JP3317233B2 - デオキシマンノジリマイシンの製造法 - Google Patents
デオキシマンノジリマイシンの製造法Info
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- JP3317233B2 JP3317233B2 JP04338198A JP4338198A JP3317233B2 JP 3317233 B2 JP3317233 B2 JP 3317233B2 JP 04338198 A JP04338198 A JP 04338198A JP 4338198 A JP4338198 A JP 4338198A JP 3317233 B2 JP3317233 B2 JP 3317233B2
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- deoxymannojirimycin
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガン細胞の増殖抑制
や抗ウィルス作用を示す医薬品としての重要なデオキシ
マンノジリマイシンの製造方法に関する。
や抗ウィルス作用を示す医薬品としての重要なデオキシ
マンノジリマイシンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】デオキシマンノジリマイシンは、グルコ
蛋白質を有するマンノシダーゼやボビンα−Ｌ−フコシ
ダーゼのような酵素の働きを強力に阻害することで、ガ
ン細胞の増殖抑制や抗ウィルス作用を示す生理活性物質
である。このデオキシマンノジリマイシンの合成法とし
ては（１）δ−グルコノラクトンを出発原料に用いて合
成する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔ
ｒａｎｓ Ｉ，２６２１（１９９４））、（２）２−フ
ルアルデヒドを出発原料に用いて合成する方法（Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３７，１４６１（１９
９６））等が挙げられる。
蛋白質を有するマンノシダーゼやボビンα−Ｌ−フコシ
ダーゼのような酵素の働きを強力に阻害することで、ガ
ン細胞の増殖抑制や抗ウィルス作用を示す生理活性物質
である。このデオキシマンノジリマイシンの合成法とし
ては（１）δ−グルコノラクトンを出発原料に用いて合
成する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔ
ｒａｎｓ Ｉ，２６２１（１９９４））、（２）２−フ
ルアルデヒドを出発原料に用いて合成する方法（Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３７，１４６１（１９
９６））等が挙げられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
合成法は次のような問題点がある。すなわち（１）のよ
うなδ−グルコノラクトンを出発原料に用いる方法は、
工程数が長い上、エステルの還元の際、水素化アルミニ
ウムリチウム等の大量合成し難い試薬を使用しなければ
ならない。また（２）の２−フルアルデヒドを出発原料
に用いて合成する方法は、ジエチルアゾジカルボキシレ
ートや不斉配位子等高価な試薬を使用しなければならな
い。
合成法は次のような問題点がある。すなわち（１）のよ
うなδ−グルコノラクトンを出発原料に用いる方法は、
工程数が長い上、エステルの還元の際、水素化アルミニ
ウムリチウム等の大量合成し難い試薬を使用しなければ
ならない。また（２）の２−フルアルデヒドを出発原料
に用いて合成する方法は、ジエチルアゾジカルボキシレ
ートや不斉配位子等高価な試薬を使用しなければならな
い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
点を解決するために種々検討した結果、３−ベンジル−
４−アルコキシカルボニル−２−オキサゾリジノンを原
料に用いてデオキシマンノジリマイシンが合成できるこ
とを見出し、本発明を完成させた。本発明によれば下記
式（１）
点を解決するために種々検討した結果、３−ベンジル−
４−アルコキシカルボニル−２−オキサゾリジノンを原
料に用いてデオキシマンノジリマイシンが合成できるこ
とを見出し、本発明を完成させた。本発明によれば下記
式（１）
【０００５】
【化７】 （Ｐｈはフェニル基、Ｒは炭素数１から４の低級アルキ
ル基を表す）
ル基を表す）
【０００６】で表されるオキサゾリジノンエステルにア
セチリドイオンを反応させて下記式（２）で表されるケ
トンを得
セチリドイオンを反応させて下記式（２）で表されるケ
トンを得
【０００７】
【化８】 （Ｒ1 はシリル保護基を表す）
【０００８】還元剤で該ケトンを還元した後、接触水素
添加により式（２）の三重結合をＺ体の二重結合へと変
換し、ベンジル基を除去することにより下記式（３）で
表されるアルコールを得
添加により式（２）の三重結合をＺ体の二重結合へと変
換し、ベンジル基を除去することにより下記式（３）で
表されるアルコールを得
【０００９】
【化９】
【００１０】該アルコールの２級水酸基をシリル基で保
護した後、１級水酸基のシリル保護基を選択的に外し、
１級水酸基を脱離基に変換後、塩基処理することにより
環化させて下記式（４）で表される二環性化合物を得
護した後、１級水酸基のシリル保護基を選択的に外し、
１級水酸基を脱離基に変換後、塩基処理することにより
環化させて下記式（４）で表される二環性化合物を得
【００１１】
【化１０】 （Ｒ2 はシリル保護基を表す）
【００１２】該二環性化合物の二重結合を酸化して下記
式（５）で表されるｃｉｓ−ジオールを得
式（５）で表されるｃｉｓ−ジオールを得
【００１３】
【化１１】
【００１４】該ｃｉｓ−ジオールのジオール基を保護
し、塩基で処理してオキサゾリジノン環を開環した後、
ジオール基の脱保護処理を行うことを特徴とする下記式
（６）で表されるデオキシマンノジリマイシンの製造法
が提供される。
し、塩基で処理してオキサゾリジノン環を開環した後、
ジオール基の脱保護処理を行うことを特徴とする下記式
（６）で表されるデオキシマンノジリマイシンの製造法
が提供される。
【００１５】
【化１２】
【００１６】また本発明によれば式（１）で表される化
合物が光学活性であり、製造される式（６）で表される
デオキシマンノジリマイシンが光学活性であることを特
徴とする上記デオキシマンノジリマイシンの製造法が提
供される。
合物が光学活性であり、製造される式（６）で表される
デオキシマンノジリマイシンが光学活性であることを特
徴とする上記デオキシマンノジリマイシンの製造法が提
供される。
【００１７】また本発明によれば式（２）で表されるケ
トンの還元剤が、ジイソブチルアルミニウム２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシドであるこ
とを特徴とする上記デオキシマンノジリマイシンの製造
法が提供される。
トンの還元剤が、ジイソブチルアルミニウム２，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシドであるこ
とを特徴とする上記デオキシマンノジリマイシンの製造
法が提供される。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を以下図示す
ると
ると
【００１９】
【化１３】
【００２０】上記のグリシドール（７）から導かれる式
（１）で表されるオキサゾリジノンエステル、すなわち
３−ベンジル−４−アルコキシカルボニル−２−オキサ
ゾリジノンに式（８）で表される、水酸基をシリル基で
保護したプロパギルアルコールのアセチリドアニオンを
反応させると、式（２）で表されるケトン体が得られ
る。シリル保護基としてはトリメチルシリル、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジフ
ェニルシリル等が挙げられるが好ましくはｔ−ブチルジ
メチルシリルである。このケトンを還元剤で還元すると
