JPS6041602A - 土壌病害防除剤 - Google Patents
土壌病害防除剤Info
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- JPS6041602A JPS6041602A JP15085383A JP15085383A JPS6041602A JP S6041602 A JPS6041602 A JP S6041602A JP 15085383 A JP15085383 A JP 15085383A JP 15085383 A JP15085383 A JP 15085383A JP S6041602 A JPS6041602 A JP S6041602A
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- group
- compound
- soil
- aryl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式〔l〕
〔式中、R1およびR2は同一または相異なり、水素原
子、ヒドロキシル基、低級シクロアルキル基、低級シク
ロアルケニル基、低級アルキニル基、テトラヒドロフル
フリル基、ピペリジル基またはアリール基を表わすか、
またはハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、低級
アルコキシル基、低級シクロアルキル基、アリール基、
カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基あるいはジアルキルアミノ基で置換されていてもよ
い低級アルキル基を表わすか、またはハロゲン原子ある
いはアリール基で置換されていてもよい低級アルケニル
基を表わすか、またはアリール基で置換されていてもよ
い低級アルコキシル基を表わすか、またはR1とに2で
酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、が同時に水素原子
である場合を除く。nは1゜2.3または4を表わす。
子、ヒドロキシル基、低級シクロアルキル基、低級シク
ロアルケニル基、低級アルキニル基、テトラヒドロフル
フリル基、ピペリジル基またはアリール基を表わすか、
またはハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、低級
アルコキシル基、低級シクロアルキル基、アリール基、
カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基あるいはジアルキルアミノ基で置換されていてもよ
い低級アルキル基を表わすか、またはハロゲン原子ある
いはアリール基で置換されていてもよい低級アルケニル
基を表わすか、またはアリール基で置換されていてもよ
い低級アルコキシル基を表わすか、またはR1とに2で
酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、が同時に水素原子
である場合を除く。nは1゜2.3または4を表わす。
〕
で示される2−シクロアルケニルアミン系化合物を有効
成分とする土壌病害防除剤に関する。
成分とする土壌病害防除剤に関する。
本発明者らは、最も防除が困難な植物病害の一つである
土壌病害の防除剤について鋭意検討を重ねた結果、上記
一般式(1)で示される2−シクロアルケニルアミン系
化合物が多くの植物病原菌による土壌病害に対し優れた
防除効果を有することを見出し、本発明を完成した。
土壌病害の防除剤について鋭意検討を重ねた結果、上記
一般式(1)で示される2−シクロアルケニルアミン系
化合物が多くの植物病原菌による土壌病害に対し優れた
防除効果を有することを見出し、本発明を完成した。
物病原菌には、フザリウム属のトマト萎ちょう病菌(F
usarium oxysporum f、sp、l1
copersicす、ダイコン萎黄病菌(Fusari
um oxysporum f、sp+raphani
)、キュウリ蔓割病菌(Fusariumoxysp
orum f、sp、cucumerinum) 、ス
イカ蔓割病菌(Fusarium oxysporum
f、sp、nivcum)、キャベツ萎黄病菌(Fu
sarium oxysporum f+sp 。
usarium oxysporum f、sp、l1
copersicす、ダイコン萎黄病菌(Fusari
um oxysporum f、sp+raphani
)、キュウリ蔓割病菌(Fusariumoxysp
orum f、sp、cucumerinum) 、ス
イカ蔓割病菌(Fusarium oxysporum
f、sp、nivcum)、キャベツ萎黄病菌(Fu
sarium oxysporum f+sp 。
conglutinans ) 、イチゴ萎黄病菌(F
usariumoxysporum f 、sp 、f
ragariae)、コムギ紅色雪腐病菌(Fusar
ium n1vale f 、 sp +gramin
icola )、コムギ赤黴病菌(Fusarium
roseum f 、 sp 。
usariumoxysporum f 、sp 、f
ragariae)、コムギ紅色雪腐病菌(Fusar
ium n1vale f 、 sp +gramin
icola )、コムギ赤黴病菌(Fusarium
roseum f 、 sp 。
cerealis)、エントウ根腐病菌(Fusari
um 5o−1ani f、sp、pisi)、 ピシ
ウム、属のキュウリ苗立枯病菌(Pythium ap
hanidermatum)、タバコ苗立枯病ii (
Pythium debaryanum)、リゾクトニ
ア属のキュウリ苗立枯病菌・ジャガイモ黒蛇病菌・テン
サイ根腐病菌・シバ集屑病菌・タバコ腰折病菌(Rhi
zoctonia 5olani)、テンサイ立枯病菌
(Rhizoctonia candida) 、ダイ
ス炭腐病菌(Rhizoctonia batatic
ola) 、パー ティシイリューム属のナス半身萎ち
ょう病菌・ハクサイ黄化病菌(Verticilliu
m alboatrum)、ウド萎ちょう病菌(Ver
ticillium dahliae)、コルティシウ
ム属のインゲン白’IA 病菌、、 (CO丁tici
umrolfsii)、ティフラ属のコムギ雪腐菌・核
病菌・アルファルファ雪腐小粒菌核病菌(Typhul
aincarnata、 Typhula 1shik
ariensis)、プラズモディオフォーラ属のハク
サイ根瘤病菌・キャベツ根瘤病菌(Plasmodio
phora brassicae)等がある。
um 5o−1ani f、sp、pisi)、 ピシ
ウム、属のキュウリ苗立枯病菌(Pythium ap
hanidermatum)、タバコ苗立枯病ii (
Pythium debaryanum)、リゾクトニ
ア属のキュウリ苗立枯病菌・ジャガイモ黒蛇病菌・テン
サイ根腐病菌・シバ集屑病菌・タバコ腰折病菌(Rhi
zoctonia 5olani)、テンサイ立枯病菌
(Rhizoctonia candida) 、ダイ
ス炭腐病菌(Rhizoctonia batatic
ola) 、パー ティシイリューム属のナス半身萎ち
ょう病菌・ハクサイ黄化病菌(Verticilliu
m alboatrum)、ウド萎ちょう病菌(Ver
ticillium dahliae)、コルティシウ
ム属のインゲン白’IA 病菌、、 (CO丁tici
umrolfsii)、ティフラ属のコムギ雪腐菌・核
病菌・アルファルファ雪腐小粒菌核病菌(Typhul
aincarnata、 Typhula 1shik
ariensis)、プラズモディオフォーラ属のハク
サイ根瘤病菌・キャベツ根瘤病菌(Plasmodio
phora brassicae)等がある。
従って、一般式CI)で示される2−シクロアルケニル
アミン系化合物は、畑地、水田、果樹園、茶畑、桑畑、
牧草地、芝生地等の土壌病害防除剤の有効成分として用
いることができる。
アミン系化合物は、畑地、水田、果樹園、茶畑、桑畑、
牧草地、芝生地等の土壌病害防除剤の有効成分として用
いることができる。
上記一般式CI)で示される2−シクロアルケニルアミ
ン系化合物において、アリール基としては、置換基を有
していてもよいフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基
、トリアジニル基、ビフェニル基、チアゾーリル基、ペ
ンゾチアゾーリル基、トリアジニル基、ピラジニル基、
ピリミジル基、ウラシリル基、フリル基、ピリジル基ま
たはキノリル基が挙げられる。さらに具体的にはフェニ
