JPS6054388A - フオトクロミツク化合物 - Google Patents
フオトクロミツク化合物Info
- Publication number
- JPS6054388A JPS6054388A JP16170283A JP16170283A JPS6054388A JP S6054388 A JPS6054388 A JP S6054388A JP 16170283 A JP16170283 A JP 16170283A JP 16170283 A JP16170283 A JP 16170283A JP S6054388 A JPS6054388 A JP S6054388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- line
- formula
- trimethyl
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なフォトクロミック化合物に関するもの
で、さらに詳細には特に700μm以上の長波長に対し
て高い吸収特性を有するスピロピラン系(チオビラン骨
格を有する)フォトクロミック化合物に関するものであ
る。
で、さらに詳細には特に700μm以上の長波長に対し
て高い吸収特性を有するスピロピラン系(チオビラン骨
格を有する)フォトクロミック化合物に関するものであ
る。
スピロピラン系フォトクロミック感光材料は、(1)、
粒子性がなく解像度か高いこと、(2+、特別な現像、
定着処理を必要としないこと、+31.発色濃度が高い
ので薄膜化が可能であること、及び(4)、消去−書き
換えか可能であることを特徴とし、各種記録、記憶材料
、!!写材料などへの応用か試みられてきた。特に最近
では前記11)及び(4)の特徴を生かして、スピロピ
ラン系フォトクロミック感光材料は光学式ビデオディス
ク等のレーザ配録媒体としての応用が期待されている。
粒子性がなく解像度か高いこと、(2+、特別な現像、
定着処理を必要としないこと、+31.発色濃度が高い
ので薄膜化が可能であること、及び(4)、消去−書き
換えか可能であることを特徴とし、各種記録、記憶材料
、!!写材料などへの応用か試みられてきた。特に最近
では前記11)及び(4)の特徴を生かして、スピロピ
ラン系フォトクロミック感光材料は光学式ビデオディス
ク等のレーザ配録媒体としての応用が期待されている。
しかし、従来のスピロピラン系フォトクロミック感光材
料はその発色状態における吸収波長域がせいぜい400
ル冨から700n謂の範囲でるるために、レーザによ)
記録再生を行なう場合、ArレーザやHe −Ne レ
ーザのような気体レーザを使用する必要がめった。最近
、小型、軽量の半導体レーザの進展が著しく、このため
に、記録再生用レーデとして半導体レーザか気体レーザ
に取って代わろうとしている。
料はその発色状態における吸収波長域がせいぜい400
ル冨から700n謂の範囲でるるために、レーザによ)
記録再生を行なう場合、ArレーザやHe −Ne レ
ーザのような気体レーザを使用する必要がめった。最近
、小型、軽量の半導体レーザの進展が著しく、このため
に、記録再生用レーデとして半導体レーザか気体レーザ
に取って代わろうとしている。
[7かし、実−用に供されるレーザ配録又は再生用の半
導体レーザは、780〜850 nmの発振波長を有す
るものが特に使用されている。更に、現在はこれより短
波長で発振する半導体レーザの開発が盛んに行なわれて
いて、特に近い将来、 700rLm付近で発振する半
導体レーザが来月化される可能性が高いと考えらnる(
例えは、斉藤冨士部[半導体レーザit−:録の現状と
将来、11日本写真学会誌、44121128 (19
81)、山本三部ら[可視元手導体レーザの開発と現状
]1オブトロニクス(A9)41(19B2)参照)0 従って、このスピロピラン系フ第1・クロミック感光材
料を半導体レーザN1録再生用記録媒体として使用する
ためには、この材料かその発色状態において、従来の場
合より長波長、特に700 nm以上の長波長の光に対
17で商い吸収特性を有する盛装かめる〇 このような波長域の光に対して発色状態で高い吸収特性
を有する物質として次のようなスピロチオビラン化合物
が知られている( H,S、 Becker and
、T。
導体レーザは、780〜850 nmの発振波長を有す
るものが特に使用されている。更に、現在はこれより短
波長で発振する半導体レーザの開発が盛んに行なわれて
いて、特に近い将来、 700rLm付近で発振する半
導体レーザが来月化される可能性が高いと考えらnる(
例えは、斉藤冨士部[半導体レーザit−:録の現状と
将来、11日本写真学会誌、44121128 (19
81)、山本三部ら[可視元手導体レーザの開発と現状
]1オブトロニクス(A9)41(19B2)参照)0 従って、このスピロピラン系フ第1・クロミック感光材
料を半導体レーザN1録再生用記録媒体として使用する
ためには、この材料かその発色状態において、従来の場
合より長波長、特に700 nm以上の長波長の光に対
17で商い吸収特性を有する盛装かめる〇 このような波長域の光に対して発色状態で高い吸収特性
を有する物質として次のようなスピロチオビラン化合物
が知られている( H,S、 Becker and
、T。
Kolc、 J、Phys、Ohem、 、 7299
7 (1981)を1照)。
7 (1981)を1照)。
(無色状態) (発色状態)
しかし、6−メチルペンタン溶液中% 77°にでこの
化合物は波長域600〜850 nmの光に対して発色
状態で高い吸収特性を有しているが、漬液中又は高分子
フィルム中でも常温では発色せず、DC以下の低温での
み発色し、常温に戻すと直ちに消色するので実用的では
ない。
化合物は波長域600〜850 nmの光に対して発色
状態で高い吸収特性を有しているが、漬液中又は高分子
フィルム中でも常温では発色せず、DC以下の低温での
み発色し、常温に戻すと直ちに消色するので実用的では
ない。
前記の諸問題を解決するため各補化合物を合成し、それ
らの化合物の発色状態での光吸収特注、発色及び消色特
性を調査した結果1次式で示される新規なフォトクロミ
ック化合物が、その発色状態において特に700nm以
上の長波長に高い吸収特性を有し、かつ1発色状態の安
定性がよく、さらに発色−消色の繰返しか6J能なこと
を見出し、本発明を完成するに至った。
らの化合物の発色状態での光吸収特注、発色及び消色特
性を調査した結果1次式で示される新規なフォトクロミ
ック化合物が、その発色状態において特に700nm以
上の長波長に高い吸収特性を有し、かつ1発色状態の安
定性がよく、さらに発色−消色の繰返しか6J能なこと
を見出し、本発明を完成するに至った。
本発明のν[現なフォトクロミック化合物は一般式 (
夏) (式中、1(11けI〆索数1〜2 [3個のアルキル
基、R2゜1(15、II4及びI(,5は水素原子、
炭素数1〜5個のアルキル基、炭素数1〜5個のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基又はジメチルアミノ基
を表わし、j(16,1(17及び1(18は水素原子
、炭素数1〜5個のアルギル基、炭素数1〜5個のアル
コキシ基又はハロゲン原子を衣わ1−) で示される。
夏) (式中、1(11けI〆索数1〜2 [3個のアルキル
基、R2゜1(15、II4及びI(,5は水素原子、
炭素数1〜5個のアルキル基、炭素数1〜5個のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ニトロ基又はジメチルアミノ基
を表わし、j(16,1(17及び1(18は水素原子
、炭素数1〜5個のアルギル基、炭素数1〜5個のアル
コキシ基又はハロゲン原子を衣わ1−) で示される。
本発明の11規なフオ]・クロミック化合物の例はよル
合成される。なお、以下の各反応式中の各化合物におい
て、R1−R9は前記と同じ意味を有する。
合成される。なお、以下の各反応式中の各化合物におい
て、R1−R9は前記と同じ意味を有する。
(1) (1)
即ち、1−アルキル−6,3−ジメチル−2−メチレン
インドリン(…)と5−ニトロチオサルチルアルデヒド
(1)とをエタノール中で還流させることによって本発
明の新規な化合物(1)を容易にかつ高収率で合成する
ことかできる。
インドリン(…)と5−ニトロチオサルチルアルデヒド
(1)とをエタノール中で還流させることによって本発
明の新規な化合物(1)を容易にかつ高収率で合成する
ことかできる。
前記原料化合物(II)は、次の反応式(B)で示す通
り、2,3.3− トリメチルインドレニン(IV)の
N−位をハロゲン化アルギルR,1X(Xハロゲン原子
を表わす)でアルキル化して塩(V)を生成させ、こR
5をアルカリ処理することによって得ることができる。
り、2,3.3− トリメチルインドレニン(IV)の
N−位をハロゲン化アルギルR,1X(Xハロゲン原子
を表わす)でアルキル化して塩(V)を生成させ、こR
5をアルカリ処理することによって得ることができる。
(、IV) (V)
また、前記N−位のアルキル化にはジアルキル硫酸、ト
ルエンスルホン酸アルキルエステルなどを用いても行な
うことかできる。
ルエンスルホン酸アルキルエステルなどを用いても行な
うことかできる。
なお、化合物(1)において、R3か(OH5)2N−
である、例えに5−ジメチルアミノ−1,3,3−トリ
メチル−2−メチレンインドリンの場合は、その合成に
は特殊な方法を用いる必要があり、この合成方法は発明
者らが今回初めて見出したものである。この化合物は次
の反応式(0)に従って、5−アミノ−2,3,3−ト
リメチルインドレニンをヒンダードアミン、例えば1.