式（９）で表されるエリトロ体のアルコールが得られ
る。還元剤としては水素化アルミニウムリチウム、水素
化ジイソブチルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウ
ム−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
キシド、Ｌ−セレクトライド、Ｋ−セレクトライド、水
素化ホウ素ナトリウム等が挙げられるが、好ましくはジ
イソブチルアルミニウム−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−メチルフェノキシドである。式（９）で表され
るアルコールにリンドラー触媒下で水素を接触させて還
元することにより、化合物中の三重結合をＺ体の二重結
合に変換する。次いで液体アンモニア−金属ナトリウム
もしくは液体アンモニア−金属リチウムで窒素原子に結
合するベンジル基を除去することにより式（３）で表さ
れる化合物に導くことができる。この式（３）化合物の
２級水酸基をシリル基で保護した後、１級水酸基のシリ
ル保護基のみを選択的に除去することにより式（１０）
で表される化合物が得られる。脱保護の条件としてはア
セトニトリル中フッ化水素溶液で処理する方法が好まし
い。導入されるシリル保護基としては、トリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリル等が挙げられるが好ましくは
ｔ−ブチルジメチルシリルである。
（１）で表されるオキサゾリジノンエステル、すなわち
３−ベンジル−４−アルコキシカルボニル−２−オキサ
ゾリジノンに式（８）で表される、水酸基をシリル基で
保護したプロパギルアルコールのアセチリドアニオンを
反応させると、式（２）で表されるケトン体が得られ
る。シリル保護基としてはトリメチルシリル、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジフ
ェニルシリル等が挙げられるが好ましくはｔ−ブチルジ
メチルシリルである。このケトンを還元剤で還元すると
式（９）で表されるエリトロ体のアルコールが得られ
る。還元剤としては水素化アルミニウムリチウム、水素
化ジイソブチルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウ
ム−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
キシド、Ｌ−セレクトライド、Ｋ−セレクトライド、水
素化ホウ素ナトリウム等が挙げられるが、好ましくはジ
イソブチルアルミニウム−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−メチルフェノキシドである。式（９）で表され
るアルコールにリンドラー触媒下で水素を接触させて還
元することにより、化合物中の三重結合をＺ体の二重結
合に変換する。次いで液体アンモニア−金属ナトリウム
もしくは液体アンモニア−金属リチウムで窒素原子に結
合するベンジル基を除去することにより式（３）で表さ
れる化合物に導くことができる。この式（３）化合物の
２級水酸基をシリル基で保護した後、１級水酸基のシリ
ル保護基のみを選択的に除去することにより式（１０）
で表される化合物が得られる。脱保護の条件としてはア
セトニトリル中フッ化水素溶液で処理する方法が好まし
い。導入されるシリル保護基としては、トリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリル等が挙げられるが好ましくは
ｔ−ブチルジメチルシリルである。
【００２１】式（１０）で表される化合物の水酸基を脱
離基に変換し、塩基で処理することにより式（４）で表
される二環性化合物が得られる。脱離基としては、メタ
ンスルホネート、パラトルエンスルホネート等のスルホ
ン酸エステル系脱離基、クロロ、ブロモ等のハロゲン系
脱離基が挙げられる。使用する塩基としては水素化ナト
リウム、水素化カリウム等の金属水素化物、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バ
リウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水
酸化物が挙げられるが、好ましくは水素化ナトリウム、
水素化カリウム等の金属水素化物である。
離基に変換し、塩基で処理することにより式（４）で表
される二環性化合物が得られる。脱離基としては、メタ
ンスルホネート、パラトルエンスルホネート等のスルホ
ン酸エステル系脱離基、クロロ、ブロモ等のハロゲン系
脱離基が挙げられる。使用する塩基としては水素化ナト
リウム、水素化カリウム等の金属水素化物、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バ
リウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水
酸化物が挙げられるが、好ましくは水素化ナトリウム、
水素化カリウム等の金属水素化物である。
【００２２】式（４）で表される化合物の二重結合を四
酸化オスミウムで酸化すると、立体的にかさ高いシリル
オキシ基の逆側から反応し、式（５）で表されるｃｉｓ
−ジオールが単一生成物として得られる。このｃｉｓ−
ジオールを保護し、塩基で処理してオキサゾリジノン環
を開環した後、酸で処理して脱保護することにより、式
（６）で表されるデオキシマンノジリマイシンが得られ
る。ジオールの保護基としてはテトラヒドロピラン、メ
トキシメチル等のエーテル系保護基、トリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルメチルシリル等のケイ素系保護基、アセ
トン、２，２−ジメトキシプロパン、２−メトキシプロ
ペン等を用いたアセトナイド保護基等が挙げられるが、
好ましくはアセトン、２，２−ジメトキシプロパン、２
−メトキシプロペン等を用いたアセトナイド保護基であ
る。オキサゾリジノンの開環に使用する塩基としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ
土類金属の水酸化物が挙げられるが、好ましくは水酸化
ナトリウム、水素化カリウムである。
酸化オスミウムで酸化すると、立体的にかさ高いシリル
オキシ基の逆側から反応し、式（５）で表されるｃｉｓ
−ジオールが単一生成物として得られる。このｃｉｓ−
ジオールを保護し、塩基で処理してオキサゾリジノン環
を開環した後、酸で処理して脱保護することにより、式
（６）で表されるデオキシマンノジリマイシンが得られ
る。ジオールの保護基としてはテトラヒドロピラン、メ
トキシメチル等のエーテル系保護基、トリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルメチルシリル等のケイ素系保護基、アセ
トン、２，２−ジメトキシプロパン、２−メトキシプロ
ペン等を用いたアセトナイド保護基等が挙げられるが、
好ましくはアセトン、２，２−ジメトキシプロパン、２
−メトキシプロペン等を用いたアセトナイド保護基であ
る。オキサゾリジノンの開環に使用する塩基としては、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ
土類金属の水酸化物が挙げられるが、好ましくは水酸化
ナトリウム、水素化カリウムである。
【００２３】原料として用いる３−ベンジル−４−アル
コキシカルボニル−２−オキサゾリジン、例えばメチル
エステルの場合は本出願人の特開平５−７８３３６号公
報に記載の方法により３−クロロ−１，２−プロパンジ
オールからグリシドールを経て得られるが、３−クロロ
−１，２−プロパンジオールとして、光学活性な３−ク
ロロ−１，２−プロパンジオールを用いる場合は光学活
性なデオキシマンノジリマイシンを合成することができ
る。高光学純度（９８％ｅｅ以上）の３−クロロ−１，
２−プロパンジオールとしては例えば本出願人の特公平
４−７３９９８号公報及び特公平４−７３９９９号公報
に記載の方法により得ることができる。光学純度の高い
３−クロロ−１，２−プロパンジオールを用いると反応
