JPH07266067A - レーザ伝送用光ファイバー装置 - Google Patents

レーザ伝送用光ファイバー装置

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JPH07266067A
JPH07266067A JP6059184A JP5918494A JPH07266067A JP H07266067 A JPH07266067 A JP H07266067A JP 6059184 A JP6059184 A JP 6059184A JP 5918494 A JP5918494 A JP 5918494A JP H07266067 A JPH07266067 A JP H07266067A
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laser beam
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Hisao Tanaka
久雄 田中
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 光ファイバーでパワーレーザ光を伝送して金
属の切断・溶接を行うレーザ加工機の光ファイバーの断
線などのトラブルを検出してレーザ光を遮断する。 【構成】 (a)光ファイバーの断線部の被覆が燃焼す
る可視光を検出して断線を検知し、レーザを遮断する方
式において光ファイバー出射端と被加工物との間に可視
光を反射し、レーザ光は透過する可視光選択反射フィル
タ15を設置した。 (b)可視光選択反射フィルタは高屈折率体と低屈折率
体とを交互に蒸着して構成されるものである。 (c)光ファイバー6にエナメル被覆より線を螺旋状に
巻き付け、ヨリ線間に電圧を印加し、絶縁抵抗変化によ
り断線を検出し、その信号に基づいてレーザ光を遮断し
た。 (d)光ファイバー全体を絶縁板はさみこみ金属箔で覆
い、金属箔間に電圧を印加し、絶縁抵抗変化により、断
線を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ加工機に使用さ
れるレーザ伝送用光ファイバー装置に係わり、特に光フ
ァイバーが断線した場合に断線を検出し、レーザ光を遮
断する装置の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図9は例えば実開昭58−149703
号公報に示された従来のレーザ伝送用光ファイバー装置
の構成図である。図において、1はNd:YAGレー
ザ、CO2 レーザなどのパワーレーザ光源であって前記
レーザ光源1から出射されたパワーレーザ光2は、光路
中に介在するシャッター機構3を経てミラー4を通過
し、集光レンズ5によって光ファイバー6の入射端面に
集光される。尚、上記ミラー4は不可視光は通過させ、
可視光は反射するミラーであり、したがってNd:YA
Gレーザ、CO2 レーザなどのパワーレーザ光は通過す
る。9は光ファイバー6の入射端から出射した可視光7
を集光レンズ5、ミラー4およびフィルタ8を介して受
光する検出器(例えばフォトトランジスタやフォトダイ
オード等)である。前記検出器9は増幅器10の入力端
に接続され、前記増幅器10の出力端は、抵抗11aを
介して比較器12の一方の入力端に接続されている。前
記抵抗11aと比較器12の間には一方をグランドに接
続した抵抗11bの他方が接続されている。尚、前記フ
ィルター8は、パワーレーザ光2の迷光を遮断し、可視
光7は通過させる。また前記比較器12の他方の入力端
には、基準電圧を発生する基準値回路13が接続されて
いる。前記比較器12の出力端はシャッター駆動回路1
4に接続されており、前記シャッター駆動回路14は比
較器12からの出力信号により動作し、パワーレーザ光
2の光路中に介在するシャッター機構3を閉じてパワー
レーザ光2の照射を遮断する。
【0003】次に動作について説明する。今、光ファイ
バー6の中途部が折れたり、光ファイバー6の入射端面
