JPS6043409B2 - 流動層式の加熱炉 - Google Patents

流動層式の加熱炉

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JPS6043409B2
JPS6043409B2 JP3656081A JP3656081A JPS6043409B2 JP S6043409 B2 JPS6043409 B2 JP S6043409B2 JP 3656081 A JP3656081 A JP 3656081A JP 3656081 A JP3656081 A JP 3656081A JP S6043409 B2 JPS6043409 B2 JP S6043409B2
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JP
Japan
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furnace
gas
heating furnace
heating
fluidized bed
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Expired
Application number
JP3656081A
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English (en)
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JPS57152417A (en
Inventor
達 福田
寿 服部
英孝 浦野
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Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/34Methods of heating
    • C21D1/53Heating in fluidised beds

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光輝廃人加熱に使用する流動層式加。
熱炉で、特に炉気の循環による省資源性と炉気廃熱を焼
戻に利用し、かつ冷却を兼ねることにより省エネルギー
性を得ることを可能にした構造に関するものである。
流動層を用いた加熱炉には、流動粒子に直接バーーナか
らの加熱空気を吹込むサブマージバーナや、ファイヤボ
ールの直接輻射による直接加熱方式と、ラジアントチユ
ーブや外部加熱による間接加熱方式の2方式がある。
光輝加熱を目的とした場合は、炉気の炭素ポテンシャ
ルを制御することから間接加熱方式が必要となる。 間
接加熱方式を採用している流動層式加熱炉は実施されて
いるが、炉気を回収している例はない。
流動層を光輝加熱に使用する場合、流動化ガス(雰囲
気ガス)を常時流すことが必要であり、この流量は、一
般の雰囲気加熱炉に比較して数倍(2〜6倍)必要とな
る。
このため、加熱エネルギの半減によるコストダウンも雰
囲気加熱の場合は充分原価低減効果が得られない。 廃
熱回収を目的として焼入加熱炉の廃ガスを焼戻炉に流し
ている例はあるが、いずれもその後大気中に座部してい
るから炉気の消費量が非常に多いことには変わりがない
。また炉気を直接還流する場合は、流動分散板の耐久性
向上および流動化をするためのブースタの容量を3〜4
倍に引上げる必要があり、部品性能および設備コストの
大幅上昇は避けられない。 本発明は上記従来の流動層
式の加熱炉の問題点を解決するためになされたもので、
光輝加熱に使用する流動層式の加熱炉の熱量を焼戻炉の
熱源として有効に利用できると共に、炉内雰囲気ガスの
消費量を最少にでき、さらに加熱炉内のガス量およびガ
ス成分を常に良好に保持することができるようにした流
動層式の加熱炉を提供しようとするものである。
以下その構成を図面に示した実施例に基づいて説明する
図中1は加熱炉、2は低温の焼戻炉であり、それぞれは
分散板3,4にて前室1a,2aと後室1b,2bとに
仕切られており、それぞれの後室1b,2bにアルミナ
粒子等の流動粒子5が充填してある。
加熱炉1の前室1aにプロア6の出口側が接続してあり
、また後室1bに排出管7が接続してある。そしてこの
排出管7は焼戻炉2の後室2bの流動粒子5を貫通し、
上記プロア6の入口側に接続してある。8は加熱炉1を
約850℃に加熱するための熱源であるラジアントチユ
ーブで、これはガスバーナに接続してある。
加熱炉1内の温度制御は炉内に設けた熱電対((図示せ
ず)により上記ラジアントチユーブ8の熱量を調整する
ことにより行なわれるようになつている。まやた加熱炉
1は、被加熱物を装入および搬出する際にはN2ガスを
充満した予備室(図示せず)を使用するが、加熱炉1に
N2ガスを充満する。そして加熱時にはプロア6により
前室1aは所定圧力(例えば0.1at)のN2ガスを
ベースにした不活性ガスの雰囲気となつており、後室1
bも分散板を通して流れる無酸素化雰囲気となつている
。9はこの炉内雰囲気ガス圧力を測定する圧力センサ、
10は炉内雰囲気ガスのCOおよびCO2成分量(%)
を測定分析するガス成分検出器である。
上記プロア6によるる炉内循環系はシール性が確保され
ており、プロア6はノンリークのブースタ型が用いられ
、また流動化状態を確保するために、循環炉気温度を温
