JPS6048514B2 - ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 - Google Patents
ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法Info
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- JPS6048514B2 JPS6048514B2 JP55121464A JP12146480A JPS6048514B2 JP S6048514 B2 JPS6048514 B2 JP S6048514B2 JP 55121464 A JP55121464 A JP 55121464A JP 12146480 A JP12146480 A JP 12146480A JP S6048514 B2 JPS6048514 B2 JP S6048514B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式（Ｉ）
０／ （Ｉ）
Ｒ、
（式中、Ｒ゛はアルキル基を、Ｘは水素または保護基を
表わす）で示されるヒドロキシデルタラクトン類および
そフの製造法に関する。
表わす）で示されるヒドロキシデルタラクトン類および
そフの製造法に関する。
本発明の対象である一般式（Ｉ）の化合物を例示すれば
Ｒ゛としてメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル
基、ｍ−ヘキシル基、ｎ一５ヘプチル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−ノニル基等を挙げることができる。
Ｒ゛としてメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−アミル
基、ｍ−ヘキシル基、ｎ一５ヘプチル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−ノニル基等を挙げることができる。
本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、それ自身抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用であるのみならず、これをアル
キル化することにより抗菌活性を有する一般式（■）（
式中、Ｒ”は前述と同じであり、Ｒ゜はメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｎ−アミル等のアルキル基をあられす）で示される化合
物にもなり、抗菌剤の製造中間体ともなり得る。
有し、抗菌剤として有用であるのみならず、これをアル
キル化することにより抗菌活性を有する一般式（■）（
式中、Ｒ”は前述と同じであり、Ｒ゜はメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
ｎ−アミル等のアルキル基をあられす）で示される化合
物にもなり、抗菌剤の製造中間体ともなり得る。
すなわち、一般式（■）の化合物は抗菌活性を有し、た
とえば（２Ｒ，５Ｓ）−２−メチルー５−ノニルー５
−（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクトン〔一般式
（■）においてＲ゛はノニル基、Ｒ゜はメチル基である
〕は（一）−マリンゴリドと称され、Ｍａｒｉｎｅｂｌ
ｕｅｇｒｅｅｎａｌｇａＬｙｎｇｂｙａｍａｊｕｓｃｕ
ｌａＧＯｍＯｎｔに含まれる海洋産天然物であり、Ｍｙ
ｃＯｂａｃｔｅｒｉｕｍｓｍｅｇｍａｔｉｓおよびＳｔ
ｒｅｐｔＯｃＯｃｃｕｓｐｙＯｇｅｎｅｓに対して抗菌
活性を有することが知られており、極めて重要な化合物
である。（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，４４，４Ｏ３９（１
９７９））本．発明化合物である（Ｓ）−５−ノニルー
５ −（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクトンを用
いることにより、（−）−マリンゴリドを（Ｒ）−５−
ノニルー５−（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクト
ンを用いることにより（＋）−マリンゴリドニを、さら
にラセミの５−ノニルー５−（ヒドロキシメチル）デル
タワレロラクトンを用いることにより、ラセミのマリン
ゴリドを新規にして工業的に有利に製造することができ
る。本発明の化合物（Ｉ）は次のようにして製造される
。
とえば（２Ｒ，５Ｓ）−２−メチルー５−ノニルー５
−（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクトン〔一般式
（■）においてＲ゛はノニル基、Ｒ゜はメチル基である
〕は（一）−マリンゴリドと称され、Ｍａｒｉｎｅｂｌ
ｕｅｇｒｅｅｎａｌｇａＬｙｎｇｂｙａｍａｊｕｓｃｕ
ｌａＧＯｍＯｎｔに含まれる海洋産天然物であり、Ｍｙ
ｃＯｂａｃｔｅｒｉｕｍｓｍｅｇｍａｔｉｓおよびＳｔ
ｒｅｐｔＯｃＯｃｃｕｓｐｙＯｇｅｎｅｓに対して抗菌
活性を有することが知られており、極めて重要な化合物
である。（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，４４，４Ｏ３９（１