2,2,6.6−ペンタメチルピペリジンの存在下、ヨ
ウ化メチルを作用させて四級アミンを得、これをナトリ
ウム11−プロピルアルコラードと共に加熱して脱メチ
ル化することにより合成することかできる。(後n1の
実施例5も診照) OH5 晶3(C) このような、1(・3がジメチルアミノ基をもった化合
物(rl)を用いて前H1】反応式(A)に従って合成
される本発明の化合物(1,)は紫外光照射による着色
状約の安定性が極めて優れているという特徴を有する。
である、例えに5−ジメチルアミノ−1,3,3−トリ
メチル−2−メチレンインドリンの場合は、その合成に
は特殊な方法を用いる必要があり、この合成方法は発明
者らが今回初めて見出したものである。この化合物は次
の反応式(0)に従って、5−アミノ−2,3,3−ト
リメチルインドレニンをヒンダードアミン、例えば1.
2,2,6.6−ペンタメチルピペリジンの存在下、ヨ
ウ化メチルを作用させて四級アミンを得、これをナトリ
ウム11−プロピルアルコラードと共に加熱して脱メチ
ル化することにより合成することかできる。(後n1の
実施例5も診照) OH5 晶3(C) このような、1(・3がジメチルアミノ基をもった化合
物(rl)を用いて前H1】反応式(A)に従って合成
される本発明の化合物(1,)は紫外光照射による着色
状約の安定性が極めて優れているという特徴を有する。
前記の2.6.3− )リメチル・fンドレニン(IV
) U一般にはli’1scberのインドール合成に
基づいて、置換フェニルヒドラジン又はその塩酸塩と3
−メチル−2−ブタノンとを酸性下で加熱することによ
って得ることができる。又は、 It換アニリンと6−
メチル−6−ブロモ−2−ブタノンとを加熱することに
よっても得ることかでき、この方法の一部は今回IIl
たに開発されたもので、後述の実施例6にその方法か示
されている。
) U一般にはli’1scberのインドール合成に
基づいて、置換フェニルヒドラジン又はその塩酸塩と3
−メチル−2−ブタノンとを酸性下で加熱することによ
って得ることができる。又は、 It換アニリンと6−
メチル−6−ブロモ−2−ブタノンとを加熱することに
よっても得ることかでき、この方法の一部は今回IIl
たに開発されたもので、後述の実施例6にその方法か示
されている。
前Wf (A、)の反応で用いられる5−ニトロチオサ
ルチルアルデヒド(lft)の合成は殆んど知られてお
らず、次の(I))又は(hi)の反応式に従って合成
することができる。
ルチルアルデヒド(lft)の合成は殆んど知られてお
らず、次の(I))又は(hi)の反応式に従って合成
することができる。
即ち、オルト位にハロゲン原子をもったアルデヒド化合
物のハロゲン原子をSH基に変える方法。
物のハロゲン原子をSH基に変える方法。
(後記の実施例1β照)
(yl) (III)
友だし、この方法はR6h R7及びR8か水素原子で
ある場&(化合物の入手が容易)は容易に行なうことか
できるか、置換基をもった5−ニトロチオサルチルアル
デヒドの合成は非常に困難で6C1その場合には次の反
応式(E)による方法が用いられる。
ある場&(化合物の入手が容易)は容易に行なうことか
できるか、置換基をもった5−ニトロチオサルチルアル
デヒドの合成は非常に困難で6C1その場合には次の反
応式(E)による方法が用いられる。
即チ、サルチルアルデヒドのOH基をSH基に変ご
(■) NaH又は (■)
r\、
、。) (In)
サルチルアルデヒド(Vll)のジメチルカルバメート
(Vりを合成し、加熱によル0−+8転位反応を行なわ
せ(■)、引き続きアルカリ加水分解によりチオサルチ
ルアルデヒド(11υを合成する。この反応自体ね、既
知でめるが、この化8物(11)の骨格調造を得るため
にこの反応を適用した例は知られていない。この(E)
の反応ね、原料でおるサルチルアルデヒドの合成か容易
であ)%また谷合成段階での収率か高く有利な合成法で
ある。従って、置換基+4つ7t5−ニトロチオサルチ
ルアルデヒドの合成yCFj(1!3)の方fJ:を用
いた。なお、この方法において、化縫物(■1)から−
挙に化&物(IX)まで反応を進めることかできる。(
後記の実施例4参照)本発明のフォトクロミック化合物
を用いたフォトクロンツク感光材料は半導体レーザ配録
再生用媒体として使用できる利点を有するt’tが、各
種の記録、記憶材料、資写材料、印刷用感光体、陰極線
管用記録材料、ホログラフィ−用感光材料、写真植字用
感光材料などの種々の記録材料として利用できる。また
、光学フィルター、ディスプレー材料、マスキング用材
料、光量計、装飾などの拐料としても利用でき、幅広い
用途をもっている。
(Vりを合成し、加熱によル0−+8転位反応を行なわ
せ(■)、引き続きアルカリ加水分解によりチオサルチ
ルアルデヒド(11υを合成する。この反応自体ね、既
知でめるが、この化8物(11)の骨格調造を得るため
にこの反応を適用した例は知られていない。この(E)
の反応ね、原料でおるサルチルアルデヒドの合成か容易
であ)%また谷合成段階での収率か高く有利な合成法で
ある。従って、置換基+4つ7t5−ニトロチオサルチ
ルアルデヒドの合成yCFj(1!3)の方fJ:を用
いた。なお、この方法において、化縫物(■1)から−
挙に化&物(IX)まで反応を進めることかできる。(
後記の実施例4参照)本発明のフォトクロミック化合物
を用いたフォトクロンツク感光材料は半導体レーザ配録
再生用媒体として使用できる利点を有するt’tが、各
種の記録、記憶材料、資写材料、印刷用感光体、陰極線
管用記録材料、ホログラフィ−用感光材料、写真植字用
感光材料などの種々の記録材料として利用できる。また
、光学フィルター、ディスプレー材料、マスキング用材
料、光量計、装飾などの拐料としても利用でき、幅広い
用途をもっている。
本発明のフォトクロミック化合物は、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン。
ノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン。
シフ寵ヘキサノンなどのケトン類、エチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸
エチル、酢酸n−ブチルなどのエステル類、更にベンゼ
ン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド。
オキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸
エチル、酢酸n−ブチルなどのエステル類、更にベンゼ
ン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキサ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド。
クロロホルムなどの各種溶媒及びこれらの混合溶媒に溶
解する。この化合物をフォトクロミック感光材料として
用いるには、上記溶媒に高分子物質と共に1][8化合