ル基、ハロゲン原子置換フェニル基、低級アルキルフェ
ニル基、低級アルケニルフェニル基、i級ハロアルキル
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、ナフチル基、低級アルコキシフェ
ニル基、ヒドロキシフェニル基、ビフェニル基、アリー
ルオキシフェニル基、アリール置換アルコキシフェニル
基1.ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、ハロ
ビフェニル基、アリールオキシフェニル基、低級アルキ
ルチェニルx、低級アルコキシカルボニルフェニル基、
ベンゾイルフェニル基、低級アシルフェニル基、トリア
ジニル基、カルバモイルフェニル基、アリールアゾフェ
ニル基、アリールビラゾーリル基、チアゾーリル基、ペ
ンゾチアゾーリル基、ハロチアゾーリル基、ニトロチア
ゾーリル基、低級アルキルチアゾーリル基、低級ノ〜ロ
アルキルチアゾーリル基、低級アルキルベンゾチアゾー
リル基、アリールアゾフェル基、低級アルコキシベンゾ
チアゾーリル基、アリールスルホニルチアゾーリル基、
トリアジニル基、低級アルキルトリアジニル基、ピラジ
ニル基、カルボキシピラジニル基、ノ10ピリミジル基
、ビリミゾル基、低級アルキルピリミジル基、ヒドロキ
シピリミジル基、低級アルキルチオピリミジル基、ウラ
シリル基、フリル基、ハロピリジル基、低級アルキルピ
リジル基、アリール低級アルコキシピリジル基、ヒドロ
キシピリジル基、ニトロピリジル基、ピリジル基、低級
アルキルキノリル基、キノリル基、低級アルコキシキノ
リル基が挙げられる。
ン系化合物において、アリール基としては、置換基を有
していてもよいフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基
、トリアジニル基、ビフェニル基、チアゾーリル基、ペ
ンゾチアゾーリル基、トリアジニル基、ピラジニル基、
ピリミジル基、ウラシリル基、フリル基、ピリジル基ま
たはキノリル基が挙げられる。さらに具体的にはフェニ
ル基、ハロゲン原子置換フェニル基、低級アルキルフェ
ニル基、低級アルケニルフェニル基、i級ハロアルキル
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、ナフチル基、低級アルコキシフェ
ニル基、ヒドロキシフェニル基、ビフェニル基、アリー
ルオキシフェニル基、アリール置換アルコキシフェニル
基1.ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、ハロ
ビフェニル基、アリールオキシフェニル基、低級アルキ
ルチェニルx、低級アルコキシカルボニルフェニル基、
ベンゾイルフェニル基、低級アシルフェニル基、トリア
ジニル基、カルバモイルフェニル基、アリールアゾフェ
ニル基、アリールビラゾーリル基、チアゾーリル基、ペ
ンゾチアゾーリル基、ハロチアゾーリル基、ニトロチア
ゾーリル基、低級アルキルチアゾーリル基、低級ノ〜ロ
アルキルチアゾーリル基、低級アルキルベンゾチアゾー
リル基、アリールアゾフェル基、低級アルコキシベンゾ
チアゾーリル基、アリールスルホニルチアゾーリル基、
トリアジニル基、低級アルキルトリアジニル基、ピラジ
ニル基、カルボキシピラジニル基、ノ10ピリミジル基
、ビリミゾル基、低級アルキルピリミジル基、ヒドロキ
シピリミジル基、低級アルキルチオピリミジル基、ウラ
シリル基、フリル基、ハロピリジル基、低級アルキルピ
リジル基、アリール低級アルコキシピリジル基、ヒドロ
キシピリジル基、ニトロピリジル基、ピリジル基、低級
アルキルキノリル基、キノリル基、低級アルコキシキノ
リル基が挙げられる。
次に本発明に係る2−シクロアルケニルアミン系化合物
の製造法について述べる。
の製造法について述べる。
本発明の2−シクロアルケニルアミン系化合物は、例え
ば一般式(It) アルキル基、低級シクロアルケニル基、低級アルキニル
基、テトラヒドロフルフリルピペリジル基または了りー
ル基を表わすか、またはハロゲン原子、シアノ基、ヒド
ロキシル基、低級アルコキシル基、低級シクロアルキル
基、アリール基、カルボキシル賑、低級アルコキシカル
ボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル ル基あるいはジアルキルアミノ基で置換されていてもよ
い低級アルキル基を表わすか、またはハロゲン原子ある
いはアリール基で置換されていてもよい低級アルケニル
基を表わすか、またはアリール基で置換されていてもよ
い低級アルコキシル基を表わす。nは前記と同一の意味
を表わす。〕 で示される2−シクロアルケニルアミン類と1当量以上
の一般式[111) %式%() 〔式中、k2′は低級シクロアルキル基または低級シク
ロアルケニル基を表わすか、またはハロゲン原子、シア
ノ基、ヒドロキシル基、低級シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
低級アルケニルオキシカルボニル基あるいはアリールオ
キシカルボニル基で置換されていてもよい低級アルキル
基を表わすか、またはハロゲン原子あるいはアリール基
で置換されでいてもよい低級アルケニル基を表わす。X
はハロゲン原子またはヒドロキシル基を表わす。j睨 で示される化合物とを溶媒中、当量以上の桑ハロゲン化
水素剤の存在下または非存在下、0〜150℃、1〜2
4時間反応させることによって製造することができる。
ば一般式(It) アルキル基、低級シクロアルケニル基、低級アルキニル
基、テトラヒドロフルフリルピペリジル基または了りー
ル基を表わすか、またはハロゲン原子、シアノ基、ヒド
ロキシル基、低級アルコキシル基、低級シクロアルキル
基、アリール基、カルボキシル賑、低級アルコキシカル
ボニル基、低級アルケニルオキシカルボニル ル基あるいはジアルキルアミノ基で置換されていてもよ
い低級アルキル基を表わすか、またはハロゲン原子ある
いはアリール基で置換されていてもよい低級アルケニル
基を表わすか、またはアリール基で置換されていてもよ
い低級アルコキシル基を表わす。nは前記と同一の意味
を表わす。〕 で示される2−シクロアルケニルアミン類と1当量以上
の一般式[111) %式%() 〔式中、k2′は低級シクロアルキル基または低級シク
ロアルケニル基を表わすか、またはハロゲン原子、シア
ノ基、ヒドロキシル基、低級シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、
低級アルケニルオキシカルボニル基あるいはアリールオ
キシカルボニル基で置換されていてもよい低級アルキル
基を表わすか、またはハロゲン原子あるいはアリール基
で置換されでいてもよい低級アルケニル基を表わす。X
はハロゲン原子またはヒドロキシル基を表わす。j睨 で示される化合物とを溶媒中、当量以上の桑ハロゲン化
水素剤の存在下または非存在下、0〜150℃、1〜2
4時間反応させることによって製造することができる。
一般式CIIOで示される化合物としては、ヨウ化メチ
ル、ヨウ化エチル、1−ブロモプロ/寸ン、2−ブロモ
プロパン、1−’;l’ロモフタン、1−ブロモ−2−
メチルプロパン、1−ブロモペンタン、1−ブロモ−3
−メチルブタン、1−ヨードヘキサン、1−ブロモへブ
タン、2−ブロモ−5−エチルノナン、3−プロモプロ
ビオニトリノペシクロプロピルメチルブロミド、シクロ
ヘキシルプロミド、1−ブロモ−4−メチルシクロヘキ
サン、シクロヘキシルメチルプロミド、2,3.5−1
−リメチルシク口ヘキシプνメチルブロミド、シクロペ
ンチルプロミド、t−ブチルプロミド、シクロプロピル
プロミド、ジブロモメタン、ショートメタン、ブロモク
ロロメタン、クロロジフルオロメタン、ブロモトリクロ
ロメタン、トリブロモメタン、テトラブロモメタン、1
−−1i’ロモー2−クロロエタン、1,2−ジブロモ
エタン、1.1.1−トリクロロエタン、ペンタクロロ
エタン、ヘキサクロロエタン、1,1−ジブロモエタン
、エチレンブロモヒドリン、2,2−ジクロロエタノー
ル、2゜2.2−1−リフルオロエタノール、1,2−
ジブロモプロパン、1,3−ジブロモプロパン、1−ブ
ロモ−3−クロロプロパン、1,2.3−トリブロモプ
ロパン、1,2−ジブロモブタン、1.4−ジブロモブ
タン、2.3−ジブロモブタン、1−ブロモ−3−クロ
ロ−2−メチルプロパン、1,5−ジブロモペンタン、
1゜6−ジブロモヘキサン、1.3−ジブロモブタン、
2−ヨード−1,1,1−1−ジクロロエタン、1 、
1 、2 :、 2−テトラクロロエタン、1゜1−ジ
クロロエタン、アリルプロミド、3−ブロモシクロヘプ