９７９））本．発明化合物である（Ｓ）−５−ノニルー
５ −（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクトンを用
いることにより、（−）−マリンゴリドを（Ｒ）−５−
ノニルー５−（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクト
ンを用いることにより（＋）−マリンゴリドニを、さら
にラセミの５−ノニルー５−（ヒドロキシメチル）デル
タワレロラクトンを用いることにより、ラセミのマリン
ゴリドを新規にして工業的に有利に製造することができ
る。本発明の化合物（Ｉ）は次のようにして製造される
。
すなわち、２−ヒドロキシー２−アルキルー６−ヘプテ
ナールを還元し、２−アルキルー６−ヘプテンー１，２
−ジオールとし、次いで一級水酸基を保護した後、二重
結合の酸化開裂を行ない一般式（■）（式中、Ｒ”はア
ルキル基を表わし、Ｙは水酸基の保護基を表わす）で示
されるラクトール類とし、さらに酸化を行な・つた後水
酸基の保護基を除去するか、またはしないことによソー
般式（Ｉ）の化合物が製造される。
ナールを還元し、２−アルキルー６−ヘプテンー１，２
−ジオールとし、次いで一級水酸基を保護した後、二重
結合の酸化開裂を行ない一般式（■）（式中、Ｒ”はア
ルキル基を表わし、Ｙは水酸基の保護基を表わす）で示
されるラクトール類とし、さらに酸化を行な・つた後水
酸基の保護基を除去するか、またはしないことによソー
般式（Ｉ）の化合物が製造される。
上述の方法によれば、光学活性な原料化合物２−ヒドロ
キシー２−アルキルー６−ヘプテナールを用いると、光
学活性な中間体を経て、光学活性な本発明化合物（Ｉ）
を得ることができる。
キシー２−アルキルー６−ヘプテナールを用いると、光
学活性な中間体を経て、光学活性な本発明化合物（Ｉ）
を得ることができる。
すなわち、上述の方法における原料化合物２−ヒドロキ
シー２−アルキルー６−ヘプテナールを初め、中間体で
ある２−アルキルー６−ヘプテンー１，２−ジオール、
一般式（■）のラクトール類はラセミ体のみならず光学
活性体をも包含し得る。本発明の原料化合物である２−
ヒドロキシー２−アルキルー６−ヘプテナールは例えば
後述の参考例に掲げたごとく６−ヘプテンー２−オンー
１−アールのアミナールから製造することができる。以
下本発明化合物（Ｉ）を製造する各工程についてさらに
詳しく述べる。
シー２−アルキルー６−ヘプテナールを初め、中間体で
ある２−アルキルー６−ヘプテンー１，２−ジオール、
一般式（■）のラクトール類はラセミ体のみならず光学
活性体をも包含し得る。本発明の原料化合物である２−
ヒドロキシー２−アルキルー６−ヘプテナールは例えば
後述の参考例に掲げたごとく６−ヘプテンー２−オンー
１−アールのアミナールから製造することができる。以
下本発明化合物（Ｉ）を製造する各工程についてさらに
詳しく述べる。
（１）還元
乙−Ｃｒ口十ンーｚ−アノレキノレー６−ヘプテナール
を還元することにより、２−アルキルー４・６−ヘプテ
ンー１，２−ジオールを製造するが、当該化合物を還元
するにあたり、還元剤としては、例えは水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等二重結合
に作用せず、カルボニル基を還元し得る通常の還元剤で
よい。
を還元することにより、２−アルキルー４・６−ヘプテ
ンー１，２−ジオールを製造するが、当該化合物を還元
するにあたり、還元剤としては、例えは水素化アルミニ
ウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジイソ
ブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム等二重結合
に作用せず、カルボニル基を還元し得る通常の還元剤で
よい。
還元に用いる溶媒は還元剤の種類により異なるが、その
還元剤に通常用いられているものでよい。例えば水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウムて還元す
る場合には、エーテル、テトラヒドロフラン等を水素化
ホウ素ナトリウムで還元する場合にはエタノール、ジグ
ライム等を、水素化ジイソブチルアルミニウムで還元す
る場合には、ベンゼン、トルエン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。反応温度は特に限
定されないが、用いる溶媒の沸点以下で実施できる。（
２）保護 ２−アルキルー６−ヘプテンー１，２−ジオールの一級
水酸基を保護するが、使用しうる保護基としては塩基性
条件および酸化条件に耐えるものであればよく、例えば
トリメチルシリル基、ジメチルｔ−ブチルシリル基、ベ
ンジル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル基などが挙げられる。
還元剤に通常用いられているものでよい。例えば水素化
アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウムて還元す
る場合には、エーテル、テトラヒドロフラン等を水素化
ホウ素ナトリウムで還元する場合にはエタノール、ジグ
ライム等を、水素化ジイソブチルアルミニウムで還元す
