JPS6039661B2 - 不飽和カルボニル化合物の製造法 - Google Patents

不飽和カルボニル化合物の製造法

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JPS6039661B2
JPS6039661B2 JP6594284A JP6594284A JPS6039661B2 JP S6039661 B2 JPS6039661 B2 JP S6039661B2 JP 6594284 A JP6594284 A JP 6594284A JP 6594284 A JP6594284 A JP 6594284A JP S6039661 B2 JPS6039661 B2 JP S6039661B2
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carbon atoms
unsaturated
unsaturated carbonyl
same
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弥太郎 市川
葵 山本
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Teijin Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は不飽和カルボニル化合物の製造に関するもので
ある。
更に詳しく説明すると、不飽和アルコールのジェニルェ
ーテルを転位せしめることによる不飽和カルボニル化合
物の製造方法に関するものである。本発明の目的とする
不飽和カルボニル化合物は従来、テルベン化学工業にお
いて有用な化合物であり、特に香料、医薬、農薬或いは
それらの中間体として工業的に価値ある化合物である。
従来、かかる不飽和カルボニル化合物の製造法としては
、例えば先ずカルボニル化合物及びアセチレンを原料と
して使用してアセチレンアルコール額を生成せしめ、こ
れを環元し、次いで得られたアルコール類にジケテン、
アセト酢酸ェステル又はインブロベニルェーテル等を反
応せしめるという方法が知られている。
この従釆の原料のカルボニル化合物に対して5個の炭素
を付加するために、数多くの反応工程を必要とするのみ
ならず、反応試剤としてアセチレンの如き取扱い難い化
合物を加圧下で使用しなければならず工業的に不利は免
れない。
本発明者は、前記した従来法における欠点のない方法に
ついて研究した結果、或る特定の不飽和エーテル化合物
を転位せしめると下記骨格 ‐を有する不飽和カルボニ
ル化合物が得られることがわかった。
本発明によれば下記一般式〔1〕 〔但し、式中Rは炭素数1〜40炭化水素基:R,、R
2、R4、R5は同一又は異なる水素原子もしくは炭素
数1〜40の炭化水素基:R3は水素原子:R6とR7
は同一もしくは異なる炭素数1〜40の炭化水素基であ
って互いに結合して脂肪族環を形成する。
〕で表わされる不飽和エーテル化合物を転位せしめるこ
とを特徴とする下記一般式〔ロ〕〔但し、式中R、R,
〜R8は前記の定義と同じ〕で表わされる不飽和カルボ
ニル化合物が得られる。
かかる本発明によれば前記一般式〔1〕で表わされる不
飽和エーテル化合物を転位せしめることにより、一挙に
不飽和カルボニル化合物を得ることができる。
本発明の前記式〔1〕で表わされる不飽和エーテル化合
物は、そのエーテル結合(一〇−)を基準にして左側の
主鏡の少なくとも8位の炭素原子(すなわちC2)は炭
化水素基で置換され、Q位の炭素原子(すなわちC3)
は少なくとも1個の水素原子が結合していることが必要
である。
一方、右側の主鏡のQ位とB位の炭素は二重結合で結合
されていることもまた必要である。かような不飽和エー
テル化合物は容易に転位が起り、目的とする不飽和カル
ボニル化合物を得ることができる。前記不飽和エーテル
化合物中、C3は炭素原子に置換されたRの炭化水素基
は、飽和もしくは不飽和のいずれであってもよく、炭素
数1〜40の炭化水素(殊にメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基の如き炭素数1〜10の炭化水素)が
好適である。一方、前記不飽和ェ−テルを形成している
R,〜R8について説明すると、R,、R2、R4、R
5及びR8は同一もしくは異なっていてもよく、水素原
子又は炭素数1〜4い好ましくは炭素数1〜20の飽和
あるいは不飽和の炭化原子である。
またR3は水素原子を表わす。さらにR6とR7は同一
もしくは異なっていてもよく、飽和もしくは不飽和の炭
化水素すなわち炭素数1〜40の炭化水素(殊にメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜1
0の炭化水素)であって互いに結合して脂肪族環(例え
ば、シクロヘプテン、シクロヘキセン環等の4〜8員環
であって炭化水素の置換基を有していてもよい)を形成
するものである。本発明における前記不飽和エーテル化
合物の好ましい具体的化合物の一例について説明すると
下記の如くである。これらは単なる−例に過ぎないので
あり、本発明は何等これらに限定されるものではない。
すなわち、前記不飽和エーテル化合物を式×−○−Yで
示すと×は前記一般式〔1〕中の を示し、また Yは前記一般式〔1〕中の 基を示すものとする。
X−と−Yとは夫々下記のものが好適な例として挙げら
れる。
