JPS6036458A - β−ラクタム誘導体の製造法 - Google Patents
β−ラクタム誘導体の製造法Info
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- JPS6036458A JPS6036458A JP58145233A JP14523383A JPS6036458A JP S6036458 A JPS6036458 A JP S6036458A JP 58145233 A JP58145233 A JP 58145233A JP 14523383 A JP14523383 A JP 14523383A JP S6036458 A JPS6036458 A JP S6036458A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(I)
1
QI3G、、、l’l;lIC0OI−1(I)〔式中
、Rエ は水素原子または低級アルキル基を示す。〕 で表わされるカルボン酸の活性酸無水物と一般式flu
) 〔式中、R2は置換基内に不斉炭素を有するカルボキシ
ル基の保護基を示し、R3は窒素原子の保護基を示す。
、Rエ は水素原子または低級アルキル基を示す。〕 で表わされるカルボン酸の活性酸無水物と一般式flu
) 〔式中、R2は置換基内に不斉炭素を有するカルボキシ
ル基の保護基を示し、R3は窒素原子の保護基を示す。
〕
で表わされるシップ塩基とを塩基の存在下で反応させる
ことによる一般式側 艮。
ことによる一般式側 艮。
〔式中、kl、R2およびR3は前述と同じ意味を有す
る。〕 で表わされるβ−ラククト化合物の製造法1こ凹する。
る。〕 で表わされるβ−ラククト化合物の製造法1こ凹する。
前記式におりるに1.R2,R3について詳細に述べる
。艮、におりる低級アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜4の低級アル
キル基を挙げることができる。
。艮、におりる低級アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜4の低級アル
キル基を挙げることができる。
R2としては置換ノ、(内に不斉炭素をイfするカルボ
キシル基の保護基であれば特に限)屁はないが、例えば
アルキルもしくはアルケニル基またはアルアルキル基等
を挙げることができる。
キシル基の保護基であれば特に限)屁はないが、例えば
アルキルもしくはアルケニル基またはアルアルキル基等
を挙げることができる。
アルキルもしくはアルケニル基の例としては、例えば1
−ブチルブロビル基、1−・メチルブヂル基のようなσ
位の炭素がメチル基で置換された炭素数3〜5の直鎖状
アルキル基、1−メチル−1−エヂルブチル基等の炭素
数7〜10の非対称三級アルキル基、メント−ル、ボル
ネオール、イソボルネオール、ビコカンフェオール、コ
レスプロール、テストステロン等のテルペンあるいはス
テロイド類の骨格を有し、それらから誘導される環状あ
るいは多環状アルキル基を挙げることができ、さらにそ
れらから誘導されるアルケニル基を挙げることができる
。
−ブチルブロビル基、1−・メチルブヂル基のようなσ
位の炭素がメチル基で置換された炭素数3〜5の直鎖状
アルキル基、1−メチル−1−エヂルブチル基等の炭素
数7〜10の非対称三級アルキル基、メント−ル、ボル
ネオール、イソボルネオール、ビコカンフェオール、コ
レスプロール、テストステロン等のテルペンあるいはス
テロイド類の骨格を有し、それらから誘導される環状あ
るいは多環状アルキル基を挙げることができ、さらにそ
れらから誘導されるアルケニル基を挙げることができる
。
次にアルアルキル基であるがその例としては、1−フェ
ニルエチル基あるいはフェニル環上に炭素数1〜3の低
級アルキル基、弗素、塩素、臭素などのハロゲン原子、
炭素数1〜3の低級アルコキシル基、二1・口基特各種
の置換基が置換した1−フェニルエチル基を、また、f
