JPS6048514B2 - ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 - Google Patents
ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法Info
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- JPS6048514B2 JPS6048514B2 JP55121464A JP12146480A JPS6048514B2 JP S6048514 B2 JPS6048514 B2 JP S6048514B2 JP 55121464 A JP55121464 A JP 55121464A JP 12146480 A JP12146480 A JP 12146480A JP S6048514 B2 JPS6048514 B2 JP S6048514B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(I)
0/ (I)
R、
(式中、R゛はアルキル基を、Xは水素または保護基を
表わす)で示されるヒドロキシデルタラクトン類および
そフの製造法に関する。
表わす)で示されるヒドロキシデルタラクトン類および
そフの製造法に関する。
本発明の対象である一般式(I)の化合物を例示すれば
R゛としてメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−アミル
基、m−ヘキシル基、n一5ヘプチル基、n−オクチル
基、n−ノニル基等を挙げることができる。
R゛としてメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−アミル
基、m−ヘキシル基、n一5ヘプチル基、n−オクチル
基、n−ノニル基等を挙げることができる。
本発明の一般式(I)の化合物は、それ自身抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用であるのみならず、これをアル
キル化することにより抗菌活性を有する一般式(■)(
式中、R”は前述と同じであり、R゜はメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
n−アミル等のアルキル基をあられす)で示される化合
物にもなり、抗菌剤の製造中間体ともなり得る。
有し、抗菌剤として有用であるのみならず、これをアル
キル化することにより抗菌活性を有する一般式(■)(
式中、R”は前述と同じであり、R゜はメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
n−アミル等のアルキル基をあられす)で示される化合
物にもなり、抗菌剤の製造中間体ともなり得る。
すなわち、一般式(■)の化合物は抗菌活性を有し、た
とえば(2R,5S)−2−メチルー5−ノニルー5
−(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクトン〔一般式
(■)においてR゛はノニル基、R゜はメチル基である
〕は(一)−マリンゴリドと称され、Marinebl
uegreenalgaLyngbyamajuscu
laGOmOntに含まれる海洋産天然物であり、My
cObacteriumsmegmatisおよびSt
reptOcOccuspyOgenesに対して抗菌
活性を有することが知られており、極めて重要な化合物
である。(J.Org.Chem,44,4O39(1
979))本.発明化合物である(S)−5−ノニルー
5 −(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクトンを用
いることにより、(−)−マリンゴリドを(R)−5−
ノニルー5−(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクト
ンを用いることにより(+)−マリンゴリドニを、さら
にラセミの5−ノニルー5−(ヒドロキシメチル)デル
タワレロラクトンを用いることにより、ラセミのマリン
ゴリドを新規にして工業的に有利に製造することができ
る。本発明の化合物(I)は次のようにして製造される
。
とえば(2R,5S)−2−メチルー5−ノニルー5
−(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクトン〔一般式
(■)においてR゛はノニル基、R゜はメチル基である
〕は(一)−マリンゴリドと称され、Marinebl
uegreenalgaLyngbyamajuscu
laGOmOntに含まれる海洋産天然物であり、My
cObacteriumsmegmatisおよびSt
reptOcOccuspyOgenesに対して抗菌
活性を有することが知られており、極めて重要な化合物
である。(J.Org.Chem,44,4O39(1
979))本.発明化合物である(S)−5−ノニルー
5 −(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクトンを用
いることにより、(−)−マリンゴリドを(R)−5−