‘1’ X−基 ‘21 Y−基 本発明の不飽和エーテル化合物は、前記したようにX−
○−Yで表わされ、具体例としては、前記x−1とy−
1とを粗合せたものである。
最も工業的に有用な化合物について説明すると下記のも
のである。本発明の転位反応は、触媒の存在或は非存在
のいずれでも行なうことができるが、特に触媒を使用し
なくとも所望の反応は進行する。
また、反応は気相、液相のいずれでも実施しうるが、一
般に液相で実施するのが好ましい。
その際、溶媒を使用してもよくまた使用しなくてもよい
。溶媒を使用する場合、その例としては反応に悪影響を
、及ぼさないものであればよく、例えば下記のものを使
用することができる。川 脂肪族炭化水素 例えばプロパン、ブタン、ベンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等【ii} 脂肪族炭化水素 例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチ
ルシクロヘキサン、デカリン等価 芳香族炭化水素 例えば、ベンゼン、トルェン、キシレン(オルソ、メタ
、パラ)、クメン、テトラリン等他 ハロゲン化炭化水
素例えば、四塩炭素、メチレンクロラィド、クロロホル
ム、ジクロルエタン、トリクロロエタン、テトラクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等‘V)ヱ
ー7ル 例えば、ジェチルェーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等M} エステル. 例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、フ
タル酸ジメチル、フタル酸ジェチル、フタル酸ジブチル
等これら溶媒のうち特に好ましいのは炭素数1〜20の
‘肌旨肪族炭化水素、炭素数1〜20の{iio芳香族
炭化水素である。
本発明の反応は、一般に50〜500の温度が適当であ
る。
反応温度は100〜400℃、特に130〜400qo
の就中150〜350qoの範囲が有利である。また圧
力は減圧、常圧、加圧のいずれであってもよい。反応時
間は、一般に1秒以上である。通常液の場合には10秒
〜10鼠時間、好ましくは30秒〜70時間、特に好ま
しくは1分〜lq時間が有利である。本発明方法は回分
式、連続式の何れでも行なうことができる。次に、実施
例を掲げて本発明を詳述するが、本発明はそれに何等限
定されない。
実施例中の分析データ中、赤外線吸収スペクトルは島津
IR−27一G回析格子型器、セルとしてKBr板を用
いて測定、NMRデータは日本電子GNM−MH−10
の型器(10加MHz)C CI必容煤を用いて測定し
た。
分子量及び元素分析値は日本電子JMS−D−10頂型
マススベトロメータ−による高分解熊マススベクトルに
より測定又反応結果の定量分析ガスクロマトグラフィ法
により行い、使用した装置は析本−G−8頂型ガスクロ
マトグラムで、カラムは主にOV−170.5%ガラス
ビーズ担体をつめた2のガラスカラムを用いた。
実施例 1 8−メチルクロトンアルデヒドジエチルアセタールと8
ーシクロゲラニオールとのアルコール交換反応により合
成した1・1ージー(6−シクロゲ・ラニルキシ)−3
−メチル一2ーブテン2礎部、キシレン43部、硝酸ア
ンモニウム0.1部をフラスコに仕込み減圧下(20肌
Hg)にキシレンを留出後、俗温を100q○以下に保
ち、内容物を反応を完結させながら蟹出せしめる。
留出物をさらに再蒸留した結果B.P.46.5℃/側
Hgの留分を5.15部を得た。
その留分に関するNMR、IR、高分解館マススベクト
ル分析の結果、1一(3−シクロゲラニルキシ)−3−
メチル−1・3−プタジェンであることを確認した。分
析データは表−Aの〔1〕欄に示した。実施例 2 実施例1で合成した1一(8ーシクロゲラニルキシ)一
3ーメチルー1・3ーブタジヱン0.05、ベンゼン0
.87部を封管に仕込み、N2置換し、250℃で5分
反応後ガスクロ分析した結果、1−(3−シクロゲラニ
ルキシ)一3ーメチル−1・3−プタジェンの転化率が
95.5%、8−ジ/・ィドロシオニリデンアセトアル
デヒドの選択率が47.6%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式〔I〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、式中Rは炭素数1〜40の炭化水素基;R_1
    、R_2、R_4、R_5及びR_8は同一又は異なる
    水素原子もしくは炭素数1〜40の炭化水素基;R_3
    は水素原子;R_6とR_7は同一もしくは異なる炭素
    数1〜40の炭化水素基であつて互いに結合して脂肪族
    環を形成する。 〕で表わされる不飽和エーテル化合物を転位せしめるこ
    とを特徴とする下記一般式〔II〕▲数式、化学式、表等
    があります▼ 〔但し式中、R、R_1〜R_8は前記の定義と同じ〕
    で表わされる不飽和カルボニル化合物の製造法。
JP6594284A 1984-04-04 1984-04-04 不飽和カルボニル化合物の製造法 Expired JPS6039661B2 (ja)

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