−(1−ナフチル)エチル基、1−(2−ナフチル)エ
チル基等を挙げることができる。
ニルエチル基あるいはフェニル環上に炭素数1〜3の低
級アルキル基、弗素、塩素、臭素などのハロゲン原子、
炭素数1〜3の低級アルコキシル基、二1・口基特各種
の置換基が置換した1−フェニルエチル基を、また、f
−(1−ナフチル)エチル基、1−(2−ナフチル)エ
チル基等を挙げることができる。
以下、本発明方法を詳細に説明する。
一般式(11で表わされるカルボン酸の活性酸無水物誘
導体と一般式(IIIで表わされるシッフ塩基とを不活
性層媒中、塩基の存在下で反応させることにより一般式
(町で表わされるβ−ラクタム化合物を製造することが
できる。
導体と一般式(IIIで表わされるシッフ塩基とを不活
性層媒中、塩基の存在下で反応させることにより一般式
(町で表わされるβ−ラクタム化合物を製造することが
できる。
カルボン酸誘導体(I)の活性酸無水物としては、酸ク
ロリド、酸プロミド等の酸ハライド類、エチル クロロ
ホーメイト等のクロル肖酸ニスデル、あるいは無水トリ
フルオロ酢酸等とカルボン酸誘導体(11とを塩基の存
在下で処理することによって得られる混合酸無水物類等
、通常の方法によって得られる各種の活性体を用いるこ
とが可能であるが酸クロリドが好適である。
ロリド、酸プロミド等の酸ハライド類、エチル クロロ
ホーメイト等のクロル肖酸ニスデル、あるいは無水トリ
フルオロ酢酸等とカルボン酸誘導体(11とを塩基の存
在下で処理することによって得られる混合酸無水物類等
、通常の方法によって得られる各種の活性体を用いるこ
とが可能であるが酸クロリドが好適である。
不活性温媒としては、ベンゼン、I・ルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム
、■、2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類ま
たはそれらの混合物が好適なf8媒ということができる
が、ジエチルエーテル、デトラヒドロフラン、ジオキ→
)′ン、ヘキサン等各種の溶媒も用いることが可能であ
る。
等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム
、■、2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類ま
たはそれらの混合物が好適なf8媒ということができる
が、ジエチルエーテル、デトラヒドロフラン、ジオキ→
)′ン、ヘキサン等各種の溶媒も用いることが可能であ
る。
本反応に用いられる塩基としではトリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン類、イ
ミダゾール等の各種有機アミンが可能であるが、トリエ
チルアミン、イミダゾール等が好適なものということが
できる。
イソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン類、イ
ミダゾール等の各種有機アミンが可能であるが、トリエ
チルアミン、イミダゾール等が好適なものということが
できる。
また塩基の貝としCは反応が充分進行するだけの景が必
要であるが、通常let、 、用いるカルボン酸の活性
酸無水物の1〜1.5倍モル量である。
要であるが、通常let、 、用いるカルボン酸の活性
酸無水物の1〜1.5倍モル量である。
反応温度とし7てcj、冷却または加熱により反応を抑
制または促進させることが可能であり、好適には、−2
0°C〜110℃である。
制または促進させることが可能であり、好適には、−2
0°C〜110℃である。
反応終了後、本反応の目的化合物は通常の有機化学的手
段によって取り出すことができる。
段によって取り出すことができる。
次に、本発明方法で得られる前記一般式(ITI)で表
わされる化合物の立体構造について述べる。
わされる化合物の立体構造について述べる。
