JPS6046411B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は液晶表示素子の製造方法に関するものであ
り、表裏一対の電極基板よりなる液晶表示素子の表示パ
ターンの形成精度を改良する方法に関するもので、特に
大型の共通電極基板を用い複数の素子（液晶セル）を一
括形成する製造法に適したものである。

第１図及び第２図は従来の液晶表示素子の製造方法を
説明する図であり、複数の素子を同時に製造する場合の
例である。

第１図は一対の電極基板を加熱により電極基板相互を気
密状に接着し得る周辺シール剤を介して重合した状態を
示す要部断面図、第２図は液晶を封入した後の状態を示
す要部断面図である。図中、１は電極基板てあり、表側
表示電極２、裏側表示電極３を有する。４は所定位置に
例えば印刷等によつて形成された周辺シール材、６は電
極基板１、周辺シール材４によつて形成された空隙に充
填された液晶を示す。

破線Ａは切断位置を示し、この位置て電極基板１を切断
することにより２つの液晶表示素子７、７が得られる。
第２図は表側表示電極Ｚと裏側表示電極３にズレを生じ
た不良品の場合を示す。第３図は一例として日の字形の
表示を行うための表側表示電極２のパターンを示したも
のであり、図中Ｂａ、９ａ、１０ａ、ｌｌａ、１２ａ、
１３ａ、１４ａ、１５ａ）は各々、表示セグメントを示
している。第４図は日の字形表示を行うための裏側表示
電極３の詳細を示したものであり、図中８ｂ、９ｂ、１
０ｂ、ｌｌｂ、１２ｂ、１３ｂ、１４ｂ４１）は上記第
３図に示す表側表示セグメント８ａ〜１５ａに各々対向
して配置される裏側表示セグメントを示している。第５
図は第３図の表側表示電極２と、第４図の裏側表示電極
３を対向させ、後述する従来法により液晶表示素子を形
成し、第２図のように表・裏電極基板間に許容以上のズ
レを生じた場合における表示パターンの例を示したもの
であり、８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５
は、各々表示セグメントを示している。次に、従来技術
による液晶表示素子の表示パターンの形成方法について
説明する。

一般に、表裏一対の電極基板により形成される液晶表示
素子の表示パターンの形成は、例えば、ガラス等の透明
基体の片側表面に、Ｉｎ２ＯｘあるいはＳｎＯｘ等の透
明導電膜を、蒸着法等により形成した後、写真蝕刻法等
により所望の表裏一対の電極パターンを形成する。次い
でいずれか一方の電極基板表面の所定部全周に亘つて周
辺シール材を例えば印刷し、表裏表示電極が対向するよ
うに重合し、適当な光学系を備えた重ね合せ装置による
両電極の重ね合せが実施された後、両電極の間隙を所望
の一定の値に制御すると共に、周辺シール材を硬化させ
、内部に注入される液晶を外気と遮断し、気密保持する
ために加熱、圧着が実施されて液晶表示素子の表示パタ
ーン形成が完了するのであるが、最近では、液晶表示素
子の大型化、多機能化と共に、小型の液晶表示素子の高
能率製造法である同時多素子組立方式等の採用に伴ない
、電極基板サイズーが大型化してきており、表示パター
ンの形成精度の改良が不可否の要件となつている。以下
、第１図〜第５図により、同時２素子組立方式を例に更
に詳細に説明する。

ここで電極基板１は、例えはガラス等の透明基体の片側
表面に、Ｉｎ２ＯｘあるいはＳｎＯｘ等の透明導伝被膜
を蒸着法等により形成した後に、例えば、写真蝕刻法等
により、所望の表側表示電極２、裏側表示電極３のパタ
ーンが同一の電極基板１上に各々１個ずつ形成される。
この過程における電極基板１上の位置．精度を含めたパ
ターンニングの精度は、例えば電卓用サイズで約２０ミ
クロン程度である。次いで、電極基板１の表面に液晶の
配向処理を実施した後、一方の電極基板の表示電極２，
３の外縁全周に亘つて周辺シール材４を例えば印刷・し
、表側表示電極２の表示セグメント８ａ，９ａ，１０ａ
，１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，１５ａと、裏側表
示電極３の表示セグメント８ｂ，９ｂ，１０ｂ，１１ｂ
，１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，１５ｂが各々対向するよう
に配置し、適当な光学系を備えた重ね合せ装置により、
両表示電極２，３の重ね合せが実施される。