る場合には、ベンゼン、トルエン、エーテル、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。反応温度は特に限
定されないが、用いる溶媒の沸点以下で実施できる。（
２）保護 ２−アルキルー６−ヘプテンー１，２−ジオールの一級
水酸基を保護するが、使用しうる保護基としては塩基性
条件および酸化条件に耐えるものであればよく、例えば
トリメチルシリル基、ジメチルｔ−ブチルシリル基、ベ
ンジル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル基などが挙げられる。
保護基の導入方法は保護基により異なるが、その保護基
の導入に通常使用されている方法でよい。例えばトリメ
チルシリル基、ジメチルｔ−ブチルシリル基の場合には
、アミン存在下トリメチルシリルＫクロリドあるいはジ
メチルｔ−ブチルシリルクロリドとアルコールとを反応
させる方法、ベンジル基の場合にはベンジルクロリドと
ナトリウムアルコキシドとを反応させる方法、メトキシ
エトキシメチル基の場合には、アミン存在下メトキシエ
トキシメチルクロリドとアルコールとを反応させる方法
、テトラヒドロピラニル基の場合には、酸の存在下２，
３−ジヒドロピランとアルコールとを反応させる方法が
挙げられる。（３）酸化 ２−アルキルー６−ヘプテンー２−オール類を酸化する
ことによりラクトール類を製造するが、酸化剤としては
ヒドロキシル基に作用せす二重結合を酸化的に開裂させ
るものであればよい。
の導入に通常使用されている方法でよい。例えばトリメ
チルシリル基、ジメチルｔ−ブチルシリル基の場合には
、アミン存在下トリメチルシリルＫクロリドあるいはジ
メチルｔ−ブチルシリルクロリドとアルコールとを反応
させる方法、ベンジル基の場合にはベンジルクロリドと
ナトリウムアルコキシドとを反応させる方法、メトキシ
エトキシメチル基の場合には、アミン存在下メトキシエ
トキシメチルクロリドとアルコールとを反応させる方法
、テトラヒドロピラニル基の場合には、酸の存在下２，
３−ジヒドロピランとアルコールとを反応させる方法が
挙げられる。（３）酸化 ２−アルキルー６−ヘプテンー２−オール類を酸化する
ことによりラクトール類を製造するが、酸化剤としては
ヒドロキシル基に作用せす二重結合を酸化的に開裂させ
るものであればよい。
例えばオゾン等を挙げることができる。酸化に用いる溶
媒は用いる酸化剤により異なるが、例えばオゾンを用い
る場合にはメタノール、塩化メチレン、クロロホルム、
酢酸エチル、エーテル等通常のオゾン酸化に用いる溶媒
でよい。反応温度は特に限定されないが用いる溶媒の沸
点以下で実施することができる。２ーアルキルー６−ヘ
プテンー２−オール類を酸化して生成すると考えられる
５−ヒドロキシヘキサナール類は室温て処理中に塩化し
、ラクトールとなる。１４）酸化 ラクトール類を酸化することによりラクトン類とするが
、酸化剤としては、例えば、コリンズ試薬（クロム酸−
ピリジン錯体）、ピリジニウムクロロクロメート、ピリ
ジニウムジクロメート、炭酸銀、二酸化マンガンなど通
常のラクトール類の酸化に用いる酸化剤そよい。
媒は用いる酸化剤により異なるが、例えばオゾンを用い
る場合にはメタノール、塩化メチレン、クロロホルム、
酢酸エチル、エーテル等通常のオゾン酸化に用いる溶媒
でよい。反応温度は特に限定されないが用いる溶媒の沸
点以下で実施することができる。２ーアルキルー６−ヘ
プテンー２−オール類を酸化して生成すると考えられる
５−ヒドロキシヘキサナール類は室温て処理中に塩化し
、ラクトールとなる。１４）酸化 ラクトール類を酸化することによりラクトン類とするが
、酸化剤としては、例えば、コリンズ試薬（クロム酸−
ピリジン錯体）、ピリジニウムクロロクロメート、ピリ
ジニウムジクロメート、炭酸銀、二酸化マンガンなど通
常のラクトール類の酸化に用いる酸化剤そよい。
酸化に用いる溶媒は用いる酸化剤により異なるが、その
酸化剤に通常用いられているものでよい。例えばコリン
ズ試薬、ピリジニウムクロロクロメートを用いる場合に
は塩化メチレン等を、ピリジニウムジクロメートを用い
る場合には塩化メチレン、ＮＮ−ジメチルホルムアミド
等を、炭酸銀を用いる場合にはベンゼン、トルエン、塩
化メチレン等を、二酸化マンガンを用いる場合には塩化
メチレン、石油エーテル等を挙げる脱保護は用いた保護
基の脱保護に通常用いら ・れる方法で行なわれる。例
えばトリメチルシリル基、ジメチルシリルｔ−ブチルシ
リ基の場合には酢酸、塩酸などの酸処理、テトラブチル
アンモニウムフルオリド処理等を、ベンジル基の場合に
は接触水素添加を、メトキシエトキシメチル基の場合に
は臭化亜鉛処理等を、テトラヒドロピラニル基の場合に
は酢酸、塩酸などの酸処理等を挙げることができる。ま
た本発明の化合物（Ｉ）をアルキル化して一般式（■）
の化合物を得る方法は次の如くである。
酸化剤に通常用いられているものでよい。例えばコリン
ズ試薬、ピリジニウムクロロクロメートを用いる場合に
は塩化メチレン等を、ピリジニウムジクロメートを用い
る場合には塩化メチレン、ＮＮ−ジメチルホルムアミド
等を、炭酸銀を用いる場合にはベンゼン、トルエン、塩
化メチレン等を、二酸化マンガンを用いる場合には塩化
メチレン、石油エーテル等を挙げる脱保護は用いた保護
基の脱保護に通常用いら ・れる方法で行なわれる。例
えばトリメチルシリル基、ジメチルシリルｔ−ブチルシ
リ基の場合には酢酸、塩酸などの酸処理、テトラブチル