本発明方法で得られる前記一般式(Ill)で示される
化合物では3−アルケニル基と4位エステル基間にシス
、トランスの二つの立体関係があり立体異性体が、また
3位、4位ともに不斉炭素であり光学異性体が存在し、
それらの異性体全でか便宜」1単−の式で示されている
が、これによって本発明の範囲が限定されるものでない
。
化合物では3−アルケニル基と4位エステル基間にシス
、トランスの二つの立体関係があり立体異性体が、また
3位、4位ともに不斉炭素であり光学異性体が存在し、
それらの異性体全でか便宜」1単−の式で示されている
が、これによって本発明の範囲が限定されるものでない
。
し、かじながら、前述した化合物(Tr[]の製法から
は非常に高い選択性でβ−ラクタム環の3位アルケニル
基と4位エステル基の立体関係がシスの化合物を得るこ
とができる。
は非常に高い選択性でβ−ラクタム環の3位アルケニル
基と4位エステル基の立体関係がシスの化合物を得るこ
とができる。
次に光学異性体について記述するが、一般式における3
、4位の関係がSノス門係である場合を考え、4位の立
体についてのみ説明する。
、4位の関係がSノス門係である場合を考え、4位の立
体についてのみ説明する。
4位の不斉炭素にはS配位とR配位が存在する。−力、
r、内にも不斉炭素が存在し、これが一つだけの場合に
は、R2内の不斉炭素にっいてもS UN位とに配位の
二つの配位がある。したがってこの場合の生成物として
、(ラクタム環4位の配位、R2の配位)として表記す
ると(S−+5)+(S+R)+(”+”)+(”+R
)の4つの異性体が存在することになり、(s 、s)
体と(R2R)体、(S、R)体と(R,S)体は各々
鏡像体の関係にあり、例えば(S、S)体と(S、R)
体、(RIS)体と(R、R)体はジアステレオマーの
関係となる。
r、内にも不斉炭素が存在し、これが一つだけの場合に
は、R2内の不斉炭素にっいてもS UN位とに配位の
二つの配位がある。したがってこの場合の生成物として
、(ラクタム環4位の配位、R2の配位)として表記す
ると(S−+5)+(S+R)+(”+”)+(”+R
)の4つの異性体が存在することになり、(s 、s)
体と(R2R)体、(S、R)体と(R,S)体は各々
鏡像体の関係にあり、例えば(S、S)体と(S、R)
体、(RIS)体と(R、R)体はジアステレオマーの
関係となる。
したがってR2基として例えばに配位を有する光学活性
基を導入した場合には、生成物として(R,R)体と(
S、R)体が得られる。それらは、ジアステレオマーの
関係であり、通常の有11化学的手段、例えば結晶化あ
るいは各種のクロマトグラフィー等によっての分離が可
能である。また、さらに化学反応により化学修飾した後
での分離も可能であり、例えば特開昭58−99463
号公報記載の方法に従って得られる一般式(IV)で
表わされる化合物またはさらに酸化して得られる一般式
(V) OHO (■)(V) 〔式中、R2,R3は前述と同じ意味を有する。〕 で表わされる化合物に誘導後分離する等が可能である。
基を導入した場合には、生成物として(R,R)体と(
S、R)体が得られる。それらは、ジアステレオマーの
関係であり、通常の有11化学的手段、例えば結晶化あ
るいは各種のクロマトグラフィー等によっての分離が可
能である。また、さらに化学反応により化学修飾した後
での分離も可能であり、例えば特開昭58−99463
号公報記載の方法に従って得られる一般式(IV)で
表わされる化合物またはさらに酸化して得られる一般式
(V) OHO (■)(V) 〔式中、R2,R3は前述と同じ意味を有する。〕 で表わされる化合物に誘導後分離する等が可能である。
本発明方法による化合物(In)の製造において光学活
性な置換基R2を用いる場合には、β−ラクタム環上の
4位のS配位とR配位の二つの異性体が、用いるR2に
よ−てその生成比は異なるが、一方がより多く生成する
という特徴を有している。