物を酌解し、製膜或いは支持体に塗布乾燥するか、溶媒
を用いずに高分子物質に上記化合物を混練#解し、製膜
して用いることができる。
解する。この化合物をフォトクロミック感光材料として
用いるには、上記溶媒に高分子物質と共に1][8化合
物を酌解し、製膜或いは支持体に塗布乾燥するか、溶媒
を用いずに高分子物質に上記化合物を混練#解し、製膜
して用いることができる。
前記高分子物質としては、前記一般式(I)の化合物と
の相溶性がよくかつフィルム形成能の優れたものでおれ
はよく、その例を挙げれは、ポリメタクリル酸メチル、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール
、酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ1m化ビニリ
デン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリアクリロニトリル、ウレタン樹
脂、エホキシ剃脂、ポリエステル、フェノール41脂。
の相溶性がよくかつフィルム形成能の優れたものでおれ
はよく、その例を挙げれは、ポリメタクリル酸メチル、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール
、酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ1m化ビニリ
デン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリアクリロニトリル、ウレタン樹
脂、エホキシ剃脂、ポリエステル、フェノール41脂。
フェノキシ樹脂などである。このうち、塩素系の高分子
物質の方か、発色後の安定性が良好となるために望まし
い。
物質の方か、発色後の安定性が良好となるために望まし
い。
また、5tule支持体用物貴としては、ポリエチレン
テレフタレート、セルロースアセテート、ポリカーホネ
ート、11M常の紙、バライタ紙、ガラス。
テレフタレート、セルロースアセテート、ポリカーホネ
ート、11M常の紙、バライタ紙、ガラス。
金N蝉がめる。
次に、本発明を実施例について更に詳述する。
実施例1
1’、3’、3’ −トリメチル−6−ニトロスピロ〔
21(−1−ベンゾチオビラン−2,2’−インドリン
〕の製造: 原料の一つでめる5−ニトロチオサルチルアルデ81″
SH 02 は次のように合成した0 2−クロロ−5−二トロベンズアルデヒド5Iを10c
cのエタノール中に加え、加熱還流した。
21(−1−ベンゾチオビラン−2,2’−インドリン
〕の製造: 原料の一つでめる5−ニトロチオサルチルアルデ81″
SH 02 は次のように合成した0 2−クロロ−5−二トロベンズアルデヒド5Iを10c
cのエタノール中に加え、加熱還流した。
次に、Na2S −9N204.661と80.62g
との混合物を加熱してNa2S2を合成した。この合
成したNa2S2を、 薫nし7t2−クロロ−5−ニ
トロベンズアルデヒドエタノール溶液に15分間かけて
加えた。
との混合物を加熱してNa2S2を合成した。この合
成したNa2S2を、 薫nし7t2−クロロ−5−ニ
トロベンズアルデヒドエタノール溶液に15分間かけて
加えた。
加え終ノ)つてから、Nar)II 1.08j”e含
b95%エタノール溶液10ccを60分間か1で添加
した〇添加を終えたら冷却し、氷水(氷30Ii、水4
00cc )中に入れ、ついで不溶物をろ過した。ろ液
をH(Mで中和すると黄色の沈殿゛が析出した。この沈
殿をろ過して染めた。この黄色沈殿は不純物をきむので
、まずエタノール20ccK加熱しながら溶解させ、N
aOH1,0S Iを含む95チエタノール溶液を加え
、不溶物をろ過によって除いた。ろ液を再びII(Mで
中和し、冷却して目的の5−二トロチオサルチルアルデ
ヒドの黄色結晶を得た。9れをろ別し、乾燥して次の反
応に使用した。収量は3.15jl(649&)で、融
点は85〜88CであったO 次に、市販の1.3.3− トリメチル−2−メチレン
インドリン1.6 #と、前記の通夛合成した5−二ト
ロチオサルチルアルデヒド2gとを100CCのエタノ
ール中に入れて2時間加熱fk流した。この溶液を濃縮
し、メタノールを加えると黄色結晶か析出した。これを
ベンゼン−メタノールから再結晶して、目的の1.’3
′、3’−)ジメチル−6−二トロスピロ(2)I−1
−ベンゾチオビラン−2,2’−インρリン〕を得た。
b95%エタノール溶液10ccを60分間か1で添加
した〇添加を終えたら冷却し、氷水(氷30Ii、水4
00cc )中に入れ、ついで不溶物をろ過した。ろ液
をH(Mで中和すると黄色の沈殿゛が析出した。この沈
殿をろ過して染めた。この黄色沈殿は不純物をきむので
、まずエタノール20ccK加熱しながら溶解させ、N
aOH1,0S Iを含む95チエタノール溶液を加え
、不溶物をろ過によって除いた。ろ液を再びII(Mで
中和し、冷却して目的の5−二トロチオサルチルアルデ
ヒドの黄色結晶を得た。9れをろ別し、乾燥して次の反
応に使用した。収量は3.15jl(649&)で、融
点は85〜88CであったO 次に、市販の1.3.3− トリメチル−2−メチレン
インドリン1.6 #と、前記の通夛合成した5−二ト
ロチオサルチルアルデヒド2gとを100CCのエタノ
ール中に入れて2時間加熱fk流した。この溶液を濃縮
し、メタノールを加えると黄色結晶か析出した。これを
ベンゼン−メタノールから再結晶して、目的の1.’3
′、3’−)ジメチル−6−二トロスピロ(2)I−1
−ベンゾチオビラン−2,2’−インρリン〕を得た。
収量は1.1j(収率35%)で、融点線178〜17
9Cでめった。
9Cでめった。
原料として合成した5−ニトロチオサルチルアルデヒド
Jft−’H−NMRスペクトル法で解析した。内部基
準としてTM8(テトラメチルシラン)ヲ。
Jft−’H−NMRスペクトル法で解析した。内部基
準としてTM8(テトラメチルシラン)ヲ。
i11剤としてOD Oh (クロロホルム−(h)を
用いて日本電子社製JNM−FX60QNMR装置で測
定して得られた結果は次の1liiJ)で、この化合物
は確認された。
用いて日本電子社製JNM−FX60QNMR装置で測
定して得られた結果は次の1liiJ)で、この化合物
は確認された。
ケミカルシフト(δ、ppm)
6.16 (−重線、8H,I H)
148 (二重@、3−位のH,IH)8.22 (二
重−二重縁、4−位のf(、IH)8.61 に1線、
6−位のH,IH)10.10 (−’1ira、OH
0,1f()また、目的の1 ’、5’、5’−トリメ
チルー6−二トロxビo(2fl−1−ベンゾチオビラ
ン−・2,2′−インドリン)を、m記と同様に測定し
て得た次の1H−N M Rスペクトルデータで確認し
た〇δ(ppm ) 1.24 (−1線、0−αls、5H)1.40 (
−重線、0−0Hh5H)2.64 (−電線、N−0
H5,3f()5.96 (二重ftM、 5−位のH
,1f()6.44 (二重線、7′−位のH,IH)
6.6−7.4(多重線、芳香族−H,4−位のH15
