JPS6054149B2 - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS6054149B2 JPS6054149B2 JP53011445A JP1144578A JPS6054149B2 JP S6054149 B2 JPS6054149 B2 JP S6054149B2 JP 53011445 A JP53011445 A JP 53011445A JP 1144578 A JP1144578 A JP 1144578A JP S6054149 B2 JPS6054149 B2 JP S6054149B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- protective cover
- laser processing
- oscillator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ光を集光して被加工物に照射し加工を
行なうレーザ加工装置に係り、特ににレーザ発振器と被
加工物の間のレーザビームに対する安全保護装置を具備
したレーザ加工装置に関する。
行なうレーザ加工装置に係り、特ににレーザ発振器と被
加工物の間のレーザビームに対する安全保護装置を具備
したレーザ加工装置に関する。
レーザ光は極めて指向性が良く、かつ大きなエネルギ
ー密度を有するため切断、溶接等の加工の熱源として使
用されている。
ー密度を有するため切断、溶接等の加工の熱源として使
用されている。
このようなレーザ加工装置ではレーザ発振器から発振さ
れたレーザビームを反射鏡や集光レンズ、集光ミラー等
を用い て被加工物に照射する。第１図はこのような加
工 システムの例を示す。レーザ発振器１から出たレー
ザ光７はＸ軸方向に移動可能な反射ミラー２、Ｙ軸方向
に移動可能な反射ミラー３、４及びＺ方向に移動可能な
集光レンズ５等により光路の変更、集光され３次元の被
加工物６に照射され、加工を行なう。従来、このような
レーザ加工装置では発振器から被加工物までのレーザビ
ームの光路Ａ−Ｂ、Ｂ−−Ｃ、Ｃ−−Ｄ、Ｄ−−Ｅは金
属製のテレスコピツクパイプあるいは布製の蛇腹により
作業者や周囲の物体を保護してある。 しかし、このよ
うな保護装置ではレーザビームの出力が高い場合や、ま
たＣＯ２ガスレーザのように不可視光線の場合レーザビ
ームが光学系、特に反射ミラーの位置、角度のずれ等で
光軸の変化を生じ、上記カバーに当たるとレーザビーム
がカバーを加熱し、溶融あるいは貫通して周囲の作業者
や物体に大きな損傷を与える。
れたレーザビームを反射鏡や集光レンズ、集光ミラー等
を用い て被加工物に照射する。第１図はこのような加
工 システムの例を示す。レーザ発振器１から出たレー
ザ光７はＸ軸方向に移動可能な反射ミラー２、Ｙ軸方向
に移動可能な反射ミラー３、４及びＺ方向に移動可能な
集光レンズ５等により光路の変更、集光され３次元の被
加工物６に照射され、加工を行なう。従来、このような
レーザ加工装置では発振器から被加工物までのレーザビ
ームの光路Ａ−Ｂ、Ｂ−−Ｃ、Ｃ−−Ｄ、Ｄ−−Ｅは金
属製のテレスコピツクパイプあるいは布製の蛇腹により
作業者や周囲の物体を保護してある。 しかし、このよ
うな保護装置ではレーザビームの出力が高い場合や、ま
たＣＯ２ガスレーザのように不可視光線の場合レーザビ
ームが光学系、特に反射ミラーの位置、角度のずれ等で
光軸の変化を生じ、上記カバーに当たるとレーザビーム
がカバーを加熱し、溶融あるいは貫通して周囲の作業者
や物体に大きな損傷を与える。
また布製カバー等では燃え出すといつたことも起こり得
る。・ 本発明の目的は作業や装置の安全保護を確保す
るために、レーザビームの光路中の保護カバーに該カバ
ーの温度検出機構を設け、保護カバーの任意の位置が一
定温度以上になるとレーザ発振器のレーザビームの出口
部でしや断するようにした安全装置を提供するにある。
る。・ 本発明の目的は作業や装置の安全保護を確保す
るために、レーザビームの光路中の保護カバーに該カバ
ーの温度検出機構を設け、保護カバーの任意の位置が一
定温度以上になるとレーザ発振器のレーザビームの出口
部でしや断するようにした安全装置を提供するにある。
すなわち、第２図に示すように、レーザビームを反射ミ
ラー２を用いて光路を変更する場合、装置の振動、外部
からの機械的力等の原因で反射ミラーの角度θが正常の
場合より±αラジアンずれると反射したレーザビームの
光軸は反射ミラーから１の距離で±α×ｌだけずれるこ
とになる。
ラー２を用いて光路を変更する場合、装置の振動、外部
からの機械的力等の原因で反射ミラーの角度θが正常の
場合より±αラジアンずれると反射したレーザビームの
光軸は反射ミラーから１の距離で±α×ｌだけずれるこ
とになる。
従つて１が大の場合、保護カバー８にレーザビームが照
射され、保護カバーを加熱、溶融、貫通あるいは燃焼さ
せるといつた危険な状況になる。本発明はこのようなレ