アンモニウムフルオリド処理等を、ベンジル基の場合に
は接触水素添加を、メトキシエトキシメチル基の場合に
は臭化亜鉛処理等を、テトラヒドロピラニル基の場合に
は酢酸、塩酸などの酸処理等を挙げることができる。ま
た本発明の化合物（Ｉ）をアルキル化して一般式（■）
の化合物を得る方法は次の如くである。
すなわち、通常一般式（Ｉ）においてＸが保護基である
場合はそのまま、Ｘが水素である場合は前述（２）項の
如き水酸基の保護基を導入して通常のアルキル化方法を
施す。
場合はそのまま、Ｘが水素である場合は前述（２）項の
如き水酸基の保護基を導入して通常のアルキル化方法を
施す。
すなわち、強塩基でカルボニル基のａ−位にアニオンを
作り次いでアルキル化剤でアルキル化するというもので
ある。使用しうる強塩基としてはリチウムアミド、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシル
アミド、ナトリウムアミド等を挙げることがで．きる。
またアルキル化剤としてはハロゲン化アルキル、アルキ
ルトシレート、ジアルキル硫酸など通常用いられている
ものでよい。例えば臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エ
チル、ヨウ化エチル、塩化イソプロピル、臭化イソプロ
ピル、ヨウ化イこソプロピル、塩化ｎ−ブチル、臭化ｎ
−ブチル、ヨウ化ｎ−ブチル、塩化イソブチル、臭化イ
ソブチル、ヨウ化イソブチル、メチルトシレート、エチ
ルトシレート、ｎ−プロピルトシレート、イソプロピル
トシレート、ｎ−ブチルトシレート、ジ４メチル硫酸、
ジエチル硫酸等を挙げることができる。アルキル化に用
いる溶媒は用いる強塩基により異なるが、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミドの場合は液体アンモニア等を、リ
チウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシ
ルアミドの場合はエーテル、テトラヒドロフラン等を挙
げることができる。またヘキサメチルホスホリックトリ
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジｉ メチル
スルホキシド等の非プロトン性極性溶媒も使用すること
ができ、また単独あるいは２種類以上の混合溶媒のいず
れでも行なうことができる。反応温度は底温で行なうの
がよく、０℃以下、好ましくは−２０℃以下で行なうの
が有利である。ｏ 以下、実施例により本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定さ
れるものではない。参考例１ ３．５３ダの（Ｓ）−２−（アニリノメチル）ピロ５リ
ジンと２．５７ｙのヒドロキシメトキシ酢酸メチルをベ
ンゼンに溶解し、３紛間還流し、生成した水は共沸で除
去した。
作り次いでアルキル化剤でアルキル化するというもので
ある。使用しうる強塩基としてはリチウムアミド、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシル
アミド、ナトリウムアミド等を挙げることがで．きる。
またアルキル化剤としてはハロゲン化アルキル、アルキ
ルトシレート、ジアルキル硫酸など通常用いられている
ものでよい。例えば臭化メチル、ヨウ化メチル、臭化エ
チル、ヨウ化エチル、塩化イソプロピル、臭化イソプロ
ピル、ヨウ化イこソプロピル、塩化ｎ−ブチル、臭化ｎ
−ブチル、ヨウ化ｎ−ブチル、塩化イソブチル、臭化イ
ソブチル、ヨウ化イソブチル、メチルトシレート、エチ
ルトシレート、ｎ−プロピルトシレート、イソプロピル
トシレート、ｎ−ブチルトシレート、ジ４メチル硫酸、
ジエチル硫酸等を挙げることができる。アルキル化に用
いる溶媒は用いる強塩基により異なるが、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミドの場合は液体アンモニア等を、リ
チウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシ
ルアミドの場合はエーテル、テトラヒドロフラン等を挙
げることができる。またヘキサメチルホスホリックトリ
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジｉ メチル
スルホキシド等の非プロトン性極性溶媒も使用すること
ができ、また単独あるいは２種類以上の混合溶媒のいず
れでも行なうことができる。反応温度は底温で行なうの
がよく、０℃以下、好ましくは−２０℃以下で行なうの
が有利である。ｏ 以下、実施例により本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定さ
れるものではない。参考例１ ３．５３ダの（Ｓ）−２−（アニリノメチル）ピロ５リ
ジンと２．５７ｙのヒドロキシメトキシ酢酸メチルをベ
ンゼンに溶解し、３紛間還流し、生成した水は共沸で除
去した。
溶媒を減圧下に留去し得られた残留物を１００ｍ１のテ
トラヒドロフランに溶解し、無水塩化マグネシウム１．
８９ｙを加え１時間加フ熱還流した。−１００℃に冷却
し４−ペンテニルマグネシウムプロミドのジエチルエー
テル溶液１．５倍当量を加えた。反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、室温まで昇温してジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶−媒