■1) 7.7−8.1 (多m@、 5.7−位(7)f(,
2H)こうして得られた1 ’、3’、3’−トリメチ
ル−6−二トロスビロ(2H−1−ベンゾチオビラン−
2,2′−インドリン〕51k量部と、高分子物質とし
ての塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(電気化学工
業社製デンカビニール−$10LIOW)10重1部と
溶剤(テトラヒドロフラン:シクロヘキ1/y=:i
: 1(体積比))100重量部とから溶液を調製し、
石英ガラス基板上にスピンナー塗布し、80Cで2時間
乾燥させて感光層の厚さ1.5μ票の試料を作製した。
重−二重縁、4−位のf(、IH)8.61 に1線、
6−位のH,IH)10.10 (−’1ira、OH
0,1f()また、目的の1 ’、5’、5’−トリメ
チルー6−二トロxビo(2fl−1−ベンゾチオビラ
ン−・2,2′−インドリン)を、m記と同様に測定し
て得た次の1H−N M Rスペクトルデータで確認し
た〇δ(ppm ) 1.24 (−1線、0−αls、5H)1.40 (
−重線、0−0Hh5H)2.64 (−電線、N−0
H5,3f()5.96 (二重ftM、 5−位のH
,1f()6.44 (二重線、7′−位のH,IH)
6.6−7.4(多重線、芳香族−H,4−位のH15
■1) 7.7−8.1 (多m@、 5.7−位(7)f(,
2H)こうして得られた1 ’、3’、3’−トリメチ
ル−6−二トロスビロ(2H−1−ベンゾチオビラン−
2,2′−インドリン〕51k量部と、高分子物質とし
ての塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(電気化学工
業社製デンカビニール−$10LIOW)10重1部と
溶剤(テトラヒドロフラン:シクロヘキ1/y=:i
: 1(体積比))100重量部とから溶液を調製し、
石英ガラス基板上にスピンナー塗布し、80Cで2時間
乾燥させて感光層の厚さ1.5μ票の試料を作製した。
このようにして作製した試料に、500W超高圧水銀灯
(ウシオt*社製)を用い、ガラスフイkl−(東芝社
製UV−D360)を通L’[3605m付近の紫外光
を20秒間照射した。淡黄色であった試料は濃緑色に変
化した。その吸収スペクトルを日立社製の1記分光光度
計320型で測定した。紫外光照射後の試料線6803
m1m吸光度の極大値をもち、吸収は9005m付近ま
で拡かつていることがわかった◎なお、S記極大値、即
ち吸収極大波長(680ss*)での吸光度は約0.6
であった。又、波長78い1にもかな〕の吸収性を有し
てお〕、その吸光Ha吸収極大波長(λmaw )での
吸光[K対して47%の割合でめった。
(ウシオt*社製)を用い、ガラスフイkl−(東芝社
製UV−D360)を通L’[3605m付近の紫外光
を20秒間照射した。淡黄色であった試料は濃緑色に変
化した。その吸収スペクトルを日立社製の1記分光光度
計320型で測定した。紫外光照射後の試料線6803
m1m吸光度の極大値をもち、吸収は9005m付近ま
で拡かつていることがわかった◎なお、S記極大値、即
ち吸収極大波長(680ss*)での吸光度は約0.6
であった。又、波長78い1にもかな〕の吸収性を有し
てお〕、その吸光Ha吸収極大波長(λmaw )での
吸光[K対して47%の割合でめった。
比較例として%通常のスピロピラン化合物である1’、
3’、3’ −)ジメチル−6−ニトロスビロ(21−
1−ベンゾビラン−2,2′−インドリン〕を用いて実
施例1と同様の組成、方法で感光膜を作製し、発色特性
を調べたところ、λmaxは580 nmで、長波長側
の吸収端は700 tt mでめった。
3’、3’ −)ジメチル−6−ニトロスビロ(21−
1−ベンゾビラン−2,2′−インドリン〕を用いて実
施例1と同様の組成、方法で感光膜を作製し、発色特性
を調べたところ、λmaxは580 nmで、長波長側
の吸収端は700 tt mでめった。
実施例2
5′−メトキシ−1′−〇−へギンk −3’、3’−
ジメチル−6−ニトロ−8−メトキシスビo(2H−1
−ベンゾチオビラン−2,2′−インドリン〕原料の一
つ、でめる6−メドキシー5−ニドロチ#′i次のよう
に合成した。ます、6−メドキシー5−二トロサルチル
アルデ勢ド101Iと1,4−ジアザビシクロ(2,2
,2)オクタン11.4gとをDMF(ジメチルホルム
アミド)に溶解させた溶液に、ジメチルチオカルバモイ
ルクロリド94gをDMFに溶解させた溶液を加え、5
0〜60Cで1.5時間反応させた後、水500 cc
を加え、生じた沈殿をろ過し、メタノールで再結晶して
ジメチルチヲ11.1&得た(収率77%)。このジメ
チルカルバメートを1600の油浴で加熱し、溶解した
ら冷却し、メタノールを加え、析出した結晶、をろ過を
10.611得た(収率931)。この化合物をメタノ
ール300ccに溶解させ、常温で4 N −NaOH
水溶液3 El ccを加えb N2ガスを吹き込みな
がら1時間反応させ、濃塩酸を加えて画性にした後、4
0分間還(+It−させ、冷却1.水104Jccをカ
リえ、析出した結晶をろi14 J、て6−メドキシー
5−ニトロチオサルチルアルデヒドy、6bgを得た(
収率99チ)。
ジメチル−6−ニトロ−8−メトキシスビo(2H−1
−ベンゾチオビラン−2,2′−インドリン〕原料の一
つ、でめる6−メドキシー5−ニドロチ#′i次のよう
に合成した。ます、6−メドキシー5−二トロサルチル
アルデ勢ド101Iと1,4−ジアザビシクロ(2,2
,2)オクタン11.4gとをDMF(ジメチルホルム
アミド)に溶解させた溶液に、ジメチルチオカルバモイ
ルクロリド94gをDMFに溶解させた溶液を加え、5
0〜60Cで1.5時間反応させた後、水500 cc
を加え、生じた沈殿をろ過し、メタノールで再結晶して
ジメチルチヲ11.1&得た(収率77%)。このジメ
チルカルバメートを1600の油浴で加熱し、溶解した
ら冷却し、メタノールを加え、析出した結晶、をろ過を
10.611得た(収率931)。この化合物をメタノ
ール300ccに溶解させ、常温で4 N −NaOH
水溶液3 El ccを加えb N2ガスを吹き込みな
がら1時間反応させ、濃塩酸を加えて画性にした後、4
0分間還(+It−させ、冷却1.水104Jccをカ
リえ、析出した結晶をろi14 J、て6−メドキシー
5−ニトロチオサルチルアルデヒドy、6bgを得た(
収率99チ)。
融点169〜170C8この化合物につ緊て%実施例1
の場合と同様にして’if −N M Rスペクトル法
によって次の結果を144.この化合物を確認した〇δ
(plitn ) 、 4、[J9(−車49! v、 QOIJ5.3[1)
。
の場合と同様にして’if −N M Rスペクトル法
によって次の結果を144.この化合物を確認した〇δ
(plitn ) 、 4、[J9(−車49! v、 QOIJ5.3[1)
。
6、lo(−重線、811.’l H)。
ZB5(二%’g線、4・−位のjJ、IH)8.31
. (二釘剥、6−位の11、IH)10.14(−]
