JPS6046787B2 - 拡散炉温度分布制御方法 - Google Patents

拡散炉温度分布制御方法

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JPS6046787B2
JPS6046787B2 JP14175378A JP14175378A JPS6046787B2 JP S6046787 B2 JPS6046787 B2 JP S6046787B2 JP 14175378 A JP14175378 A JP 14175378A JP 14175378 A JP14175378 A JP 14175378A JP S6046787 B2 JPS6046787 B2 JP S6046787B2
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temperature distribution
temperature
furnace
diffusion furnace
thermocouples
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陽一 水品
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Kokusai Electric Corp
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  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は例えば半導体ウェハーのような被処理物の処理
に使用される拡散炉の温度分布を制御する方法に関し、
特に被処理物が拡散路の均熱部内に挿入される以前にそ
の被処理物の熱容量および移動速度を検出し、それらが
均熱部に及ぼす影響を事前に予知し、均熱部の温度設定
を予め変更せしめ、以て被処理物の挿入に拘らず拡散炉
の均熱部内の温度分布を実質的に均一に維持するように
制御する方法に関するものである。
本発明者は、米国特許第4061870号において、拡
散炉反応管内に挿入されうる熱電対を設け、その熱電対
により反応管内の温度および温度分布を直接測定し、そ
の測定に基づいて拡散炉内の温度分布を補正する方法を
提案した。
そのような方法によれば、例えば処理条件を変更した場
合または定期的にチェックする場合等において、温度分
布の補正を自動的に行なうことができ作業効率上非常に
有利であることが認められている。しカルながら、その
方法では、炉内に被処理物が挿入された場合、それによ
つて炉内の温度分布が外乱を受けて不均一となり、均一
な温度分布を回復するのにある程度の時間を要するとい
う問題に遭遇した。
従つて、本発明は上記米国特許において本発明者が提案
した方法の改良に係るものてあり、本発明によれば、炉
内に被処理物が挿入されてもそれによる外乱の影響は炉
内の温度分布には及ぼされず、従つて被処理物の挿入に
拘らす、炉内には実質的に均一な温度分布が常に維持さ
れうるのである。
以下図面を参照して本発明の方法を実施しうる構成の一
例について説明しよう。
第1図は本発明の方法を適用した拡散炉の一例の要部を
示す概略断面図であり、この図においjて、1は例えば
半導体ウェハーのような被処理物(図示せず)を載置せ
しめられたボート (図示せず)が挿入される石英反応
管、2は均熱管、3はヒーターである。
このヒーター3は3つの部分H、、ル、Hoで構成され
ている。TC、、TC2、)TC。、TC。、TC5は
それぞれヒーター3の温度を測定すべく石英反応管1の
外側に設けられた熱電対である。第2図は本発明の方法
を実施するために第1図の拡散炉に関連せしめられた温
度分布制御系統の一例を示す概略配線図であり、この図
かられかるように、前記熱電対のうちTClとTC2は
、電源4からのヒーター部分H1に対する電流を制御す
るためのサイリスタSCRlを制御する自動温度制御器
ATClに関連せしめられ、TC3はヒーター部分鴇に
対する電流を制御するためのサイリスタSCR2を制御
する自動温度制御器ATC2に関連せしめられ、TC4
とTC5はヒーター部分H3に対する電流を制御するた
めのサイリスタSCR3を制御する自動温度制御器AT
C3に関連せしめられている。
さらに、この実施例においては、第1図に示されている
ように、温度検出用石英管24には、それの先端部に互
いに予め定められた間隔をおいて3個の熱電対TCl″