ノニルー5−(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクト
ンを用いることにより(+)−マリンゴリドニを、さら
にラセミの5−ノニルー5−(ヒドロキシメチル)デル
タワレロラクトンを用いることにより、ラセミのマリン
ゴリドを新規にして工業的に有利に製造することができ
る。本発明の化合物(I)は次のようにして製造される
。
すなわち、2−ヒドロキシー2−アルキルー6−ヘプテ
ナールを還元し、2−アルキルー6−ヘプテンー1,2
−ジオールとし、次いで一級水酸基を保護した後、二重
結合の酸化開裂を行ない一般式(■)(式中、R”はア
ルキル基を表わし、Yは水酸基の保護基を表わす)で示
されるラクトール類とし、さらに酸化を行な・つた後水
酸基の保護基を除去するか、またはしないことによソー
般式(I)の化合物が製造される。
ナールを還元し、2−アルキルー6−ヘプテンー1,2
−ジオールとし、次いで一級水酸基を保護した後、二重
結合の酸化開裂を行ない一般式(■)(式中、R”はア
ルキル基を表わし、Yは水酸基の保護基を表わす)で示
されるラクトール類とし、さらに酸化を行な・つた後水
酸基の保護基を除去するか、またはしないことによソー
般式(I)の化合物が製造される。
上述の方法によれば、光学活性な原料化合物2−ヒドロ
キシー2−アルキルー6−ヘプテナールを用いると、光
学活性な中間体を経て、光学活性な本発明化合物(I)
を得ることができる。
キシー2−アルキルー6−ヘプテナールを用いると、光
学活性な中間体を経て、光学活性な本発明化合物(I)
を得ることができる。
すなわち、上述の方法における原料化合物2−ヒドロキ
シー2−アルキルー6−ヘプテナールを初め、中間体で
ある2−アルキルー6−ヘプテンー1,2−ジオール、
一般式(■)のラクトール類はラセミ体のみならず光学
活性体をも包含し得る。本発明の原料化合物である2−
ヒドロキシー2−アルキルー6−ヘプテナールは例えば
後述の参考例に掲げたごとく6−ヘプテンー2−オンー
1−アールのアミナールから製造することができる。以
下本発明化合物(I)を製造する各工程についてさらに
詳しく述べる。
シー2−アルキルー6−ヘプテナールを初め、中間体で
ある2−アルキルー6−ヘプテンー1,2−ジオール、
一般式(■)のラクトール類はラセミ体のみならず光学
活性体をも包含し得る。本発明の原料化合物である2−
ヒドロキシー2−アルキルー6−ヘプテナールは例えば
後述の参考例に掲げたごとく6−ヘプテンー2−オンー
1−アールのアミナールから製造することができる。以
下本発明化合物(I)を製造する各工程についてさらに
詳しく述べる。
(1)還元
乙−Cr口十ンーz−アノレキノレー6−ヘプテナール
を還元することにより、2−アルキルー4・6−ヘプテ
ンー1,2−ジオールを製造するが、当該化合物を還元
するにあたり、還元剤としては、例えは水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等二重結合
に作用せず、カルボニル基を還元し得る通常の還元剤で
よい。
を還元することにより、2−アルキルー4・6−ヘプテ
ンー1,2−ジオールを製造するが、当該化合物を還元
するにあたり、還元剤としては、例えは水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等二重結合
に作用せず、カルボニル基を還元し得る通常の還元剤で
よい。
還元に用いる溶媒は還元剤の種類により異なるが、その
還元剤に通常用いられているものでよい。例えば水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウムて還元す
る場合には、エーテル、テトラヒドロフラン等を水素化
ホウ素ナトリウムで還元する場合にはエタノール、ジグ
ライム等を、水素化ジイソブチルアルミニウムで還元す
る場合には、ベンゼン、トルエン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。反応温度は特に限
定されないが、用いる溶媒の沸点以下で実施できる。(
2)保護 2−アルキルー6−ヘプテンー1,2−ジオールの一級
水酸基を保護するが、使用しうる保護基としては塩基性
条件および酸化条件に耐えるものであればよく、例えば
トリメチルシリル基、ジメチルt−ブチルシリル基、ベ
ンジル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル基などが挙げられる。
還元剤に通常用いられているものでよい。例えば水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウムて還元す
る場合には、エーテル、テトラヒドロフラン等を水素化
ホウ素ナトリウムで還元する場合にはエタノール、ジグ
ライム等を、水素化ジイソブチルアルミニウムで還元す
る場合には、ベンゼン、トルエン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。反応温度は特に限
定されないが、用いる溶媒の沸点以下で実施できる。(