あるいは出射端面が破損したりしているのに気づかず、
パワーレーザ光2を照射すると前記欠陥箇所において、
パワーレーザ光2の散乱や反射が生じ、前記欠陥箇所の
光ファイバー6のポリマー系の被覆材6aが燃焼して発
光し、前記発光した可視光(以下第2次光7という)が
光ファイバー6の入射端面から逆に出射する。出射した
第2次光7は、集光レンズ5を通ってミラー4で反射
し、フィルター8を通って、受光検出器9に受光され
る。前記受光検出器9は第2次光7の出力を電気信号に
変えて増幅器10に送り、増幅器10によって増幅され
た第2次光7の電気信号は抵抗11a,11bの分圧比
で比較器12に入力される。比較器12に入力された第
2次光7の電圧は、基準値回路13からの設定レベルの
基準電圧と比較され、第2次光7の電圧が基準電圧のレ
ベルに達すると比較器12の出力端から電気信号がシャ
ッター駆動回路14に送られ、シャッター駆動回路14
が動作してシャッター機構3を閉じてパワーレーザ光2
の照射を遮断する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザ伝送用光
ファイバー装置は以上のように構成されているので光フ
ァイバー出射端からのパワーレーザ光を加工レンズで集
光し、被加工物(金属)を切断・溶接した場合には加工
部が発光し、発光した可視光(以下もどり光という)が
パワーレーザ光が出射した光路を逆戻りし、すなわち加
工レンズ、光ファイバー出射端、光ファイバー6、光フ
ァイバー入射端、集光レンズ5、ミラー4を経て受光検
出器9に受光される。このため、可視光である第2次光
を検出する従来の方式では被加工物が発光して、逆戻り
して受光検出器9で受光した可視光と光ファイバーの欠
陥により受光した可視光を判別できないため、光ファイ
バーのトラブルが検出できない問題点があった。
【0005】また第2次光以外として光ファイバーの外
周に鉛や半田などの可溶断導電体を巻き付けたり(特開
昭58−130301号公報)あるいは光ファイバー表
面に導電性塗料を所要幅被覆したり(特開昭60−13
9241号公報)して光ファイバーが断線したときに破
断点から散乱・漏洩したレーザ光の光エネルギーによる
熱作用で焼ききられて断線するのを電気的に検出し、レ
ーザ光の発振が停止されていた。ところで、可溶断導電
体や導電性塗料は、レーザ光が散乱・漏洩した際に速や
かに溶断させる関係上厚みが薄く(例えば25μm)、
かつ材料が前者では鉛・半田など、後者では金属粉を含
んでいるとはいえ塗料なので電気抵抗が高い。このため
断線検出に際しては大電流を流すと自己発熱で溶断する
ため極微小電流にて検知しなければならず断線検出回路
が複雑になる。さらに光ファイバーが長くなると断線検
出がきわめて難しくなる。
【0006】また可溶導電体を用いた場合、断線検出も
れをなくするためには可溶断導電体を光ファイバー上に
隙間なく巻く必要がある。従って、可溶導電体が長くな
り、電気抵抗が高くなるので断線検出がますます困難に
なる。
【0007】この発明は前記のような問題を解決するた
めになされたものでパワーレーザ光で金属を切断・溶接
する際、光ファイバー断線等のトラブルを検出してパワ
ーレーザ光を遮断することができるレーザ伝送用光ファ
イバー装置を得ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係わるレーザ
伝送用光ファイバー装置は、レーザ光を光ファイバーで
伝送し、被加工物にレーザ光を照射し、加工する光学系
と、前記光ファイバーのレーザ光の伝送路に障害が発生
したときに、前記光ファイバーから出射された可視光を
検出し、検出された可視光が所定のレベルに達した場合
にレーザ光を遮断する手段を有するレーザ伝送用光ファ
イバー装置において、レーザ光は透過し、被加工物が加
工時に発する可視光を反射する可視光選択反射手段を光
ファイバーのレーザ光出射端と被加工物との間に設けた
ものである。
【0009】また、前記可視光選択反射手段は、光学ガ
ラスに高光屈折率体の薄膜を形成し、低光屈折率体と高
