JPS6045865B2 - ニンヒドリンの製造法 - Google Patents

ニンヒドリンの製造法

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JPS6045865B2
JPS6045865B2 JP16660680A JP16660680A JPS6045865B2 JP S6045865 B2 JPS6045865 B2 JP S6045865B2 JP 16660680 A JP16660680 A JP 16660680A JP 16660680 A JP16660680 A JP 16660680A JP S6045865 B2 JPS6045865 B2 JP S6045865B2
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JP
Japan
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reaction
ninhydrin
hmid
inert gas
cmid
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JP16660680A
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JPS5791947A (en
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彰 除村
弘之 菅沼
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Kawasaki Kasei Chemicals Ltd
Original Assignee
Kawasaki Kasei Chemicals Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はニンヒドリンの製造法に関する。
さらに詳しくは2−クロルー2−メチルメルカプトイン
ダンジオンー1、3(以下、CMIDと略す)又は2−
ヒドロキシー2−メチルメルカプトインダンジオンー1
、3(以下HMIDと略す)からニンヒドリンを製造す
る方法に関する。ニンヒドリンは、アミノ酸検出のため
の判定試薬として広く用いられている。
その製造法として*゜■■・(■■゛゜Ho■■・(C
MID)(I)(HMID 本発明者等がCMIDを加水分解する際にその生成物を
反応時間毎に分析したところ、(I)の反*は各種の方
法が知られているが、CMID又はHMIDを沸騰水中
で加水分解する方法がある〔H。
D、BECKER等、J、O、C、第28巻1896頁
(1963年)及び東ドイツ特許第790■号(197
ハ〕。しかしながら、これらの方法は、原料濃度を薄く
し、しかもなお反応が完結し難い欠点がある。本発明者
らは、上記欠点を克服するために鋭意検討した結果、加
水分解反応において生成するメチルメルカプタンが反応
系内から容易に除去されないことが反応が容易に完結し
ない原因であると考え、反応系内に不活性ガスを吹き込
み、メチルメルカプタンを除去しようと試みたところ反
応速度が約2倍に上昇し、未反応物が速やかに消失する
ことを見出し本発明を完成した。
本発明は、CMID又はHMIDを加水分解してニンヒ
ドリンを製造する方法において、反応系内に不活性ガス
を導入し、生成するメチルメルカプタンを反応系外に放
散しながら上記加水分解反応を行うことを特徴とするニ
ンヒドリンの製造法に存する。
本発明の反応は、次の反応式に従つて進行すると考えら
れる。
■■”゜基を0■■・(11 (■) (ニンヒドリン) 応は極めて速く約10分位で進行するがHMIDからニ
ンヒドリンが生成する(■)の反応が極めて遅いことが
わかつた。
その原因の1つはメチルメルカプタンが反応系内に残留
することにある。一方、本発明の出発原料としては、上
式のとおりCMID又はHMIDのいずれでも用いられ
る。CMIDは、フタル酸ジアルキルエステル、例えば
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、をナトリウムアルコラートなどのアルコラートの存
在下、ジメチルスルホオキシドと反応させ、次いで反応
混合物を塩酸と反応させる公知の方法で容易に合成でき
る。HMIDはCMIDを加水分解する公知の方法(特
公昭42−21347)で合成できる。本発明における
加水分解反応の際の反応条件としては、一般的にCMI
D又はHMIDの水性濃度は0.4モル/e以下、好ま
