分以外に、さらに溶媒を含有することができる。溶媒をさらに有していることによって、肌等への塗布性が特に優れている化粧料を提供することができる。

　本開示に係る化粧料に含有されうる溶媒としては、特に限定されないが、例えば、水、アルコール類、シリコーン類、炭化水素化合物、エステル化合物、エーテル類、及びワックスが挙げられる。

　アルコール類としては、グリセリン、ブチレングリコール（ＢＧ）、プロピレングリコール（ＰＧ）、ジプロピレングリコール（ＤＰＧ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、エタノール、及びオレイルアルコールが挙げられる。

　シリコーン類としては、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ジメチルポリシロキサン、カプリリルメチコン、メチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、シクロペンタシロキサン、アミノエチルアミノプロピルメチルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、アミノプロピルジメチコン、メチルトリメチコン、トリス（トリメチルシリル）メチルシラン、テトラキス（トリメチルシリル）シラン、アモジメチコン、シクロメチコン、フェニルトリメチコンが挙げられる。これらの中でも、デカメチルシクロペンタシロキサン、ジメチルポリシロキサンから選ばれる１種または２種以上がより好ましく、重合度１０以下のジメチルポリシロキサンがさらに好ましい。

　炭化水素化合物としては、水添ポリイソブテン、ワセリン、ミネラルオイル、スクワラン、パラフィン、イソパラフィン、安息香酸アルキル、ポリイソブテン、イソドデカン、イソトリデカン、イソヘキサデカン軽質イソパラフィンを挙げることができ、イソドデカンが好ましい。

　エステル化合物としては、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸エチルヘキシル、ミスチリン酸イソプロピル、ミスチリン酸オクチルドデシルが挙げられる。

　エーテル類としては、エチルパーフルオロブチルエーテルが挙げられる。

　本開示に係る化粧料がさらに溶媒を有する場合、溶媒は、揮発性であることが特に好ましい。本開示に係る化粧料が揮発性の溶媒を含有する場合には、化粧料を肌等に適用した際に溶媒が揮発することによって化粧料が膜状になるため、容易に化粧塗膜を形成することができる。

　揮発性の溶媒としては、上記のアルコール類の他、ジメチルポリシロキサン、メチルトリメチコン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、トリス（トリメチルシリル）メチルシラン、テトラキス（トリメチルシリル）シランなどのシリコーン類、イソドデカン、イソトリデカン、イソヘキサデカン、軽質イソパラフィン、水添ポリイソブテンなどの炭化水素化合物、エチルパーフルオロブチルエーテルなどのエーテル類が挙げられる。

≪その他の添加物≫
　本開示に係る化粧料は、本発明の効果を損なわない程度で、上述の成分以外の各主成分を含有することができ、例えば、低級アルコール、高級アルコール、球状粉末、皮膜形成剤、清涼剤、油性成分、界面活性剤、水性成分、水溶性高分子、紫外線吸収剤、保湿剤、褐色防止剤、酸化防止剤、消泡剤、美容成分、防腐剤、金属イオン封止剤、血行促進剤、各種抽出液、無機顔料、有機顔料、鉱物、有機染料等の色剤、色素、増粘剤、ｐH調整剤、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤、香料等を、各種の効果を付与するために適宜含有することができる。

　低級アルコールは、使用性調整剤、防腐助剤として化粧料において汎用される。低級アルコールとしては、例えば、エタノール、及びイソプロピルアルコールが挙げられる。

　球状粉末としては、球状無水ケイ酸などの無機粉末、球状ポリメチルメタクリレート、球状セルロース、球状ナイロン、球状ポリエチレン、球状シリコーンパウダーが挙げられる。

　皮膜形成剤を追加的に含む場合、皮膜形成剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸アルキル等のラテックス類、デキストリン、アルキルセルロースやニトロセルロースなどのセルロース誘導体などが挙げられる。

　清涼剤としては、メントール誘導体、カンファー誘導体、精油類が挙げられる。

　以下、本開示に係る発明を、実施例により具体的に説明する。

≪測定法≫
下記に示す測定及び評価は、以下の方法で行った。

〈^１Ｈ－ＮＭＲ〉
　核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルを、機器として日本電子ＥＣＡ５００用いて記録した。計測は、２５℃で行った。重水素化クロロホルムを、溶媒として使用した。ＮＭＲ化学シフトは、７．２６ｐｐｍ（クロロホルム）における残存溶媒ピークに対して、ｐｐｍ（パーツパーミリオン）で、記録した。