光屈折率体の薄膜を交互に積層し、最外側に高光屈折率
体の薄膜を形成して構成され、各々の薄膜の光屈折率と
膜圧の積が光学ガラスに接する高光屈折率体と最外側に
形成された高光屈折率体の薄膜において、前記被加工物
が加工時に発する可視光の波長の8分の1であり、残り
の薄膜において、前記可視光の波長の4分の1であるも
のである。
【0010】また、前記可視光選択反射手段は、光学ガ
ラスに高光屈折率体の薄膜を形成し、低光屈折率体と高
光屈折率体の薄膜を交互に積層し、最外側に高光屈折率
体の薄膜を形成して構成され、低光屈折率体と高光屈折
率体の屈折率の差が2.90〜4.16の範囲にあり、
薄膜の総積層数が19〜40の範囲であるものである。
【0011】また、レーザ光を光ファイバーで伝送し、
被加工物にレーザ光を照射し、加工するレーザ加工機に
おいて、前記光ファイバーにレーザ光が外部に放散しな
いように保護膜が被覆され、前記保護膜の表面に二本の
絶縁被覆導体を隣接して配置し、前記絶縁被覆導体間に
電圧を印加し、前記絶縁被覆導体間の抵抗変化を検出
し、抵抗が所定のレベルに達した場合にレーザ光を遮断
する手段を備えたものである。
【0012】また、レーザ光を光ファイバーで伝送し、
被加工物にレーザ光を照射し、加工するレーザ加工機に
おいて、レーザ光が外部に放散しないように保護膜が被
覆され、レーザ光が伝送される光ファイバーの表面全周
を金属箔の間に絶縁板を介在させたシートで覆い、前記
金属箔間に電圧を印加し、前記金属箔間の抵抗変化を検
出し、抵抗が所定のレベルに達した場合にレーザ光を遮
断する手段を備えたものである。
【0013】また、前記金属箔のうち光ファイバー側に
位置する金属箔の光ファイバー側表面にレーザ光を吸収
するレーザ光反射防止部材を形成したものである。
【0014】
【作用】この発明におけるレーザ伝送用光ファイバー装
置は、レーザ光を光ファイバーで伝送し、被加工物を切
断・溶接する光学系と前記光ファイバーの入射端から出
射された可視光としての第2次光を検出し、検出された
第2次光が所定のレベルに達した場合にレーザ光を遮断
する装置においてレーザ光はほぼ100%透過し、切断
・溶接部からの可視領域のもどり光を反射する可視光選
択反射手段を光ファイバー出射端と被加工物との間に設
置したものでもどり光の影響を受けず確実に光ファイバ
ーの断線を検出する。
【0015】また、光学ガラスの表面に光屈折率と膜厚
の積がλ/8,λ/4,λ/4・・・λ/4,λ/4,
λ/8になるように、高光屈折率体と低光屈折率体の薄
膜を交互に積層し、被加工物が発する可視光領域の光を
選択的に反射する。
【0016】また、被加工物の切断・溶接部からの可視
領域のもどり光をカットするのに光学ガラスに高屈折率
の薄膜と低屈折率の薄膜を交互に形成したもので両者の
屈折率の差が2.66〜4.16の範囲で、前記薄膜の
総積層数が19〜40の範囲としたのでもどり光をカッ
トでき高精度で光ファイバーの断線を検出する。
【0017】また、レーザ光を光ファイバーで伝送し、
被加工物を切断・溶接するレーザ加工機において、ゴム
またはプラスチック等によりレーザ光が伝送される光フ
ァイバーを被覆した表面に二本の隣接する絶縁被覆導体
を配置し、前記絶縁被覆導体間に電圧を印加し、前記絶
縁被覆導体間の抵抗変化を検出することにより、光ファ
イバーの断線を検出し抵抗が所定のレベルに達した場合
にレーザ光を遮断する。
【0018】また、レーザ光を光ファイバーで伝送し、
被加工物を切断・溶接するレーザ加工機において、ゴム
またはプラスチック等によりレーザ光が伝送される光フ
ァイバーを被覆した表面全周を金属箔の間に絶縁板を介
在させたシートで覆い、前記金属箔の間に電圧を印加
し、前記金属箔間の抵抗変化を検出し、抵抗が所定のレ
ベルに達した場合にレーザ光を遮断する手段を備えたの
で、もどり光の有無に係わらず、かつ長い光ファイバー
でも高精度で光ファイバーの断線を検出する。
【0019】また、前記金属箔の間に絶縁板を介在させ
たシートにおいて、金属箔のうち、光ファイバー側に位