2)保護 2−アルキルー6−ヘプテンー1,2−ジオールの一級
水酸基を保護するが、使用しうる保護基としては塩基性
条件および酸化条件に耐えるものであればよく、例えば
トリメチルシリル基、ジメチルt−ブチルシリル基、ベ
ンジル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル基などが挙げられる。
保護基の導入方法は保護基により異なるが、その保護基
の導入に通常使用されている方法でよい。例えばトリメ
チルシリル基、ジメチルt−ブチルシリル基の場合には
、アミン存在下トリメチルシリルKクロリドあるいはジ
メチルt−ブチルシリルクロリドとアルコールとを反応
させる方法、ベンジル基の場合にはベンジルクロリドと
ナトリウムアルコキシドとを反応させる方法、メトキシ
エトキシメチル基の場合には、アミン存在下メトキシエ
トキシメチルクロリドとアルコールとを反応させる方法
、テトラヒドロピラニル基の場合には、酸の存在下2,
3−ジヒドロピランとアルコールとを反応させる方法が
挙げられる。(3)酸化 2−アルキルー6−ヘプテンー2−オール類を酸化する
ことによりラクトール類を製造するが、酸化剤としては
ヒドロキシル基に作用せす二重結合を酸化的に開裂させ
るものであればよい。
の導入に通常使用されている方法でよい。例えばトリメ
チルシリル基、ジメチルt−ブチルシリル基の場合には
、アミン存在下トリメチルシリルKクロリドあるいはジ
メチルt−ブチルシリルクロリドとアルコールとを反応
させる方法、ベンジル基の場合にはベンジルクロリドと
ナトリウムアルコキシドとを反応させる方法、メトキシ
エトキシメチル基の場合には、アミン存在下メトキシエ
トキシメチルクロリドとアルコールとを反応させる方法
、テトラヒドロピラニル基の場合には、酸の存在下2,
3−ジヒドロピランとアルコールとを反応させる方法が
挙げられる。(3)酸化 2−アルキルー6−ヘプテンー2−オール類を酸化する
ことによりラクトール類を製造するが、酸化剤としては
ヒドロキシル基に作用せす二重結合を酸化的に開裂させ
るものであればよい。
例えばオゾン等を挙げることができる。酸化に用いる溶
媒は用いる酸化剤により異なるが、例えばオゾンを用い
る場合にはメタノール、塩化メチレン、クロロホルム、
酢酸エチル、エーテル等通常のオゾン酸化に用いる溶媒
でよい。反応温度は特に限定されないが用いる溶媒の沸
点以下で実施することができる。2ーアルキルー6−ヘ
プテンー2−オール類を酸化して生成すると考えられる
5−ヒドロキシヘキサナール類は室温て処理中に塩化し
、ラクトールとなる。14)酸化 ラクトール類を酸化することによりラクトン類とするが
、酸化剤としては、例えば、コリンズ試薬(クロム酸−
ピリジン錯体)、ピリジニウムクロロクロメート、ピリ
ジニウムジクロメート、炭酸銀、二酸化マンガンなど通
常のラクトール類の酸化に用いる酸化剤そよい。
媒は用いる酸化剤により異なるが、例えばオゾンを用い
る場合にはメタノール、塩化メチレン、クロロホルム、
酢酸エチル、エーテル等通常のオゾン酸化に用いる溶媒
でよい。反応温度は特に限定されないが用いる溶媒の沸
点以下で実施することができる。2ーアルキルー6−ヘ
プテンー2−オール類を酸化して生成すると考えられる
5−ヒドロキシヘキサナール類は室温て処理中に塩化し
、ラクトールとなる。14)酸化 ラクトール類を酸化することによりラクトン類とするが
、酸化剤としては、例えば、コリンズ試薬(クロム酸−
ピリジン錯体)、ピリジニウムクロロクロメート、ピリ
ジニウムジクロメート、炭酸銀、二酸化マンガンなど通
常のラクトール類の酸化に用いる酸化剤そよい。
酸化に用いる溶媒は用いる酸化剤により異なるが、その
酸化剤に通常用いられているものでよい。例えばコリン
ズ試薬、ピリジニウムクロロクロメートを用いる場合に
は塩化メチレン等を、ピリジニウムジクロメートを用い
る場合には塩化メチレン、NN−ジメチルホルムアミド
等を、炭酸銀を用いる場合にはベンゼン、トルエン、塩
化メチレン等を、二酸化マンガンを用いる場合には塩化
メチレン、石油エーテル等を挙げる脱保護は用いた保護
基の脱保護に通常用いら ・れる方法で行なわれる。例
えばトリメチルシリル基、ジメチルシリルt−ブチルシ
リ基の場合には酢酸、塩酸などの酸処理、テトラブチル
アンモニウムフルオリド処理等を、ベンジル基の場合に
は接触水素添加を、メトキシエトキシメチル基の場合に
は臭化亜鉛処理等を、テトラヒドロピラニル基の場合に
は酢酸、塩酸などの酸処理等を挙げることができる。ま
た本発明の化合物(I)をアルキル化して一般式(■)
の化合物を得る方法は次の如くである。
酸化剤に通常用いられているものでよい。例えばコリン
ズ試薬、ピリジニウムクロロクロメートを用いる場合に
は塩化メチレン等を、ピリジニウムジクロメートを用い
る場合には塩化メチレン、NN−ジメチルホルムアミド
等を、炭酸銀を用いる場合にはベンゼン、トルエン、塩
化メチレン等を、二酸化マンガンを用いる場合には塩化
メチレン、石油エーテル等を挙げる脱保護は用いた保護
基の脱保護に通常用いら ・れる方法で行なわれる。例
えばトリメチルシリル基、ジメチルシリルt−ブチルシ
リ基の場合には酢酸、塩酸などの酸処理、テトラブチル