iM縁、(川0.1 f()次に、このチオサルチルア
ルデヒド4.6#、!:次式の1.、7 n−へキシル
−6,6−ジメtルー57メトキシー2−メチレ/イ/
ドリイ5.9g06fl、。
. (二釘剥、6−位の11、IH)10.14(−]
iM縁、(川0.1 f()次に、このチオサルチルア
ルデヒド4.6#、!:次式の1.、7 n−へキシル
−6,6−ジメtルー57メトキシー2−メチレ/イ/
ドリイ5.9g06fl、。
(5−メトキシ−2,5,5−トリメチルインドレニン
とヨウ化ヘキシルとをクロロホルム中で反応させた後、
NaOHで処理して合成した)とをエタノール100C
C中で2時間加熱還流後、この溶液を濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで分1111 L、ペン七
・ンーメタノールで再結晶しテ、目的の5′−メトキシ
−1′−n−へキシル−3’、 3’−ジメチル−6−
ニトロ−8−メトキシスピロ(2H−1−ベンゾチオビ
ラツー2,2′−インドリン〕4.69か得られた(収
率45饅、融点97〜98C)。
とヨウ化ヘキシルとをクロロホルム中で反応させた後、
NaOHで処理して合成した)とをエタノール100C
C中で2時間加熱還流後、この溶液を濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで分1111 L、ペン七
・ンーメタノールで再結晶しテ、目的の5′−メトキシ
−1′−n−へキシル−3’、 3’−ジメチル−6−
ニトロ−8−メトキシスピロ(2H−1−ベンゾチオビ
ラツー2,2′−インドリン〕4.69か得られた(収
率45饅、融点97〜98C)。
’H−N M Rスペクトルデータ
、 δ(ppm )
0.88 (三重線 Q −ヘキシル基、OH,,3H
)1.23 (−重@、 0−0Hs、3H)1.36
(−重線、0−0H5,3H)1.0−2.0(多重
線、n−ヘキシル基、OH2、調 、 ・8f() 3.04 、(三重線、N −OH2,2H)・、3.
7’7 (−重線、 00)1543H) 。
)1.23 (−重@、 0−0Hs、3H)1.36
(−重線、0−0H5,3H)1.0−2.0(多重
線、n−ヘキシル基、OH2、調 、 ・8f() 3.04 、(三重線、N −OH2,2H)・、3.
7’7 (−重線、 00)1543H) 。
690 (−重線、00115&6II )5.94
(二重線、6−位の14.IH)6.40 (二117
′−位の■]、IH)t15.5−6.8(多側@p、
4’、6’−位の1−1,2H)6.84 (二il
t#、 4−位(7)H,1f−1)Z52 (二重線
、7−位の11%1[■)Z74 (二重線、5−位の
II、IH)本実施例の化合物をl) M P中に溶解
し、脱気した溶液に56LLnyn付近の紫外光を照射
したところ、緑色pc i@色し、次にこの着色溶液を
加熱したところ消色した。この着色・消色の現象は′何
回でも繰返すことかできた。
(二重線、6−位の14.IH)6.40 (二117
′−位の■]、IH)t15.5−6.8(多側@p、
4’、6’−位の1−1,2H)6.84 (二il
t#、 4−位(7)H,1f−1)Z52 (二重線
、7−位の11%1[■)Z74 (二重線、5−位の
II、IH)本実施例の化合物をl) M P中に溶解
し、脱気した溶液に56LLnyn付近の紫外光を照射
したところ、緑色pc i@色し、次にこの着色溶液を
加熱したところ消色した。この着色・消色の現象は′何
回でも繰返すことかできた。
実施例6
5′、7′−ジメトキシ−1′、3′、6′−トリメチ
ル−6−ニトロー8−メトキシスピロ(2H−1−ベン
ゾチオビラン−2,2/−インドリン〕 の製造: 原料の一つである5、7−シメトキシー1,3.!l
−トリメチル−2−メチレンインドリン は次のように合成した。まず、6−ブロム−3−メチル
−2−ブタノン20Iiと2,4−ジメトキシアニリン
55.5.9とを1400で1時間加熱させた後、クロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層を、濃塩酸18cc
を水200 ccに希釈した希塩酸溶液で処理し、過剰
のジメトキシアニリンを取漫除いた後、減圧蒸留して5
,7−シメトキシー2,5.6−ドリメチルインドレニ
ン16.4.9を得た(収率62%、沸点107 C1
0,2s+mHII)。
ル−6−ニトロー8−メトキシスピロ(2H−1−ベン
ゾチオビラン−2,2/−インドリン〕 の製造: 原料の一つである5、7−シメトキシー1,3.!l
−トリメチル−2−メチレンインドリン は次のように合成した。まず、6−ブロム−3−メチル
−2−ブタノン20Iiと2,4−ジメトキシアニリン
55.5.9とを1400で1時間加熱させた後、クロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層を、濃塩酸18cc
を水200 ccに希釈した希塩酸溶液で処理し、過剰
のジメトキシアニリンを取漫除いた後、減圧蒸留して5
,7−シメトキシー2,5.6−ドリメチルインドレニ
ン16.4.9を得た(収率62%、沸点107 C1
0,2s+mHII)。
このインドレニン5Iとヨウ化メチル4gとをメタノー
ル5 cc VC溶解嘔せ、封管して110cで2時間
反応させ、得られた生成物の粉末をエーテルで洗浄し、
乾燥後NaOHで処理して、5,7−シメトキシー1,
3.3−1−サメチル−2−メチレンインドリン3.7
11(収率71Jチ)を得た〇このインドリン6.4g
と、実施例2で合成した6−メドキシー5−ニトロチオ
サルチルアルデヒド6.2gとを実施例2の場合と同様
の方法で反応させ、分離1〜で、目的の5′、7′−ジ
メトキシ−1/、3/。
ル5 cc VC溶解嘔せ、封管して110cで2時間
反応させ、得られた生成物の粉末をエーテルで洗浄し、
乾燥後NaOHで処理して、5,7−シメトキシー1,
3.3−1−サメチル−2−メチレンインドリン3.7
11(収率71Jチ)を得た〇このインドリン6.4g
と、実施例2で合成した6−メドキシー5−ニトロチオ
サルチルアルデヒド6.2gとを実施例2の場合と同様
の方法で反応させ、分離1〜で、目的の5′、7′−ジ
メトキシ−1/、3/。
3′−トリメチル−6−二トロー8−メトキシスピロ(
2[1−1−ベンゾチオビラン−2,2′−インド!I
7 ) 4.5 !I+NftCAM率69%、融点
131r)。
2[1−1−ベンゾチオビラン−2,2′−インド!I
7 ) 4.5 !I+NftCAM率69%、融点
131r)。
この化合物についても1」1−□NMI(スペクトル法
で栖造を確紐した。また、この化合物のD M F溶液
灯実施例2の化合物と同様の着色・1消色現象を示した
。。
で栖造を確紐した。また、この化合物のD M F溶液
灯実施例2の化合物と同様の着色・1消色現象を示した
。。
実施fI14. ・
5′−メトギシーi’、6’ys’−Fす□メチルー6
−二トロー8−90ロスピロ[21−1++ 1−ベン
ゾチオビラン−・2,2′−インドリン] 。