この重ね合せの精度は必要に応じ十分に高く、例えば通
常の電卓用のサイズでは約１０ミクロン以下の精度が可
能である。次いで、加熱加圧の条件下において、対向す
る両表示電極２，３の間隙を、所望の一定値への制御、
表示全体に亘る間隙分布の制御、周辺シール１材４の形
状の制御を成しながら周辺シール材４を固化させ、内部
に注入される液晶７を外気と遮断し、気密保持するため
の加熱圧着が実施されて液晶表示素子の表示パターンが
形成されるのであるが、この加熱圧着の過程において、
不特定な方向に通常、５０ミクロン程度のパターンズレ
が発生し、このズレの方向及び精度の正確な制御は、加
熱圧着機の加工精度の限界を始め、前述の適正間隙への
制御、表示面内の間隙分布の制御及び周辺シール材４の
形状の制御等の問題を包含し、極めて困難であり、第５
図に示したような、パターンズレにより変形した低品位
の表示パターンが多発する。

以上に説明したように、従来技術によつた液晶表示素子
の表示パターンは、主に加熱圧着の過程における不特定
方向かつ大幅なパターンズレにより、表示パターンが変
形し、低品位なものとなり、液晶表示素子の組立歩留が
極めて悪いという欠点があつた。この発明は前述のよう
な、従来の製造法の欠点を除去するためになされたもの
で、好適には電極基板の少なくとも一辺に、延長部を設
け、表、裏面電極の重ね合せの後に、上記延長部に瞬間
あるいは短時間接着材などによる、仮止めを実施した後
に、加熱圧着の操作を実施することにより、従来のもの
の欠点を除去した液晶表示素子の製造方法を提供するこ
とを目的としている。

第６図及び第７図は本発明による液晶表示素子の製造方
法を説明する図であり、図中１６は、電極基板１の延長
部、１７は、この延長部１６の両基板間にまたがつて施
された瞬間あるいは短時間接着材による仮止め部を示す
。

その他の符号は従来技術を説明した第１図〜第５図と同
様の内容を示している。以下この発明による液晶表示素
子の製造方法を、同時２素子組立方式を一実施例に、具
体的に説明する。

ここで、電極基板１は常温で硬化し得る瞬間接着剤１７
による仮止めを実施するための延長部１６を、例えば電
極基板１の両端部に有するガラス等の透明板の片側表面
にＩｎ２ＯｘあるいはＳｎＯｘ等の透明導電被膜を蒸着
法等により形成した後に、例えば写真蝕刻法等により所
望の形状の表側表示電極２裏側表示電極３のパターンニ
ングが、同一電極基板１に、各員１個づつ約２０ミクロ
ン以下の精度で形成される。

