JPS6046030B2 - プリントヘツドの製造方法 - Google Patents

プリントヘツドの製造方法

Info

Publication number
JPS6046030B2
JPS6046030B2 JP9380484A JP9380484A JPS6046030B2 JP S6046030 B2 JPS6046030 B2 JP S6046030B2 JP 9380484 A JP9380484 A JP 9380484A JP 9380484 A JP9380484 A JP 9380484A JP S6046030 B2 JPS6046030 B2 JP S6046030B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistive
layer
mesa
material layer
heater element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP9380484A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59224372A (ja
Inventor
フランク・ウラ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hewlett Packard Japan Inc
Original Assignee
Yokogawa Hewlett Packard Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Hewlett Packard Ltd filed Critical Yokogawa Hewlett Packard Ltd
Publication of JPS59224372A publication Critical patent/JPS59224372A/ja
Publication of JPS6046030B2 publication Critical patent/JPS6046030B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/33505—Constructional details
    • B41J2/3351—Electrode layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/33505—Constructional details
    • B41J2/33515—Heater layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/33505—Constructional details
    • B41J2/33525—Passivation layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/33505—Constructional details
    • B41J2/3353—Protective layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/33505—Constructional details
    • B41J2/33535—Substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/3355—Structure of thermal heads characterised by materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335—Structure of thermal heads
    • B41J2/33555—Structure of thermal heads characterised by type
    • B41J2/3357—Surface type resistors