置する金属箔の光ファイバー側表面に反射防止部材を設
けたので、レーザ光を確実に吸収する。
【0020】
【実施例】
実施例1.図1は本発明の実施例1によるレーザ伝送用
光ファイバー装置を示す構成図である。1〜14は従来
の場合と同一のものであり、説明を省略する。15は可
視光は反射し、パワーレーザ光はほぼ100%透過する
可視光選択反射手段で光ファイバー出射端と加工レンズ
16との間に配置されている。17は被加工物で薄鋼板
やアルミニウム薄板等である。
【0021】光ファイバー6の出射端からでたパワーレ
ーザ光2は加工レンズ16で集光され被加工物17に照
射され切断・溶接加工が行われる。加工時には加工部か
らパワーレーザ光の反射光や金属が溶融・蒸発したとき
の光が発生する。金属が溶融・蒸発したときに発生する
光には可視光領域の光18(以下もどり光とする)が多
く含まれている。このもどり光18は加工部周辺へ放射
されるだけでなく、パワーレーザ光2が被加工物17に
照射された光路を逆戻りする。すなわち加工レンズ16
を経て光ファイバー6の向きにもどり光18が進む。し
かし、加工レンズ16と光ファイバー出射端との間には
可視光選択反射手段15は設置してあるのでもどり光1
8がカットされる。以上のようにしてもどり光18が光
ファイバー6内に戻ってこないようにしたので光ファイ
バー6のトラブルを検出する。
【0022】すなわち光ファイバー6の中途部が折れた
り、ファイバー6の入射端面あるいは出射端面にゴミな
どが付着している場合にパワーレーザ光2が照射される
と前記のような異常箇所において、パワーレーザ光2の
散乱や反射が生じ、異常箇所のゴミ等やファイバー6の
ポリマー系の被覆材6aが燃焼して発光し、前記発光し
た可視光である第2次光7がファイバー6の入射端面か
ら逆に出射する。出射した第2次光7は、集光レンズ5
を通ってミラー4で反射し、フィルター8を通って、可
視光を検出する受光検出器9に受光される。可視光検出
器9は第2次光7の出力を電気信号に変えて増幅器10
に送り、増幅器10によって増幅された第2次光7の電
気信号は抵抗11a,11bの分圧比で比較器12に入
力される。比較器12に入力された第2次光7の電圧
は、基準値回路13からの設定レベルの基準電圧と比較
され、第2次光7の電圧が基準電圧のレベルに達すると
比較器12の出力端から電気信号がシャッター駆動回路
14に送られ、シャッター駆動回路14が動作してシャ
ッター機構3を閉じてパワーレーザ光2の照射を遮断す
る。以上のように、光ファイバーに光伝送上の事故が発
生した場合に速やかに事故を検出し、パワーレーザ光2
の照射を遮断することができるとともに、パワーレーザ
光2の放散を防止することができる。
【0023】本実施例1では、可視光は反射し、パワー
レーザ光はほぼ100%透過する可視光選択反射手段1
5を光ファイバー出射端と加工レンズ16との間に配置
したがこの位置は光ファイバー出射端と被加工物17と
の間であればいずれの位置でもよい。また、可視光選択
反射フィルタを挿入する代わりに加工レンズ16の少な
くとも片面に可視光は反射し、パワーレーザ光はほぼ1
00%透過するコーティングを施しても同様の効果が得
られる。
【0024】実施例2.図2は本発明の実施例による可
視光選択反射手段15の構成図である。図において、2
0は光学ガラス、21は可視光選択反射手段22の反対
面に形成されたパワーレーザ光2がほぼ100%透過す
る反射防止膜、22は光学ガラス20の片面に形成され
た可視光選択反射手段である。また、22aは高屈折率
体、22bは低屈折率体である。
【0025】反射防止や可視光選択反射の特性は、光学
ガラス20に適切な屈折率の物質を必要な厚さ蒸着等に
より形成して光学ガラス20と空気との違いを緩和した
り強調したりして得られる。適切な屈折率と適切な厚さ
は、光の位相条件と振幅条件とから計算で求めることが
できる。
【0026】YAGレーザ(波長λ=1064nm)と
光ファイバーとを用いて図1の構成で金属を切断・溶接