を留去し５．１ダのヘキサヒドロー２−フェニルー２−
（５’−ヘキセノイル）−ＩＨ−ピロロ〔１．２−Ｃ
〕イミダゾールを得た。参考例２ −参考例１の方法で得られたヘキサヒドロー２−フェニ
ルー２− （５’−ヘキセノイル）−ＩＨ−ピロロ〔１
．２−Ｃ〕イミダゾール５．１ダを１５０ｍ１のジエチ
ルエーテルに溶解し、−１００゜Ｃに冷却した。
トラヒドロフランに溶解し、無水塩化マグネシウム１．
８９ｙを加え１時間加フ熱還流した。−１００℃に冷却
し４−ペンテニルマグネシウムプロミドのジエチルエー
テル溶液１．５倍当量を加えた。反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、室温まで昇温してジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶−媒
を留去し５．１ダのヘキサヒドロー２−フェニルー２−
（５’−ヘキセノイル）−ＩＨ−ピロロ〔１．２−Ｃ
〕イミダゾールを得た。参考例２ −参考例１の方法で得られたヘキサヒドロー２−フェニ
ルー２− （５’−ヘキセノイル）−ＩＨ−ピロロ〔１
．２−Ｃ〕イミダゾール５．１ダを１５０ｍ１のジエチ
ルエーテルに溶解し、−１００゜Ｃに冷却した。
ｎ−ノニルマグネシウムプロミドのジエチルエーテル溶
液１．皓当量を加えた。反応液に飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、室温まで昇温させた。水層を分離し、ジ
エチルエーテル層を０゜Ｃに冷却し、２％塩酸水溶液２
００ｍｔを加え１２時間反応させた。ジエチルエーテル
層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した。混合
したジエチルエーテル層を飽和食塩水で洗浄した後芒硝
で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し３．８２ダの（Ｓ）
−２ーヒドロキシー２−ノニルー６−ヘプテナールを得
た。実施例１ 参考例２に掲げた方法で得られた（Ｓ）−２−ヒドロキ
シー２−ノニルー６−ヘプテナール２．５２ダを１００
ｍＬのエタノールに溶解し、３８０ｍｇの水素化ホウ素
ナトリウムを加えて、０℃で３紛間、２５℃で３吟間反
応させた。
液１．皓当量を加えた。反応液に飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、室温まで昇温させた。水層を分離し、ジ
エチルエーテル層を０゜Ｃに冷却し、２％塩酸水溶液２
００ｍｔを加え１２時間反応させた。ジエチルエーテル
層を分離し、水層をジエチルエーテルで抽出した。混合
したジエチルエーテル層を飽和食塩水で洗浄した後芒硝
で乾燥した。減圧下に溶媒を留去し３．８２ダの（Ｓ）
−２ーヒドロキシー２−ノニルー６−ヘプテナールを得
た。実施例１ 参考例２に掲げた方法で得られた（Ｓ）−２−ヒドロキ
シー２−ノニルー６−ヘプテナール２．５２ダを１００
ｍＬのエタノールに溶解し、３８０ｍｇの水素化ホウ素
ナトリウムを加えて、０℃で３紛間、２５℃で３吟間反
応させた。
反応液に水を加え、塩化メＬチレンで抽出した。抽出液
を芒硝で乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、１．４９ｙの（Ｓ）−
２−ノニルー６−ヘプテンー１，２−ジオールを得た。
ＮＭＲピークはδ （ＣＣｌ４，ｐｐｍ）＝０・８７１
（３Ｈ，プロードトリプレツト）、１．２３（２０Ｈ，
プロード）、１．８０〜２．２０（２Ｈ，マルチプレツ
ト）、３．１０（ＩＨ，プロード）、３．２３（２Ｈ，
プロード）、３．５７（ＩＨ，ブ冶一ド）、４．７０〜
５．１０（２Ｈ，マルチプレツト）、５．３０〜６．０
０（出，マルチプレツト）であつた。
を芒硝で乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、１．４９ｙの（Ｓ）−
２−ノニルー６−ヘプテンー１，２−ジオールを得た。
ＮＭＲピークはδ （ＣＣｌ４，ｐｐｍ）＝０・８７１
（３Ｈ，プロードトリプレツト）、１．２３（２０Ｈ，
プロード）、１．８０〜２．２０（２Ｈ，マルチプレツ
ト）、３．１０（ＩＨ，プロード）、３．２３（２Ｈ，
プロード）、３．５７（ＩＨ，ブ冶一ド）、４．７０〜
５．１０（２Ｈ，マルチプレツト）、５．３０〜６．０
０（出，マルチプレツト）であつた。
旋光度は〔ａ ’）ま−０．３５゜（Ｎｅａｔ）であつ
た。
た。
実施例２実施例１で得られた（Ｓ）−２−ノニルー６−
ヘプテンー１，２−ジオール１．４７ｙを６ＴｆＬιの
Ｎ，．Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、４−ジメチ
ルアミノピリジン１０ｍｇ、トリエチルアミン０．７５
ダジメチルｔ−ブチルシリルクロリド０．９１ダを加え
て、０゜Ｃて２時間反応させた。
ヘプテンー１，２−ジオール１．４７ｙを６ＴｆＬιの
Ｎ，．Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、４−ジメチ
ルアミノピリジン１０ｍｇ、トリエチルアミン０．７５
ダジメチルｔ−ブチルシリルクロリド０．９１ダを加え
て、０゜Ｃて２時間反応させた。