〈ＩＲ〉
　フーリエ変換赤外スペクトルを、日本分光ＦＴ／ＩＲ　６１００スペクトロメータによって、５００ｃｍ^－１～４０００ｃｍ^－１の範囲で計測した。

〈ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＡＳ〉
　ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳスペクトルは、機器としてＢｒｕｋｅｒ　ａｕｔｏｆｌｅｘ　ｍａＸ　ＬＲＦを用いて計測した。

　〈元素分析〉
　元素分析は、差動熱伝導度法に基づいて、元素分析装置（ヤナコ製、ＣＨＮコーダー）を用いて行った。

≪化合物の製造≫

〈製造例１：化合物１の製造〉
　下記の方法に従って、化合物１を製造した：
　化合物０（βシクロデキストリン－ＯＴｓ；Ｃ－６　ｍｏｎｏｔｏｓｙｌａｔｅ　ｄ－β－ＣＤ）を、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、Ｖｏｌ．２５、Ｎｏ．３１、３３３１－３３３４、１９８４に記載の方法に従って製造した。３０．０　ｇ（２３．２８　ｍｍｏｌ）の化合物０を、３００　ｇ（５．２５ｍｏｌ）のアリルアミンに溶解した後に、一晩還流した。そして、この反応溶液を、エバポレーターで減圧乾燥して、乾固物を得た。得られた乾固物を、６００ｍＬのアセトニトリルに加えて、溶解させた。そして、溶液中の沈殿を吸引ろ過で回収し、６００ｍＬのアセトニトリルへ加え溶解させた。そして、溶液中の沈殿を吸引ろ過で回収し、１００℃のバキュームオーブンで一晩にわたって減圧乾燥して、化合物１を得た。

　ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦＭＳ、^１Ｈ－ＮＭＲ、及び元素分析によって、得られた化合物１の合成を確認した。

〈製造例２：ホスト基前駆体化合物２〉
　下記の方法に従って、ホスト前駆体化合物２を製造した：
　上記の方法で得られた化合物１を２０ｇ（１７．０ｍｍｏｌ）用意し、これに、３００　ｍＬ（３００　ｇ，３．８ｍｏｌ）の乾燥ピリジン、及び１７０ｍＬ（１８４ｇ，１．８ｍｏｌ）の無水酢酸を加え、７０℃で一晩攪拌した。そして、反応溶液を氷冷しながらメタノール６０ｍＬを滴下した。そして、反応溶液をエバポレーターで減圧乾燥して、乾固物を得た。得られた乾固物を１００ｍＬのアセトンに溶解し、水２Ｌへ滴下した。そして、溶液中の沈殿を吸引ろ過で回収し、かつ１００ｍＬのアセトンに溶解して得られた溶液を、水１．５Ｌへ滴下した。そして、溶液中の沈殿を吸引ろ過で回収し、７０℃のバキュームオーブンで１日減圧乾燥して、ホスト前駆体化合物２を得た。

　ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦＭＳ、^１Ｈ－ＮＭＲ、及び元素分析によって、ホスト前駆体化合物２の合成を確認した。

[規則26に基づく補充 22.04.2021]　

〈製造例３：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ１の製造〉
　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ１を、下記の方法で製造した：
　１．８ｇ（０．９ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２をトルエン４００ｍｌに溶かして窒素置換し、１０５℃で攪拌した。そこへ、１２．０ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン（ｍｅｔｈｙｌ　ｈｙｄｒｏｇｅｎ　ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ；動粘度２０ｍｍ^２／ｓ、有効水素量７．５ｍｏｌ％）及び１６５μＬのカールステッド白金溶液を４００ｍＬトルエンに溶解させた溶液を、１時間かけて滴下によって加えた。なお、カールステッド白金溶液は、白金（０）－１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン　コンプレックス（Ｐｌａｔｉｎｕｍ（０）－１，３－Ｄｉｖｉｎｙｌｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌｏｘａｎｅ　Ｃｏｍｐｌｅｘ　（１９．０％－２１．５％　ａｓ　Ｐｔ）、ＴＣＩ製、Ｐ２０７５、Ｃａｓ：６８４７８－９２－２製品コード：Ｐ２０７５）を用いて調整した。使用したＰｔの重量は、２８．５ｍｇであった。滴下終了から４時間後に、４．８ｇ（４８ｍｍｏｌ）のアクリル酸エチル（Ｅｔｙｌａｃｒｙｌａｔｅ；東京化成工業株式会社製、Ｃａｓ：１４０－８８－５）を、注射器によって加えた。得られた反応液のうち１０ｇを、イソドデカン（マルカゾールＲ，丸善石油化学株式会社）１１４ｍｌに溶かした。溶け残った未反応ＣＤ（０．４９９ｇ）を、酢酸エチルへの抽出によって除いて、イソドデカンに溶解した、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ１を得た。