,TC2″,TC3″が組込まれ、さらにまたそれらの
熱電対の手前に2組の熱電対TCAおよびTCBが組込
まれており、後述するところより理解されるように、こ
れら2組の熱電対TCAおよびTCBは本発明の意図す
るところを実現する目的のために設けられたものである
点に注目すべきである。
前述した3個の熱電対TCl″,TC2″,TC3″は
、第2図に示されているように、温度分布補正回路5に
接続される。
この温度分布補正回路5は、第3図に示されているよう
に、前記3個の熱電対TCl″,TC2″,TC3″に
接続されるマルチプレクサー6と、それに接続されたA
/D変換回路7と、それに接続された比較器8と、それ
に接続された温度設定器9と、前記比較器8に接続され
たマル.チプレクサー10と、それに接続された3個の
サンプル◆アンド●ホールド回路11a,11b,11
cと、それらのサンプル◆アンド◆ホールド回路11a
,11b,11cにそれぞれ接続された3個のMV設定
器12a,12b,12cとでj構成されうる。m■設
定器12a,12b,12cは前述した自動温度制御器
ATCl,ATC2,ATC3にそれぞれ接続される。
かくして、前述の3個の熱電対TC/,TC2″,TC
3″は温度分布補正回路5を通じて自動温度制御器AT
Cl,ATC2,・ATC3に接続された形となされる
のである。この場合、自動温度制御器ATC2は単独で
ヒーター部分H2の温度を設定するようになされており
、他の制御器ATCl,ATC3は偏差型に構成されて
いて、常に偏差が零となるようにSCRl,SCR3を
それぞれ制御するようになされており、また温度分布補
正回路5は、炉内に位置づけられた熱電対TC2″の絶
対値を読みとり、それにより外部の熱電対TC2の設定
値との補正が行なわれるが、さらにこの温度分布補正回
路5は炉内の熱電対TCl″とTC2″、TC2″とT
C3″の偏差をも読み取り、この偏差が零となるように
、自動温度制御器ATClおよびATC3に補正を行な
うようになされ)ている。
上述の構成は、本発明者が既に取得している前述の米国
特許第406187皓に開示されているものに実質的に
対応するものであり、該米国特許にも述べられるように
、ボートが炉内に挿入されてか・ら所定の時間の経過後
に炉内の温度分布が安定した状態において、何らかの理
由により、その温度分布に変動が招来せしめられようと
すると、それが上述の構成によつて自動的に補正されて
炉内に所定の温度分布が維持されうるのてある。
しかしながら、冒頭において述べたように、ボートを炉
内に挿入することによる外乱に基因する炉内の温度分布
の変動を防止することは、上述の構成によつては望みえ
ない。
それがために、本発明者は、そのような要望をも満足せ
しめうるようにするためにはどうすればよいかという点
につき種々の実験考察を重ねた結果、本発明の構成に想
到し、これによつて上述のような要望に対して十分に答
えうることを確認したのである。本発明においては、ボ
ート投入時のように予め大きい外乱が予測できるような
場合に、経験的、実験的に外乱の大きさを調べ、炉内の
均熱部に与える影響を事前に予測して、その予測される
温度変化分を予め補正しておこうというものであり、そ
れがために、前述のごとく、前記3個の熱電対TCl″
,TC2″,TC3″とは別に、それらの手前位置にお
いて2組の熱電対TC9,TCBを組込んで設け、これ
らの熱電対TCA,TC8を、第2図に示されているよ
うに、設定値修正回路13を通じて温度分布補正回路5
に関連せしめるのである。
設定値修正回路13は、第3図に示されているように、
熱電対TCA,TCBにそれぞれ接続された比較器14
a,14bと、それらの比較器14a,14bにそれぞ
れ接続されたMV設定器15a,15bと、比較器14
a,14bに接続された偏差発生時間差演算器16と、
それに接続されたクロック17と、演算器16に接続さ
れた偏差増幅器18a,18bと、それらの増幅器に接
続されかつ演算器16に接続された演算器19と、それ
に接続されたマルチプレクサー20とで構成されうるも
のであり、そのマルチプレクサー20は、温度分布補正
回路5のサンプル◆アンド・ホールド回路11aa,1
1b,11cに接続される。ここで、本発明についての
理解解を深めるために、第4図に示された曲線図を参照
して、説明することにしよう。一般に拡散炉は第4図1
のような温度分布を有しているが、このような温度分布
中に、熱容量が炉に比較して無視できないボート(図示