反応液に水を加え、ｎ−ヘキサンで抽出した。抽出液を
芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
シリカゲルカラムで精製し、１．７６ｙの（Ｓ ）−２
ーノニルー１−ジメチルｔ−ブチルシロキシー６−ヘ
プテンー２−オールを得た。ＮＭＲピークはδ（ＣＣｌ
４，ｐｐｍ）＝０．０３（６Ｈ，シングレット）、０．
９０（１２Ｈ，シングレット）、１．２３（２０Ｈ，プ
ロード）、１．７０〜２．１０（３Ｈ，マルチプレツト
）、３．３０（２Ｈ，シングレット）、４．６０〜５．
１０（２Ｈ，マルチプレツト）、５．３０〜６．００（
ＩＨ，マルチプレツト）であつた。旋光度は〔ａ〕ｒ−
０．２５゜（Ｎｅａｔ）であつた。
芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を
シリカゲルカラムで精製し、１．７６ｙの（Ｓ ）−２
ーノニルー１−ジメチルｔ−ブチルシロキシー６−ヘ
プテンー２−オールを得た。ＮＭＲピークはδ（ＣＣｌ
４，ｐｐｍ）＝０．０３（６Ｈ，シングレット）、０．
９０（１２Ｈ，シングレット）、１．２３（２０Ｈ，プ
ロード）、１．７０〜２．１０（３Ｈ，マルチプレツト
）、３．３０（２Ｈ，シングレット）、４．６０〜５．
１０（２Ｈ，マルチプレツト）、５．３０〜６．００（
ＩＨ，マルチプレツト）であつた。旋光度は〔ａ〕ｒ−
０．２５゜（Ｎｅａｔ）であつた。
実施例３実施例２で得られた（Ｓ）−２−ノニルー１−
ジメチルｔ−ブチルシロキシー６−ヘプテンー２−オー
ル１．５２ダを４５ｍιのメタノールに溶解し、− （
７８゜Ｃに冷却しオゾンを反応させた。
ジメチルｔ−ブチルシロキシー６−ヘプテンー２−オー
ル１．５２ダを４５ｍιのメタノールに溶解し、− （
７８゜Ｃに冷却しオゾンを反応させた。
原料が消失後（Ｕｃで確認した。）、４ｍ１のジメチル
スルフィドを加え、室温まて昇温し、１．５時間反応さ
せた。減圧下溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムで精製し１．０６ｙの（６Ｓ）−６−ヒドロキ
シメチルー６−ノニルーテトラヒドロー州−ピランー２
−オールを得た。ＮＭＲピークはδ （ＣＣｌ。
スルフィドを加え、室温まて昇温し、１．５時間反応さ
せた。減圧下溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムで精製し１．０６ｙの（６Ｓ）−６−ヒドロキ
シメチルー６−ノニルーテトラヒドロー州−ピランー２
−オールを得た。ＮＭＲピークはδ （ＣＣｌ。
，ｐｐｍ）＝０．０３（６Ｈ，シングレット）、０．９
０（１２Ｈ，シングレット）、１．１０〜２．００（２
２Ｈ，プロード）、３．２０〜３．５０（３Ｈ，プロー
ド）、４．８３（ＩＨ，プロード）であつた。実施例４ 実施例３で得られた（６Ｓ）−６ −ヒドロキシメチル
ー６−ノニルーテトラヒドロー岨−ピランー２−オール
１．０３ｙを８ｍ１（７）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドに溶解し、ピリジニウムジクロメート３．６６ｆＩを
加え、２５℃でル分間反応させた。
０（１２Ｈ，シングレット）、１．１０〜２．００（２
２Ｈ，プロード）、３．２０〜３．５０（３Ｈ，プロー
ド）、４．８３（ＩＨ，プロード）であつた。実施例４ 実施例３で得られた（６Ｓ）−６ −ヒドロキシメチル
ー６−ノニルーテトラヒドロー岨−ピランー２−オール
１．０３ｙを８ｍ１（７）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドに溶解し、ピリジニウムジクロメート３．６６ｆＩを
加え、２５℃でル分間反応させた。
反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、８８５ｍ９の（Ｓ）−
５−ノニルー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル
）デルタワレロラクトンを得た。ＮＭＲピークはδ （
ＣＣｌ４，ｐｐｍ） ＝０・０３（６Ｈ，シングレット
）、１．２３（１６Ｈ，プロード）、１．６０〜２．０
０（４Ｈ，マルチプレツト）、２．００〜２．４０（２
Ｈ，マルチプレツト）、３．４３（２Ｈ，シングルツト
）であつた。旋光度は〔ａ〕舌５−０．８９゜（Ｃｌ．
５７，クロロホルム）であつた。
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで精製し、８８５ｍ９の（Ｓ）−
５−ノニルー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル
）デルタワレロラクトンを得た。ＮＭＲピークはδ （
ＣＣｌ４，ｐｐｍ） ＝０・０３（６Ｈ，シングレット
）、１．２３（１６Ｈ，プロード）、１．６０〜２．０
０（４Ｈ，マルチプレツト）、２．００〜２．４０（２
Ｈ，マルチプレツト）、３．４３（２Ｈ，シングルツト
）であつた。旋光度は〔ａ〕舌５−０．８９゜（Ｃｌ．
５７，クロロホルム）であつた。
実施例５
ジイソプロピルアミン５５ｍ９を１．５ｍιのテトラヒ
ドロフランに溶解し、０℃でｎ−ブチルリチウムフのｎ
−ヘキサン溶液０．５ミリモルを滴下した。
ドロフランに溶解し、０℃でｎ−ブチルリチウムフのｎ
−ヘキサン溶液０．５ミリモルを滴下した。