しくは0.1〜0.2モル/e、反応温度は70〜11
0℃、好ましくは沸点、反応時間は1〜■時間好ましく
は3〜6時間である。
本発明において、CMD又はHMIDの加水分解により
生成するメチルメルカプタンを系外へ早急に放散する必
要があるが、その方法としては不活性ガスを反応系内に
導入する方法が好適である。不活性ガスとしては過熱水
蒸気、空気又は窒素が安価でよいが、一般的には窒素が
用いられる。不活性ガスの使用量は、反応液1e当り5
0〜2000mt/分導入する。本発明の方法は、一般
的に次の様に実施する。
即ち、沸騰している所定量の水の中に、CMID又はH
MIDの所定量を粉体のまま又は適当な不活性の溶媒例
えばクロロホルム、ブタノール等の溶液状で徐々に滴下
し、溶媒がある場合には留去し、不活性ガスを液中に分
散させながら導入して所定時間還流し反応する。反応終
了後、不活性ガス導入を停止して反応液を濃縮し、約1
5〜20%位になつたら活性炭を加えて70〜80℃で
約3吟〜1時間攪拌後、65〜70′Cで熱p過する。
得られたニンヒドリンの水溶液は濃縮乾固してもよい。
又、該水溶液を冷却し晶出するニンヒドリンを戸別し、
さらに再結晶を行ない精製品を得ることもできる。淵液
は循環使用することができる。次に、実施例によつて詳
細に説明する。
実施例1 攪拌機、滴下ロード、窒素導入管、還流冷却器及び温度
計を備えたフラスコに水750m1を入れ沸騰させ、そ
こにCMID34.2g(0.151モル)を含むクロ
ロホルム溶液188yを攪拌下15分間で滴下した。
留出してくるクロロホルム約100m1を分離した後、
窒素ガスを300〜400m1/分で球状グラスフィル
ターを通して導入しながら、4時間還流し反応した。反
応後、窒素ガスの導入を停止して、得られた水溶液に活
性炭0.5yを加え、70〜80℃で3紛攪拌した後、
65〜70℃で熱p過した。戸液を室温まで冷却し、晶
出した結晶をろ過し、水洗後、乾燥して19.7y(収
率、73.3モル%)のニンヒドリンを得た。このもの
の純度は高速液体クロマトグラフィーにより分析した結
果98%以上であつた。母液中に存在するニンヒドリン
は、母液を高速液体クロマトグラフィーにより分析した
結果4.52V(収率として16.8モル%)であつた
。従つてニンヒドリンの総合収率は90.1モル%であ
つた。なお、熱p過不溶分は2.1qであつた。実施例
2実施例1と同様な200mtの反応器に、水100m
tを入れ沸騰させ、そこに攪拌下HM[)を水に対して
0.1モル/eの濃度になるように加え、90′C又は
100℃で、窒素ガスを150m1/分の供給量で導入
しノながらHMIDを加水分解し、反応時間毎のHMI
D消失量及びニンヒドリン生成量を測定した。その結果
は第1表に示した。比較例1 窒素ガスを導入しなかつたことを除いて、実施門例2と
同様に実施し、その結果を第1表に実施例2とともに併
記した。
実施例3 HMIDの濃度を水に対して0.2モル/′とし、反応
温度を100℃とした以外は実施例2と同様な方法で実
施し、その結果を第2表に示した。
比較例2窒素ガスを導入しなかつたことを除いて、実施
例3と同様に実施し、その結果を第2表に実施例3とと
もに併記した。
以上、第1表及び第2表に示したように、窒素ガスを導
入した実施例2及び実施例3の場合は、窒素ガスを導入
しない比較例1及び2の場合に比べて約2倍以上の反応
速度を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 2−クロル−2−メチルメルカプトインダンジオン
    −1,3又は2−ヒドロキシ−2−メチルメルカプトイ
    ンダンジオン−1,3を加水分解してニンヒドリンを製
    造する方法において、反応系内に不活性ガスを導入し、
    生成するメチルメルカプタンを反応系外に放散しながら
    上記加水分解反応を行うことを特徴とするニンヒドリン
    の製造法。 2 不活性ガスが窒素である特許請求の範囲第1項記載
    の方法。 3 加水分解を70〜110℃で行うことからなる特許
    請求の範囲第1項記載の方法。
JP16660680A 1980-11-28 1980-11-28 ニンヒドリンの製造法 Expired JPS6045865B2 (ja)

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JPS5791947A JPS5791947A (en) 1982-06-08
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