アンモニウムフルオリド処理等を、ベンジル基の場合に
は接触水素添加を、メトキシエトキシメチル基の場合に
は臭化亜鉛処理等を、テトラヒドロピラニル基の場合に
は酢酸、塩酸などの酸処理等を挙げることができる。ま
た本発明の化合物(I)をアルキル化して一般式(■)
の化合物を得る方法は次の如くである。
すなわち、通常一般式(I)においてXが保護基である
場合はそのまま、Xが水素である場合は前述(2)項の
如き水酸基の保護基を導入して通常のアルキル化方法を
施す。
場合はそのまま、Xが水素である場合は前述(2)項の
如き水酸基の保護基を導入して通常のアルキル化方法を
施す。
すなわち、強塩基でカルボニル基のa−位にアニオンを
作り次いでアルキル化剤でアルキル化するというもので
ある。使用しうる強塩基としてはリチウムアミド、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシル
アミド、ナトリウムアミド等を挙げることがで.きる。
またアルキル化剤としてはハロゲン化アルキル、アルキ
ルトシレート、ジアルキル硫酸など通常用いられている
ものでよい。例えば臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エ
チル、ヨウ化エチル、塩化イソプロピル、臭化イソプロ
ピル、ヨウ化イこソプロピル、塩化n−ブチル、臭化n
−ブチル、ヨウ化n−ブチル、塩化イソブチル、臭化イ
ソブチル、ヨウ化イソブチル、メチルトシレート、エチ
ルトシレート、n−プロピルトシレート、イソプロピル
トシレート、n−ブチルトシレート、ジ4メチル硫酸、
ジエチル硫酸等を挙げることができる。アルキル化に用
いる溶媒は用いる強塩基により異なるが、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミドの場合は液体アンモニア等を、リ
チウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシ
ルアミドの場合はエーテル、テトラヒドロフラン等を挙
げることができる。またヘキサメチルホスホリックトリ
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジi メチル
スルホキシド等の非プロトン性極性溶媒も使用すること
ができ、また単独あるいは2種類以上の混合溶媒のいず
れでも行なうことができる。反応温度は底温で行なうの
がよく、0℃以下、好ましくは−20℃以下で行なうの
が有利である。o 以下、実施例により本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定さ
れるものではない。参考例1 3.53ダの(S)−2−(アニリノメチル)ピロ5リ
ジンと2.57yのヒドロキシメトキシ酢酸メチルをベ
ンゼンに溶解し、3紛間還流し、生成した水は共沸で除
去した。
作り次いでアルキル化剤でアルキル化するというもので
ある。使用しうる強塩基としてはリチウムアミド、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシル
アミド、ナトリウムアミド等を挙げることがで.きる。
またアルキル化剤としてはハロゲン化アルキル、アルキ
ルトシレート、ジアルキル硫酸など通常用いられている
ものでよい。例えば臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エ
チル、ヨウ化エチル、塩化イソプロピル、臭化イソプロ
ピル、ヨウ化イこソプロピル、塩化n−ブチル、臭化n
−ブチル、ヨウ化n−ブチル、塩化イソブチル、臭化イ
ソブチル、ヨウ化イソブチル、メチルトシレート、エチ
ルトシレート、n−プロピルトシレート、イソプロピル
トシレート、n−ブチルトシレート、ジ4メチル硫酸、
ジエチル硫酸等を挙げることができる。アルキル化に用
いる溶媒は用いる強塩基により異なるが、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミドの場合は液体アンモニア等を、リ
チウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシ
ルアミドの場合はエーテル、テトラヒドロフラン等を挙
げることができる。またヘキサメチルホスホリックトリ
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジi メチル
スルホキシド等の非プロトン性極性溶媒も使用すること
ができ、また単独あるいは2種類以上の混合溶媒のいず
れでも行なうことができる。反応温度は底温で行なうの
がよく、0℃以下、好ましくは−20℃以下で行なうの
が有利である。o 以下、実施例により本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定さ
れるものではない。参考例1 3.53ダの(S)−2−(アニリノメチル)ピロ5リ
ジンと2.57yのヒドロキシメトキシ酢酸メチルをベ
ンゼンに溶解し、3紛間還流し、生成した水は共沸で除
去した。
溶媒を減圧下に留去し得られた残留物を100m1のテ
トラヒドロフランに溶解し、無水塩化マグネシウム1.