性な置換基R2を用いる場合には、β−ラクタム環上の
4位のS配位とR配位の二つの異性体が、用いるR2に
よ−てその生成比は異なるが、一方がより多く生成する
という特徴を有している。
すなわち、R2がl−(@−メンチル基であり、kiカ
シ−P−アニシルメチル基(DAM) てあの二つの異
性体が生成するが(■りと(■b)の生成比が約1:2
となる。これらp異性体は高速液体クロマI・グラフィ
ーによる分離が可能であり、また結晶化による分離も可
能である。一方、d−()l−メンチル基を用いた場合
は式(Jll c )l(Jlld ) で表わされる二つの生成物が生成するが(mc)と(l
IId)の生成比は約2:1となる。
シ−P−アニシルメチル基(DAM) てあの二つの異
性体が生成するが(■りと(■b)の生成比が約1:2
となる。これらp異性体は高速液体クロマI・グラフィ
ーによる分離が可能であり、また結晶化による分離も可
能である。一方、d−()l−メンチル基を用いた場合
は式(Jll c )l(Jlld ) で表わされる二つの生成物が生成するが(mc)と(l
IId)の生成比は約2:1となる。
以上に述べたように、本発明方法においてはシッフ塩基
([I)のカルボキシル基の保護基(R3)に、不斉炭
素を有し光学活性な置換基を用いることにより、β−ラ
クタム化合物(11+1の製造に際し、β−ラクタム環
の4位の不斉炭素に関して一方の立体配位を有する光学
異性体をより多く含んだ生成物を得ることができる有用
な方法である。
([I)のカルボキシル基の保護基(R3)に、不斉炭
素を有し光学活性な置換基を用いることにより、β−ラ
クタム化合物(11+1の製造に際し、β−ラクタム環
の4位の不斉炭素に関して一方の立体配位を有する光学
異性体をより多く含んだ生成物を得ることができる有用
な方法である。
なお、3位、4位の立体関係がシスであることから3位
についてもその立体は4位と同様に制御されている。ま
た、それらの混合物はそのまま抗菌活性を有する各種β
−ラクタム抗菌剤の原料として用いることもできるが、
必要に応じ化合物(j■)の状態であるいは前述したよ
うにいくつかの化学修飾を行った段階で所望する異性体
を分離することもできる。
についてもその立体は4位と同様に制御されている。ま
た、それらの混合物はそのまま抗菌活性を有する各種β
−ラクタム抗菌剤の原料として用いることもできるが、
必要に応じ化合物(j■)の状態であるいは前述したよ
うにいくつかの化学修飾を行った段階で所望する異性体
を分離することもできる。
本発明で製造される生成物(IIT)は近年、その抗菌
剤として有用であることがわかり、注目されているベネ
J、 ffJ導体あるいはカルバペネム誘導体を製造す
る上での有用な中間体となりうるものであり、たとえば
以下の方法でそれらの抗か1 菌活性を有する誘導体へ導びくこと棒可能である。例と
して先に述べたに□が水素原子、k2Ml−メンチル基
でR3がDAMの場合につい(nte) 化合物(me)を水の存在下、メタノール、エタノール
、テトラヒドロフラン等の溶媒中で苛性ソーダ、苛性カ
リ、炭酸ソーダ等と処理することによってエステル基が
加水分解され、かつβ−ラクタムの3位、4位の立体関
係がトランスになった化合物(勺を得ることができる。
剤として有用であることがわかり、注目されているベネ
J、 ffJ導体あるいはカルバペネム誘導体を製造す
る上での有用な中間体となりうるものであり、たとえば
以下の方法でそれらの抗か1 菌活性を有する誘導体へ導びくこと棒可能である。例と
して先に述べたに□が水素原子、k2Ml−メンチル基
でR3がDAMの場合につい(nte) 化合物(me)を水の存在下、メタノール、エタノール
、テトラヒドロフラン等の溶媒中で苛性ソーダ、苛性カ
リ、炭酸ソーダ等と処理することによってエステル基が
加水分解され、かつβ−ラクタムの3位、4位の立体関
係がトランスになった化合物(勺を得ることができる。
化合物fAlは特開昭58−99’4’(13号公報等