せず)を、例えば被処理物(図示せず)と一緒に、第1
図でみて左方向より炉内に挿入すると、その炉の温度分
布は第4図■に示されているようなものとなる。これは
もちろん一時的なものであつて時間が経過すれば第4図
■において点線で示されているように回復する。この場
合のA,B点での温度変化を時間軸にプロットすると第
4図■のようになり、同図におけるΔTA,ΔTBは第
4図■におけるΔTA,ΔTBにそれぞれ対応しており
、時間Ta,tbはボート挿入速度(v=B一A/Tb
−Ta)で決まる。第4図Vにおいて、ボート(図示せ
ず)のA,B点に相当する個所はそれぞれΔTa,ΔT
bの時間だけ所望温度a℃よりはすれることがわかる。
また、回復する時間ΔTa,ΔTbも異なるため、同一
処理において温度履歴の異なる処理が行なわれる。第4
図■は、本発明に従つて炉の均熱部外に2対の熱電対を
設置した場合のXl,X2の温度分布変化を示す。
ちはボートがX1に到達したとき、T2は?に到達した
時の分布を示し、その時点の温度変化量をΔTXl,Δ
Tx2とする。第4図■はXl,X2の温度変化を時間
軸て表わしたものであり、この図を参照しながら、挿入
速度vと、ボートの均熱帯A,B点に与える温度変化量
ΔTA,ΔTBの決定に説明すると、まず挿入速度であ
るが、これは、Xl,X2点の温度において、ΔXl,
Δ式のりミッタを設けてこれを越えたときの(ボートが
通過した時点)時間差(Tx2−Txl)と、Xl,.
X2間の距離とよりv=?−x1/T.x2−Txl(
1) で与えられる。
また、上記温度変化量ΔTA,ΔTBであるが、これは
、で与えられる。
ただし、A,bは定数であり、ΔTxはΔTXlまたは
ΔTx2である。第4図■には第4図1におけるA,B
点の温度がA,Bでそれぞれ示されている。
本発明においては、第4図■において得られた温度変化
量ΔTxlまはΔTx2と挿入速度vとによつて経験的
、実験的にΔTA,ΔTBを定め(式(2)における定
数A,bを定め)、それによつて第4図■のようにA,
B点の設定温度をそれぞれ予めΔTA,ΔTBだけ上げ
ておく。すなわち、挿入速度vが決まつていれば、ボー
トの炉内均熱部に到達する時間がわかり、その時間内に
ΔTA,ΔTBだけ上げておくのである。かくして、ボ
ートが炉内の均熱部に到達した時点で、第4図■または
■かられかるように、均一な温度分布が得られ、それと
同時にΔTAを0にすれば、その均一な温度分布を保持
する制御が実現される。上述した点についての理解を前
提とし、次に第2図および第3図を参照して本発明の動
作について説明する。
炉1内に挿入されたボート(図示せず)が第1図におけ
る熱電対TCBの位置に到達たとき、その熱電対TCB
から得られる信号はE2″からE2に変化し、その変化
量はΔE2=E2″上2である。(なお、ΔE2は、温
度表示では、第4図■のΔTXlに等しい。)ボート挿
入前の温度設定は、m■設定器15bによりΔE2=0
となるように設定されている。信号E2は比較器14b
においてMV設定器15bからの信号E2″と比較され
、その差を表わす信号ΔE2が偏差発生時間差演算器1
6に入り、クロック17からのクロック信号を得て、第
4図■においてTXlで示されている時点で時間の測定
を開始する。ボートがさらに挿入されて第1図における
熱電対TCAの位置に到達すると、その熱電対TCAか
らの信号はE1″からE1に変化し、信号E1が比較器
14aにおいてMV設定器15aからの信号E1″と比
較され、それらの信号の差ΔE,が偏差発生時間差演算
器16に与えられ、その時点で時間差測定を停止し、か
くしてΔE2が得られた時点からΔE1が得らた時点ま
での時間が決定される。
この結果は、Δtとして演算器19に与えられ、予め定
められたTCA.l!.TCBとの間の距離からそれら
両熱電対間の通過速度が演算されると同時に、均熱部に
移動するまでの時間(点A,B,Cへの到達時間)が予
測されるのである。ΔEl,ΔE2はそれぞれ独立の偏
差増幅器18a,18bを通じて演算器19に導かれ、
予め実験的に得られた前記定数A,bによつてA,B,
C点への影響度が決められ、点A,B,Cにそれぞれ対
応する自動温度制御器ATCl,ATC2,ATC3へ
の補正量がマルチプレクサー20を通じて分配される。
この時の補正量は第4図■におけるΔTA,ΔTBてあ
る。この場合、各自動温度制御器ATCl,ATC2,
ATC3への補正量MVはそれぞれサンプル・アンド●
ホールド回路11a,11b,11c゛に固定されるが