テン、3−ブロモシクロオクテン、3−ブロモシクロヘ
キセン、3−ブロモシクロペンテン、プロパルギルプロ
ミド、メタリルクロリド、1−クロロ−2−ブテン、3
−クロロ−1−ブテン、4−ブロモ−1−ブテン、3−
へキセニルブロミド、1.3−ジクロローペ ペ 1、−7’ロ譬ン、2.3−ジクロロ−3−プロパア、
1,2.3−1−1jケ。。ブ。工7.1,3−シクロ
ロー2−ブテン、1.4−’)クロロ−2−ブテン、桂
皮クロリド、ビシクロ(2,2゜1)−3−メチルへブ
テニルメチルプロミド、ベンジルプロミド、P−クロロ
ベンジルクロリド、m−7’ロモベンジルブロミド、0
−フルオロベンジルブロミt’、2.4−ジクロロベン
ジルクロリド、P−メチルベンジルクロリド、P−エチ
ルベンジルクロリド、P−イソプロピルベンジルクロリ
ド、P ’−ブチルベンジルプロミド、ビニルベンジル
クロリド、2,5−ジメチルベンジルクロリド、m −
トリフルオロメチルベンジルクロリド、m−ニトロベン
ジルプロミド、m−シアノベンジルプロミド、α、α′
−ジクロローP−キシレン、α、α′−ジブロモー〇−
キシレン、d−クロロエチルベンゼン、P−ブロモメチ
ル安息香酸、フェネチルプロミド、P−ニトロフェネチ
ルプロミド、β−ブロモプロピルベンゼン、β−ブロモ
イソプロピルベンゼン、α、β−ジブロモエチルベンゼ
ン、ジフェニルメチルブロミド、トリフェニルメチルプ
ロミド、2−10ロー4−二トロペンジルクロリド、1
−クロロメチルナフタ1/ン、P−メトキシベンジルク
ロリド、P−メチルフェニル−n−ブチルプロミド、2
.4−ジメチルフェネチルブロミド、フェニル−n−ブ
チルプロミド、フェニル−11−プロピルプロミド、ブ
ロモ酢酸エチル、ブロモ酢酸メチル、クロロ酢酸イソプ
ロピル、クロロ酢酸n−ブチル、クロロ酢酸フェニル、
クロロ酢酸アリル、クロロ酢酸ビニル、2−クロロプロ
ピオン酸メチル、2−ブロモプロピオン酸エチル、2−
ブロモプロピオン酸エチル、2−ブロモ酪酸エチル、2
−ブロモイソ酪酸エチル、ラクトニトリル、ヒドロギシ
アセトニトリル、アセトンシアンヒドリン、2.6−ジ
クロロ−4−メチルピリミジン、4−プロモブチルニ1
−リル、5−−7’ロモバレ口ニトリル、2−クロロプ
ロピオニトリル、クロロアセトニトリル、ブロモ酢酸、
2−クロロプロピオン酸、2−ブロモ−n−酪酸、α−
ブロモイソ酪酸、2−ブロモイソ吉草酸等が挙げられる
。
ル、ヨウ化エチル、1−ブロモプロ/寸ン、2−ブロモ
プロパン、1−’;l’ロモフタン、1−ブロモ−2−
メチルプロパン、1−ブロモペンタン、1−ブロモ−3
−メチルブタン、1−ヨードヘキサン、1−ブロモへブ
タン、2−ブロモ−5−エチルノナン、3−プロモプロ
ビオニトリノペシクロプロピルメチルブロミド、シクロ
ヘキシルプロミド、1−ブロモ−4−メチルシクロヘキ
サン、シクロヘキシルメチルプロミド、2,3.5−1
−リメチルシク口ヘキシプνメチルブロミド、シクロペ
ンチルプロミド、t−ブチルプロミド、シクロプロピル
プロミド、ジブロモメタン、ショートメタン、ブロモク
ロロメタン、クロロジフルオロメタン、ブロモトリクロ
ロメタン、トリブロモメタン、テトラブロモメタン、1
−−1i’ロモー2−クロロエタン、1,2−ジブロモ
エタン、1.1.1−トリクロロエタン、ペンタクロロ
エタン、ヘキサクロロエタン、1,1−ジブロモエタン
、エチレンブロモヒドリン、2,2−ジクロロエタノー
ル、2゜2.2−1−リフルオロエタノール、1,2−
ジブロモプロパン、1,3−ジブロモプロパン、1−ブ
ロモ−3−クロロプロパン、1,2.3−トリブロモプ
ロパン、1,2−ジブロモブタン、1.4−ジブロモブ
タン、2.3−ジブロモブタン、1−ブロモ−3−クロ
ロ−2−メチルプロパン、1,5−ジブロモペンタン、
1゜6−ジブロモヘキサン、1.3−ジブロモブタン、
2−ヨード−1,1,1−1−ジクロロエタン、1 、
1 、2 :、 2−テトラクロロエタン、1゜1−ジ
クロロエタン、アリルプロミド、3−ブロモシクロヘプ
テン、3−ブロモシクロオクテン、3−ブロモシクロヘ
キセン、3−ブロモシクロペンテン、プロパルギルプロ
ミド、メタリルクロリド、1−クロロ−2−ブテン、3
−クロロ−1−ブテン、4−ブロモ−1−ブテン、3−
へキセニルブロミド、1.3−ジクロローペ ペ 1、−7’ロ譬ン、2.3−ジクロロ−3−プロパア、
1,2.3−1−1jケ。。ブ。工7.1,3−シクロ
ロー2−ブテン、1.4−’)クロロ−2−ブテン、桂
皮クロリド、ビシクロ(2,2゜1)−3−メチルへブ
テニルメチルプロミド、ベンジルプロミド、P−クロロ
ベンジルクロリド、m−7’ロモベンジルブロミド、0
−フルオロベンジルブロミt’、2.4−ジクロロベン
ジルクロリド、P−メチルベンジルクロリド、P−エチ
ルベンジルクロリド、P−イソプロピルベンジルクロリ
ド、P ’−ブチルベンジルプロミド、ビニルベンジル
クロリド、2,5−ジメチルベンジルクロリド、m −
トリフルオロメチルベンジルクロリド、m−ニトロベン
ジルプロミド、m−シアノベンジルプロミド、α、α′
−ジクロローP−キシレン、α、α′−ジブロモー〇−
キシレン、d−クロロエチルベンゼン、P−ブロモメチ
ル安息香酸、フェネチルプロミド、P−ニトロフェネチ
ルプロミド、β−ブロモプロピルベンゼン、β−ブロモ
イソプロピルベンゼン、α、β−ジブロモエチルベンゼ
ン、ジフェニルメチルブロミド、トリフェニルメチルプ
ロミド、2−10ロー4−二トロペンジルクロリド、1
−クロロメチルナフタ1/ン、P−メトキシベンジルク
ロリド、P−メチルフェニル−n−ブチルプロミド、2
.4−ジメチルフェネチルブロミド、フェニル−n−ブ
チルプロミド、フェニル−11−プロピルプロミド、ブ
ロモ酢酸エチル、ブロモ酢酸メチル、クロロ酢酸イソプ
ロピル、クロロ酢酸n−ブチル、クロロ酢酸フェニル、
クロロ酢酸アリル、クロロ酢酸ビニル、2−クロロプロ
ピオン酸メチル、2−ブロモプロピオン酸エチル、2−
ブロモプロピオン酸エチル、2−ブロモ酪酸エチル、2
−ブロモイソ酪酸エチル、ラクトニトリル、ヒドロギシ
アセトニトリル、アセトンシアンヒドリン、2.6−ジ
クロロ−4−メチルピリミジン、4−プロモブチルニ1
−リル、5−−7’ロモバレ口ニトリル、2−クロロプ
ロピオニトリル、クロロアセトニトリル、ブロモ酢酸、
2−クロロプロピオン酸、2−ブロモ−n−酪酸、α−
ブロモイソ酪酸、2−ブロモイソ吉草酸等が挙げられる
。
フタ、本発明の2−シクロアルケニルアミン系化合物は
、例えば一般式UV’l 〔式中、R1およびR2は前記と同一の意味を表わす。
、例えば一般式UV’l 〔式中、R1およびR2は前記と同一の意味を表わす。
〕
で示されるアミン類と1当量の一般式(V)〔式中、n
は前記と同一の意味を表わし、Yはハロゲン原子を表わ
す。〕 で示される3−ハロシクロアルケン類とを溶媒中、当量
以上の脱ハロゲン化水素剤の存在下、1〜24時間反応
させることによって製造することもできる。
は前記と同一の意味を表わし、Yはハロゲン原子を表わ
す。〕 で示される3−ハロシクロアルケン類とを溶媒中、当量
以上の脱ハロゲン化水素剤の存在下、1〜24時間反応
させることによって製造することもできる。
一般式(IV)で示されるアミンとしては、メチルアミ
ン、エチルアミン、n−プロピルアミン、n−アミルア
ミン、2−エチルヘキシルアミン、n−ブチルアミン、
イソブチルアミン、5ec−ブチルアミン、【−ブチル
アミン、2−メチルアリルアミン、3−シクロへキセニ
ルアミン、アリルアミン、ビニルアミン、イソアミルア
ミン、ネオペンチルアミン、1.2−ジメチルプロピル
アミン、n−ヘキシルアミン、n−へブチルアミン、2
−メチルペンチルアミン、1゜3.3−テトラメチルブ
チルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルア
ミ・ン、3−メチルシクロヘキシルアミン、シクロヘキ
シルアミン、1.1−ジメチルプロパルギルアミン、1
11−ジエチルプロパルギルアミン、エチルプロパルギ
ルアミン、2−クロロエチルアミン、2−ブロムエテル
アミン、3−ブロモプロピルアミン、2.2.2−4リ
フルオロエチルアミン、2−メトキシエチルアミン、2
−エトキシエチルアミン、アミノアセトアルデヒドジメ
チルアセクール、アミノアセトアルデヒドジエチルアセ
タール、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプ
ロピルアミン、3−イソプロポキシプロビルアミン、ブ
トキシプロピルアミン、イソブトキシプロピルアミン、
2−エチルへキシルオキシプロピルアミン、β−アミノ