する場合に光ファイバーの断線を断線部からの可視光
(第2次光7)を検出する方式では、もどり光18(可
視光領域(波長λ=400nm〜800nm)の光)を
カットするフィルタが必要である。可視光領域の光を選
択的に反射する光学特性を持つ薄膜構成の一つに光学ガ
ラス表面に屈折率(n)と膜厚(d)との積n・dの値
が各々λ/8,λ/4,λ/4・・・λ/4,λ/4,
λ/8になるように図2のように高屈折率体22aと低
屈折率体22bとを交互に形成すればよい。
【0027】前記薄膜構成の詳細を以下に記す。図2で
例えば光学ガラス20に接する高屈折率体の膜厚(d
h)は(λ/8)/nhとなる。ここでλは、例えば6
00nm,nhは高屈折率体22aの屈折率である。そ
の上の低屈折率体22bの膜厚(dL)は(λ/4)/
nLとなる。ここでλ=600nm,nLは低屈折率体
22bの屈折率である。さらにその上の高屈折率体の膜
厚(dH)は(λ/4)/nHとなる。ここでλ=60
0nm,nHは高屈折率体22aの屈折率である。以下
低屈折率体22bの膜(膜厚dL)と高屈折率体22a
の膜(膜厚dH)が繰り返し、最後に高屈折率体22a
の膜(膜厚dh)を形成する。
【0028】以上の膜構成で光学特性として可視光領域
において透過率がゼロになる割合が90%以上であっ
て、YAGレーザ光が99%以上透過する薄膜物質であ
る高屈折率体22aと低屈折率体22bの屈折率の差
(以下屈折率の差とする)とその層数について、図3は
低屈折率体22b(NaF;フッ化ナトリウム、屈折率
n=1.34)を固定し、高屈折率体22aを変化させ
た時の可視光領域が透過率ゼロ%となる割合(以下可視
光領域の割合とする)と、パワーレーザ光の透過率(以
下レーザ透過率とする)を示したものである。図のよう
に屈折率の差が大きくなると可視光領域の割合が増大す
る。この関係の一例を分光特性(波長−透過率の関係)
で示したのが図4である。また、層数が増すとレーザ透
過率が増加する。この関係の一例を分光特性で示したの
が図5である。以上により、可視光領域が90%で、レ
ーザ透過率が99%以上の光学特性を基準にして、図3
より屈折率の差と薄膜層数の条件を設定する。従って、
19層では屈折率の差は2.9(図3中の(a)点)〜
3.75(図3中の(b)点)であり、21層では屈折
率の差は3.2(図3中の(c)点)以上である。
【0029】可視光選択反射手段の蒸着膜を構成する蒸
着材料として現存する物質の内、屈折率の最も小さい物
がNaF(フッ化ナトリウム、屈折率n=1.34)屈
折率の最も大きい物が(PbTe(テルル化鉛、屈折率
n=5.50)である。従って屈折率の差の最大は、本
実施例と同じ4.16である。この可視光選択反射手段
15を用いると図4の屈折率差4.16のグラフのよう
にYAGレーザ光は99%以上透過し、可視光(波長4
00nm〜800nm)は100%反射し、遮断する。
従って、屈折率差が2.9〜4.16の蒸着膜構成が適
している。また、層数は最低19層以上であり、コスト
的に40層程度が最高限度になる。以上により、レーザ
光を効率よく透過し、もどり光を確実に反射することが
できるとともに安価に可視光選択反射手段15を製造す
ることができる。
【0030】実施例3.図6は本発明の実施例3による
レーザ伝送用光ファイバー装置を示す構成図である。符
号1〜3,5〜6,10,12〜14は従来の場合と同
一または相当品である。また、符号16〜17は実施例
1の場合と同一または相当品である。パワーレーザ光2
が伝送される光ファイバー6は例えば、プラスチック
(ナイロン)6aで被覆されている。前記被覆表面に
は、二本のより合わされたエナメル被覆銅線(以下より
線とする)30が螺旋状に巻いてある。光ファイバー6
の片端から取りだした二本のより線の両端はリード線3
1に接続されている。尚、二本のより線のもう一方は結
線されずに開放状態にある。リード線31の途中に電圧
回路32が配置してあり二本のより線間に電圧が印加さ
れている。同じくリード線31の途中に抵抗と電圧計か