−二トロー8−90ロスピロ[21−1++ 1−ベン
ゾチオビラン−・2,2′−インドリン] 。
の製造:
原料の一つである3−クロロ−5−二トロチオサルチル
アルデヒド H O2 は次のように合成した。ます、6−り60−5−二トロ
サルチルアルデヒド10gをDMF300ccに溶解さ
せ、氷冷下でNaH1,21を加え、水素の発生か止ん
だら、ジメチルチオカルバモイル□クロリド8gをDM
Floccに溶解させた溶液を1度に加え、40Cで1
5分間、引続き80Cで1時間反応させた。−反応混合
物を冷却後、氷水を加え、析出した結晶をろ過し、ベン
ゼン−エタノールから再結晶し九。こうして次の化合物
をZ69(収この化合物5IIをエタノール25ccに
溶解させ、4 N −NaOH水#r液23.5 cc
を加え、N2ガスを吹き込みながら常温で2時曲反応さ
せた。反応混合物を希塩酸で酸性に1〜.析出した黄色
結晶をろ過し、乾燥して、3−クロo−5−ニトロチオ
サルチルアルデヒ)−3,721(収率99s1融点8
4〜89C)を得た。
アルデヒド H O2 は次のように合成した。ます、6−り60−5−二トロ
サルチルアルデヒド10gをDMF300ccに溶解さ
せ、氷冷下でNaH1,21を加え、水素の発生か止ん
だら、ジメチルチオカルバモイル□クロリド8gをDM
Floccに溶解させた溶液を1度に加え、40Cで1
5分間、引続き80Cで1時間反応させた。−反応混合
物を冷却後、氷水を加え、析出した結晶をろ過し、ベン
ゼン−エタノールから再結晶し九。こうして次の化合物
をZ69(収この化合物5IIをエタノール25ccに
溶解させ、4 N −NaOH水#r液23.5 cc
を加え、N2ガスを吹き込みながら常温で2時曲反応さ
せた。反応混合物を希塩酸で酸性に1〜.析出した黄色
結晶をろ過し、乾燥して、3−クロo−5−ニトロチオ
サルチルアルデヒ)−3,721(収率99s1融点8
4〜89C)を得た。
このチオザルチルアルデヒド2.!Mと5−メトキシ−
1,3,3−トリメチル−2−メチレンインドリン2.
5gとを実施例2の場合と同様の方法で反応させ、分離
して%目的の5′−メトキシ−1’、3’、3’−トリ
メチル−6−ニトロ−8−クロロスピロ(211−1−
ベンゾチオビラン−2,2′−インドリン:1.、ll
(収率67嘔)を得た。融点168〜169r’0’[
1−NMILスペクトル法によってこの化合物を確認し
た。
1,3,3−トリメチル−2−メチレンインドリン2.
5gとを実施例2の場合と同様の方法で反応させ、分離
して%目的の5′−メトキシ−1’、3’、3’−トリ
メチル−6−ニトロ−8−クロロスピロ(211−1−
ベンゾチオビラン−2,2′−インドリン:1.、ll
(収率67嘔)を得た。融点168〜169r’0’[
1−NMILスペクトル法によってこの化合物を確認し
た。
本実施例で得たチオビラン糸スピロピランfil物4x
普部と、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(w、気
化字工条社装の部品名デンカビニール$10(jOWを
使用)10重量部と、ナト2ヒドロフラン:シクロヘキ
サノン==1:1(体積比)の混合物100重量部とか
ら成る溶液を石英ガラス板上にスピンナ塗布し、80C
で2時間真空乾燥させて、厚さ1μmの感光膜試料を作
製し7ICoこの試料に500W超高圧水銀灯(ウシオ
電気社製)を用いて、560n*付近の紫外光(東芝製
UV〜360フィルター通過光)を照射したところ%濃
緑色に発色した。この発色状態の試料の吸収極大波長は
650nm、その波長での飽和吸光度は0.6゜720
nNでの吸光[Fs、0.43 、78Onta テ(
7)吸光度は0゜14でおった。また、この発色試料は
80rに加熱すると消色し、再び紫外光を照射すると発
色し、この現象は繰返し何度も行なうことかで1!た。
普部と、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(w、気
化字工条社装の部品名デンカビニール$10(jOWを
使用)10重量部と、ナト2ヒドロフラン:シクロヘキ
サノン==1:1(体積比)の混合物100重量部とか
ら成る溶液を石英ガラス板上にスピンナ塗布し、80C
で2時間真空乾燥させて、厚さ1μmの感光膜試料を作
製し7ICoこの試料に500W超高圧水銀灯(ウシオ
電気社製)を用いて、560n*付近の紫外光(東芝製
UV〜360フィルター通過光)を照射したところ%濃
緑色に発色した。この発色状態の試料の吸収極大波長は
650nm、その波長での飽和吸光度は0.6゜720
nNでの吸光[Fs、0.43 、78Onta テ(
7)吸光度は0゜14でおった。また、この発色試料は
80rに加熱すると消色し、再び紫外光を照射すると発
色し、この現象は繰返し何度も行なうことかで1!た。
実施例5
5′−ジメチルアミノー1′、6′16′−トリメチル
−6−ニトロスピロ(2f(−1−ベンゾチオビラン−
2,2′−インドリン〕 の劃「 原料の5−ジメチルアミノ−1,3,5−トリメチル−
2−メチレンイントレン ■ n5 は次のように合成した。即ち、5−アきノー2.6゜6
−ドリメチルインドレニン5.741を、1.2,2,
6゜6−ペンタメチルピペリジン6.611.yaつ化
メチル−8,27JFと共1/C1) M P 40
ec IIC溶解サセ、室温で15時間放置し7を後、
生じた結晶を6憾DMPを含むアセトン溶液、アセトン
で順次洗浄を行なりた後、乾燥させ、ナトリフ^2.5
511を含むn−プロビルアルコール150cc中に加
え、17時間ml 流して脱メチル化し%次いでn−プ
ロピルアルコールを減圧で除去したtIk1水を加え、
エーテル抽出によって5−ジメチルア建ノー1.3.3
−トリメチル−2−メチレンインドリン4.21jを得
た(収率ν196)。
−6−ニトロスピロ(2f(−1−ベンゾチオビラン−
2,2′−インドリン〕 の劃「 原料の5−ジメチルアミノ−1,3,5−トリメチル−
2−メチレンイントレン ■ n5 は次のように合成した。即ち、5−アきノー2.6゜6
−ドリメチルインドレニン5.741を、1.2,2,
6゜6−ペンタメチルピペリジン6.611.yaつ化
メチル−8,27JFと共1/C1) M P 40
ec IIC溶解サセ、室温で15時間放置し7を後、
生じた結晶を6憾DMPを含むアセトン溶液、アセトン
で順次洗浄を行なりた後、乾燥させ、ナトリフ^2.5
511を含むn−プロビルアルコール150cc中に加
え、17時間ml 流して脱メチル化し%次いでn−プ
ロピルアルコールを減圧で除去したtIk1水を加え、
エーテル抽出によって5−ジメチルア建ノー1.3.3
−トリメチル−2−メチレンインドリン4.21jを得
た(収率ν196)。
こうして得られたインドシン3gと実施例1で合成した
5−ニトロチオサルチルアルデヒド6gとをエタノール
40ec中で1時間加熱し、実施例2で示したような処
理を行ない、目的の5′−ジメチルアミノ−1’、5’
、3’−トリメチルー6−二トロスビu(2H−1−ベ
ンゾチオビラン−2,2’ −(ン)−リy ) 2.