プロピオニトリル、シクロプロピルメチルアミン、シク
ロヘキシルメチルアミン、N−(2−エチルヘキシル)
−2−シクロペンテニルアミン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジー(2−エチ
ルヘキシル)アミン、ジアリルアミン、N−メチルシク
ロヘキシルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイソブチ
ルアミン、ジー5cc−ブチルアミン、ジ−n−アミル
アミン、ジイソアミルアミン、ジ−n−ヘキシルアミン
、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルプロパルギルア
ミン、N−エチル−n−ブチルアミン、N−メチル−β
−アラニルニトリル、β−アミノエタノール、ジイソプ
ロパツールアミン、イソプロピルシクロヘキシルアミン
、ジイソプロピルアミン、エチルブチルアミン、N−(
2−クロロエチル)メチルアミン、N−メチルエタノー
ルアミン、2−エチルアミノエタノール、2−イソプロ
ピルアミノエタノール、2−t−ブチルアミノエタノー
ル、ジェタノールアミン、N−(β−ヒドロキシエチル
)−2−シクロペンテニルアミン、トリス(オキシメチ
ル)アミノメタン、1−ヒドロキシエチルアミン、3−
アミノ−1−プロパツール、2−アミノ−1−プロパツ
ール、1−アミノ−2−フロパノール、2−アミノ−1
−ブタノール、シフリコールアミン、5−アミノ−1−
ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキサノール、3−7
i/−1,2−プロパンジオール、1−アミノメチル−
1−シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミ
ン、2−ベンジルアミノ−1−フロパノール、N−n−
7’チルエタノールアミン、3−アミノメチル−3,5
,5−1リメチルシクロヘキサノール、ベンジルアミン
、4−クロロベンジルアミン、4−メトキシベンジルア
ミン、2,4−ジクロロベンジルアミン、N−メチルベ
ンジルアミン、ジベンジルアミン、アミノジフェニルメ
タン、α−メチルベンジルアミン −ヒドロキシ−3−メトキシベンジルアミン、m−ニト
ロベンジルアミン、2−メチルベンジルアミン、α−7
エネチルアミン、フェネチルアミン、P−クロロフェネ
チルアミン、4−ブロモフェニルブチルアミン、N−エ
チルベンジルアミン、アニリン、0−ヒドロキシアニリ
ン、0−ニトロアニリン、3−ニトロ−4−アミノトル
エン、2−クロロ−4−二トロアニリン、4−メトキシ
−2−ニトロアニリン、2−フルオロ−5−二トロアニ
リン、N−メ% /l’ − P −ニトロアニリン、
p−n−ブチルアニリン、〇ーフェニルアニリン、3,
4−ジメチルアニリン、2,4.6−)ジメチルアニリ
ン、m−ブロモアニリン、O−フルオロアニリン、2I
5−ジクロロアニリン、2,4.5−トリクロ口アニリ
ン、2−クロロ−6−メチルアニリン、5−クロロ−2
−ヒドロキシアニリン、3−メ1− キシ−6−クロロ
アニリン、3−トリフルオロ ) チ/L/−4−クロ
ロアニリン、2−=)o−4−トリフルオロメチルアニ
リン、2−トリフルオロメチルアニリン、4−メトキシ
−3−トリフルオロメチルアニリン、2.4−ジニトロ
アニリン、2−ブロモ−4,6−ジニトロアニリン、3
−シアノ−4−クロロアニリン、o−メトキシアニリン
、4−メトキシ−2−メチルアニリン、2,5−ジメト
キシアニリン、3゜4.5−1リメトキシアニリン、3
,4−ジメチレンジオキシアニリン、6−アミノ−1,
4−ベン/’)オキサン、P−フェノキシアニリン、2
.4−ジベンジルオキシアニリン、4−ベン゛ジルオキ
シアニリン、P−クレシジン、N−エチルアニリン、N
−メトキシ−〇−トルイジン、ジフェニルアミン、N−
メチル−P−ニトロアニリン、N−エチル−〇−トルイ
ジン、N−メチル−P−アニシジン、N−ベンジル−P
−アニシジン、8−アミノ−2−ナフトール、4−二ト
ロー1−ナフチルアミン、5,6,7.8−テトラヒド
ロ−1−ナフチルアミン、1,2゜3.4−fl−ラヒ
ドロナフチルアミン、α−ナフチルアミン、4−(2,
4,6−1−ジクロロフェニル)アニリン、4 、4’
−オキシジアニリン、3−メチルチオアニリン、4−ア
ミノベンゾフェノン、エチルm−アミノベンゾエート、
P−アミノアゾベンゼン、2−アミノベンゾフェノン、
4−アミノベンズアミド、m−アミノアセトフェノン、
4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−
2−フェニルピラゾール、2−アミノチアゾール、2−
アミノベンゾチアゾール、2−アミノ−5−クロロチア
ゾール、2−アミノ−5−ニトロチアゾール、2−アミ
ノ−4−メチルチアゾール、2−アミノ−5,6−シヒ
ドロー4H−シクロペンタチアゾール、2−アミノ−(
4−クロロメチル)チアゾール、2−アミノ−5−(p
−二トロフェニルスルホニル)チアゾール、2−アミノ
−6−メドキシベンゾチアゾール、2−アミノ−6−メ
チルペンゾヂアゾール、2−アミノ−4−フェニルチア
ゾール、ベンズイミダゾール、2−ベンズイミダゾール
メタノール、2−ベンジル−2−イミダシリン、2−ヒ
ドロキシベンズイミダゾール、2−メチルチオ−2−イ
ミダシリン、イミダゾール、2−(1−ナフチルメチル
)−2−イミダシリン、2−エチルイミダゾール、2−
フェニルイミダゾール、4.5−ジシアノイミダゾール
、2,4,5−トリブロモイミダゾール、2−メチル−
4,5−ジシアノイミダゾール、4−ニトロチアゾール
、5−クロロペンズイミタソール、2−(α−ヒドロキ
シベンジル)ベンズイミダゾール、3−アミノ−1,2
,4−トリアジン、3−アミノ−5,6−シメチルー1
.2.4−トリアジン、アミノピラジン、3−アミノピ
ラジン−2−カルボン酸、2−アミノ−4,6−ジクロ
ロピリミジン、2−アミノピリミジン、2−アミノ−6
−クロロ−4−ヒドロキシピリミジン、4−アミノ−6
−クロロ−2−メチルチオピリミジン、5−アミノウラ
シル、フルフリルアミン、テトラビトロフルフリルアミ
ン、ヒドロキシアミン、N−メチルヒドロキシアミン、
0.N−ジメチルヒドロキシアミン、0−ベンジロキシ
アミン、2−アミノ−5−ブロモピリジン、6−アミノ
−3−ピコリン、2−アミノ−3−ベンジロキシピリジ
ン、2−アミノ−3−ヒドロキシピリジン、2−アミノ
−5−ニトロピリジン、2−アミノピリジン、2−アミ
ノメチルビリジン、1.2.5.6−テトラヒドロピリ
ジン、8−アミノ−6−メチルキノリン、8−アミノキ
ノリン、3,5−ショート−4−ピリドン、8−アミノ
−6−メトキシアニリン、1,2,3゜4−テトラヒド
ロキノリン、1,2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ン、N−(3−アミノプロピル)モルポリン、ノルコダ
イン、2,6−ジメチルモルホリン、モルホリン、チオ
モルホリン、3−アセチル−2,4−ジメチルピロール
、2,5−ジメチルビロール、2,5−ジメチルピロリ
ジン、ピロール、ピロリジン、3−ピロリジン、ピロー
ル−2−カルボン酸メチル、3−ピロリジノール、N−
メチルピペラジ7.1−(0−メトキシフェニル)ピペ
ラジン、1−(2−ピリジル)ピペラジン、N−(α。
ン、エチルアミン、n−プロピルアミン、n−アミルア
ミン、2−エチルヘキシルアミン、n−ブチルアミン、
イソブチルアミン、5ec−ブチルアミン、【−ブチル
アミン、2−メチルアリルアミン、3−シクロへキセニ
ルアミン、アリルアミン、ビニルアミン、イソアミルア
ミン、ネオペンチルアミン、1.2−ジメチルプロピル
アミン、n−ヘキシルアミン、n−へブチルアミン、2
−メチルペンチルアミン、1゜3.3−テトラメチルブ
チルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルア
ミ・ン、3−メチルシクロヘキシルアミン、シクロヘキ
シルアミン、1.1−ジメチルプロパルギルアミン、1
11−ジエチルプロパルギルアミン、エチルプロパルギ
ルアミン、2−クロロエチルアミン、2−ブロムエテル
アミン、3−ブロモプロピルアミン、2.2.2−4リ
フルオロエチルアミン、2−メトキシエチルアミン、2
−エトキシエチルアミン、アミノアセトアルデヒドジメ
チルアセクール、アミノアセトアルデヒドジエチルアセ
タール、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプ
ロピルアミン、3−イソプロポキシプロビルアミン、ブ
トキシプロピルアミン、イソブトキシプロピルアミン、
2−エチルへキシルオキシプロピルアミン、β−アミノ
プロピオニトリル、シクロプロピルメチルアミン、シク
ロヘキシルメチルアミン、N−(2−エチルヘキシル)
−2−シクロペンテニルアミン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジー(2−エチ
ルヘキシル)アミン、ジアリルアミン、N−メチルシク
ロヘキシルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイソブチ
ルアミン、ジー5cc−ブチルアミン、ジ−n−アミル
アミン、ジイソアミルアミン、ジ−n−ヘキシルアミン
、ジシクロヘキシルアミン、N−メチルプロパルギルア
ミン、N−エチル−n−ブチルアミン、N−メチル−β
−アラニルニトリル、β−アミノエタノール、ジイソプ
ロパツールアミン、イソプロピルシクロヘキシルアミン
、ジイソプロピルアミン、エチルブチルアミン、N−(
2−クロロエチル)メチルアミン、N−メチルエタノー
ルアミン、2−エチルアミノエタノール、2−イソプロ
ピルアミノエタノール、2−t−ブチルアミノエタノー
ル、ジェタノールアミン、N−(β−ヒドロキシエチル
)−2−シクロペンテニルアミン、トリス(オキシメチ
ル)アミノメタン、1−ヒドロキシエチルアミン、3−
アミノ−1−プロパツール、2−アミノ−1−プロパツ
ール、1−アミノ−2−フロパノール、2−アミノ−1
−ブタノール、シフリコールアミン、5−アミノ−1−
ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキサノール、3−7
i/−1,2−プロパンジオール、1−アミノメチル−
1−シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミ
ン、2−ベンジルアミノ−1−フロパノール、N−n−
7’チルエタノールアミン、3−アミノメチル−3,5
,5−1リメチルシクロヘキサノール、ベンジルアミン
、4−クロロベンジルアミン、4−メトキシベンジルア
ミン、2,4−ジクロロベンジルアミン、N−メチルベ
ンジルアミン、ジベンジルアミン、アミノジフェニルメ
タン、α−メチルベンジルアミン −ヒドロキシ−3−メトキシベンジルアミン、m−ニト
ロベンジルアミン、2−メチルベンジルアミン、α−7
エネチルアミン、フェネチルアミン、P−クロロフェネ
チルアミン、4−ブロモフェニルブチルアミン、N−エ
チルベンジルアミン、アニリン、0−ヒドロキシアニリ
ン、0−ニトロアニリン、3−ニトロ−4−アミノトル
エン、2−クロロ−4−二トロアニリン、4−メトキシ
−2−ニトロアニリン、2−フルオロ−5−二トロアニ
リン、N−メ% /l’ − P −ニトロアニリン、
p−n−ブチルアニリン、〇ーフェニルアニリン、3,
4−ジメチルアニリン、2,4.6−)ジメチルアニリ
ン、m−ブロモアニリン、O−フルオロアニリン、2I
5−ジクロロアニリン、2,4.5−トリクロ口アニリ
ン、2−クロロ−6−メチルアニリン、5−クロロ−2
−ヒドロキシアニリン、3−メ1− キシ−6−クロロ
アニリン、3−トリフルオロ ) チ/L/−4−クロ
ロアニリン、2−=)o−4−トリフルオロメチルアニ
リン、2−トリフルオロメチルアニリン、4−メトキシ
−3−トリフルオロメチルアニリン、2.4−ジニトロ
アニリン、2−ブロモ−4,6−ジニトロアニリン、3
−シアノ−4−クロロアニリン、o−メトキシアニリン
、4−メトキシ−2−メチルアニリン、2,5−ジメト
キシアニリン、3゜4.5−1リメトキシアニリン、3
,4−ジメチレンジオキシアニリン、6−アミノ−1,
4−ベン/’)オキサン、P−フェノキシアニリン、2
.4−ジベンジルオキシアニリン、4−ベン゛ジルオキ
シアニリン、P−クレシジン、N−エチルアニリン、N
−メトキシ−〇−トルイジン、ジフェニルアミン、N−
メチル−P−ニトロアニリン、N−エチル−〇−トルイ
ジン、N−メチル−P−アニシジン、N−ベンジル−P
−アニシジン、8−アミノ−2−ナフトール、4−二ト
ロー1−ナフチルアミン、5,6,7.8−テトラヒド
ロ−1−ナフチルアミン、1,2゜3.4−fl−ラヒ
ドロナフチルアミン、α−ナフチルアミン、4−(2,
4,6−1−ジクロロフェニル)アニリン、4 、4’
−オキシジアニリン、3−メチルチオアニリン、4−ア
ミノベンゾフェノン、エチルm−アミノベンゾエート、
P−アミノアゾベンゼン、2−アミノベンゾフェノン、
4−アミノベンズアミド、m−アミノアセトフェノン、
4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−
2−フェニルピラゾール、2−アミノチアゾール、2−
アミノベンゾチアゾール、2−アミノ−5−クロロチア
ゾール、2−アミノ−5−ニトロチアゾール、2−アミ
ノ−4−メチルチアゾール、2−アミノ−5,6−シヒ
ドロー4H−シクロペンタチアゾール、2−アミノ−(
4−クロロメチル)チアゾール、2−アミノ−5−(p
−二トロフェニルスルホニル)チアゾール、2−アミノ
−6−メドキシベンゾチアゾール、2−アミノ−6−メ
チルペンゾヂアゾール、2−アミノ−4−フェニルチア
ゾール、ベンズイミダゾール、2−ベンズイミダゾール
メタノール、2−ベンジル−2−イミダシリン、2−ヒ
ドロキシベンズイミダゾール、2−メチルチオ−2−イ
ミダシリン、イミダゾール、2−(1−ナフチルメチル
)−2−イミダシリン、2−エチルイミダゾール、2−
フェニルイミダゾール、4.5−ジシアノイミダゾール
、2,4,5−トリブロモイミダゾール、2−メチル−
4,5−ジシアノイミダゾール、4−ニトロチアゾール
、5−クロロペンズイミタソール、2−(α−ヒドロキ
シベンジル)ベンズイミダゾール、3−アミノ−1,2
,4−トリアジン、3−アミノ−5,6−シメチルー1
.2.4−トリアジン、アミノピラジン、3−アミノピ
ラジン−2−カルボン酸、2−アミノ−4,6−ジクロ
ロピリミジン、2−アミノピリミジン、2−アミノ−6
−クロロ−4−ヒドロキシピリミジン、4−アミノ−6
−クロロ−2−メチルチオピリミジン、5−アミノウラ
シル、フルフリルアミン、テトラビトロフルフリルアミ
ン、ヒドロキシアミン、N−メチルヒドロキシアミン、
0.N−ジメチルヒドロキシアミン、0−ベンジロキシ
アミン、2−アミノ−5−ブロモピリジン、6−アミノ
−3−ピコリン、2−アミノ−3−ベンジロキシピリジ
ン、2−アミノ−3−ヒドロキシピリジン、2−アミノ
−5−ニトロピリジン、2−アミノピリジン、2−アミ
ノメチルビリジン、1.2.5.6−テトラヒドロピリ
ジン、8−アミノ−6−メチルキノリン、8−アミノキ
ノリン、3,5−ショート−4−ピリドン、8−アミノ
−6−メトキシアニリン、1,2,3゜4−テトラヒド
ロキノリン、1,2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ン、N−(3−アミノプロピル)モルポリン、ノルコダ
イン、2,6−ジメチルモルホリン、モルホリン、チオ
モルホリン、3−アセチル−2,4−ジメチルピロール
、2,5−ジメチルビロール、2,5−ジメチルピロリ
ジン、ピロール、ピロリジン、3−ピロリジン、ピロー
ル−2−カルボン酸メチル、3−ピロリジノール、N−
メチルピペラジ7.1−(0−メトキシフェニル)ピペ
ラジン、1−(2−ピリジル)ピペラジン、N−(α。
α、α−トリフルオロメチルーm −トリル)ピペラジ
ン、エチレンイミン、ドデカメチレンイミン、ヘキサメ
チレンイミン、3−アミノ−N−エチルピペリジン、4
−アミノ−1−ベンジルピペリジン、N−(2−アミノ
エチル)ヒヘリジン、4−ブロモ−4−フェニルピペリ
ジン、4−(P−クロロフェニル)−4−ヒドロキシピ
ペリジン、4−シアノ−4−フェニルピペリジン、2,
6−シメチルビペリジン、ピペリジン、2−ピペリジン
エタノール、2.2.6 。
ン、エチレンイミン、ドデカメチレンイミン、ヘキサメ
チレンイミン、3−アミノ−N−エチルピペリジン、4
−アミノ−1−ベンジルピペリジン、N−(2−アミノ
エチル)ヒヘリジン、4−ブロモ−4−フェニルピペリ
ジン、4−(P−クロロフェニル)−4−ヒドロキシピ
ペリジン、4−シアノ−4−フェニルピペリジン、2,
6−シメチルビペリジン、ピペリジン、2−ピペリジン
エタノール、2.2.6 。
6−テトラメチル−4−ピペリドン、2,2゜6.6−
テトラメテルビペリジン等が挙げられる。