ーザビームの暴走を防止する手段として、保護カバーに
該カバーの温度検出機構たとえば温度が上昇するとその
インピーダンスが低下する感熱体を備え、保護カバーの
温度上昇を検出してレーザ発振器の出力をしや断するよ
うにしたものである。以下、本発明の実施例を図面を引
用して説明する。
射され、保護カバーを加熱、溶融、貫通あるいは燃焼さ
せるといつた危険な状況になる。本発明はこのようなレ
ーザビームの暴走を防止する手段として、保護カバーに
該カバーの温度検出機構たとえば温度が上昇するとその
インピーダンスが低下する感熱体を備え、保護カバーの
温度上昇を検出してレーザ発振器の出力をしや断するよ
うにしたものである。以下、本発明の実施例を図面を引
用して説明する。
第３図は本発明のレーザビームの光路の安全保護カバー
を示す。従来、使用されている金属製や布製の保護カバ
ー８にレーザビーム径より短い間隔で第４図に示す有機
感熱体９を巻きつけて一体化してある。有機感熱体９の
構造は第４図に示すように中央部に導線１１があり、そ
の周囲に感熱層１０、信号線１２および被覆材１３が配
置さ−れている。有機感熱体を第４図に示す構造にする
ことにより線状にでき、複雑形状の保護カバーにも巻き
つけできる。有機感熱体をレーザビーム径よりも短い間
隔で保護カバーに巻きつけることにより、レーザビーム
が保護カバーに照射したこと．を確実に捕えられること
ができる。このうち、感熱層は温度上昇により第５図に
示すようにインピーダンスが低下する特性をもつもので
ある。通常、保護カバーは室温の状態であるが、レーザ
ビームが光軸の変化で保護カバーに照射されると保護カ
バーの温度が上昇する。すると感熱層の温度も上昇する
ため導線と信号線の間のインピーダンスが低下する。本
発明はこのインピーダンスの低下を検出してレーザ発振
器の出力をしや断するようにしたものである。第６図は
本発明の制御回路を示す。また第７図はその等価回路で
ある。感熱層の温度が上昇すると導線と信号線の間のイ
ンピ”−ダンスＺｉは低下する。このため導線と信号線
の間に微少電流が流れ、ダイオード１５と放電管１６が
作動しサイリスタ１７が０Ｎするように構成されている
。このサイリスタの０Ｎの信号によりレーザ発振器の出
口に設けられたレーザビームしや断用のシャッター１８
を閉じる。なお、有機感熱体としてはナイロンサーミス
タを使用した。またサイリスタの点弧角を種々変えて設
定することにより、シャッターが閉じる温度すなわち保
護カバーの許容温度は任意の設定可能である。本発明の
一実施例によれば、本発明の安全保護カバーの採用によ
り、レーザビームが暴走した場合、保護カバーが室温か
ら７０℃付近の範囲において任意の温度にその許容温度
を設定でき、保護カバーが加熱、燃焼以前にレーザビー
ムをしや断できる。
を示す。従来、使用されている金属製や布製の保護カバ
ー８にレーザビーム径より短い間隔で第４図に示す有機
感熱体９を巻きつけて一体化してある。有機感熱体９の
構造は第４図に示すように中央部に導線１１があり、そ
の周囲に感熱層１０、信号線１２および被覆材１３が配
置さ−れている。有機感熱体を第４図に示す構造にする
ことにより線状にでき、複雑形状の保護カバーにも巻き
つけできる。有機感熱体をレーザビーム径よりも短い間
隔で保護カバーに巻きつけることにより、レーザビーム
が保護カバーに照射したこと．を確実に捕えられること
ができる。このうち、感熱層は温度上昇により第５図に
示すようにインピーダンスが低下する特性をもつもので
ある。通常、保護カバーは室温の状態であるが、レーザ
ビームが光軸の変化で保護カバーに照射されると保護カ
バーの温度が上昇する。すると感熱層の温度も上昇する
ため導線と信号線の間のインピーダンスが低下する。本
発明はこのインピーダンスの低下を検出してレーザ発振
器の出力をしや断するようにしたものである。第６図は
本発明の制御回路を示す。また第７図はその等価回路で
ある。感熱層の温度が上昇すると導線と信号線の間のイ
ンピ”−ダンスＺｉは低下する。このため導線と信号線
の間に微少電流が流れ、ダイオード１５と放電管１６が
作動しサイリスタ１７が０Ｎするように構成されている
。このサイリスタの０Ｎの信号によりレーザ発振器の出
口に設けられたレーザビームしや断用のシャッター１８
を閉じる。なお、有機感熱体としてはナイロンサーミス
タを使用した。またサイリスタの点弧角を種々変えて設
定することにより、シャッターが閉じる温度すなわち保
護カバーの許容温度は任意の設定可能である。本発明の
一実施例によれば、本発明の安全保護カバーの採用によ
り、レーザビームが暴走した場合、保護カバーが室温か
ら７０℃付近の範囲において任意の温度にその許容温度
を設定でき、保護カバーが加熱、燃焼以前にレーザビー
ムをしや断できる。
その結果、作業者や周囲の物体を安全に保護できるとい
う効果がある。
う効果がある。
第１図はレーザ加工のシステムを示すブロック図、第２
図は従来技術の説明図、第３図〜第５図は本発明の動作
原理の説明図、第６，７図は実施例の制御回路図てある