中顕著なラセミ化反応は起こらず、高光学純度のデオキ
シマンノジリマイシンを合成することができる。
コキシカルボニル−２−オキサゾリジン、例えばメチル
エステルの場合は本出願人の特開平５−７８３３６号公
報に記載の方法により３−クロロ−１，２−プロパンジ
オールからグリシドールを経て得られるが、３−クロロ
−１，２−プロパンジオールとして、光学活性な３−ク
ロロ−１，２−プロパンジオールを用いる場合は光学活
性なデオキシマンノジリマイシンを合成することができ
る。高光学純度（９８％ｅｅ以上）の３−クロロ−１，
２−プロパンジオールとしては例えば本出願人の特公平
４−７３９９８号公報及び特公平４−７３９９９号公報
に記載の方法により得ることができる。光学純度の高い
３−クロロ−１，２−プロパンジオールを用いると反応
中顕著なラセミ化反応は起こらず、高光学純度のデオキ
シマンノジリマイシンを合成することができる。
【００２４】
【実施例】以下、実施例により本発明方法を具体的に説
明するが本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ 《１》（４Ｒ）−アルキニルケトン（１１）の合成 アルゴン雰囲気下、Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）
プロパルギルアルコール（０．７９５ｍｌ，４．６８ｍ
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦという）
（１２．８ｍｌ）溶液に−７８℃でヘキサメチルホスホ
ロアミド（０．４１ｍｌ，２．３４ｍｍｏｌ）及び１．
６Ｍノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（２．８０ｍ
ｌ，４．４６ｍｍｏｌ）を滴下後、同温で１時間攪拌
し、リチウムアセチリドを調整した。同じくアルゴン雰
囲気下、（４Ｒ）−３−ベンジル−４−メトキシカルボ
ニル−２−オキサゾリジノン（１）（５００ｍｇ，２．
１３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０．６ｍｌ）溶液を−１０
０℃以下に冷却し、溶液が固化する直前に、あらかじめ
−７８℃に冷却しておいたリチウムアセチリドのＴＨＦ
溶液をゆっくりと滴下した。−１００℃で１５分間撹拌
した後、同温で飽和塩化アンモニウム水溶液とジエチル
エーテルを加え、室温に昇温した。ジエチルエーテルで
抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィーで精製することにより、（４Ｒ）−ア
ルキニルケトン（１１）（４１９ｍｇ，６５．５％）を
得た。
明するが本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ 《１》（４Ｒ）−アルキニルケトン（１１）の合成 アルゴン雰囲気下、Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）
プロパルギルアルコール（０．７９５ｍｌ，４．６８ｍ
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦという）
（１２．８ｍｌ）溶液に−７８℃でヘキサメチルホスホ
ロアミド（０．４１ｍｌ，２．３４ｍｍｏｌ）及び１．
６Ｍノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（２．８０ｍ
ｌ，４．４６ｍｍｏｌ）を滴下後、同温で１時間攪拌
し、リチウムアセチリドを調整した。同じくアルゴン雰
囲気下、（４Ｒ）−３−ベンジル−４−メトキシカルボ
ニル−２−オキサゾリジノン（１）（５００ｍｇ，２．
１３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０．６ｍｌ）溶液を−１０
０℃以下に冷却し、溶液が固化する直前に、あらかじめ
−７８℃に冷却しておいたリチウムアセチリドのＴＨＦ
溶液をゆっくりと滴下した。−１００℃で１５分間撹拌
した後、同温で飽和塩化アンモニウム水溶液とジエチル
エーテルを加え、室温に昇温した。ジエチルエーテルで
抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィーで精製することにより、（４Ｒ）−ア
ルキニルケトン（１１）（４１９ｍｇ，６５．５％）を
得た。
【００２５】
【化１４】 （ＴＢＳはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を表す）1 ＨＮＭＲ (４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．１２
（６Ｈ，ｓ），０．９１（９Ｈ，ｓ），４．１３（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，９．５Ｈｚ），４．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝４．９，９．２Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
９．５Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ），４．９６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），７．２４−７．３６（５
Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．３
４，１８．２，２５．６，４７．４，５１．６，６２．
９，６３．５，８０．９，９６．３，１２８．４，１２
８．７，１２９．０，１３４．７，１５７．５，１８
２．９
（６Ｈ，ｓ），０．９１（９Ｈ，ｓ），４．１３（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，９．５Ｈｚ），４．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝４．９，９．２Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
９．５Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ），４．９６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），７．２４−７．３６（５
Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．３
４，１８．２，２５．６，４７．４，５１．６，６２．
９，６３．５，８０．９，９６．３，１２８．４，１２
８．７，１２９．０，１３４．７，１５７．５，１８
２．９
【００２６】《２》（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−アルキニ
ルアルコール（１２） アルゴン雰囲気下、（４Ｒ）−アルキニルケトン（１
１）（１．５２ｇ，４．０７ｍｍｏｌ）の無水トルエン
（２０．３ｍｌ）溶液に０℃でジイソブチルアルミニウ
ム−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
キシドの溶液（１７．９ｍｌ，８．９５ｍｍｏｌ）を加
えた。０℃で１０分間撹拌し、１N塩酸を加えた後酢酸
エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減
圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−アル
キニルアルコール（１２）（１．４１ｇ，９２．２％）
の結晶を得た。
ルアルコール（１２） アルゴン雰囲気下、（４Ｒ）−アルキニルケトン（１
１）（１．５２ｇ，４．０７ｍｍｏｌ）の無水トルエン
（２０．３ｍｌ）溶液に０℃でジイソブチルアルミニウ
ム−２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