で公知の化合物であり、それらは容易にベネムあるいは
カルバペネム誘導体の原料として公知の一般弐f”)〔
式中、Roは水酸基の保護基を示す。〕で表わされる化
合物に該当することが可能である。
で公知の化合物であり、それらは容易にベネムあるいは
カルバペネム誘導体の原料として公知の一般弐f”)〔
式中、Roは水酸基の保護基を示す。〕で表わされる化
合物に該当することが可能である。
また、R□ がメチル基、R2がで−メンデル基、R3
がDAMの場合について述べると(囲り (D) 、[ (F−) 化合物(III Oを、たとえば介帰ダづ吻監酢酸エチ
ル、塩化メチレン等の不活性溶媒中で副ゾノリシスする
ことによって化合物F)lへ専びくことが可能であり、
化合物(I))を水素化ホウ素ナトリウム、ポラン−ジ
イソプロピ、・1ノアミン等で還元後、先に述べたと同
様の方法によってエステルの加水分解を行うことにより
化合物(E)へ誘導することが可能である。化合物+E
+は、先に述べた化合物間と同様に化合物但)の有用な
原料として公知の化合物である。(特開昭58−994
63号公報) なお、シッフ塩基(II)の原料グルオキシレート類の
製造につい′Cはいくつかの方法が報告されているが、
例えば、以下の方法によって合成することができる。
がDAMの場合について述べると(囲り (D) 、[ (F−) 化合物(III Oを、たとえば介帰ダづ吻監酢酸エチ
ル、塩化メチレン等の不活性溶媒中で副ゾノリシスする
ことによって化合物F)lへ専びくことが可能であり、
化合物(I))を水素化ホウ素ナトリウム、ポラン−ジ
イソプロピ、・1ノアミン等で還元後、先に述べたと同
様の方法によってエステルの加水分解を行うことにより
化合物(E)へ誘導することが可能である。化合物+E
+は、先に述べた化合物間と同様に化合物但)の有用な
原料として公知の化合物である。(特開昭58−994
63号公報) なお、シッフ塩基(II)の原料グルオキシレート類の
製造につい′Cはいくつかの方法が報告されているが、
例えば、以下の方法によって合成することができる。
Rx0II 、4− T3rC1I2COOII−HJ
3.C112COOR。
3.C112COOR。
(al
−→02NOC:11pC00Rx −曾0IZCC0
0Rx(’l(cl 〔式中、Ro は前述と同じ意味を有する〕すなわち、
Roczik、i Chemii 、 44(11)、
2161(1970)に記載の方法(上記ルート)に
檗じて合成することができる。
0Rx(’l(cl 〔式中、Ro は前述と同じ意味を有する〕すなわち、
Roczik、i Chemii 、 44(11)、
2161(1970)に記載の方法(上記ルート)に
檗じて合成することができる。
なお、ブロモ酢酸エステル(alはアルコール誘導体と
ブロモアセチルブロマイドとをトリエチルアミン、ジメ
チルアミノピリジン等の塩基の存在下で反応させること
によっても合成することができる。
ブロモアセチルブロマイドとをトリエチルアミン、ジメ
チルアミノピリジン等の塩基の存在下で反応させること
によっても合成することができる。
げ゛
次に実施例および参考例を挙發て本発明をさらに説明す
るが、本発明は、これによってなんら限定されるもので
はない。
るが、本発明は、これによってなんら限定されるもので
はない。
なお、以下の実施例等で用いた略号の、テ噸、味IJf
′にのとおりである。
′にのとおりである。
:DAM
P−メトキシフェニル基 :PMP
l)−メトギンベンジルノi% : l)Mlld−(
ト)−メンチル基 : d −me 11 L高速液体
クロマトグラフィー : III”LC〔実施例1〕 ジーP−アニシルメチルアミン(243”Q、l m
M )と抱水グリオキシル酸l−f−)−メンチルエス
テル(23Off、1 mM >の乾燥トルエン(24
mt )溶液を共沸脱水し、留去量と同量の乾燥トルエ
ンを加え、さらにトリエチルアミン(151”7.1.