ら構成される断線検出回路33が配置してある。断線検
出回路33は増幅器10の入力端に接続され、増幅器1
0の出力端は比較器12の一方の入力端に接続されてい
る。前記比較器12の他方の入力端には、基準電圧を発
生する基準値回路13が接続されている。前記比較器1
2の出力端はシャッター駆動回路14に接続されてお
り、シャッター駆動回路14は比較器12からの出力信
号により動作し、パワーレーザ光2の光路中に介在する
シャッター機構3を閉じてパワーレーザ光2の照射を遮
断する。
【0031】次に動作について説明する。光ファイバー
6の中途部が折れ、パワーレーザ光が照射されるとその
断線箇所において、パワーレーザ光2の散乱や反射が生
じ、光ファイバー被覆表面に巻き付けてあるより線30
のエナメル被覆が溶融・炭化し銅線が短絡し、前記より
線30の短絡により電流が流れ、断線検出回路33に電
圧が発生する。この電圧が基準値回路30から発生され
る電圧よりも高くなるとシャッター駆動回路14が動作
し、シャッター機構3を閉じパワーレーザ光の照射を遮
断する。
【0032】本実施例では、絶縁被覆導体としてエナメ
ル被覆銅線を用いたが被覆材料はナイロンなど容易に炭
化しやすいもの、また導体はアルミニウムなど電気抵抗
の小さいものを使用することができる。また導体の隣接
方法はより線ではなく平行にしたものでもよい。また、
絶縁被覆導線は光ファイバーに螺旋状に巻いているか、
要は、光ファイバーの断線を検出できる程度に光ファイ
バーに対して絶縁被覆導線が均一に配置されておれば同
様の効果がある。
【0033】実施例4.図7は本発明の実施例4による
レーザ伝送用光ファイバー装置を示す構成図である。符
号1〜3,5〜6,10,12〜14は従来の場合と同
一または相当品である。符号16〜17は実施例1の場
合と同一または相当品である。また31〜33は実施例
3と同一または相当品である。パワーレーザ光2が伝送
される光ファイバー6はプラスチック(ナイロン)6a
で被覆されている。40は絶縁板(ポリエチレンシー
ト、厚さ0.05mm)40bを銅箔40aで挟んだ絶
縁板はさみこみ銅箔シート(以下銅箔シートとする)で
あり、図8に光ファイバー6に巻かれた状態を含めて示
す。尚、光ファイバー6側の銅箔40a表面にはレーザ
光の吸収を高めるレーザ光反射防止部材40cを塗料と
して塗布している。銅箔シート40はプラスチック被覆
6aされた光ファイバー6全体を包み込むように配置し
てある。また、銅箔シート40は光ファイバー6の片端
の位置で絶縁板40bをはさんでいる銅箔40aがリー
ド線31に接続されている。尚、銅箔シート40のもう
一方は結線されず開放状態である。リード線31の途中
に電圧回路32が配置してあり二枚の銅箔間に電圧が印
加されている。同じくリード線31の途中に抵抗と電圧
計から構成される断線検出回路33が配置してある。断
線検出回路33は増幅器10の入力端に接続され、増幅
器10の出力端は比較器12の一方の入力端に接続され
ている。比較器12の他方の入力端には、基準電圧を発
生する基準値回路13が接続されている。比較器12の
出力端はシャッター駆動回路14に接続されており、シ
ャッター駆動回路14は比較器12からの出力信号によ
り動作し、パワーレーザ光2の光路中に介在するシャッ
ター機構3を閉じてパワーレーザ光2の照射を遮断す
る。
【0034】次に動作について説明する。光ファイバー
6の中途部が折れ、パワーレーザ光が照射されるとその
断線箇所において、パワーレーザ光2の散乱や反射が生
じ、光ファイバー被覆表面全体に巻き付けてある銅箔シ
ート40の反射防止部材40cが形成された銅箔40a
が加熱され、銅箔間の絶縁層が溶融・炭化し、銅箔間が
短絡する。次に銅箔が溶融し銅箔と銅箔とがつながり完
全に短絡する。銅箔の短絡により電流が流れ断線検出回
路33に電圧が発生する。この電圧が基準値回路30か
ら発生される電圧よりも高くなるとシャッター駆動回路
14が動作し、シャッター機構3を閉じパワーレーザ光
の照射を遮断する。
【0035】本実施例では、絶縁板としてポリエチレン