キシドの溶液（１７．９ｍｌ，８．９５ｍｍｏｌ）を加
えた。０℃で１０分間撹拌し、１N塩酸を加えた後酢酸
エチルで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後減
圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製することにより（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−アル
キニルアルコール（１２）（１．４１ｇ，９２．２％）
の結晶を得た。
【００２７】
【化１５】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．０８７
（６Ｈ，ｓ），０．８９（９Ｈ，ｓ），２．６６（１
Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），３．７６（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝３．１，５．１ １０．０Ｈｚ），４．３０
（４Ｈ，ｍ），４．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
９．０Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｂｒ ｓ），４．７７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），７．２７−７．３６
（５Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ−５．２７，
１８．２，２５．７，４６．５，５１．５，５８．４，
６０．５，６３．３，８０．９，８６．１２８．１，１
２９．０，１３５．８，１５８．９
（６Ｈ，ｓ），０．８９（９Ｈ，ｓ），２．６６（１
Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），３．７６（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝３．１，５．１ １０．０Ｈｚ），４．３０
（４Ｈ，ｍ），４．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，
９．０Ｈｚ），４．５５（１Ｈ，ｂｒ ｓ），４．７７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），７．２７−７．３６
（５Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ−５．２７，
１８．２，２５．７，４６．５，５１．５，５８．４，
６０．５，６３．３，８０．９，８６．１２８．１，１
２９．０，１３５．８，１５８．９
【００２８】《３》（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−（Ｚ）−
アルケニルアルコール（１３） アルゴン雰囲気下、（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−アルキニ
ルアルコール（１２）（３．６０ｇ，９．５９ｍｍｏ
ｌ）の無水メタノール溶液に、室温でリンドラー触媒
（７２０ｍｇ，２０ｍｏｌ％）を加え、アルゴンを水素
に置換した後３時間攪拌した。反応混合物をセライトで
ろ過した後、減圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより（４Ｒ）−Ｎ−
ベンジル−（Ｚ）−アルケニルアルコール（１３）
（３．６２ｇ，１００％）を得た。
アルケニルアルコール（１３） アルゴン雰囲気下、（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−アルキニ
ルアルコール（１２）（３．６０ｇ，９．５９ｍｍｏ
ｌ）の無水メタノール溶液に、室温でリンドラー触媒
（７２０ｍｇ，２０ｍｏｌ％）を加え、アルゴンを水素
に置換した後３時間攪拌した。反応混合物をセライトで
ろ過した後、減圧濃縮した。残さをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより（４Ｒ）−Ｎ−
ベンジル−（Ｚ）−アルケニルアルコール（１３）
（３．６２ｇ，１００％）を得た。
【００２９】
【化１６】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．０６７
（３Ｈ，ｓ），０．０７３（３Ｈ，ｓ），０．９０（９
Ｈ，ｓ），３．１０（１Ｈ，ｂｒ Ｓ），３．６３（１
Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．９，６．１，９．０Ｈｚ），４．
２６（５Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝
６．１Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈ
ｚ），５．３７（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．７，７．３，
１１．５Ｈｚ），５．７２（１Ｈ，ｍ）７．３４（５
Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．４
０，１８．２，２５．８，２６．０，３５．４，４７．
４，６１．４，６１．７，６３．６，１２８．３，１２
８．６，１２９．０，１３４．９，２０６．１
（３Ｈ，ｓ），０．０７３（３Ｈ，ｓ），０．９０（９
Ｈ，ｓ），３．１０（１Ｈ，ｂｒ Ｓ），３．６３（１
Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．９，６．１，９．０Ｈｚ），４．
２６（５Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝
６．１Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈ
ｚ），５．３７（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．７，７．３，
１１．５Ｈｚ），５．７２（１Ｈ，ｍ）７．３４（５
Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．４
０，１８．２，２５．８，２６．０，３５．４，４７．
４，６１．４，６１．７，６３．６，１２８．３，１２
８．６，１２９．０，１３４．９，２０６．１
【００３０】《４》（４Ｓ）−アリルアルコール（１
４） アルゴン雰囲気下、反応容器を−７８℃に保ち、液体ア
ンモニアを約６０ｍｌ凝縮させた。この中に金属ナトリ
ウム（２００ｍｇ，８．７４ｍｍｏｌ）を加えて溶液を
ブルーにした後、（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−（Ｚ）−ア
ルケニルアルコール（１３）（１．５０ｇ，３．９７ｍ
ｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（１１．９ｍｌ）溶液を滴下し
た。滴下終了後すぐに、固体の塩化アンモニウムを加
え、液体アンモニアを自然蒸発させた。酢酸エチルで希
釈した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することにより、（４Ｒ）−アリルアルコール（１
４）（９１２ｍｇ，７９．９％）の結晶を得た。
４） アルゴン雰囲気下、反応容器を−７８℃に保ち、液体ア
ンモニアを約６０ｍｌ凝縮させた。この中に金属ナトリ
ウム（２００ｍｇ，８．７４ｍｍｏｌ）を加えて溶液を
ブルーにした後、（４Ｒ）−Ｎ−ベンジル−（Ｚ）−ア
ルケニルアルコール（１３）（１．５０ｇ，３．９７ｍ
ｍｏｌ）の無水ＴＨＦ（１１．９ｍｌ）溶液を滴下し
た。滴下終了後すぐに、固体の塩化アンモニウムを加
え、液体アンモニアを自然蒸発させた。酢酸エチルで希
釈した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することにより、（４Ｒ）−アリルアルコール（１