5 tn M )を加えた。その溶液に70℃でクロト
ン酸クロリド(126!、1.2mM)を含む乾燥I、
ルエン(2,0i )溶液を20分間で滴下し、毒時間
同温度で攪拌後、反応液をトルエンて希釈し、食塩水、
I N −HCI!水、食塩水、重曹水、食塩水で順次
洗浄後、芒硝乾燥、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製することにより3−
エチニル−1−(ジーP−アニシルメチル)−1,/−
(−1−メンチルオキシカルボニル−2−アゼデジノン
(463π2.92チ ) を得 ゾこ 。
ト)−メンチル基 : d −me 11 L高速液体
クロマトグラフィー : III”LC〔実施例1〕 ジーP−アニシルメチルアミン(243”Q、l m
M )と抱水グリオキシル酸l−f−)−メンチルエス
テル(23Off、1 mM >の乾燥トルエン(24
mt )溶液を共沸脱水し、留去量と同量の乾燥トルエ
ンを加え、さらにトリエチルアミン(151”7.1.
5 tn M )を加えた。その溶液に70℃でクロト
ン酸クロリド(126!、1.2mM)を含む乾燥I、
ルエン(2,0i )溶液を20分間で滴下し、毒時間
同温度で攪拌後、反応液をトルエンて希釈し、食塩水、
I N −HCI!水、食塩水、重曹水、食塩水で順次
洗浄後、芒硝乾燥、溶媒留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製することにより3−
エチニル−1−(ジーP−アニシルメチル)−1,/−
(−1−メンチルオキシカルボニル−2−アゼデジノン
(463π2.92チ ) を得 ゾこ 。
88分〕での分析で4R体と4S体の生成比は約1対2
であった。
であった。
この二つの異性体をメタノールから結晶化することによ
って4R体と4S体の比が約1対3(HrLC分析)の
結晶を得た。
って4R体と4S体の比が約1対3(HrLC分析)の
結晶を得た。
m、p、141〜145°C
’ol −1。
IR”” (CIl+ ) −1,776,17+32
.1733゜ax 1612.1511.1,252,1200.11B0
,1110゜1030.018 NMRδ(C6D6) : 3.5〜3.8 (bro
ad。
.1733゜ax 1612.1511.1,252,1200.11B0
,1110゜1030.018 NMRδ(C6D6) : 3.5〜3.8 (bro
ad。
d−d 、J′:′6IIz;′:8.511z) 、
3.9+3.3.95(l II 、d J=6H7) さらに上述のm、P、 141〜145℃の結晶(10
0”Y)をメタノール(6ml )を用い再晴品ずろこ
とにより4S体の結晶(40〜)を 得 メこ 。 m
、P、 148 〜150 ℃IR” (cm−1)
: 1774,1730,1t310゜maλ 1512.1307,1250,1200.117B、
1111 。
3.9+3.3.95(l II 、d J=6H7) さらに上述のm、P、 141〜145℃の結晶(10
0”Y)をメタノール(6ml )を用い再晴品ずろこ
とにより4S体の結晶(40〜)を 得 メこ 。 m
、P、 148 〜150 ℃IR” (cm−1)
: 1774,1730,1t310゜maλ 1512.1307,1250,1200.117B、
1111 。
1030.927
上記再結晶を液の4R体と4S体の比は約3.7対1(
HPLC分析)であった。
HPLC分析)であった。
(1−2)
ジーP−アニシルブチルアミン(486”r。
2 mmole )と抱水グリオキシル酸1−F)−メ
ンチルエステル(400mV 、 2 mm、ole
)の乾燥トルエン(24=4 )溶液を共沸脱水し、留
去量と同量の乾燥l・ルエンを加え、トリエヂルア°ミ
ン(0,42ml 、 3.0 mtn、ole)を加
えた。その溶液に70℃でクロトン酸クロリド(0,2