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリンタに使用されるプリントヘッドの製造
方法に関する。
抵抗性ヒータ素子を有する薄膜熱プリントヘッドとし
ては、例えば米国特許第３６０９２９４号の明細書にも
詳述されている。
このプリントヘッドにおいて、プレーナ形の抵抗性ヒー
タ素子は熱的には伝導性て電気的には抵抗性の保護膜に
よつて覆われている。この保護膜は各ヒータ素子上に盛
上つた領域として形成されている。これらの盛上つたメ
サ状領域は、基板全体を保護する被覆のうち厚くなつて
いる部分にすぎない。前記メサ状領域に熱が集中し、そ
して該領域に接近配置された感熱性記録媒体に熱が与え
られる。しかしながら、その記録媒体は高い熱伝導性を
もつものが選択されるので、抵抗性ヒータ素子によつて
発生されそして前記記録媒体の表面へ伝導される熱の一
部は前記被覆のより薄い部分に伝達され、浪費されてし
まう。従つてこのシステムの熱効率は必然的に低くなる
。 本発明においてはガラスグレーズ層て形成されるメ
サ状領域上に抵抗性素子が形成される。
このメサ状領域は感熱性記録媒体に極めて接近して熱源
自体を配置せしめ、保護膜を介して消失される熱を減じ
ている。そのため本発明の熱効率は極めてよくなる。イ
オンの移動に対する障壁については米国特許第３５９８
９５６号に紹介されている。
このイオンの移動を防止する障壁は、導電性シールドよ
り成り、これはイオンが抵抗性ヒータ素子に侵入するの
を阻止し、ヒータ素子の寿命が短かくなるのを防止して
いる。このイオンの移動を防止するための障壁はガラス
層によつて、抵抗性ヒータ素子および感熱性記録媒体か
ら隔離されており、そして電気的にバイアスされるか又
は接地されるときに最も効果的てある。本発明によるイ
オンの移動を防止するための障壁は電気的にバイアス又
は接地しなくても機能し、そして該障壁と抵抗性ヒータ
素子との間にガラスの分離層を必要としない。
更に、本発明による障壁は抵抗性ヒータ素子と摩滅防止
層との接着性を高める。上述の障壁は、抵抗性ヒータ素
子の抵抗値を調整するために行う熱処理工程の期間中に
形成される。
熱処理の温度および時間を制御することにより、抵抗値
はヒータ素子が使用される電子回路に適合する抵抗値に
まで増加される。薄膜技術を使用すると、他のプロセス
を使用する場合よりも、抵抗材料を均一に沈積形成でき
るので、外部のトリミング抵抗器は不必要である。熱処
理は全てのヒータ素子の抵抗値に均一に影響を及ぼすの
で、該ヒータ素子の抵抗値を電子回路に適合するように
増大方向に調整が可能である。第１図は、本発明によリ
プリントヘッドを製造するために使用されるガラスグレ
ーズ層をもつ基板の断面図であり、製造の初期段階のも
のを示し．ている。
ガラスグレーズ層は各ヒータ素子に対し形成されたメサ
状領域を有する。図において、基板１０は高温ガラスグ
レーズ層１２の厚い層で被覆される。そして前記ガラス
グレーズ層１２は、フォトレジストで被覆され、焼付け
、露光および！現像が行なわれる。その結果、メサ状領
域を作ることを望む場所にフォトレジストのパターンが
残される。そして露出されたグレーズ層が、メサ状領域
１４より薄い厚さの層に弗化水素酸てエッチングされる
。ここで基板１０は、例えば９４％〜９９４％酸化アル
ミニウム又はその同等物である。第１図に示すようにメ
サ状領域が各抵抗性ヒータ素子に対して形成された後、
抵抗性材料の被覆が蒸着あるいはスパッタリングのよう
な薄膜技術により全体のガラスグレーズ層上に形成され
る。その後、同様な薄膜技術により、導電性材料の層が
その同じ領域上に形成される。本発明の実施例において
前記抵抗性材料は窒化タンタルあるいはタンタルとアル
ミニウムの合金のいずれかであるか又はその同等物であ
る。そして前記導電性材料は金あるいはアルミニウムの
いずれかであるか又はその同等品である。第２図は、第
１図に示した基板に抵抗性材料おノよび導電性材料の層
を形成した構造体の断面図であり、製造の途中のものを
示している。
図において抵抗性材料２０はメサ状領域１４を覆つて形
成される。ヒータ素子への給電のための導電体のパター
ンを形成するために、導電性材料２２上にフ・オトレジ
ストを印加し、焼付け、露光そして現像する。その後導
電性材料２２が化学的にエッチングされ、各抵抗性ヒー
タ素子へのそれぞれの導電体が形成される。導電体相互
間の部分の抵抗性材料２０は除去されねばならないので
、その部分の゛材料は適当なエッチング処理あるいはそ
れと同様な処理を施すことによつて除去される。しかる
後、フォトレジストが再び全体の領域上に、メサ状領域
１４上に抵抗性ヒータ素子を形成する場所を除いて形成
される。これにより抵抗性ヒータ素子の部分が画定され
る。焼付け、露光そして現像した後、導電性材料２２は
メサ状領域１４を覆つている抵抗性材料２０の頂部から
エッチング除去される。ヒータ素子上に摩滅防止層を形
成する前に、基板全体が熱処理される。
第３図は、横軸に時間（分）、縦軸に抵抗値変化率（％