４）（９１２ｍｇ，７９．９％）の結晶を得た。
【００３１】
【化１７】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．０９８
（６Ｈ，ｓ），０．９１（９Ｈ，ｓ），３．８８（１
Ｈ，ｍ），４．２０−４．５０（５Ｈ，ｍ），４．５９
（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．７，７．９，１１．５Ｈ
ｚ），５．８０（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．２，５．９，
１１．５Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，ｂｒ ｓ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．３
４，１８．２，２５．８，５６．５，５９．８，６６．
７，６８．８，１２８．４，１３３．９，１６０．２
（６Ｈ，ｓ），０．９１（９Ｈ，ｓ），３．８８（１
Ｈ，ｍ），４．２０−４．５０（５Ｈ，ｍ），４．５９
（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．７，７．９，１１．５Ｈ
ｚ），５．８０（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１．２，５．９，
１１．５Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，ｂｒ ｓ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．３
４，１８．２，２５．８，５６．５，５９．８，６６．
７，６８．８，１２８．４，１３３．９，１６０．２
【００３２】《５》ジシリルエーテル（１５）の合成 アルゴン雰囲気下、（４Ｒ）−アリルアルコール（１
４）（４８０ｍｇ，２．２５ｍｍｏｌ）の無水Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦという）（６．７ｍ
ｌ）溶液に、イミダゾール（５６６ｍｇ，２．２５ｍｍ
ｏｌ）を加え、０℃でｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロ
シラン（０．３５ｍｌ，３．８３ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で２時間攪拌した後、反応混合物を氷水の中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し
た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することにより、ジシリルエーテル（１５）（６４
５ｍｇ，９６．４％）の結晶を得た。
４）（４８０ｍｇ，２．２５ｍｍｏｌ）の無水Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦという）（６．７ｍ
ｌ）溶液に、イミダゾール（５６６ｍｇ，２．２５ｍｍ
ｏｌ）を加え、０℃でｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロ
シラン（０．３５ｍｌ，３．８３ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で２時間攪拌した後、反応混合物を氷水の中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し
た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製することにより、ジシリルエーテル（１５）（６４
５ｍｇ，９６．４％）の結晶を得た。
【００３３】
【化１８】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．０８３
（１２Ｈ，ｍ），０．８７（９Ｈ，ｓ），０．９１（９
Ｈ，ｓ），３．７３（１Ｈ，ｍ），４．１５−４．３３
（３Ｈ，ｍ），４．３９−４．４９（２Ｈ，ｍ），５．
３９（２Ｈ，ｍ），５．７３（１Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．３
２，−４．９８，−４．２１，１７．９，１８．２，２
５．６，２５．９，５６．８，５９．４，６７．０，７
０．２，１３０．３，１３２．４，１５９．２
（１２Ｈ，ｍ），０．８７（９Ｈ，ｓ），０．９１（９
Ｈ，ｓ），３．７３（１Ｈ，ｍ），４．１５−４．３３
（３Ｈ，ｍ），４．３９−４．４９（２Ｈ，ｍ），５．
３９（２Ｈ，ｍ），５．７３（１Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．３
２，−４．９８，−４．２１，１７．９，１８．２，２
５．６，２５．９，５６．８，５９．４，６７．０，７
０．２，１３０．３，１３２．４，１５９．２
【００３４】《６》モノデシリルアルコール（１６）の
合成 ジシリルエーテル（１５）（１１９ｍｇ，０．２９６ｍ
ｍｏｌ）のアセトニトリル（３ｍｌ）溶液に、−２０℃
で３３％フッ化水素酸水溶液（０．３０ｍｌ）を加え
た。同温で３０分攪拌させた後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え、室温に昇温した。塩化メチレンで抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、モノ
デシリルアルコール（１６）（８３ｍｇ，９７．６％）
を得た。
合成 ジシリルエーテル（１５）（１１９ｍｇ，０．２９６ｍ
ｍｏｌ）のアセトニトリル（３ｍｌ）溶液に、−２０℃
で３３％フッ化水素酸水溶液（０．３０ｍｌ）を加え
た。同温で３０分攪拌させた後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え、室温に昇温した。塩化メチレンで抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧濃縮した。粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、モノ
デシリルアルコール（１６）（８３ｍｇ，９７．６％）
を得た。
【００３５】
【化１９】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．０３４
（３Ｈ，ｓ），０．０７２（３Ｈ，ｓ），０．８７（９
Ｈ，ｓ）３．１５（１Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ
ｄ，Ｊ＝５．１，８．１，８．１Ｈｚ），４．１２−
４．４６（５Ｈ，ｍ），５．４０（１Ｈ，ｍ），５．８
５（１Ｈ，ｍ），６．６２（１Ｈ，ｂｒ ｓ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−４．９
９，−４．１５，１７．９，２５．６，５７．０，５
８．４，６７．８，７０．５，１３１．６，１３２．
４，１６０．５
（３Ｈ，ｓ），０．０７２（３Ｈ，ｓ），０．８７（９
Ｈ，ｓ）３．１５（１Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ
ｄ，Ｊ＝５．１，８．１，８．１Ｈｚ），４．１２−
４．４６（５Ｈ，ｍ），５．４０（１Ｈ，ｍ），５．８
５（１Ｈ，ｍ），６．６２（１Ｈ，ｂｒ ｓ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−４．９
９，−４．１５，１７．９，２５．６，５７．０，５
８．４，６７．８，７０．５，１３１．６，１３２．
４，１６０．５
【００３６】《７》二環化合物（１７）の合成 アルゴン雰囲気下、モノデシリルアルコール（１６）
（５００ｍｇ，１．７４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（８．７ｍ
ｌ）溶液に、４−ジメチルアミノピリジン（６４ｍｇ，