　得られた高分子化合物Ｈ１について、^１Ｈ－ＮＭＲによる分析、及びＩＲスペクトルによる分析を行って、目的物が得られたことを確認した。

　得られた高分子化合物Ｈ１について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、０．３２ｍｏｌ％であった。

〈製造例４：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ２の製造〉
　０．６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２、４．０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン、及び５５μＬのカールステッド白金溶液を使用したこと以外は、上記のホスト基を有する高分子化合物Ｈ１の製造と同様にして、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ２を製造した。

　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ２について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、０．３１ｍｏｌ％であった。

〈製造例５：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ３の製造〉
　４．０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２、４．０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン、及び５５μＬのカールステッド白金溶液を使用し、溶媒量を調整し主鎖シリコーン濃度を３４．３ｍｍｏｌとしたこと以外は、上記のホスト基を有する高分子化合物Ｈ１の製造と同様にして、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ３を製造した。

　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ３について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、０．２０ｍｏｌ％であった。

〈製造例６：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ４の製造〉
　２．４ｇ（１．２ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２、１６．０ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン、及び２２０μＬのカールステッド白金溶液を使用したこと以外は、上記のホスト基を有する高分子化合物Ｈ１の製造と同様にして、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ４を製造した。

　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ４について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、０．３７ｍｏｌ％であった。

〈製造例７：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ５の製造〉
　０．６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２、２．０ｇ（２．４ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン、及び５５μＬのカールステッド白金溶液を使用したこと以外は、上記のホスト基を有する高分子化合物Ｈ１の製造と同様にして、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ５を製造した。

　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ５について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、１．０ｍｏｌ％であった。

〈製造例８：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ６の製造〉
　０．６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２、４．０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン、及び５５μＬのカールステッド白金溶液を使用したこと以外は、上記のホスト基を有する高分子化合物Ｈ１の製造と同様にして、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ６を製造した。

　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ６について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、０．５ｍｏｌ％であった。

[規則26に基づく補充 22.04.2021]　

〈製造例９：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ７の製造〉
　ホスト基を有する高分子化合物Ｈ７を、下記の方法で製造した：
　１．８ｇ（０．９ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２をトルエン９００ｍｌに溶かして窒素置換し、１０５℃で攪拌した。そこへ、１２．０ｇ（１１．４８ｍｍｏｌ）のメチルハイドロジェンポリシロキサン及び１６５．０μＬのカールステッド白金溶液を２５０ｍＬのトルエンに溶解させた溶液を、３０分間かけて滴下によって加えた。なお、カールステッド白金溶液は、白金（０）－１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン　コンプレックス（Ｐｌａｔｉｎｕｍ（０）－１，３－Ｄｉｖｉｎｙｌｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌｏｘａｎｅ　Ｃｏｍｐｌｅｘ　（１９．０％－２１．５％　ａｓ　Ｐｔ）、ＴＣＩ製、Ｐ２０７５、Ｃａｓ：６８４７８－９２－２製品コード：Ｐ２０７５）を用いて調整した。使用したＰｔの重量は、２８．２ｍｇであり、反応溶液中の試薬濃度は、［Ｐｔ］＝０．０９ｍＭであった。滴下終了から４時間後に、２．０ｇ（２９．０ｍｍｏｌ）の１－Ｐｅｎｔｅｎｅ（東京化成工業社製）を加えた。一晩にわたって還流を行い、エバポレーターによってトルエンを留去した後、ヘキサンに溶解し、遠心分離器によって沈殿物を取り除いて、ヘキサンに溶解したホスト基を有する高分子化合物Ｈ７を得た。

　得られた高分子化合物Ｈ７について、^１Ｈ－ＮＭＲによる分析、及びＩＲスペクトルによる分析を行って、目的物が得られたことを確認した。

　得られた高分子化合物Ｈ７について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したホスト基導入率は、０．４７ｍｏｌ％であった。