、マルチプレクサー20の各サイクル毎に新しい補正量
が入力され、常に新しい補正量に設定される。また、こ
れらのサンプル●アンド◆ホールド回路11a,11b
,11cには定常状態において熱電対TCl″,TC2
″,TC3″からの補正信号がフィードバックざれてお
り、熱電対TCA,TCBにある偏差信号が入ることに
よつて再び新たな2次補正信号が加えられることになる
のである。以上の説明から理解されるように、本発明に
よれば、ボート挿入時にボートによる熱的影響を予め検
知し、それにより炉内温度を操作することでボートが所
定の均熱部内に位置したときに所定の処理温度となるよ
うに制御することができ、以て冒頭において述べた問題
点を極めて効果的に解決することができるのである。
なお、上述の実施例では均熱部の手前に2個の熱電対を
設けたが、例えば自動ポートローダーを使用する場合に
は、ポートローダーのボート挿入速度が定速に設定され
ていればその速度を知ることにより、ボート挿入による
熱的影響が生ずるまでの時間が算出されうるから、その
ような熱電対の個数は1個でよいことになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を適用した拡散炉の概略断面図
、第2図は本発明の方法を実施しうる構成の一例を示す
概略図、第3図は第2図に示された構成の要部を示すブ
ロック図、第4図1乃至■は本発明の説明に供する説明
図てある。 1・・・・・・石英反応管、2・・・・・・均熱管、3
・・・・・・ヒーター、24・・・・温度検出用石英管
、4・・・・・・電源、TCl,TC2,TC3,TC
4,TC5・・・・・・熱電対、TCl″,TC2″,
TC3″・・・・・・熱電対、TCA,TCB・・熱電
対、ATCl,ATC2,ATC3・・・・・・自動温
度制御器、SCRl,SCR2,SCR3・・・・・・
サイリスタ、5・・・・・温度分布補正回路、6・・・
・・マルチプレクサー、7・・・・・A/D変換器、8
・・・・・・比較器、9・・・・・・温度設定器、10
・・・・マルチプレクサー、11a,11b,11c・
・・・・・サンプル◆アンド●ホールド回路、12a,
12b,12c・・・・・MV設定器、13・・・・・
・設定値修正回路、14a,14b・・・・・・比較器
、15a,15b・・・・・・MV設定器、16・・・
・・・偏差発生時間差演算器、17・・・・・・クロッ
ク、18a,18b・・・・・・偏差増幅器、19・・
・・演算器、20・・・・・マルチプレクサー。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 拡散炉反応管内の温度および温度分布を直接測定し
    、該測定に基づいて前記拡散炉内の温度分布を補正する
    ようになされた拡散炉温度分布制御方法において、前記
    反応管内の矛め温度設定された均熱部の手前における予
    め定められた位置に1個または2個の熱電対を配置し、
    被処理物が前記均熱部内に挿入される以前に、前記熱電
    対により前記被処理物による前記均熱部に対する熱的影
    響を検知し、該検知に基づき前記均熱部の温度設定を変
    更せしめることを特徴とする拡散炉温度分布制御方法。
JP14175378A 1978-11-17 1978-11-17 拡散炉温度分布制御方法 Expired JPS6046787B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5944041U (ja) * 1982-09-16 1984-03-23 日本電気株式会社 拡散炉装置
JPS59175719A (ja) * 1983-03-26 1984-10-04 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の熱処理方法
JPS6063924A (ja) * 1983-09-16 1985-04-12 Ohkura Electric Co Ltd プロフアイルの自動設定方式
JPS6430215A (en) * 1987-07-27 1989-02-01 Matsushita Electronics Corp Cantilever paddle
JP2712296B2 (ja) * 1988-05-27 1998-02-10 ソニー株式会社 加熱炉の温度制御装置

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