０．５２２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２７ｍ
ｌ，２．０９ｍｍｏｌ）を加え、さらに０℃でメタンス
ルホニルクロリド（０．１６ｍｌ，２．０９ｍｍｏｌ）
を加え、室温で２．５時間攪拌した。反応混合液に飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽
出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧濃縮した。この粗生成物を直ちにＤＭＦに溶か
し、０℃で６０％水素化ナトリウム（１０４ｍｇ，２．
６１ｍｍｏｌ）を加えた。同温で１時間攪拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。この粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することに
より、二環化合物（１７）（３７４ｍｇ，７９．７％
（ｔｗｏ ｓｔｅｐｓ））を得た。
（５００ｍｇ，１．７４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（８．７ｍ
ｌ）溶液に、４−ジメチルアミノピリジン（６４ｍｇ，
０．５２２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２７ｍ
ｌ，２．０９ｍｍｏｌ）を加え、さらに０℃でメタンス
ルホニルクロリド（０．１６ｍｌ，２．０９ｍｍｏｌ）
を加え、室温で２．５時間攪拌した。反応混合液に飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽
出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧濃縮した。この粗生成物を直ちにＤＭＦに溶か
し、０℃で６０％水素化ナトリウム（１０４ｍｇ，２．
６１ｍｍｏｌ）を加えた。同温で１時間攪拌した後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。この粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することに
より、二環化合物（１７）（３７４ｍｇ，７９．７％
（ｔｗｏ ｓｔｅｐｓ））を得た。
【００３７】
【化２０】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．１１
（３Ｈ，ｓ），０．１３（９Ｈ，ｓ），３．５１（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝４．２，８．１Ｈｚ），３．６５（１
Ｈ，ｍ），４．０９（１Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，
ｍ），４．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，８．９Ｈ
ｚ），４．５１（１Ｈ，ｄｄＪ＝８．１，８．９Ｈ
ｚ），５．７２（２Ｈ，ｓ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−４．６
８，−４．２０，１７．９，２５．６，４０．８，５
６．４，６７．２，６８．４，１２３．８，１３０．
５，１５７．２
（３Ｈ，ｓ），０．１３（９Ｈ，ｓ），３．５１（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝４．２，８．１Ｈｚ），３．６５（１
Ｈ，ｍ），４．０９（１Ｈ，ｍ），４．１５（１Ｈ，
ｍ），４．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，８．９Ｈ
ｚ），４．５１（１Ｈ，ｄｄＪ＝８．１，８．９Ｈ
ｚ），５．７２（２Ｈ，ｓ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−４．６
８，−４．２０，１７．９，２５．６，４０．８，５
６．４，６７．２，６８．４，１２３．８，１３０．
５，１５７．２
【００３８】《８》ジオール（１８）の合成 二環化合物（１７）（８０ｍｇ，０．２９７ｍｍｏｌ）
のｔｅｒｔ−ブタノール（１．２ｍｌ）、水（２．４ｍ
ｌ）混合溶液に、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド
（１０４ｍｇ，０．８９１ｍｍｏｌ）を加え、０℃で四
酸化オスミウムのｔｅｒｔ−ブタノール溶液（５．２ｍ
ｌ，０．１０４ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で４時間攪
拌した後、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、同
温でさらに３０分攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧濃縮した。この粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより、ジオール（１
８）（７７ｍｇ，８５．６％）を得た。
のｔｅｒｔ−ブタノール（１．２ｍｌ）、水（２．４ｍ
ｌ）混合溶液に、Ｎ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド
（１０４ｍｇ，０．８９１ｍｍｏｌ）を加え、０℃で四
酸化オスミウムのｔｅｒｔ−ブタノール溶液（５．２ｍ
ｌ，０．１０４ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で４時間攪
拌した後、飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、同
温でさらに３０分攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧濃縮した。この粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製することにより、ジオール（１
８）（７７ｍｇ，８５．６％）を得た。
【００３９】
【化２１】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ）δ：０．１２
（３Ｈ，ｓ），０．１７（３Ｈ，ｓ）, ０．８８（９
Ｈ，ｓ），２．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），
３．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，１４．４Ｈｚ），
３．４４（２Ｈ，ｍ），３．５０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝
４．４，８．５，８．６Ｈｚ），３．７７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝９．０Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．
３，１５．６Ｈｚ）４．１０（１Ｈ，ｍ），４．１９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，９．０Ｈｚ），４．４２
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ）δ：−４．７
６，−３．９１，１８．１，２５．８，４５．５，５
８．６，６６．１，６８．２，７２．４，７４．７，１
５８．３
（３Ｈ，ｓ），０．１７（３Ｈ，ｓ）, ０．８８（９
Ｈ，ｓ），２．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），
３．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，１４．４Ｈｚ），
３．４４（２Ｈ，ｍ），３．５０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝
４．４，８．５，８．６Ｈｚ），３．７７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝９．０Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．
３，１５．６Ｈｚ）４．１０（１Ｈ，ｍ），４．１９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，９．０Ｈｚ），４．４２
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ）δ：−４．７
６，−３．９１，１８．１，２５．８，４５．５，５
８．６，６６．１，６８．２，７２．４，７４．７，１
５８．３
【００４０】《９》アセトナイド（１９）の合成 アルゴン雰囲気下、ジオール（１８）（１４５ｍｇ，
０．４７８ｍｍｏｌ）のアセトン溶液中に、２，２−ジ
メトキシプロパン（０．５９ｍｌ，４．７８ｍｍｏｌ）
と、ピリジニウムパラトルエンスルホネート（２４ｍ
ｇ，０．０９５６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２０時間
攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。この
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、アセトナイド（１９）（１５１ｍｇ，
９２．１％）を得た。
０．４７８ｍｍｏｌ）のアセトン溶液中に、２，２−ジ
メトキシプロパン（０．５９ｍｌ，４．７８ｍｍｏｌ）
と、ピリジニウムパラトルエンスルホネート（２４ｍ
ｇ，０．０９５６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２０時間
攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮した。この
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、アセトナイド（１９）（１５１ｍｇ，
９２．１％）を得た。
【００４１】
【化２２】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：０．１１
（３Ｈ，ｓ），０．１６（３Ｈ，ｓ），０．８８（９
Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｓ），１．５０（３Ｈ，
ｓ），３．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４，１５．１Ｈ
ｚ），３．４８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．４，８．３Ｈ
ｚ），３．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．５Ｈ
ｚ），３．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，６．１Ｈ
ｚ），４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．８Ｈ
ｚ），４．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．
２７（１Ｈ，ｍ），４．４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．１
６，−４．１５，１７．９，２５．６，２５．９，２
７．９，４０．９，５６．７，６５．８，７２．７，７
３．２，７９．１，１０９．３，１５７．３
（３Ｈ，ｓ），０．１６（３Ｈ，ｓ），０．８８（９
Ｈ，ｓ），１．３６（３Ｈ，ｓ），１．５０（３Ｈ，
ｓ），３．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４，１５．１Ｈ
ｚ），３．４８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．４，８．３Ｈ
ｚ），３．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，８．５Ｈ
ｚ），３．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，６．１Ｈ
ｚ），４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．８Ｈ
ｚ），４．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．
２７（１Ｈ，ｍ），４．４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3)δ：−５．１
６，−４．１５，１７．９，２５．６，２５．９，２
７．９，４０．９，５６．７，６５．８，７２．７，７
３．２，７９．１，１０９．３，１５７．３
【００４２】《１０》（２０）の合成 アセトナイド（１９）（１３０ｍｇ，０．３８２ｍｍｏ
ｌ）のジオキサン（１．１ｍｌ）溶液に６Ｎ水酸化ナト
リウム水溶液（０．７６ｍｌ）を加えた。２日間還流さ
せた後、減圧濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製することにより、（２０）（８６
ｍｇ，７０．７％）を得た。
ｌ）のジオキサン（１．１ｍｌ）溶液に６Ｎ水酸化ナト
リウム水溶液（０．７６ｍｌ）を加えた。２日間還流さ
せた後、減圧濃縮し、粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製することにより、（２０）（８６
ｍｇ，７０．７％）を得た。
【００４３】
【化２３】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ）δ：１．３５
（３Ｈ，ｓ），１．５０（３Ｈ，ｓ），２．３４（１
Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．２，５．４，１０．３Ｈｚ），
２．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１４．８Ｈｚ），
３．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），３．４８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１０．３Ｈｚ），３．６５
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１．０Ｈｚ），３．７７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２，１１．０Ｈｚ），３．８９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，７．１Ｈｚ），４．２１
（１Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ）δ：２６．
７，２８．５，４６．３，６１．１，６２．５，７２．
４，７５．３，８１．９，１１０．２
（３Ｈ，ｓ），１．５０（３Ｈ，ｓ），２．３４（１
Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．２，５．４，１０．３Ｈｚ），
２．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１４．８Ｈｚ），
３．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ），３．４８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１０．３Ｈｚ），３．６５
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１．０Ｈｚ），３．７７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２，１１．０Ｈｚ），３．８９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，７．１Ｈｚ），４．２１