〈製造例１０：ホスト基を有する高分子化合物Ｈ８の製造〉
　３．６ｇ（１．８ｍｍｏｌ）のホスト前駆体化合物２のホスト前駆体化合物を使用したこと以外は、上記のホスト基を有する高分子化合物Ｈ７の製造と同様にして、ホスト基を有する高分子化合物Ｈ８を製造した。高分子化合物Ｈ８のホスト基導入率は、０．６３ｍｏｌ％であった。

〈製造例１１：ゲスト基を有する高分子化合物Ｇ１の製造〉

［式中、ｘ及びｙは０以上の整数であり、ｘ＋ｙ＝１００である。］

　高分子化合物Ｇ１を、下記の方法で製造した：
　１０．０ｇ（１．３ｍｏｌ）の側鎖型カルボキシル変性シリコーンオイル（信越シリコーン社製、Ｘ－２２－３７０１Ｅ、カルボキシル基当量＝４，０００ｇ／ｍｏｌ）を１００ｍＬのトルエンに溶解させて、溶液１を得た。そして、この溶液１に、６８．２４ｍｇ（０．５ｍｏｌ）のＨＯＢｔを加えて溶液２を得た。そして、トルエン５０ｍＬに溶解させた１０４．１９ｍｇ（０．５ｍｏｌ）のＤＣＣをこの溶液２に加えて、溶液３を得た。そして、６５．２６ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）のＮ－オクチルアミン（ナカライテスク（株）、２５５１２－７２、Ｃａｓ：１１１－８６－４）を５０ｍＬのトルエンに分散させ、溶液３に加えて溶液４を得た。この溶液４を１晩撹拌して、透明な上澄み液と白い沈殿を得た。この白い沈殿をろ過によって取り除いて、透明なろ液を得た。この透明なろ液を飽和重曹水で洗浄し、かつ無水硫酸ナトリウムにて脱水した。エバポレータでトルエンを取り除いて、無色透明のオイルを得た。この無色透明のオイルを、８５℃で一晩真空乾燥させて、ゲスト基を有する高分子化合物Ｇ１を得た。

　得られた高分子化合物Ｇ１について、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（５００　ＭＨｚ）計測によって分析を行った。

　得られた高分子化合物Ｇ１について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したゲスト基導入率は、０．４６ｍｏｌ％であった。

〈製造例１２：ゲスト基を有する高分子化合物Ｇ１’の製造〉
　製造例１１と同様の方法によって、高分子化合物Ｇ１’を得た。高分子化合物Ｇ１’におけるゲスト基導入率は、０．５１ｍｏｌ％であった。

［式中、ｘ及びｙは０以上の整数であり、ｘ＋ｙ＝１００である。］

〈製造例１３：ゲスト基を有する高分子化合物Ｇ２の製造〉
　１００００ｍｇ（１．３ｍｏｌ）の側鎖型カルボキシル変性シリコーンオイル、及び、Ｎ－オクチルアミンの代わりに９５．７ｍｇ（０．６３ｍｍｏｌ）の１－アダマンチルアミン（富士フイルムワコーケミカル社製）を用いたこと以外は、上記のゲスト基を有する高分子化合物Ｇ１の製造と同様にして、ゲスト基を有する高分子化合物Ｇ２を製造した。

　ゲスト基を有する高分子化合物Ｇ２について、^１Ｈ－ＮＭＲによって測定したゲスト基導入率は、１．３ｍｏｌ％であった。

<製造例１４：高分子化合物A２の製造>

　メチルハイドロジェンポリシロキサン及びカールステッド白金溶液、並びに１－Ｐｅｎｔｅｎｅ（東京化成工業社製）を用いて、高分子化合物Ａ２を製造した。

〈製造例１５：ホスト基を有する高分子化合物ＣＨ－４の製造〉
　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ　２０１９，５２（７）、２６５９－２６６８に記載の方法に従って、ポリエチルアクリレート主鎖を有し、かつホスト基としてγ－シクロデキストリンを有する高分子化合物ＣＨ-４を製造した。なお、得られる高分子化合物中においてホスト基を有するユニットが１．０ｍｏｌ％となるように、製造を行った。

≪実施例１≫
　上述の製造例７のとおりに製造したホスト基を有する高分子化合物Ｈ５と、上述の製造例１１のとおりに製造したゲスト基を有する高分子化合物Ｇ１を、イソドデカンに溶解させ、かつ下記の表１に示される追加の化合物を、表１に示されている量で添加することによって、実施例１に係る化粧料を製造した。