）をとり、温度をパラメータとした窒化タンタルの時間
一抵抗値変化率の特性を示す図である。
同図に示すように、熱処理の温度および時間を制御する
ことにより、各抵抗性ヒータ素子の抵抗値変化の量が制
御される。抵抗値変化は基板上の全ての抵抗性ヒータ素
子にとつて基本的に一定であるので、この熱処理により
、それが使用される特定の電子回路に適合するようにヒ
ータ素子の抵抗値をそれが増大する方向に調整できる。
熱処理期間中に、保護酸化物層が各々の抵抗性ヒータ素
子上に形成される。この保護酸化物層は、感熱性記録媒
体のような一般に知られているイオン源からのイオンの
移動に対する障壁として機能する。ヒータ素子まで移動
しそしてそれに侵入するイオンはこれらヒータ素子を汚
染する。その結果素子の信頼性を低下せしせ且つ寿命を
縮めることとなる。更にこの保護酸化物層により、熱処
理後各ヒータ素子への摩滅防止層のよりよい接着度が得
られる。第４図は、保護酸化物層および摩滅防止層を具
備する本発明により製造されたプリントヘッドの断面図
である。
図において、摩滅防止層３０が各ヒータ素子の上部に形
成される。摩滅防止層の材料は、酸化アルミニウムのよ
うな摩耗に強い熱伝導材料である。よつて、ガラスグレ
ーズ層上に形成され、イオン移動に対する障壁を形成し
、且つ摩滅防止層によつて保護された抵抗性ヒータ素子
が構成される。そしてこの抵抗性ヒータ素子により感熱
性記録媒体上に効果的な印字が実現できる。抵抗性ヒー
タ素子のプリントを行う部分は第４図に示す領域３４で
ある。保護酸化物層３２を用いることにより、イオンが
生ずる環境下において、信頼性が約６倍向上する。例え
ば実験による−と、約９０００７Ｔ１．以上の紙を印字
したとき、保護酸化物層３２がない場合は該保護酸化物
がある場合に比べて６倍ものヒータ素子の動作ミスがみ
られた。第５図は、本発明の一実施例によつて構成され
．た複数のヒータ素子を有するプリントヘッドの平面図
である。
図において、薄膜熱プリントヘッド４０は、例えば７個
の抵抗性ヒータ素子４１、共通導電体４２および各別の
導電体４４を具備している。各抵抗性ヒータ素子４１お
よびそれに関連した導電体４４は上記に説明したように
形成される。プリントヘッド４０は、本出願人の出願に
よる特開昭５１年第５９６４１号の明細書にも詳述され
ているプリンタにおける５×７マトリクスのアルフアニ
ユーメリツクキヤラクタを印字するためのプリンタヘッ
ドとして使用されうる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明によリプリントヘッドを製造するために
使用されるガラスグレーズ層をもつ基板の断面図、第２
図は第１図に示した基板に抵抗性材料および導電性材料
の層を形成した構造体の断面図、第３図は温度をパラメ
ータとした窒化タンタルの時間一抵抗値変化の関係を示
した特性線図、第４図は本発明により製造されたプリン
トヘッドの断面図、第５図は本発明により製造されたプ
リントヘッドの平面図である。 １０：基板、１２：ガラスグレーズ層、１４：メサ状領
域、２０：抵抗性材料、２２：導電体、３０：摩滅防止
層、３２：保護酸化物層、４０：熱プリントヘッド、４
１：ヒータ素子、４２：共通導電体、４４：導電体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ アルミニウム酸化物基板上に、メサ状領域を部分的
    に有するガラスグレーズ層を形成し、次に抵抗性ヒータ
    素子を形成するために少なくとも前記メサ状領域上に抵
    抗性材料層を形成し、次に前記抵抗性材料層上に導電性
    材料層を形成すると共に該導電性材料層のうち前記メサ
    状領域を覆つている前記抵抗性材料層部分に対応する部
    分を除去し、次に前記抵抗性材料層を熱処理することに
    より、前記抵抗性材料層のうち前記メサ状領域上に存在
    する部分に抵抗性保護酸化物層を形成し、次に少なくと
    も前記抵抗性保護酸化物層を覆つて摩滅防止層を形成し
    、前記抵抗性材料層の熱処理温度および時間を制御して
    前記抵抗性材料層の抵抗値を所望抵抗値に設定するよう
    にすると共に、前記熱処理中に前記抵抗性保護酸化物層
    を同時形成するようにしたことを特徴とするプリントヘ
    ッドの製造方法。
JP9380484A 1974-11-15 1984-05-10 プリントヘツドの製造方法 Expired JPS6046030B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US52410874A 1974-11-15 1974-11-15
US524108 1974-11-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59224372A JPS59224372A (ja) 1984-12-17
JPS6046030B2 true JPS6046030B2 (ja) 1985-10-14