。 １・・・・・ルーザ発振器、６・・・・・・被加工物、
７・・・レーザ光、８・・・・・・保護カバー、９・・
・・・・感熱体。
図は従来技術の説明図、第３図〜第５図は本発明の動作
原理の説明図、第６，７図は実施例の制御回路図てある
。 １・・・・・ルーザ発振器、６・・・・・・被加工物、
７・・・レーザ光、８・・・・・・保護カバー、９・・
・・・・感熱体。
Claims (1)
- １ レーザ発振器、発振されたレーザ光の集光手段、前
記レーザ発振器と被加工物との間のレーザ光路を覆う保
護カバーを有するレーザ加工装置において、前記保護カ
バーの外周に有機感熱体よりなる線をレーザ光径よりも
短い間隔で巻回して有し、前記有機感熱体を、導線を中
央部に周囲に温度上昇によりインピーダンスを低下する
感熱層、信号線および被覆材を順次有する構造とし、且
つ前記インピーダンスの低下を検出して前記レーザ発振
器の出力をしや断する手段を有することを特徴とするレ
ーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53011445A JPS6054149B2 (ja) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53011445A JPS6054149B2 (ja) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54105397A JPS54105397A (en) | 1979-08-18 |
| JPS6054149B2 true JPS6054149B2 (ja) | 1985-11-28 |
Family
ID=11778283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53011445A Expired JPS6054149B2 (ja) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6054149B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60151668A (ja) * | 1984-01-19 | 1985-08-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 現像機のサイドシ−ル |
| JPS6190175A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 現像装置 |
| JPS6319856U (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-09 | ||
| JPH0527862B2 (ja) * | 1983-09-30 | 1993-04-22 | Ricoh Kk | |
| CN111791147A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-10-20 | 宇晶机器（长沙）有限公司 | 一种多线切割机防水护罩 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59113994A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ加工機用外部光学装置 |
-
1978
- 1978-02-06 JP JP53011445A patent/JPS6054149B2/ja not_active Expired
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0527862B2 (ja) * | 1983-09-30 | 1993-04-22 | Ricoh Kk | |
| JPS60151668A (ja) * | 1984-01-19 | 1985-08-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 現像機のサイドシ−ル |
| JPS6190175A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 現像装置 |
| JPS6319856U (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-09 | ||
| CN111791147A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-10-20 | 宇晶机器（长沙）有限公司 | 一种多线切割机防水护罩 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54105397A (en) | 1979-08-18 |
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