　ポリメチルシロキサン主鎖を有する高分子化合物Ｈ５及び高分子化合物Ｇ１は、溶媒として使用したイソドデカンに対して、良好な溶解性を示した。

　実施例１に係る化粧料を指で頬に塗布し、化粧塗膜を形成した。そして、下記の項目について評価を行った：
（ａ）つっぱり感
（ｂ）密着感
（ｃ）はり感
（ｄ）化粧持ち。

〈つっぱり感〉
　つっぱり感は、下記の３段階基準によって評価判定した：
　（判定）：（評価基準）
　　〇　　：つっぱり感がない。
　　△　　：ややつっぱり感がある。
　　×　　：つっぱり感がある。

〈密着感〉
　密着感は、下記の３段階基準によって評価判定した：
　（判定）：（評価基準）
　　◎　　：密着感が特に優れている
　　〇　　：密着感がある
　　×　　：密着感がない

〈はり感〉
　はり感は、下記の３段階基準によって評価判定した：
　（判定）：（評価基準）
　　〇　　：はり感がある。
　　△　　：ややはり感がある。
　　×　　：はり感が無い。

〈化粧持ち〉
　化粧持ちの良さについては、下記の３段階基準によって評価判定した：
　（判定）：（評価基準）
　　〇　　：優れている
　　△　　：ふつう
　　×　　：劣る

　実施例１について行った評価結果を、表２に示す。

≪実施例２≫
　上述の製造例７のとおりに製造したホスト基を有する高分子化合物Ｈ５と、上述の製造例１３のとおりに製造したゲスト基を有する高分子化合物Ｇ２を、イソドデカンに溶解させ、かつ下記の表１に示される追加の化合物を、表１に示されている量で添加することによって、実施例２に係る化粧料を製造した。

　ポリメチルシロキサン主鎖高分子化合物Ｈ５と高分子化合物Ｇ２は、溶媒として使用したイソドデカンに対して、良好な溶解性を示した。

　実施例２に係る化粧料について、実施例１と同様にして使用感の評価を行った。結果を表２に示す。

≪実施例３≫
　上述の製造例９のとおりに製造したホスト基を有する高分子化合物Ｈ７と、上述の製造例１１のとおりに製造したゲスト基を有する高分子化合物Ｇ１を、イソドデカンに溶解させ、かつ下記の表１に示される追加の化合物を、表１に示されている量で添加することによって、実施例３に係る化粧料を製造した。

　ポリメチルシロキサン主鎖高分子化合物Ｈ７及び高分子化合物Ｇ１は、溶媒として使用したイソドデカンに対して、良好な溶解性を示した。

　実施例３に係る化粧料について、実施例１と同様にして使用感の評価を行った。結果を表２に示す。

≪比較例１≫
　高分子化合物Ｈ５及び高分子化合物Ｇ１のイソドデカン溶液の代わりにトリメチルシロキシケイ酸（ＭＯＭＥＮＴＩＶＥ社製、ＳＲ１０００）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１に係る化粧料を製造した。

　比較例１に係る化粧料について、実施例１と同様にして使用感の評価を行った。結果を表２に示す。

≪比較例２≫
　高分子化合物Ｈ５及び高分子化合物Ｇ１のイソドデカン溶液の代わりにシリコーンレジン（シロキサン架橋物、Ｓｉｌｆｏｒｍ　Ｆｌｅｘｉｂｌｅ　Ｒｅｓｉｎ（商品名）（ＭＯＭＥＮＴＩＶＥ社製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２に係る化粧料を製造した。

　比較例２に係る化粧料について、実施例１と同様にして使用感の評価を行った。結果を表２に示す。

≪実施例４≫
　上述の製造例１５に係るホスト基を有する高分子化合物ＣＨ－４と、上述の比較例２で用いたのと同じシロキサン架橋物とを用いて、実施例１と同様にして、化粧料の製造及び評価を行った。結果を下記の表３に示す。

≪実施例５≫
　上述の製造例１５に係るホスト基を有する高分子化合物ＣＨ－４と、上述の製造例１３に係るゲスト基を有する高分子化合物Ｇ２とを用いて、実施例１と同様にして、化粧料の製造及び評価を行った。結果を下記の表３に示す。

Claims (23)