０゜Ｃで３紛間反応した後、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド０．０８ｗＬιを加えた。
トリアミド０．０８ｗＬιを加えた。
得られた、リチウムジイソプロピルアミド溶液を−７８
℃に冷却し、実施例４で得られた（Ｓ）−５−ノニルー
５−５（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル）デルタワ
レロラクトン１０９ｍｇをテトラヒドロフラン１ｍιに
溶液を滴下した。−７８℃で３紛間反応させた後、ヨウ
化メチル０．０６ｍιをテトラヒドロフラン１ｍιに溶
解した溶液を滴下した。−７８゜Ｃて３吟間反応さθせ
た後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムで精製し、
８４ｍ９の（２Ｒ，５Ｓ）−２ −メチルー５−ノニル
ー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル）デルタワ
レロラクトンおよび（２Ｓ，５Ｓ）−２ −メチルー５
−ノニルー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル）
デルタワレロラクトンの混合物を得た。参考例３ 実施例５で得られたラクトン混合物８４ｍ９を１．５ｍ
１のテトラヒドロフランに溶解し、テトラブチルアンモ
ニウムフルオリド１３０ｍｇを加え２５℃で１５分間反
応させた。
℃に冷却し、実施例４で得られた（Ｓ）−５−ノニルー
５−５（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル）デルタワ
レロラクトン１０９ｍｇをテトラヒドロフラン１ｍιに
溶液を滴下した。−７８℃で３紛間反応させた後、ヨウ
化メチル０．０６ｍιをテトラヒドロフラン１ｍιに溶
解した溶液を滴下した。−７８゜Ｃて３吟間反応さθせ
た後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えジエチルエー
テルで抽出した。抽出液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムで精製し、
８４ｍ９の（２Ｒ，５Ｓ）−２ −メチルー５−ノニル
ー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル）デルタワ
レロラクトンおよび（２Ｓ，５Ｓ）−２ −メチルー５
−ノニルー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキシメチル）
デルタワレロラクトンの混合物を得た。参考例３ 実施例５で得られたラクトン混合物８４ｍ９を１．５ｍ
１のテトラヒドロフランに溶解し、テトラブチルアンモ
ニウムフルオリド１３０ｍｇを加え２５℃で１５分間反
応させた。
反応液に水を加えジエチルエーテルで抽出した。抽出液
を芒硝で乾燥後減圧下に溶 一媒を留去し、得られた残
留物をシリカゲルカラムで分離精製し、３４ｍ９の（２
Ｒ，５Ｓ）−２ −メチルー５−ノニルー５−（ヒドロ
キシメチル）デルタワレロラクトン（一）−マリンゴリ
ドおよび１７ｍ９の（２Ｓ，５Ｓ）−２−メチルー５−
ノニルー５一（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクト
ンを得た。得られた（−）−マリンゴリドのＮＭＲピー
クはδ （ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）＝０．８７（３Ｈ，プ
ロードトリプレツト）、１．３０（１９Ｈ，プロード）
１．５０〜２．２０（４Ｈ，マルチプレツト）、２．４
０（ＩＨ，マルチープレツト）、３．４７（ＩＨ，タブ
レット，Ｊ＝１２Ｈｚ）、３．７０（ＩＨ，タブレット
，Ｊ ＝１２Ｈｚ）であつた。旋光度は〔Ａ，ｌｒ−１
２．３゜（Ｃｌ．Ｏ７，クロロホルム）で光学純度は９
５％であつた。（２Ｒ，５Ｓ）−２ −メチルー５−ノ
ニルー５一（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクトン
のＮＭＲピークはδ （ＣＤＣｌａ，ｐｐｍ）＝０．８
７（３Ｈ，プロードトリプレツト）、１．２７（１９Ｈ
，プロード）、１．５０〜２．２０（４Ｈ，マルチプレ
ツト）、２．３０〜２．７０（ＩＨ，マルチプレツト）
、３．５０（２Ｈ，プロード）であつた。
を芒硝で乾燥後減圧下に溶 一媒を留去し、得られた残
留物をシリカゲルカラムで分離精製し、３４ｍ９の（２
Ｒ，５Ｓ）−２ −メチルー５−ノニルー５−（ヒドロ
キシメチル）デルタワレロラクトン（一）−マリンゴリ
ドおよび１７ｍ９の（２Ｓ，５Ｓ）−２−メチルー５−
ノニルー５一（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクト
ンを得た。得られた（−）−マリンゴリドのＮＭＲピー
クはδ （ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）＝０．８７（３Ｈ，プ
ロードトリプレツト）、１．３０（１９Ｈ，プロード）
１．５０〜２．２０（４Ｈ，マルチプレツト）、２．４
０（ＩＨ，マルチープレツト）、３．４７（ＩＨ，タブ
レット，Ｊ＝１２Ｈｚ）、３．７０（ＩＨ，タブレット
，Ｊ ＝１２Ｈｚ）であつた。旋光度は〔Ａ，ｌｒ−１
２．３゜（Ｃｌ．Ｏ７，クロロホルム）で光学純度は９