89yを加え1時間加フ熱還流した。−100℃に冷却
し4−ペンテニルマグネシウムプロミドのジエチルエー
テル溶液1.5倍当量を加えた。反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、室温まで昇温してジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶−媒
を留去し5.1ダのヘキサヒドロー2−フェニルー2−
(5’−ヘキセノイル)−IH−ピロロ〔1.2−C
〕イミダゾールを得た。参考例2 −参考例1の方法で得られたヘキサヒドロー2−フェニ
ルー2− (5’−ヘキセノイル)−IH−ピロロ〔1
.2−C〕イミダゾール5.1ダを150m1のジエチ
ルエーテルに溶解し、−100゜Cに冷却した。
トラヒドロフランに溶解し、無水塩化マグネシウム1.
89yを加え1時間加フ熱還流した。−100℃に冷却
し4−ペンテニルマグネシウムプロミドのジエチルエー
テル溶液1.5倍当量を加えた。反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、室温まで昇温してジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶−媒
を留去し5.1ダのヘキサヒドロー2−フェニルー2−
(5’−ヘキセノイル)−IH−ピロロ〔1.2−C
〕イミダゾールを得た。参考例2 −参考例1の方法で得られたヘキサヒドロー2−フェニ
ルー2− (5’−ヘキセノイル)−IH−ピロロ〔1
.2−C〕イミダゾール5.1ダを150m1のジエチ
ルエーテルに溶解し、−100゜Cに冷却した。
n−ノニルマグネシウムプロミドのジエチルエーテル溶
液1.皓当量を加えた。反応液に飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、室温まで昇温させた。水層を分離し、ジ
エチルエーテル層を0゜Cに冷却し、2%塩酸水溶液2
00mtを加え12時間反応させた。ジエチルエーテル
層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した。混合
したジエチルエーテル層を飽和食塩水で洗浄した後芒硝
で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し3.82ダの(S)
−2ーヒドロキシー2−ノニルー6−ヘプテナールを得
た。実施例1 参考例2に掲げた方法で得られた(S)−2−ヒドロキ
シー2−ノニルー6−ヘプテナール2.52ダを100
mLのエタノールに溶解し、380mgの水素化ホウ素
ナトリウムを加えて、0℃で3紛間、25℃で3吟間反
応させた。
液1.皓当量を加えた。反応液に飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、室温まで昇温させた。水層を分離し、ジ
エチルエーテル層を0゜Cに冷却し、2%塩酸水溶液2
00mtを加え12時間反応させた。ジエチルエーテル
層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した。混合
したジエチルエーテル層を飽和食塩水で洗浄した後芒硝
で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し3.82ダの(S)
−2ーヒドロキシー2−ノニルー6−ヘプテナールを得
た。実施例1 参考例2に掲げた方法で得られた(S)−2−ヒドロキ
シー2−ノニルー6−ヘプテナール2.52ダを100
mLのエタノールに溶解し、380mgの水素化ホウ素
ナトリウムを加えて、0℃で3紛間、25℃で3吟間反
応させた。
反応液に水を加え、塩化メLチレンで抽出した。抽出液
を芒硝で乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、1.49yの(S)−
2−ノニルー6−ヘプテンー1,2−ジオールを得た。
NMRピークはδ (CCl4,ppm)=0・871
(3H,プロードトリプレツト)、1.23(20H,
プロード)、1.80〜2.20(2H,マルチプレツ
ト)、3.10(IH,プロード)、3.23(2H,
プロード)、3.57(IH,ブ冶一ド)、4.70〜
5.10(2H,マルチプレツト)、5.30〜6.0
0(出,マルチプレツト)であつた。
を芒硝で乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、1.49yの(S)−
2−ノニルー6−ヘプテンー1,2−ジオールを得た。
NMRピークはδ (CCl4,ppm)=0・871
(3H,プロードトリプレツト)、1.23(20H,
プロード)、1.80〜2.20(2H,マルチプレツ
ト)、3.10(IH,プロード)、3.23(2H,
プロード)、3.57(IH,ブ冶一ド)、4.70〜
5.10(2H,マルチプレツト)、5.30〜6.0
0(出,マルチプレツト)であつた。
旋光度は〔a ’)ま−0.35゜(Neat)であつ
た。
た。
実施例2実施例1で得られた(S)−2−ノニルー6−
ヘプテンー1,2−ジオール1.47yを6TfLιの
N,.N−ジメチルホルムアミドに溶解し、4−ジメチ
ルアミノピリジン10mg、トリエチルアミン0.75
ダジメチルt−ブチルシリルクロリド0.91ダを加え
て、0゜Cて2時間反応させた。
ヘプテンー1,2−ジオール1.47yを6TfLιの
N,.N−ジメチルホルムアミドに溶解し、4−ジメチ
ルアミノピリジン10mg、トリエチルアミン0.75
ダジメチルt−ブチルシリルクロリド0.91ダを加え
て、0゜Cて2時間反応させた。
反応液に水を加え、n−ヘキサンで抽出した。抽出液を
芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
シリカゲルカラムで精製し、1.76yの(S )−2
ーノニルー1−ジメチルt−ブチルシロキシー6−ヘ
プテンー2−オールを得た。NMRピークはδ(CCl
4,ppm)=0.03(6H,シングレット)、0.