41 ヲ得り(収率4596.融点16t5.5〜16
7U)。確認に祉’H−NMRスペクトル法を用いた。
5−ニトロチオサルチルアルデヒド6gとをエタノール
40ec中で1時間加熱し、実施例2で示したような処
理を行ない、目的の5′−ジメチルアミノ−1’、5’
、3’−トリメチルー6−二トロスビu(2H−1−ベ
ンゾチオビラン−2,2’ −(ン)−リy ) 2.
41 ヲ得り(収率4596.融点16t5.5〜16
7U)。確認に祉’H−NMRスペクトル法を用いた。
本実施例の化合物を用いて、実施例4と同様の方法で高
分子膜を作製し、紫外光を照射したところ、黒紫色に発
色し、その吸収スペクトルは吸収極大波長か620ルI
I%その波長での飽和吸光度(紫外光を照射し1発色の
吸光度か飽和に達した時点での)が0.62%72旧■
での吸光度は0.42゜780 n*での吸光度は0.
16でめった。この発色感光膜試料は、80Cに加熱す
ると、70Qnm以上の吸収が消失し、再び紫外光を照
射すると700 n11以上に吸収が現われた。また、
この試料の発色(着色)状aは極めて安定であった。
分子膜を作製し、紫外光を照射したところ、黒紫色に発
色し、その吸収スペクトルは吸収極大波長か620ルI
I%その波長での飽和吸光度(紫外光を照射し1発色の
吸光度か飽和に達した時点での)が0.62%72旧■
での吸光度は0.42゜780 n*での吸光度は0.
16でめった。この発色感光膜試料は、80Cに加熱す
ると、70Qnm以上の吸収が消失し、再び紫外光を照
射すると700 n11以上に吸収が現われた。また、
この試料の発色(着色)状aは極めて安定であった。
実施例1〜5と同様の合成法を用い、表1に示されるよ
うな柚々のviI換基をもつチオビラン系スピロピラン
化合物を台底した。これらの化合物はすべて’fl −
N M Itスペクトル法によって確認された。また、
これらの化合物を用いて実施例4と同様の手順で感光膜
を作製し、紫外光を照射して飽和に達するまで発色させ
、吸収スペクトルを測定した。この結果も表1#C示し
た。なお、各波長での吸光度灯、感光膜の厚さ1μ謂の
ときの値でろる〇これらの結果から、本発明の化合物は
いずれも70[JnmP)、上に高い吸収をもつことか
わかる。
うな柚々のviI換基をもつチオビラン系スピロピラン
化合物を台底した。これらの化合物はすべて’fl −
N M Itスペクトル法によって確認された。また、
これらの化合物を用いて実施例4と同様の手順で感光膜
を作製し、紫外光を照射して飽和に達するまで発色させ
、吸収スペクトルを測定した。この結果も表1#C示し
た。なお、各波長での吸光度灯、感光膜の厚さ1μ謂の
ときの値でろる〇これらの結果から、本発明の化合物は
いずれも70[JnmP)、上に高い吸収をもつことか
わかる。
以−にの通シ、従来のスピロピラン化合物のベンゾビラ
ン骨格の0原子を8原子にtIt、1!換え、6−位I
CNO2Mをもった本発明のチオビラン系スピロビラン
フォトクロ4ツク化合物は、従来のスピロピラン化合物
の揚台よす約1100n長波長化し。
ン骨格の0原子を8原子にtIt、1!換え、6−位I
CNO2Mをもった本発明のチオビラン系スピロビラン
フォトクロ4ツク化合物は、従来のスピロピラン化合物
の揚台よす約1100n長波長化し。
7UOnm以上の波長に対して高い吸収特性をもってい
る。
る。
(以下余白。)
(自発)手続補正書
昭和59年゛11月28日
昭和58年特許願第161702号
(218)ソニー株式会社
6、補正により増加する発明の数
7° 1E(D”3 明細薔の発明の詳細な説明の掴(
1)、明細書第1t′−f丁から1行目の「700pm
lを1700nm−lと補正する。
1)、明細書第1t′−f丁から1行目の「700pm
lを1700nm−lと補正する。
(2)、同第4I18j第3行11の1”(1981)
Jをr(IQ6B)Iと補I丁する。
Jをr(IQ6B)Iと補I丁する。
(3)、同第11百下から(i〜5行目;第9頁15=
I 6 tlll ;第101″ロ行ト1の次に記載
の化学式から3〜4行1’、I i第11頁下から5行
目;第14頁4行「1の次に記、i、1.の化学式から
2〜3行目;第15頁15・−・16行+1i第1 f
i口1へ・2行目と同頁10〜l l frIl ;及
び第30@2行目の各[5−二1■千オリール千ルアル
デヒド1を15−二トロ千オ°リリチルアルデヒド1と
1市正する。
I 6 tlll ;第101″ロ行ト1の次に記載
の化学式から3〜4行1’、I i第11頁下から5行
目;第14頁4行「1の次に記、i、1.の化学式から
2〜3行目;第15頁15・−・16行+1i第1 f
i口1へ・2行目と同頁10〜l l frIl ;及
び第30@2行目の各[5−二1■千オリール千ルアル
デヒド1を15−二トロ千オ°リリチルアルデヒド1と
1市正する。
(11> 、同第10 t’r l f111〕次b=
記載り化学式から7行1−1;及び第111−1下から
14行口と同真下から8〜7行]1の6.1− IJル
チルアルデヒドjを[llり千ルγルデヒ11と補正す
る。
記載り化学式から7行1−1;及び第111−1下から
14行口と同真下から8〜7行]1の6.1− IJル
チルアルデヒドjを[llり千ルγルデヒ11と補正す
る。
(5)、同第zrl・から14行口及び第20頁′1行
11の次にiil’i JjlBの化学式から1〜2行
目の各[ジメ千ル力ルハメーIIを「ジメチルチオ力ル
ハメー L lとl+li +lする。
11の次にiil’i JjlBの化学式から1〜2行
目の各[ジメ千ル力ルハメーIIを「ジメチルチオ力ル
ハメー L lとl+li +lする。
、2
(6)、同第11頁下から12〜11行目;第21頁1
5行目;及び第27頁8行目の各「チオザルチルアルデ
ヒド」を[チオサリチルアルデヒF jと補正する。
5行目;及び第27頁8行目の各「チオザルチルアルデ
ヒド」を[チオサリチルアルデヒF jと補正する。
(7)、同第19頁8行目の次に記載の化学式から2〜
3行目;第21頁4〜5行目;及び第25頁4〜5行目
の各「3−メトキシ−5−ニトロチオサルチルアルデヒ
ド」を[3−メトキシ−5−ニトロチオサリチルアルデ
ヒド]と補正する。
3行目;第21頁4〜5行目;及び第25頁4〜5行目
の各「3−メトキシ−5−ニトロチオサルチルアルデヒ
ド」を[3−メトキシ−5−ニトロチオサリチルアルデ
ヒド]と補正する。
(8)、同第19頁下から2〜1行目の[3−メトキシ
−5−ニトロサルチルアルデヒド、1を「3−メトキシ
−5−ニトロサルチルアルデヒド−Iと補正する。
−5−ニトロサルチルアルデヒド、1を「3−メトキシ
−5−ニトロサルチルアルデヒド−Iと補正する。
(9)、同第26頁2〜3行目及び第27頁5〜6行目
の各「3−クロロ−5−二トロチオザルチルアルデヒド
」を「3−クロロ−5−ニトロチオサリチルアルデヒド
」と補正する。
の各「3−クロロ−5−二トロチオザルチルアルデヒド
」を「3−クロロ−5−ニトロチオサリチルアルデヒド
」と補正する。
(10) 、同第26頁3行目の次に記載の化学式がら
l〜2行目の[3−クロロ−5−ニトロサルチルアルデ
ヒド」を[3−クロロ−5−二トロサリチルアルデヒ1
“1占補正する。
l〜2行目の[3−クロロ−5−ニトロサルチルアルデ
ヒド」を[3−クロロ−5−二トロサリチルアルデヒ1
“1占補正する。
(11) 、同第2911H2行11〜3行目の15−
ジメチルアミノ−1,3,3トリメチル−2−メチレン
インドL/ン1を15−ジメチルアミノ−L3,3−ト
リメチル−2−メチレンイン]゛リン1と補正する。
ジメチルアミノ−1,3,3トリメチル−2−メチレン
インドL/ン1を15−ジメチルアミノ−L3,3−ト
リメチル−2−メチレンイン]゛リン1と補正する。
一以 上−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式で示されるフォトクロミック化合物。 (式中h ’1は炭素数1〜20個のアルキル基、1句
、R3、也及び氏は水素原子、炭素数1〜5個のアルキ
ル基、炭素数1〜5個のアルコキシ基、ハロゲン原子、
ニド四基又はジメチルアミノ基を表わし* R6s ”
7及びR8は水素原子、炭素数1〜5個のアルキル基、
炭素数1〜5個のアルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
す)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16170283A JPS6054388A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | フオトクロミツク化合物 |
CA000443845A CA1207330A (en) | 1982-12-28 | 1983-12-20 | Photochromic compounds and photosensitive composition containing the compounds |
DE8383307960T DE3375838D1 (en) | 1982-12-28 | 1983-12-23 | Photosensitive compositions containing photochromic compounds |