テトラメテルビペリジン等が挙げられる。
上記の製造法において用いられる溶媒には、ヘキサン、
ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂−肪族炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル、ニトロエタン、ニトロベン
ゼン等のニトロ化物、アセトニトリル、イソブチロニト
リル等のニトリル、ピリジン、トリエチルアミン、N、
N−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、N−メチル
モルホリン等の第三級アミン、ホルムアミド、N、N−
ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物等、あ
るいはそれらの混合物がある。
ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂−肪族炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル、ニトロエタン、ニトロベン
ゼン等のニトロ化物、アセトニトリル、イソブチロニト
リル等のニトリル、ピリジン、トリエチルアミン、N、
N−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、N−メチル
モルホリン等の第三級アミン、ホルムアミド、N、N−
ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸アミド、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物等、あ
るいはそれらの混合物がある。
また、脱ハロゲン化水素剤には、ピリジン、トリエチル
アミン、N、N−ジエチルアニリン等の有機塩基、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機
塩基等がある。
アミン、N、N−ジエチルアニリン等の有機塩基、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機
塩基等がある。
反応終了後は通常の後処理を行い、必要ならば、クロマ
トグラフィー、蒸留、再結晶等によって精製する。
トグラフィー、蒸留、再結晶等によって精製する。
次に本発明の2−シクロアルケニルアミン系化合物の製
造例を示す。
造例を示す。
製造例1 〔化合物+11の製造〕
2−シクロヘキセニルアミン(0,979,10ミリモ
ル)、トリエチルアミン(1,01f、10ミリモル)
およびクロロホルム(10n/) の1τ 混合物を攪拌下、温度を0〜5℃に保ちなから、ブロモ
酢酸エチル(1,67F、202リモル)を滴下した。
ル)、トリエチルアミン(1,01f、10ミリモル)
およびクロロホルム(10n/) の1τ 混合物を攪拌下、温度を0〜5℃に保ちなから、ブロモ
酢酸エチル(1,67F、202リモル)を滴下した。
滴下終了後、3時間加熱還流した。還流終了後、通常の
後処理を行い、クロマト精製してN (2−シクロヘキ
セニル)クリシンエチルエステル1.28911り。
後処理を行い、クロマト精製してN (2−シクロヘキ
セニル)クリシンエチルエステル1.28911り。
n23°31.4711
製造例2 〔化合物(2)の製造〕
ヒドロキシアセトニトリル水溶液(5Q wtチ)、(
1,149,10ミリモル)と50%aq。
1,149,10ミリモル)と50%aq。
F、tOH(10ml )の混合物に、温度を35〜4
0℃に保ちながら、2−シクロへキセニルアミン(O0
979,10ミリモル)を滴下した。
0℃に保ちながら、2−シクロへキセニルアミン(O0
979,10ミリモル)を滴下した。
同温で30分間保った。保温終了後、通常の後処理、ク
ロマト精製して、N−(2−シクロへキセニル)クリジ
ノニトリル1.229を得た。
ロマト精製して、N−(2−シクロへキセニル)クリジ
ノニトリル1.229を得た。
n20°11.5231
製造例3 〔化合物(3)の製造〕
3−ブロモシクロヘプテン(1,759,10ミリモル
)、トリエチルアミン(1,01?、 10ミリモル)
、モルホリン(0,s79.10ミリモル)およびクロ
ロホルム(10n/)の混合物を3時間加熱還流した。
)、トリエチルアミン(1,01?、 10ミリモル)
、モルホリン(0,s79.10ミリモル)およびクロ
ロホルム(10n/)の混合物を3時間加熱還流した。
還流終了後、通常の後処理を行い、クロマト精製して、
N−(2−シクロへブテニル)モルホリン0.91Vを
得た。
N−(2−シクロへブテニル)モルホリン0.91Vを
得た。
n25°21.5039
このような製造法によって製這できる本発明の2−シク
ロアルケニルアミン系化合物のいくつかを第1表に示す
。
ロアルケニルアミン系化合物のいくつかを第1表に示す
。
\
\
本発明の2−シクロアルケニルアミン系化合物を土壌病
害防除剤の有効成分として用いる場合は、他の何らの成
分も加えずそのままで用いてもよいが、通常固体担体、
液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して
、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、粉剤、水溶剤、敏粒剤
等に製剤する。
害防除剤の有効成分として用いる場合は、他の何らの成
分も加えずそのままで用いてもよいが、通常固体担体、
液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して
、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、粉剤、水溶剤、敏粒剤
等に製剤する。
これらの製剤には有効成分として本発明の2−シクロア
ルケニルアミン系化合物を、重量比で0.1〜99.9
%、好ましくは0.2〜80.0俤含有する。
ルケニルアミン系化合物を、重量比で0.1〜99.9
%、好ましくは0.2〜80.0俤含有する。
固体担体には、カオリンクレー、アッタパルジャイトク
レー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タ
ルク、珪藻土、方解石、トウモロコシ穂軸粉、クルミ穀
粉、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微
粉末あるいは粒状物があり、液体担体には、キシレン、
メチルナフタレン等の芳香族炭化水素、イソプロパツー
ル、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコール、
アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン、
大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル、水等がある。
レー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タ
ルク、珪藻土、方解石、トウモロコシ穂軸粉、クルミ穀
粉、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微
粉末あるいは粒状物があり、液体担体には、キシレン、
メチルナフタレン等の芳香族炭化水素、イソプロパツー
ル、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコール、
アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン、
大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、ア
セトニトリル、水等がある。
乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤には
、アルキル硫酸エステル塩、アルキル(アリール)スル
ホン酸塩、ジアルキルスルホこはく酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルりん酸エステル塩、ナ
フタレンスルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン界面
活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー
、ソルビタン脂:肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があ