５％であつた。（２Ｒ，５Ｓ）−２ −メチルー５−ノ
ニルー５一（ヒドロキシメチル）デルタワレロラクトン
のＮＭＲピークはδ （ＣＤＣｌａ，ｐｐｍ）＝０．８
７（３Ｈ，プロードトリプレツト）、１．２７（１９Ｈ
，プロード）、１．５０〜２．２０（４Ｈ，マルチプレ
ツト）、２．３０〜２．７０（ＩＨ，マルチプレツト）
、３．５０（２Ｈ，プロード）であつた。
旋光度は〔ａ〕芭゜＋１９．１゜（Ｃｌ．ｌ３，クロロ
ホルム）であつた。実施例６ （±）−５−ノニルー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキ
シメチル）デルタワレロラクトン１２０ｍ９を２ｍ１の
テトラヒドロフランに溶解しテトラブチルアンモニウム
フルオリド２００ｍ９を加え２５℃で１５分間反応させ
た。
ホルム）であつた。実施例６ （±）−５−ノニルー５−（ジメチルｔ−ブチルシロキ
シメチル）デルタワレロラクトン１２０ｍ９を２ｍ１の
テトラヒドロフランに溶解しテトラブチルアンモニウム
フルオリド２００ｍ９を加え２５℃で１５分間反応させ
た。
反応液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで分離精製し７０ｍ９の（±）−
５−ノニルー５−（ヒドロキシメチル）デルタワレロラ
クトンを得た。ＮＭＲピークはδ（ＣＣｌ４，ｐｐｍ）
＝０・８７（３Ｈ，プロード，トリプレツト）、１．１
〜２．０（２０Ｈ，マルチプレツト）、２．１〜２．４
（胆，マルチプレツト）、１．３６（２Ｈ，シングレッ
ト）、１．６０（ＩＨ，プロード）であつた。
液を芒硝で乾燥後減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をシリカゲルカラムで分離精製し７０ｍ９の（±）−
５−ノニルー５−（ヒドロキシメチル）デルタワレロラ
クトンを得た。ＮＭＲピークはδ（ＣＣｌ４，ｐｐｍ）
＝０・８７（３Ｈ，プロード，トリプレツト）、１．１
〜２．０（２０Ｈ，マルチプレツト）、２．１〜２．４
（胆，マルチプレツト）、１．３６（２Ｈ，シングレッ
ト）、１．６０（ＩＨ，プロード）であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１はアルキル基、Ｘは水素または保護基を表
わす）で示されるヒドロキシデルタラクトン類 ２ 保護基がアルキル化シリル基である特許請求の範囲
第１項記載のヒドロキシデルタラクトン類３ ２−ヒド
ロキシ−２−アルキル−６−ヘプテナールを還元し２−
アルキル−６−ヘプテン−１，２−ジオールとし、次い
で一級水酸基を保護した後二重結合の酸化開裂を行ない
、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１はアルキル基を表わし、Ｙは水酸基の保護
基を表わす）で示されるラクトール類としさらに酸化を
行なつた後保護基を除去するか、またはしないことを特
徴とする▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１はアルキル基、Ｘは水素または保護基を表
わす）で示されるヒドロキシデルタラクトン類の製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55121464A JPS6048514B2 (ja) | 1980-09-01 | 1980-09-01 | ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55121464A JPS6048514B2 (ja) | 1980-09-01 | 1980-09-01 | ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5745173A JPS5745173A (en) | 1982-03-13 |
| JPS6048514B2 true JPS6048514B2 (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=14811780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55121464A Expired JPS6048514B2 (ja) | 1980-09-01 | 1980-09-01 | ヒドロキシデルタラクトン類およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048514B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH025589U (ja) * | 1988-06-24 | 1990-01-16 |
-
1980
- 1980-09-01 JP JP55121464A patent/JPS6048514B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH025589U (ja) * | 1988-06-24 | 1990-01-16 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5745173A (en) | 1982-03-13 |
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