EP19830307960 EP0115201B1 (en) | 1982-12-28 | 1983-12-23 | Photosensitive compositions containing photochromic compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16170283A JPS6054388A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | フオトクロミツク化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6054388A true JPS6054388A (ja) | 1985-03-28 |
JPH0477753B2 JPH0477753B2 (ja) | 1992-12-09 |
Family
ID=15740243
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16170283A Granted JPS6054388A (ja) | 1982-12-28 | 1983-09-02 | フオトクロミツク化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6054388A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992016505A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-10-01 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Indolinospirobenzopyran derivative |
WO1992016538A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-10-01 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Transition metal-spirobenzopyran complex, production thereof, and photochromic material comprising the same |
WO1992016531A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-10-01 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Crystal comprising indolinospirobenzothiopyran derivative and ring-opening isomer thereof |
US5403702A (en) * | 1991-03-13 | 1995-04-04 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Crystals consisting of an indolinospirobenzopyran derivative |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP16170283A patent/JPS6054388A/ja active Granted
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ZH.FIZ.KHIM=1982 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992016505A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-10-01 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Indolinospirobenzopyran derivative |
WO1992016538A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-10-01 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Transition metal-spirobenzopyran complex, production thereof, and photochromic material comprising the same |
WO1992016531A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-10-01 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Crystal comprising indolinospirobenzothiopyran derivative and ring-opening isomer thereof |
US5288592A (en) * | 1991-03-13 | 1994-02-22 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Transition metal-spirobenzopyran complex, a production process therefor and a photochromic material comprising the complex |
US5403702A (en) * | 1991-03-13 | 1995-04-04 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Crystals consisting of an indolinospirobenzopyran derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0477753B2 (ja) | 1992-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3984248A (en) | Photographic polymeric film supports containing photobleachable o-nitroarylidene dyes | |
US3988154A (en) | Photographic supports and elements utilizing photobleachable omicron-nitroarylidene dyes | |
JPH0481996B2 (ja) | ||
US4837063A (en) | Optical recording material | |
US4565779A (en) | Photochromic compounds and photosensitive compositions containing the compounds | |
JPH0745509B2 (ja) | ニッケル錯体 | |
JPH0588454B2 (ja) | ||
US3988156A (en) | Photographic supports and elements utilizing photobleachable o-nitroarylidene dyes | |
JPS6054388A (ja) | フオトクロミツク化合物 | |
JPS5837078A (ja) | フオトクロミツク感光性組成物 | |
JPH0218459A (ja) | シアニン色素 | |
JPH04209692A (ja) | フォトクロミック材料 | |
EP0115201B1 (en) | Photosensitive compositions containing photochromic compounds | |
JPH0549717B2 (ja) | ||
JPH0413354B2 (ja) | ||
JPS62164684A (ja) | フオトクロミツク化合物 | |
JPS62232461A (ja) | シアニン色素 | |
JPS60208390A (ja) | フオトクロミツク化合物 | |
JPH0359107B2 (ja) | ||
JP2663439B2 (ja) | スピロオキサジン系化合物および該化合物を使用した感光材料 | |
JPS62280263A (ja) | シアニン色素 | |
JPS6118782A (ja) | 3,3−ジメチル−6′−ニトロスピロ(インドリン−2,2′−2h−ベンゾピラン)誘導体 | |
JPS6330488A (ja) | スピロオキサジン誘導体及び該誘導体を使用した感光材料 | |
JPS6330486A (ja) | スピロオキサジン化合物及び該化合物を使用した感光材料 | |
JPH0366692A (ja) | スピロオキサジン系化合物及び該化合物を使用した感光材料 |