を用いたが絶縁板は塩化ビニールなど容易に炭化しやす
いもの、また金属箔はアルミニウムなど電気抵抗の小さ
いものを使用することができる。また本実施例では光フ
ァイバー全体を一枚の銅箔シートで包んだが、テープ上
の銅箔シートで重ね巻きしても同様の効果が得られる。
また、反射防止部材40cは、例えばカーボンブラッ
ク、酸化銅の粉末のペーストを塗布して形成するが、溶
射等他の方法で形成してもよい。
【0036】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ので、以下に記載されるような効果を奏する。
【0037】光ファイバー出射端と被加工物との間に可
視領域の光(もどり光)は反射し、パワーレーザ光は透
過する可視光選択反射手段を設置することにより、光フ
ァイバー6の中途部が折れたり、ファイバー6の入射端
面あるいは出射端面にゴミなどが付着している等の異常
箇所をもどり光に妨害されることなく異常箇所が発する
可視光により高精度で光ファイバーの異常箇所を検出で
き、パワーレーザ光を遮断するとともにレーザ光の外部
への放散を防止することができる。
【0038】また、可視光選択反射手段を高屈折率物質
と低屈折率物質とを交互に形成して製作する際に最適材
料の組合せで、かつ最小層数にしたので、安価にできる
とともにレーザ光を効率よく透過し、もどり光を確実に
反射することができる。
【0039】また、パワーレーザ光を伝送する光ファイ
バーの断線検出に光ファイバー表面に絶縁被覆導体を隣
接して配置し、導体間の抵抗を検出するようにしたの
で、電気抵抗の小さい導体が使用でき、長い光ファイバ
ーの断線検出が容易にできる。また、もどり光に妨害さ
れることなく、高精度に断線検出でき、パワーレーザ光
を遮断できる。
【0040】パワーレーザ光を伝送する光ファイバーの
断線検出に光ファイバー表面全体に絶縁板をはさんだ金
属箔シートを配置し、金属箔間の抵抗を検出するように
したので、電気抵抗の小さい導体が使用でき、長い光フ
ァイバーの断線検出が容易にでき、光ファイバーの断線
検出も確実に行うことができる。また、もどり光に妨害
されることなく高精度に断線検出でき、パワーレーザ光
を遮断できる。
【0041】また、前記シートの光ファイバー表面にレ
ーザ光反射防止部材を形成することで、断線により散乱
したレーザ光を確実に吸収し、前記シートにレーザ光に
よるエネルギーを伝達することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置を示す構成図である。
【図2】この発明の実施例2によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置用可視光選択反射手段を示す構成図である。
【図3】この発明の実施例2によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置用可視光選択反射手段の可視光選択反射特性
を示す説明図である。
【図4】この発明の実施例2によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置用可視光選択反射手段の可視光選択反射特性
を示す説明図である。
【図5】この発明の実施例2によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置用可視光選択反射手段の可視光選択反射特性
を示す説明図である。
【図6】この発明の実施例3によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置を示す構成図である。
【図7】この発明の実施例4によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置を示す構成図である。
【図8】この発明の実施例4によるレーザ伝送用光ファ
イバー装置用絶縁板はさみこみ銅箔シートを示す構成図
である。
【図9】従来のレーザ伝送用光ファイバー装置を示す構
成図である。