1. 　ホスト基を有する高分子化合物からなるホスト体及びゲスト基を有する高分子化合物からなるゲスト体、又は、ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物からなるホスト－ゲスト体を含有し、かつ、
   　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる、化粧料。
2. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、シロキサン結合を含んでいる、請求項１に記載の化粧料。
3. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖にシロキサン結合を含んでいる、請求項１に記載の化粧料。
4. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖にシロキサン結合を含んでいる、請求項３に記載の化粧料。
5. 　前記ホスト基を有する高分子化合物が、側鎖にホスト基を有しており、かつ
   　前記ゲスト基を有する高分子化合物が、側鎖にゲスト基を有している、
   請求項１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
6. 　前記ホスト基を有する高分子化合物が、側鎖にホスト基を有しており、かつ
   　前記ゲスト基を有する高分子化合物が、末端にゲスト基を有している、
   請求項１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
7. 　前記ホスト基を有する高分子化合物が、末端にホスト基を有しており、かつ
   　前記ゲスト基を有する高分子化合物が、側鎖にゲスト基を有している、
   請求項１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
8. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物の少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、架橋されている、
   請求項１～７のいずれか一項に記載の化粧料。
9. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（１）で表される構造を有する、請求項１～８のいずれか一項に記載の化粧料：
   

   

   ［式（１）中、Ｒ^１～Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、１価のスピロ環化合物、１価の縮合環化合物、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、Ｎ（Ｈ），若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、若しくはウレタン結合、ウレア結合であるか、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、２価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；複数のＲ^１０は、それぞれ同一でも異なっていてもよい；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ複数ある場合、それらは同一でも異なっていてもよい；ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す；Ｒ^Ｙは、ホスト基である；Ｒ^Ｚは、ゲスト基である；ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ、０以上の整数を表し、これらは互いに同一であっても異なっていてもよい；少なくともｊ又はｋが、１以上の整数である；ｎは、１以上の整数を表す。］。
10. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、前記式（１）で表される構造を有する、請求項９に記載の化粧料。
11. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、主鎖に、前記式（１）で表される構造を有する、請求項９又は１０に記載の化粧料。
12. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、
    　ビニル主鎖、アクリル主鎖、ウレタン主鎖、エポキシ主鎖、ポリイミド主鎖、ポリエステル主鎖、ポリウレア主鎖、又はポリカーボネート主鎖を有しており、かつ、
    　側鎖に、前記式（１）で表される構造を有している、
    請求項９又は１０に記載の化粧料。
13. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（２）で表される構造単位を有する、請求項１～１２のいずれか一項に記載の化粧料：
    

    

    ［式（２）中、Ｒ^１～Ｒ^６は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、１価のスピロ環化合物、１価の縮合環化合物、－Ｒ^Ｒ１－ＣＯＯＨで表される基、又は－Ｒ^Ｒ２－Ｃ（Ｏ）Ｏ－Ｒ^Ｒ３で表される基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｒ^Ｒ１、Ｒ^Ｒ２、及びＲ^Ｒ３は、それぞれ、１～１０の炭素数のアルキル基又はアルキレン基である；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、ＮＨ，若しくはＮ（ＣＯＣＨ_３）であるか、若しくはウレタン結合、ウレア結合であるか、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合であるか、又はカルボニル基、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、２価の複素環基、ウレタン基、ウレア基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；Ｒ^１０は、水素原子であるか、又はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、アリール基、アリールオキシ基、又は複素環基であり、これらの基は、置換基を有していてもよい；複数のＲ^１０は、それぞれ同一でも異なっていてもよい；Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ複数ある場合、同一でも異なっていてもよい；ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す；Ｒ^Ｙは、ホスト基である；Ｒ^Ｚは、ゲスト基である；ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ、０以上の整数を表し、これらは互いに同一であっても異なっていてもよく、少なくともｊ又はｋが、１以上の整数である；ｎは、１以上の整数を表す；Ｒ^ｍ１～Ｒ^ｍ３は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、Ｙ^１は、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合であり、Ｒ^ｍ４は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｙ^２は、エーテル結合、アミド結合、若しくはエステル結合、Ｏ、Ｓｉ（ＯＨ）_２、Ｓｉ（Ｒ^１０）_２、Ｎ（Ｈ），又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、ａ、ｂ、ｃは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す；＊は、高分子化合物の主鎖を構成する単結合を表す。］。
14. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物が、前記式（２）で表される構造を有する、請求項１３に記載の化粧料。
15. 　前記ホスト基を有する高分子化合物及び前記ゲスト基を有する高分子化合物のうちの少なくともいずれか、又は前記ホスト基及びゲスト基を有する高分子化合物が、下記の式（３）で表される構造単位をさらに有する、請求項１３又は１４に記載の化粧料：
    