90(12H,シングレット)、1.23(20H,プ
ロード)、1.70〜2.10(3H,マルチプレツト
)、3.30(2H,シングレット)、4.60〜5.
10(2H,マルチプレツト)、5.30〜6.00(
IH,マルチプレツト)であつた。旋光度は〔a〕r−
0.25゜(Neat)であつた。
芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
シリカゲルカラムで精製し、1.76yの(S )−2
ーノニルー1−ジメチルt−ブチルシロキシー6−ヘ
プテンー2−オールを得た。NMRピークはδ(CCl
4,ppm)=0.03(6H,シングレット)、0.
90(12H,シングレット)、1.23(20H,プ
ロード)、1.70〜2.10(3H,マルチプレツト
)、3.30(2H,シングレット)、4.60〜5.
10(2H,マルチプレツト)、5.30〜6.00(
IH,マルチプレツト)であつた。旋光度は〔a〕r−
0.25゜(Neat)であつた。
実施例3実施例2で得られた(S)−2−ノニルー1−
ジメチルt−ブチルシロキシー6−ヘプテンー2−オー
ル1.52ダを45mιのメタノールに溶解し、− (
78゜Cに冷却しオゾンを反応させた。
ジメチルt−ブチルシロキシー6−ヘプテンー2−オー
ル1.52ダを45mιのメタノールに溶解し、− (
78゜Cに冷却しオゾンを反応させた。
原料が消失後(Ucで確認した。)、4m1のジメチル
スルフィドを加え、室温まて昇温し、1.5時間反応さ
せた。減圧下溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムで精製し1.06yの(6S)−6−ヒドロキ
シメチルー6−ノニルーテトラヒドロー州−ピランー2
−オールを得た。NMRピークはδ (CCl。
スルフィドを加え、室温まて昇温し、1.5時間反応さ
せた。減圧下溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムで精製し1.06yの(6S)−6−ヒドロキ
シメチルー6−ノニルーテトラヒドロー州−ピランー2
−オールを得た。NMRピークはδ (CCl。
,ppm)=0.03(6H,シングレット)、0.9
0(12H,シングレット)、1.10〜2.00(2
2H,プロード)、3.20〜3.50(3H,プロー
ド)、4.83(IH,プロード)であつた。実施例4 実施例3で得られた(6S)−6 −ヒドロキシメチル
ー6−ノニルーテトラヒドロー岨−ピランー2−オール
1.03yを8m1(7)N,N−ジメチルホルムアミ
ドに溶解し、ピリジニウムジクロメート3.66fIを
加え、25℃でル分間反応させた。
0(12H,シングレット)、1.10〜2.00(2
2H,プロード)、3.20〜3.50(3H,プロー
ド)、4.83(IH,プロード)であつた。実施例4 実施例3で得られた(6S)−6 −ヒドロキシメチル
ー6−ノニルーテトラヒドロー岨−ピランー2−オール
1.03yを8m1(7)N,N−ジメチルホルムアミ
ドに溶解し、ピリジニウムジクロメート3.66fIを
加え、25℃でル分間反応させた。
反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、885m9の(S)−
5−ノニルー5−(ジメチルt−ブチルシロキシメチル
)デルタワレロラクトンを得た。NMRピークはδ (
CCl4,ppm) =0・03(6H,シングレット
)、1.23(16H,プロード)、1.60〜2.0
0(4H,マルチプレツト)、2.00〜2.40(2
H,マルチプレツト)、3.43(2H,シングルツト
)であつた。旋光度は〔a〕舌5−0.89゜(Cl.