る。製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、アルギ
ン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、CMC
(カルボキシメチルセルロース)、PAP(酸性りん酸
イソプロピル)等がある。
、アルキル硫酸エステル塩、アルキル(アリール)スル
ホン酸塩、ジアルキルスルホこはく酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルりん酸エステル塩、ナ
フタレンスルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン界面
活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー
、ソルビタン脂:肪酸エステル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があ
る。製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、アルギ
ン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、CMC
(カルボキシメチルセルロース)、PAP(酸性りん酸
イソプロピル)等がある。
次に製剤例を示す。なお、本発明の2−シクロアルケニ
ルアミン系化合物は第1表の化合物番号で示す。部は重
量部である。
ルアミン系化合物は第1表の化合物番号で示す。部は重
量部である。
製剤例1
化合物(1)2部、カオリンクレー88部およびタルク
10部をよ(粉砕混合して粉剤を得る。
10部をよ(粉砕混合して粉剤を得る。
製剤例2
化合物(3)2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンス
ルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカ
オリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を加えてよく
練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
ルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部およびカ
オリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を加えてよく
練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
製剤例3
化合物(5)50部、リグニンスルホン酸カルシウム3
部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸化珪
素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水酸化珪
素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例4
化合物+8)10部、ポリオキシエチレンスチリルフェ
ニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カル
シウム6部、キシレン30部およびイソプロパツール4
0部をよく混合して乳剤を得る。
ニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カル
シウム6部、キシレン30部およびイソプロパツール4
0部をよく混合して乳剤を得る。
製剤例5
化合物(+1)30部をジメチルスルホキシドに混和溶
解し、アッタパルジャイトクレー70部に吸着、含浸し
た後、乾燥して微粒剤を得る。
解し、アッタパルジャイトクレー70部に吸着、含浸し
た後、乾燥して微粒剤を得る。
製剤例6
化合物α3110部、ポリオキシエチレンスチリルフェ
ニルエーテル1部、水89部を混合し、水溶剤を得る。
ニルエーテル1部、水89部を混合し、水溶剤を得る。
これらの製剤例はそのままであるいは水等で希妖し、茎
葉処理あるいは土壌処理する。土壌処理の場合は製剤を
土壌表面に散布する(必要に応じ、散布後土壌と混和す
る。)かまたは土壌に血性する。また、他の土壌病害防
除剤と混合して用いることにより、防除効力の増強を期
待できる。さらに、殺菌剤、土壌害虫防除剤、殺線虫剤
、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用い
ることもできる。
葉処理あるいは土壌処理する。土壌処理の場合は製剤を
土壌表面に散布する(必要に応じ、散布後土壌と混和す
る。)かまたは土壌に血性する。また、他の土壌病害防
除剤と混合して用いることにより、防除効力の増強を期
待できる。さらに、殺菌剤、土壌害虫防除剤、殺線虫剤
、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用い
ることもできる。
本発明の2−シクロアルケニルアミン系化合物を土壌病
害防除剤の有効成分として用いる場合、その施用量は通
常10アールあたり0.001即〜50Kg、好ましく
は、0.01〜〜10即であり、粒剤、粉剤、微粒剤等
はなんら希釈することなくそのまま施用し、乳剤、水和
剤、(E濁剤、水溶剤等を水で希釈して施用する場合、
その施用濃度は0.0005%〜5.0チ、好ましくは
、0.005%〜0.5%である。
害防除剤の有効成分として用いる場合、その施用量は通
常10アールあたり0.001即〜50Kg、好ましく
は、0.01〜〜10即であり、粒剤、粉剤、微粒剤等
はなんら希釈することなくそのまま施用し、乳剤、水和
剤、(E濁剤、水溶剤等を水で希釈して施用する場合、
その施用濃度は0.0005%〜5.0チ、好ましくは
、0.005%〜0.5%である。
次に、本発明の2−シクロアルケニルアミン系化合物が
土壌病害防除剤の有効成分として有用であることを試験
例で示す。なお、本発明の化合物は第1表の化合物番号
で示し、比較対照に用いた化合物は第2表の化合物記号
で示す。
土壌病害防除剤の有効成分として有用であることを試験
例で示す。なお、本発明の化合物は第1表の化合物番号
で示し、比較対照に用いた化合物は第2表の化合物記号
で示す。
第2表
また、防除効力は調査時の供試植物の発病状態すなわち
葉、茎、根等の菌叢、病微の程度を肉眼観察し、菌叢、
病徴が全く認められない供試植物数(以下、健苗数と記
す。)について、化合物を供試した場合(以下、処理区
の健苗数と記す。)と、化合物を供試せずかつ病原菌を
全く接種していない場合(以下、無処理、無接挿図の健
函数と記す。)゛とをそれぞれ数え、次式に従って健苗
率(チ)をめて、その数値で示す。
葉、茎、根等の菌叢、病微の程度を肉眼観察し、菌叢、
病徴が全く認められない供試植物数(以下、健苗数と記
す。)について、化合物を供試した場合(以下、処理区
の健苗数と記す。)と、化合物を供試せずかつ病原菌を
全く接種していない場合(以下、無処理、無接挿図の健
函数と記す。)゛とをそれぞれ数え、次式に従って健苗
率(チ)をめて、その数値で示す。
試験例1 ダイコン萎黄病防除効果試験プラスチックポ
ットに畑地土壌とダイコン萎黄病菌を培養した病原土壌
を良く混合して詰めた。ダイコン(品種:早生40日)
を15粒播種し覆土した。その後、製剤例3に準じて水
和剤にした供試化合物の所定量を水で希釈し、土壌潅注
した。温室内で3週間育成し、防除効力を調査した。
ットに畑地土壌とダイコン萎黄病菌を培養した病原土壌
を良く混合して詰めた。ダイコン(品種:早生40日)
を15粒播種し覆土した。その後、製剤例3に準じて水
和剤にした供試化合物の所定量を水で希釈し、土壌潅注
した。温室内で3週間育成し、防除効力を調査した。
結果を第3表に示す。
第3表
試験例2 キャベツ萎黄病防除効果
プラスチックポットに畑地土壌、キャベツ萎黄病菌を培
養した病原土壌および製剤例5に準じて微粒剤にした供
試化合物の所定量を良く混合して詰めた。なお、クロル
ピクリンは畑地土壌と病原土壌を良く混合して詰めた後
、その所定量を注入しビニール被覆して1週間放置し、
ビニール被覆を除去して、さらに1週間ガス抜きをした
。キャベツ(品種二四季穫)を1ポツトあたり10粒播
種し覆土した。温室内で3週間育成し、防除効力を調査
した。結果を第4表に示す。
養した病原土壌および製剤例5に準じて微粒剤にした供
試化合物の所定量を良く混合して詰めた。なお、クロル