次いで、電極基板１表面に公知の従来技述による液晶の
配向処理を実施した後に、基板１の一方に表側表示電極
２、及ひ裏側表示電極３の全周に亘つて周辺シール材４
を例えば約２０〜３０ミクロンの厚さとなるように印刷
し、表側電極２の表示セグメント、８ａ，９ａ，１０ａ
，１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，１５ａと、裏側電
極３の表示セグメント、８ｂ，９ｂ，１０ｂ，１１ｂ，
１２ｂ，１３ｂ，１４ｂ，１５ｂ１が各々対向するよう
に重合し、適当な光学系を備えた重ね合せ装置により両
電極２，３の重ね合せが、約１０ミクロン以下の精度で
実施される。この後、電極基板１に設けた延長部１６に
、前述の重ね合せ精度を維持するために、短時間接着が
可能て、かつ高温下て、接着効果を有する、例えばαメ
チルシアノアクリレート系瞬時接着剤１７による仮止め
を実施した後、加熱圧着の条件下において対向する両表
示電極２，３の間隙を所望の一定値（通常、例えば数ミ
クロン〜十数ミロンである）への制御、表示面全体に亘
る間隙分布の制御；周辺シール４の形状の制御を成しな
がら、周辺シール４材を固化させ内部に注入される液晶
６を外気と遮断し、気密保持するために、加熱圧着が実
施されて、液晶表示素子の表示パターン形成が完了する
。この後内部に液晶６を注入し、封止した後、切断線Ａ
及びＢの位置で切離し同時に２個の液晶表示素子７が完
成する。本発明の方法によつた液晶表示素子の表示パタ
ーンの形成は以上のように重合後、接着剤１７によつて
、一対の電極基板１，１相互の重合面方向の移動を抑止
する過程を設けたので、従来技術で説明した加熱圧着の
過程で発生するパターンズレが皆無となり、比較的高い
精度で実施できる透明導電膜の表示電極パターンの形成
、及びこれに続く光学系を備えた重ね合せ装置による表
、裏表示電極の重ね合せ以前の過程における表示パター
ン形成が維持される結果、第８図に示したように表示パ
ターンの変形がなく、高品位なものとなり、液晶表示素
子の組立歩留が格段に向上する。

又、仮止めを実施するために設けた電極板の延長部１６
は、液晶表示素子製造過程において実施される例えは透
明導電被膜の蒸着過程、写真蝕刻法による表示パターン
形成過程、液晶の配向処理過程等を始め前記各過程の前
処理、後処理として、主に電極基板表面の清浄化を目的
に、数多く実施される各種洗浄の際の保持部として、ま
たハンドリング部として、有効に作用する結果、この延
長部１６が設置された電極基板を使用した、液晶表示素
子の製造歩留が極めて良好である。なお上記実施例ては
液晶注入後延長部１６を切断線Ｂで切断する場合につい
て説明したが、所望によりこれを残しておいても差支え
るものではない。また、液晶の注入過程は、切断線Ａて
切断前に注入するのが効果的であるが必ずしもこれに限
定されず、切断後に注入することも差支えないことは勿
論である。さらに２以上の素子を同時に形成することも
可能である。周辺シール材４はスペーサを兼ねているが
、必ずしもこのものに限定されない。さらに仮止め用の
、瞬間あるいは短時間接着材１７として、前記実施例て
はαメチルシアノアクリレート系瞬間接着材を使用し、
この接着材１７の塗布の際に周辺シール剤方向への主と
して毛細管現象による必要以上の接着材１７の侵入を回
避するために、約１０００センチボアーズにまて増粘し
て使用した結果を示すものであるが、この他αエチル、
αブチル等のシアノアクリレート系瞬間接着材、あるい
はエポキシ系等の短時間効果接着材などによつてもよく
、又粘度は約１０００センチボアーズ以上の粘度て十分
なる仮止め効果が発揮される。なお仮止めの位置は特に
限定されない。また基板１の端部に１ケ所仮止めするの
みても効果はあるが、望ましくは２ケ所以上止められる
のが有効である。この発明は以上のように、一対の電極
基板を周辺シール材を介して重合して位置合せを行い、
上記一対の基板間に液晶を収容する空間部を、周辺に延
長部を残して形成する過程と、上記延長部において接着
剤を施し基板相互の重合面方向の移動を抑止する過程を
設けたもので、位置ズレが顕著に改善され製造歩留が向
上するなどの効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、従来の液晶表示素子の製造方法を
説明する図であり、第１図は重ね合せ後の状態、第２図
は加熱圧着後の状態を示している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一対の電極基板を、加熱圧着により上記電極基板相
   互を接着し得る周辺シール材を介して重合して位置合せ
   を行い、上記一対の電極基板間に液晶を収容する空間部
   を、周辺に延長部を残して形成する過程、上記延長部に
   おいて上記一対の電極基板にまたがつて接着剤を施し、
   上記基板相互の重合面方向の移動を抑止し、しかる後上
   記周辺シール材を加熱圧着する過程を含むことを特徴と
   する液晶表示素子の製造方法。 ２ 接着剤は常温で硬化し得る瞬間もしくは短時間接着
   剤であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   液晶表示素子の製造方法。