Family

ID=24087792

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13268675A Expired JPS5523550B2 (ja) 1974-11-15 1975-11-04
JP9380484A Expired JPS6046030B2 (ja) 1974-11-15 1984-05-10 プリントヘツドの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13268675A Expired JPS5523550B2 (ja) 1974-11-15 1975-11-04

Country Status (8)

Country Link
JP (2) JPS5523550B2 (ja)
CA (1) CA1059208A (ja)
DE (1) DE2537142C3 (ja)
FR (1) FR2291032A1 (ja)
GB (1) GB1503969A (ja)
HK (1) HK26979A (ja)
IT (1) IT1052295B (ja)
NL (1) NL162014C (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5486354A (en) * 1977-12-21 1979-07-09 Toyo Dengu Seisakushiyo Kk Thermal printing head
US4206541A (en) * 1978-06-26 1980-06-10 Extel Corporation Method of manufacturing thin film thermal print heads
CA1109927A (en) * 1978-06-26 1981-09-29 Edmund T. Marciniec Manufacture of thin film thermal print head
US4296421A (en) * 1978-10-26 1981-10-20 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording device using thermal propulsion and mechanical pressure changes
US4242565A (en) * 1979-06-05 1980-12-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal print head
JPS564481A (en) * 1979-06-22 1981-01-17 Tdk Corp Thermal pen tip and preparation thereof
JPS5642667A (en) * 1979-09-17 1981-04-20 Nec Corp Thermal head and production thereof
JPS5676589A (en) * 1979-11-28 1981-06-24 Tokyo Shibaura Electric Co Wiring pattern
JPS56123878A (en) * 1980-03-05 1981-09-29 Hitachi Ltd Thermosensitive recording head
JPS56124362A (en) * 1980-03-05 1981-09-30 Hiromu Tezuka Enriched sweetening agent
JPS56159176A (en) * 1980-05-12 1981-12-08 Rohm Co Ltd Thermal printing head
JPS59104963A (ja) * 1982-12-07 1984-06-18 Seiko Instr & Electronics Ltd サ−マルヘツドの製造方法
JPS59120473A (ja) * 1982-12-28 1984-07-12 Rohm Co Ltd サ−マルプリンタヘツド
DE3300104C1 (de) * 1983-01-04 1983-12-15 F & O Electronic Systems GmbH & Co, 6901 Neckarsteinach Thermodruckplatine fuer eine Thermodruckvorrichtung
DE3347682C1 (de) * 1983-01-04 1985-08-22 F & O Electronic Systems GmbH & Co, 6901 Neckarsteinach Thermodruckplatine für eine Thermodruckvorrichtung
FR2550132A1 (fr) * 1983-08-04 1985-02-08 Dal Dan Felice Perfectionnements aux imprimantes thermiques
JPH062416B2 (ja) * 1984-01-30 1994-01-12 キヤノン株式会社 液体噴射記録ヘッドの製造方法
JPS61255001A (ja) * 1985-05-07 1986-11-12 富士ゼロックス株式会社 サ−マルヘツド
DE3804818C2 (de) * 1988-02-12 1996-10-02 Eastman Kodak Co Thermodruckvorrichtung
CN102029777A (zh) * 2010-09-26 2011-04-27 深圳市兴丽通科技有限公司 适用于曲面包装容器的多功能彩色烫印机
CN107901613A (zh) * 2017-11-27 2018-04-13 山东华菱电子股份有限公司 一种新型热敏打印头用发热基板及其制造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3495070A (en) * 1967-05-29 1970-02-10 Murray H Zissen Thermal printing apparatus
BR6802016D0 (pt) * 1967-10-02 1973-01-11 Ncr Cabeca de impressao termica com elementos de impressao de pelicula fina
US3598956A (en) * 1969-08-11 1971-08-10 Ncr Co Ion migration barrier
US3609294A (en) * 1969-10-10 1971-09-28 Ncr Co Thermal printing head with thin film printing elements
US3726212A (en) * 1970-09-21 1973-04-10 Ncr Method and apparatus for printing coded media
JPS4842983A (ja) * 1971-10-08 1973-06-21
JPS545690B2 (ja) * 1972-03-06 1979-03-20
JPS5737467B2 (ja) * 1973-02-05 1982-08-10
JPS5012742U (ja) * 1973-05-29 1975-02-10
JPS5151339A (ja) * 1974-10-31 1976-05-06 Tokyo Shibaura Electric Co

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5523550B2 (ja) 1980-06-24
DE2537142B2 (de) 1978-08-17
GB1503969A (en) 1978-03-15
HK26979A (en) 1979-05-04
NL7510038A (nl) 1976-05-18
NL162014B (nl) 1979-11-15
NL162014C (nl) 1980-04-15
JPS59224372A (ja) 1984-12-17
DE2537142C3 (de) 1983-12-08
JPS5169639A (ja) 1976-06-16
IT1052295B (it) 1981-06-20
CA1059208A (en) 1979-07-24
FR2291032A1 (fr) 1976-06-11
DE2537142A1 (de) 1976-05-26
FR2291032B1 (ja) 1981-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3973106A (en) Thin film thermal print head
JPS6046030B2 (ja) プリントヘツドの製造方法
JP2960065B2 (ja) インクジェット・プリントヘッド
US5594488A (en) Thermal head
JP3825047B2 (ja) サーマルヘッドにおける共通電極パターンに対する補助電極層の形成方法
JP3172623B2 (ja) サーマルヘッド
JP3645741B2 (ja) サーマルヘッドの製造方法
JPH07112740B2 (ja) サーマルヘッド
JP3231951B2 (ja) サーマルヘッドおよびその製造方法
JP2550327B2 (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPH04249164A (ja) サーマルヘッドの製造方法
JP4164064B2 (ja) サーマルヘッドの製造方法
JP2705080B2 (ja) サーマル記録ヘッドの製造方法
JP3237198B2 (ja) 薄膜サーマルヘッド
JP2518186B2 (ja) サ―マル印字ヘッド
JPH0725174B2 (ja) 厚膜型サ−マルヘツドの製造方法
JPH0418371A (ja) サーマルヘッドおよびその製造方法
JPH021338A (ja) サーマルヘッド
JPH0577466A (ja) サーマルヘツドの製造方法
JPH035164A (ja) サーマルヘッド
JP2533088B2 (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPH0649376B2 (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPH0466706B2 (ja)
JPH03143642A (ja) サーマルヘッドの製造方法
JPH0569572A (ja) サーマルヘツドの製造方法