度センサ11にて検知し、その結果に基づいて演算器1
2により風量が調整されるようになつている。また炉気
の自然リーク等による絶対量の減少に関しては、上記圧
力センサ9、演算器13によリプロア6の回転数を制御
し、かつN2供給管14のバルブ15を制御してN2ベ
ースの炉気圧力が制御されるようにしてある。炉気制御
系は、ガス成分検出器10てN2ベースの炉気のCO%
、CO2%または02%を分析しててCO2/CO比を
一定にすべく演算器16によりエンリツチガス(CI(
4,C3H8等)を供給するエンリツチ供給管17のバ
ルブ18を制御して被加熱物の酸化、脱炭を防止し、適
正な炉気カーボンポテンシャルが確保できるようになつ
ている。
焼戻炉2はこれの流動粒子5を貫通する加熱炉1の排出
管7にて約180℃に加熱される。このときの温度は温
度センサ19にて検出され、温度が所定温度より高い場
合には、コントローラ20にて空気バルブ21を開とし
て流動粒子5内に設けた温度調整管22にエアを供給し
て炉内温度を調整するようにしてある。また排出管7か
らの熱の供給が不足する場合および加熱炉1の停止後の
処理を可能にするために、焼戻炉2にはラジアントチユ
ーブの廃熱等を利用した補助ヒータを設けることが望ま
しい。6aはプロアである。
なお上記実施例にては、加熱炉1よりの排出管7を焼戻
炉2内に通して、排出管7にて焼戻炉2を直接加熱する
ようにした例を示したが、第2図に示すように、熱交換
器23を用い、加熱炉1よりの炉気循環管24よりの熱
を熱交換器23にて焼戻炉2の加熱管25を加熱するよ
うにしてもよい。
本発明は上記のようになり、分散板3にて前室1aとと
後室1bとに仕切り、後室1bに流動粒子5を充填する
と共に熱源を配置し、上記前室1aより炉内雰囲気ガス
を供給するようにした光輝焼入加熱炉に使用する流動層
式の加熱炉において、上記炉内雰囲気ガスの供給側と排
出側とをプロア6を介して接続して循環可能にし、この
循環回路の排出側を焼戻炉2の熱源に用い、また上記加
熱炉1に、炉内雰囲囲気ガスの温度、圧力およびCO,
CO2または02を検出する温度センサ11、圧力セン
サ9およびガス成分検出器10を設け、また炉内雰囲気
ガスの供給側に、上記圧力センサ9による検出値により
供給側のガ又供給量を制御するようにしたガス量制御機
構と、ガス成分検出器10による検出値により炉内の炭
素ポテンシャルを調整するようにしたガス成分制御機能
とを設けて流動層式の加熱炉を構成したから、光輝加熱
に使用する流動層式の加熱炉1の熱量を焼戻炉の熱源と
して有効に利用することやができると共に、炉内雰囲気
ガスの消費量を最少にでき、さらに加熱炉1内のガス量
およびガス成分を常に良好に保持することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す構成説明図、第2図は他
の実施例を示す説明図である。 1は加熱炉、1aは前室、1bは後室、2は焼戻炉、5
は流動粒子、6はプロア、、9は圧力センサ、10はガ
ス成分検出器、11は温度センサ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 分散板3にて前室1aと後室1bとに仕切り、後室
    1bに流動粒子5を充填すると共に熱源を配置し、上記
    前室1aより炉内雰囲気ガスを供給すようにした光輝焼
    入加熱炉に使用する流動層式の加熱炉において、上記炉
    内雰囲気ガスの供給側と排出側とをブロア6を介して接
    続して循環可能にし、その循環回路の排出側を焼戻炉2
    の熱源に用い、また上記加熱炉1に、炉内雰囲気ガスの
    温度、圧力およびCO、CO_2またはO_2を検出す
    る温度センサ11、圧力センサ9およびガス成分検出器
    10を設け、また炉内雰囲気ガスの供給側に、上記圧力
    センサ9による検出値により供給側のガス供給量を制御
    するようにしたガス量制御機構と、ガス成分検出器10
    によ検出値により炉内の炭素ポテンシャルを調整するよ
    うにしたガス成分制御機能を設けたことを特徴とする流
    動層式加熱炉。
JP3656081A 1981-03-16 1981-03-16 流動層式の加熱炉 Expired JPS6043409B2 (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06510505A (ja) * 1991-11-12 1994-11-24 ハウスタイン ノーマン イー 車両の駆動輪懸架装置

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JPS59182912A (ja) * 1983-03-31 1984-10-17 Komatsu Ltd 流動層加熱炉
JPS60139410A (ja) * 1983-12-27 1985-07-24 Honda Motor Co Ltd 樹脂成形用金型の加熱方法及び装置
US4730811A (en) * 1985-08-20 1988-03-15 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Heat treatment apparatus with a fluidized-bed furnace

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