ピクリンは畑地土壌と病原土壌を良く混合して詰めた後
、その所定量を注入しビニール被覆して1週間放置し、
ビニール被覆を除去して、さらに1週間ガス抜きをした
。キャベツ(品種二四季穫)を1ポツトあたり10粒播
種し覆土した。温室内で3週間育成し、防除効力を調査
した。結果を第4表に示す。
第4表
試験例3 キュウリ蔓割病防除効果
プラスチックポットに畑地土壌を詰め、キュウリ裏側病
菌を培養した病原土壌と製剤例1に準じて粉剤にした供
試化合物の所定量を表Ji 5 csの深さまで良く混
合して詰めた。なお、ヒドロキシイソキサプールについ
ては、畑地土壌を詰めたポットに所定量を水で希釈して
潅注した。キュウリ(品種二相不知地這)を10粒播種
し覆土した。温室内で3週間育成し、防除効力を調追−
シた。
菌を培養した病原土壌と製剤例1に準じて粉剤にした供
試化合物の所定量を表Ji 5 csの深さまで良く混
合して詰めた。なお、ヒドロキシイソキサプールについ
ては、畑地土壌を詰めたポットに所定量を水で希釈して
潅注した。キュウリ(品種二相不知地這)を10粒播種
し覆土した。温室内で3週間育成し、防除効力を調追−
シた。
結果を第5表に示す。
第5表
試験例4 トマト萎ちょう病防除効果
製剤例4に準じて乳剤にした供試化合物を水で希釈して
所定濃度にし、それを、プラスチックポットで育成した
3葉期のトマト苗(品種:福寿2号)の葉面に充分付着
するように散布した。散布後、トマト萎ちょう病菌の胞
子懸濁液を根元に潤性接種した。接種後、温室内で3週
間育成し、防除効力を調査した。
所定濃度にし、それを、プラスチックポットで育成した
3葉期のトマト苗(品種:福寿2号)の葉面に充分付着
するように散布した。散布後、トマト萎ちょう病菌の胞
子懸濁液を根元に潤性接種した。接種後、温室内で3週
間育成し、防除効力を調査した。
結果を第6表に示す、。
第6表
試験例5 ナス半身萎ちょう病防除効果ナス半身萎ちょ
う病菌を培養した 培地を1区(2%2)あたり100
9接種し、製剤例5に準じて微粒剤にした供試化合物の
所定量を土壌に混和した。なお、クロルピクリンは、病
原菌を接種後、その所定量を注入しビニール被覆して1
週間放置し、ビニール被覆を除去して耕耘し、さらに1
週間ガス抜きをした。
う病菌を培養した 培地を1区(2%2)あたり100
9接種し、製剤例5に準じて微粒剤にした供試化合物の
所定量を土壌に混和した。なお、クロルピクリンは、病
原菌を接種後、その所定量を注入しビニール被覆して1
週間放置し、ビニール被覆を除去して耕耘し、さらに1
週間ガス抜きをした。
その後、2葉期のナス(品種:千両2号)を1区あたり
16本移植し、温室内で約6週間育成し、防除効力を調
査した。
16本移植し、温室内で約6週間育成し、防除効力を調
査した。
結果を第7表に示す。
\
第 7 表
試験例6 ハクサイ根瘤病防除効果
プラスチックポットに畑地土壌を詰め、ハクサイ根瘤病
菌で汚染された土壌と製剤例1に準じて粉剤にした供試
化合物の所定量を表層5CII+の深さまで良く混合し
て詰めた。ハクサイ(品種:耐病60日)を15粒播種
し覆土した。温室内で4週間育成し、防除効力を調査し
た。
菌で汚染された土壌と製剤例1に準じて粉剤にした供試
化合物の所定量を表層5CII+の深さまで良く混合し
て詰めた。ハクサイ(品種:耐病60日)を15粒播種
し覆土した。温室内で4週間育成し、防除効力を調査し
た。
結果を第8表に示す。
第8表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中、kl およびR2は同一または相異なり、水素
原子、ヒドロキシル基、低級シクロアルキル基、低級シ
クロアルケニル基、低級アルキニル基、テトラヒドロフ
ルフリル基、ピペリジル基またはアリール基を表わすか
、またはハロゲン原子、シア・)基、ヒドロキシル基、
低級アルコキシル基、低級シクロアルキル基、アリール
基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低
級アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基あるいはジアルキルアミノ基で置換されていて
もよい低級アルキル基を表わすか、またはハロゲン原子
あるいはアリール基で置換されていてもよい低級アルケ
ニル基を表わすか、またはアリール基で置換されていて
もよい低級アルコキシル基を表わすか、またはに1とR
2で酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、が同時に水素
原子である場合を除く。nは1゜2.3または4を表わ
す。〕 で示される2−シクロアルケニルアミン系化合物を有効
成分として含有することを特徴とする土壌病害防除剤。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15085383A JPS6041602A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | 土壌病害防除剤 |
| US06/610,789 US4709052A (en) | 1983-05-31 | 1984-05-16 | Soil disease-controlling imides |
| EP84303640A EP0128006B1 (en) | 1983-05-31 | 1984-05-30 | A soil-disease-controlling agent |
| DE8484303640T DE3485073D1 (de) | 1983-05-31 | 1984-05-30 | Mittel zur bekaempfung von grundkrankheiten. |
| KR1019840002994A KR840009289A (ko) | 1983-05-31 | 1984-05-30 | 2-사이클로알케닐 아민 유도체의 제조방법 |
| AU28856/84A AU576503B2 (en) | 1983-05-31 | 1984-05-30 | Soil disease controlling agents |
| CA000455433A CA1261839A (en) | 1983-05-31 | 1984-05-30 | 2-cycloalkenylamine derivatives |
| US07/066,735 US5075488A (en) | 1983-05-31 | 1987-06-25 | Soil disease-controlling cyano and ester derivatives of cyclopentenyl amine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15085383A JPS6041602A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | 土壌病害防除剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6041602A true JPS6041602A (ja) | 1985-03-05 |
Family
ID=15505799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15085383A Pending JPS6041602A (ja) | 1983-05-31 | 1983-08-17 | 土壌病害防除剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041602A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516628A (ja) * | 2003-01-31 | 2006-07-06 | アストラゼネカ アクツィエボラーグ | 飽和キノキサリン誘導体および代謝型グルタミン酸受容体リガンドとしてのそれらの使用 |
-
1983
- 1983-08-17 JP JP15085383A patent/JPS6041602A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516628A (ja) * | 2003-01-31 | 2006-07-06 | アストラゼネカ アクツィエボラーグ | 飽和キノキサリン誘導体および代謝型グルタミン酸受容体リガンドとしてのそれらの使用 |
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