57,クロロホルム)であつた。
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、885m9の(S)−
5−ノニルー5−(ジメチルt−ブチルシロキシメチル
)デルタワレロラクトンを得た。NMRピークはδ (
CCl4,ppm) =0・03(6H,シングレット
)、1.23(16H,プロード)、1.60〜2.0
0(4H,マルチプレツト)、2.00〜2.40(2
H,マルチプレツト)、3.43(2H,シングルツト
)であつた。旋光度は〔a〕舌5−0.89゜(Cl.
57,クロロホルム)であつた。
実施例5
ジイソプロピルアミン55m9を1.5mιのテトラヒ
ドロフランに溶解し、0℃でn−ブチルリチウムフのn
−ヘキサン溶液0.5ミリモルを滴下した。
ドロフランに溶解し、0℃でn−ブチルリチウムフのn
−ヘキサン溶液0.5ミリモルを滴下した。
0゜Cで3紛間反応した後、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド0.08wLιを加えた。
トリアミド0.08wLιを加えた。
得られた、リチウムジイソプロピルアミド溶液を−78
℃に冷却し、実施例4で得られた(S)−5−ノニルー
5−5(ジメチルt−ブチルシロキシメチル)デルタワ
レロラクトン109mgをテトラヒドロフラン1mιに
溶液を滴下した。−78℃で3紛間反応させた後、ヨウ
化メチル0.06mιをテトラヒドロフラン1mιに溶
解した溶液を滴下した。−78゜Cて3吟間反応さθせ
た後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムで精製し、
84m9の(2R,5S)−2 −メチルー5−ノニル
ー5−(ジメチルt−ブチルシロキシメチル)デルタワ
レロラクトンおよび(2S,5S)−2 −メチルー5
−ノニルー5−(ジメチルt−ブチルシロキシメチル)
デルタワレロラクトンの混合物を得た。参考例3 実施例5で得られたラクトン混合物84m9を1.5m
1のテトラヒドロフランに溶解し、テトラブチルアンモ
ニウムフルオリド130mgを加え25℃で15分間反
応させた。
℃に冷却し、実施例4で得られた(S)−5−ノニルー
5−5(ジメチルt−ブチルシロキシメチル)デルタワ
レロラクトン109mgをテトラヒドロフラン1mιに
溶液を滴下した。−78℃で3紛間反応させた後、ヨウ
化メチル0.06mιをテトラヒドロフラン1mιに溶
解した溶液を滴下した。−78゜Cて3吟間反応さθせ
た後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムで精製し、
84m9の(2R,5S)−2 −メチルー5−ノニル
ー5−(ジメチルt−ブチルシロキシメチル)デルタワ
レロラクトンおよび(2S,5S)−2 −メチルー5
−ノニルー5−(ジメチルt−ブチルシロキシメチル)
デルタワレロラクトンの混合物を得た。参考例3 実施例5で得られたラクトン混合物84m9を1.5m
1のテトラヒドロフランに溶解し、テトラブチルアンモ
ニウムフルオリド130mgを加え25℃で15分間反
応させた。
反応液に水を加えジエチルエーテルで抽出した。抽出液
を芒硝で乾燥後減圧下に溶 一媒を留去し、得られた残
留物をシリカゲルカラムで分離精製し、34m9の(2
R,5S)−2 −メチルー5−ノニルー5−(ヒドロ
キシメチル)デルタワレロラクトン(一)−マリンゴリ
ドおよび17m9の(2S,5S)−2−メチルー5−
ノニルー5一(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクト
ンを得た。得られた(−)−マリンゴリドのNMRピー
クはδ (CDCl3,ppm)=0.87(3H,プ
ロードトリプレツト)、1.30(19H,プロード)
1.50〜2.20(4H,マルチプレツト)、2.4
0(IH,マルチープレツト)、3.47(IH,タブ
レット,J=12Hz)、3.70(IH,タブレット
,J =12Hz)であつた。旋光度は〔A,lr−1
2.3゜(Cl.O7,クロロホルム)で光学純度は9
5%であつた。(2R,5S)−2 −メチルー5−ノ
ニルー5一(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクトン
のNMRピークはδ (CDCla,ppm)=0.8
7(3H,プロードトリプレツト)、1.27(19H
,プロード)、1.50〜2.20(4H,マルチプレ
ツト)、2.30〜2.70(IH,マルチプレツト)
、3.50(2H,プロード)であつた。
を芒硝で乾燥後減圧下に溶 一媒を留去し、得られた残
留物をシリカゲルカラムで分離精製し、34m9の(2
R,5S)−2 −メチルー5−ノニルー5−(ヒドロ
キシメチル)デルタワレロラクトン(一)−マリンゴリ
ドおよび17m9の(2S,5S)−2−メチルー5−
ノニルー5一(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクト
ンを得た。得られた(−)−マリンゴリドのNMRピー
クはδ (CDCl3,ppm)=0.87(3H,プ
ロードトリプレツト)、1.30(19H,プロード)
1.50〜2.20(4H,マルチプレツト)、2.4
0(IH,マルチープレツト)、3.47(IH,タブ
レット,J=12Hz)、3.70(IH,タブレット