    

    ［式（３）中、Ｒ^ｍ５～Ｒ^ｍ７は、それぞれ独立に、水素原子であるか、又はアルキル基であり、Ｙ^３は、エーテル結合、アミド結合、又はエステル結合であり、Ｒ^ｍ８は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、アルコキシレン基、若しくはアリーレン基であり、これらの基は、置換基を有していてもよく、Ｙ^４は、水素原子、アルキル基、水酸基、Ｓｉ（ＯＨ）_３、Ｓｉ（Ｒ^１０）_３、ＮＨ_２，Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、又はＮ（ＣＯＣＨ_３）であり、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す；＊は、高分子化合物の主鎖を構成する単結合を表す。］。
16. 　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
    　Ｒ^Ｙで表されるホスト基が、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、又はγ－シクロデキストリンであり、かつ、
    　Ｒ^Ｚで表されるゲスト基が、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である、
    請求項９～１５のいずれか一項に記載の化粧料。
17. 　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
    　Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５が、メチル基である、
    請求項９～１６のいずれか一項に記載の化粧料。
18. 　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
    　ｋ＝０であり、かつ、
    　Ｒ^１～Ｒ^３、Ｒ^５、及びＲ^６が、アルキル基である、
    請求項９～１６のいずれか一項に記載の化粧料。
19. 　前記式（１）及び／又は前記式（２）において、
    　ｋ＝０であり、
    　Ｒ^１～Ｒ^３及びＲ^５が、メチル基であり、かつ
    　Ｒ^６が、ペンチル基である、
    請求項９～１６のいずれか一項に記載の化粧料。
20. 　前記式（１）又は（２）において、
    　（Ｘ^１）ｐが、－（ＣＨ_２）_３－Ｎ（ＣＯＣＨ_３）－であり、かつｊが１以上の整数であり、かつ／又は
    　（Ｘ^２）ｑが、－Ｒ^１１－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｒ^１１－ＣＯ－ＮＨ－であり、Ｒ^１１は置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキレン基であり、かつｋが１以上の整数である、
    請求項９～１９のいずれか一項に記載の化粧料。
21. 　前記ホスト基と前記ゲスト基が、以下の組み合わせ（ａ）～（ｃ）のいずれか１種である、請求項１～２０のいずれか一項に記載の化粧料：
    　（ａ）前記ホスト基が、α－シクロデキストリンであって、かつ、
    　　前記ゲスト基が、（１）炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（２）水酸基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（３）カルボキシル基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（４）アミノ基を有する炭素数４～１８の直鎖アルキル基、（５）環状アルキル基、（６）フェニル基、（７）アゾベンゼン基、及び（８）桂皮酸基からなる群から選ばれた少なくとも１種である；
    　（ｂ）前記ホスト基が、β－シクロデキストリンであって、かつ、
    　　前記ゲスト基が、（１′）ｔ－ブチル基、（２′）アダマンチル基、（３′）アリール基、（４′）水酸基を有するアリール基、（５′）カルボキシル基を有するアリール基、（６′）アミノ基を有するアリール基、（７′）フェロセニル基、（８′）アゾベンゼン基、及び（９′）ダンシル基からなる群から選ばれた少なくとも１種である；
    　（ｃ）前記ホスト基が、γ－シクロデキストリンであって、かつ、
    　　前記ゲスト基が、（１′′）炭素数１８までのアルキル基、（２′′）水酸基を有する炭素数１８までのアルキル基、（３′′）カルボキシル基を有する炭素数１８までのアルキル基、（４′′）アミノ基を有する炭素数１８までのアルキル基、（５′′）アダマンチル基、（６′′）炭素原子で構成されるクラスター類を有する基、（７′′）アリール基を有するダンシル基、（８′′）フェロセニル基、及び（９′′）アントラセニル基からなる群から選ばれた少なくとも１種である。
22. 　溶媒をさらに含む、請求項１～１９のいずれか一項に記載の化粧料。
23. 　前記溶媒が、揮発性のシリコーン、又は揮発性の炭化水素化合物である、請求項２０に記載の化粧料。