【符号の説明】
1 レーザ光源 2 レーザ光(パワーレーザ光) 3 シャッター機構 4 ミラー 5 集光レンズ 6 光ファイバー 7 第2次光 8 フィルター 9 受光検出器 10 増幅器 11a,11b 抵抗 12 比較器 13 基準値回路 14 シャッター駆動回路 15 可視光選択反射手段 16 加工レンズ 17 被加工物 18 もどり光 20 光学ガラス 21 反射防止膜 22 可視光選択反射膜 30 エナメル被覆銅線(より線) 31 リード線 32 電圧回路 33 断線検出回路 40 絶縁板はさみこみ銅箔シート 40a 銅箔 40b 絶縁板 40c レーザ光反射防止部材

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光を光ファイバーで伝送し、被加
    工物にレーザ光を照射し、加工する光学系と、前記光フ
    ァイバーのレーザ光の伝送路に障害が発生したときに、
    前記光ファイバーから出射された可視光を検出し、検出
    された可視光が所定のレベルに達した場合にレーザ光を
    遮断する手段を有するレーザ伝送用光ファイバー装置に
    おいて、レーザ光は透過し、被加工物が加工時に発する
    可視光を反射する可視光選択反射手段を光ファイバーの
    レーザ光出射端と被加工物との間に設けたことを特徴と
    するレーザ伝送用光ファイバー装置。
  2. 【請求項2】 前記可視光選択反射手段は、光学ガラス
    に高光屈折率体の薄膜を形成し、低光屈折率体と高光屈
    折率体の薄膜を交互に積層し、最外側に高光屈折率体の
    薄膜を形成して構成され、各々の薄膜の光屈折率と膜厚
    の積が光学ガラスに接する高光屈折率体と最外側に形成
    された高光屈折率体の薄膜において、前記被加工物が加
    工時に発する可視光の波長の8分の1であり、残りの薄
    膜において、前記可視光の波長の4分の1であることを
    特徴とする請求項1記載のレーザ伝送用光ファイバー装
    置。
  3. 【請求項3】 前記可視光選択反射手段は、光学ガラス
    に高光屈折率体の薄膜を形成し、低光屈折率体と高光屈
    折率体の薄膜を交互に積層し、最外側に高光屈折率体の
    薄膜を形成して構成され、低光屈折率体と高光屈折率体
    の屈折率の差が2.90〜4.16の範囲にあり、薄膜
    の総積層数が19〜40の範囲であることを特徴とする
    請求項1記載のレーザ伝送用光ファイバー装置。
  4. 【請求項4】 レーザ光を光ファイバーで伝送し、被加
    工物にレーザ光を照射し、加工するレーザ加工機におい
    て、前記光ファイバーにレーザ光が外部に放散しないよ
    うに保護膜が被覆され、前記保護膜の表面に二本の絶縁
    被覆導体を隣接して配置し、前記絶縁被覆導体間に電圧
    を印加し、前記絶縁被覆導体間の抵抗変化を検出し、抵
    抗が所定のレベルに達した場合にレーザ光を遮断する手
    段を備えたことを特徴とするレーザ伝送用光ファイバー
    装置。
  5. 【請求項5】 レーザ光を光ファイバーで伝送し、被加
    工物にレーザ光を照射し、加工するレーザ加工機におい
    て、レーザ光が外部に放散しないように保護膜が被覆さ
    れ、レーザ光が伝送される光ファイバーの表面全周を金
    属箔の間に絶縁板を介在させたシートで覆い、前記金属
    箔間に電圧を印加し、前記金属箔間の抵抗変化を検出
    し、抵抗が所定のレベルに達した場合にレーザ光を遮断
    する手段を備えたことを特徴とするレーザ伝送用光ファ
    イバー装置。
  6. 【請求項6】 前記金属箔のうち光ファイバー側に位置
    する金属箔の光ファイバー側表面にレーザ光を吸収する
    レーザ光反射防止部材を形成したことを特徴とする請求
    項5記載のレーザ伝送用光ファイバー装置。
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