,J =12Hz)であつた。旋光度は〔A,lr−1
2.3゜(Cl.O7,クロロホルム)で光学純度は9
5%であつた。(2R,5S)−2 −メチルー5−ノ
ニルー5一(ヒドロキシメチル)デルタワレロラクトン
のNMRピークはδ (CDCla,ppm)=0.8
7(3H,プロードトリプレツト)、1.27(19H
,プロード)、1.50〜2.20(4H,マルチプレ
ツト)、2.30〜2.70(IH,マルチプレツト)
、3.50(2H,プロード)であつた。
旋光度は〔a〕芭゜+19.1゜(Cl.l3,クロロ
ホルム)であつた。実施例6 (±)−5−ノニルー5−(ジメチルt−ブチルシロキ
シメチル)デルタワレロラクトン120m9を2m1の
テトラヒドロフランに溶解しテトラブチルアンモニウム
フルオリド200m9を加え25℃で15分間反応させ
た。
ホルム)であつた。実施例6 (±)−5−ノニルー5−(ジメチルt−ブチルシロキ
シメチル)デルタワレロラクトン120m9を2m1の
テトラヒドロフランに溶解しテトラブチルアンモニウム
フルオリド200m9を加え25℃で15分間反応させ
た。
反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで分離精製し70m9の(±)−
5−ノニルー5−(ヒドロキシメチル)デルタワレロラ
クトンを得た。NMRピークはδ(CCl4,ppm)
=0・87(3H,プロード,トリプレツト)、1.1
〜2.0(20H,マルチプレツト)、2.1〜2.4
(胆,マルチプレツト)、1.36(2H,シングレッ
ト)、1.60(IH,プロード)であつた。
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで分離精製し70m9の(±)−
5−ノニルー5−(ヒドロキシメチル)デルタワレロラ
クトンを得た。NMRピークはδ(CCl4,ppm)
=0・87(3H,プロード,トリプレツト)、1.1
〜2.0(20H,マルチプレツト)、2.1〜2.4
(胆,マルチプレツト)、1.36(2H,シングレッ
ト)、1.60(IH,プロード)であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1はアルキル基、Xは水素または保護基を表
わす)で示されるヒドロキシデルタラクトン類 2 保護基がアルキル化シリル基である特許請求の範囲
第1項記載のヒドロキシデルタラクトン類3 2−ヒド
ロキシ−2−アルキル−6−ヘプテナールを還元し2−
アルキル−6−ヘプテン−1,2−ジオールとし、次い
で一級水酸基を保護した後二重結合の酸化開裂を行ない
、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1はアルキル基を表わし、Yは水酸基の保護
基を表わす)で示されるラクトール類としさらに酸化を
行なつた後保護基を除去するか、またはしないことを特
徴とする▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1はアルキル基、Xは水素または保護基を表
わす)で示されるヒドロキシデルタラクトン類の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55121464A JPS6048514B2 (ja) | 1980-09-01 | 1980-09-01 | ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55121464A JPS6048514B2 (ja) | 1980-09-01 | 1980-09-01 | ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5745173A JPS5745173A (en) | 1982-03-13 |
JPS6048514B2 true JPS6048514B2 (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=14811780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55121464A Expired JPS6048514B2 (ja) | 1980-09-01 | 1980-09-01 | ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6048514B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH025589U (ja) * | 1988-06-24 | 1990-01-16 |
-
1980
- 1980-09-01 JP JP55121464A patent/JPS6048514B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH025589U (ja) * | 1988-06-24 | 1990-01-16 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5745173A (en) | 1982-03-13 |
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