（１Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤ3 ＯＤ）δ：２６．
７，２８．５，４６．３，６１．１，６２．５，７２．
４，７５．３，８１．９，１１０．２
【００４４】《１１》デオキシマンノジリマイシン
（６）の合成 （２０）（４２ｍｇ，０．２０７ｍｍｏｌ）のメタノー
ル（２．１ｍｌ）溶液に室温で濃塩酸（１ｍｌ）を加
え、４時間還流した。反応混合物を減圧濃縮し、粗生成
物をイオン交換樹脂（１−Ｘ４，１００−２００Ｍｅｓ
ｈ，ＯＨ- Ｆｏｒｍ）で精製することにより、デオキシ
マンノジリマイシン（６）（２６ｍｇ，７６．５％）を
得た。
（６）の合成 （２０）（４２ｍｇ，０．２０７ｍｍｏｌ）のメタノー
ル（２．１ｍｌ）溶液に室温で濃塩酸（１ｍｌ）を加
え、４時間還流した。反応混合物を減圧濃縮し、粗生成
物をイオン交換樹脂（１−Ｘ４，１００−２００Ｍｅｓ
ｈ，ＯＨ- Ｆｏｒｍ）で精製することにより、デオキシ
マンノジリマイシン（６）（２６ｍｇ，７６．５％）を
得た。
【００４５】
【化２４】 1ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｄ2 Ｏ）δ：２．４５（１
Ｈ，ｍ），２．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ），
２．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１４．３Ｈｚ），
３．５８（２Ｈ，ｍ），３．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．
７Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｄ2 Ｏ）δ：５０．９，６
３．２，６３．４，７１．０，７１．９，７７．３ 旋光度：［α] D 27−３０９°（ｃ＝０．２２，ＣＨ3
ＯＨ）
Ｈ，ｍ），２．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ），
２．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１４．３Ｈｚ），
３．５８（２Ｈ，ｍ），３．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．
７Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｍ）13 ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｄ2 Ｏ）δ：５０．９，６
３．２，６３．４，７１．０，７１．９，７７．３ 旋光度：［α] D 27−３０９°（ｃ＝０．２２，ＣＨ3
ＯＨ）
【００４６】
【発明の効果】本発明によれば、ガン細胞の増殖抑制作
用や抗ウイルス作用を示すデオキシマンノジリマイシン
をオキサゾリジノンエステルを原料とし、高価なあるい
は取り扱い難い試薬を用いることなく高立体選択的な手
法により効率よく製造することができる。
用や抗ウイルス作用を示すデオキシマンノジリマイシン
をオキサゾリジノンエステルを原料とし、高価なあるい
は取り扱い難い試薬を用いることなく高立体選択的な手
法により効率よく製造することができる。
フロントページの続き (56)参考文献 Ｂｉｏｏｒｇｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃ ｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏ ｌ．５，Ｎｏ．３，ｐ．519−533，1997 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 211/46 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 （Ｐｈはフェニル基、Ｒは炭素数１から４の低級アルキ
ル基を表す）で表されるオキサゾリジノンエステルにア
セチリドイオンを反応させて下記式（２）で表されるケ
トンを得 【化２】 （Ｒ1 はシリル保護基を表す） 還元剤で該ケトンを還元した後、接触水素添加により式
（２）の三重結合をＺ体の二重結合へと変換し、ベンジ
ル基を除去することにより下記式（３）で表されるアル
コールを得 【化３】 該アルコールの２級水酸基をシリル基で保護した後、１
級水酸基のシリル保護基を選択的に外し、１級水酸基を
脱離基に変換後、塩基処理することにより環化させて下
記式（４）で表される二環性化合物を得 【化４】 （Ｒ2 はシリル保護基を表す） 該二環性化合物の二重結合を酸化して下記式（５）で表
されるｃｉｓ−ジオールを得 【化５】 該ｃｉｓ−ジオールのジオール基を保護し、塩基で処理
してオキサゾリジノン環を開環した後、ジオール基の脱
保護処理することを特徴とする下記式（６）で表される
デオキシマンノジリマイシンの製造法。 【化６】 - 【請求項２】 式（１）で表される化合物が光学活性で
あり、製造される式（６）で表されるデオキシマンノジ
リマイシンが光学活性であることを特徴とする請求項１
に記載のデオキシマンノジリマイシンの製造法。 - 【請求項３】 式（２）で表されるケトンの還元剤が、
ジイソブチルアルミニウム２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−メチルフェノキシドであることを特徴とする請
求項１又は２に記載のデオキシマンノジリマイシンの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04338198A JP3317233B2 (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | デオキシマンノジリマイシンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04338198A JP3317233B2 (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | デオキシマンノジリマイシンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246524A JPH11246524A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3317233B2 true JP3317233B2 (ja) | 2002-08-26 |
Family
ID=12662249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04338198A Expired - Fee Related JP3317233B2 (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | デオキシマンノジリマイシンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3317233B2 (ja) |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP04338198A patent/JP3317233B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｂｉｏｏｒｇｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．５，Ｎｏ．３，ｐ．５１９−５３３，１９９７ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11246524A (ja) | 1999-09-14 |
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