3ml 、 2.4 rnmole:) を含む乾燥ト
ルエン(1,0m1)溶液を28う)間で滴下、35分
間同温度で攪拌後、室温で一夜放置した。反応液をトル
エンて希釈し、冷IN−IIC/水、食塩水、重曹水、
食塩水で順次洗浄後芒硝乾燥、溶媒留去後、メタノール
を加え、析出する結晶を洲別すること1こより3−エチ
ニル−1−(ジーP−アニシルメチル)−4−r−←)
−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(63
9’! 。
ンチルエステル(400mV 、 2 mm、ole
)の乾燥トルエン(24=4 )溶液を共沸脱水し、留
去量と同量の乾燥l・ルエンを加え、トリエヂルア°ミ
ン(0,42ml 、 3.0 mtn、ole)を加
えた。その溶液に70℃でクロトン酸クロリド(0,2
3ml 、 2.4 rnmole:) を含む乾燥ト
ルエン(1,0m1)溶液を28う)間で滴下、35分
間同温度で攪拌後、室温で一夜放置した。反応液をトル
エンて希釈し、冷IN−IIC/水、食塩水、重曹水、
食塩水で順次洗浄後芒硝乾燥、溶媒留去後、メタノール
を加え、析出する結晶を洲別すること1こより3−エチ
ニル−1−(ジーP−アニシルメチル)−4−r−←)
−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノン(63
9’! 。
6 3 グ ) を 得 プこ 。
本結晶のJR、NMRは(1−1)で得たものと同様の
スペクトルを示し、II P L C分析では48体と
4R体の比は約5=2であった。
スペクトルを示し、II P L C分析では48体と
4R体の比は約5=2であった。
なお、−に記4S体と4 R体の比は下記反応後の生成
物の分析を行うことによっても め ノこ 。
物の分析を行うことによっても め ノこ 。
上で得た結晶(110y7? 、 0.2mmole
)を1トラヒドロフラン(3rnl)とメタノール(1
,5mZ)に溶解し、l N −NaCH1水(0,2
1ml )を加え、水冷下1時間攪拌後、水で希釈し、
エーテル抽出した。水層を塩酸酸性にした後、酢酸エチ
ル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去により3−エチニル
−1−(ジーP−アニシルブチル)−2−アゼチジノン
−4−カルボン酸の3.4−トランス体(59”? 、
IR”I01!3 (CIll 11) 。
)を1トラヒドロフラン(3rnl)とメタノール(1
,5mZ)に溶解し、l N −NaCH1水(0,2
1ml )を加え、水冷下1時間攪拌後、水で希釈し、
エーテル抽出した。水層を塩酸酸性にした後、酢酸エチ
ル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去により3−エチニル
−1−(ジーP−アニシルブチル)−2−アゼチジノン
−4−カルボン酸の3.4−トランス体(59”? 、
IR”I01!3 (CIll 11) 。
ax
1753.1612,1297,1245,1170,
1109,1027゜828)を得た。
1109,1027゜828)を得た。
そのカルボン酸(40π2)を塩化メチレン(2,5m
t )に溶解し、触媒Mのジメチルホルムアミドを加え
、オキザリルクロリド(19η)を加え室温で065時
間攪拌後、過剰のlキザリルクロリド、溶媒等を減圧留
去した。残渣を塩化メチレン(2,5ml )に溶解し
、4−ジメチルアミノピリジン(1B’r)、1−(−
1−メントー/1z(23”V)の塩化メチレン(1,
5m/)溶液を水冷下滴下し、0.5時間攪拌後、塩化
メチレン希釈、2 N −HCl水、食塩水、重曹水、
食塩水で順次洗浄後芒硝乾燥、溶媒留去した。
t )に溶解し、触媒Mのジメチルホルムアミドを加え
、オキザリルクロリド(19η)を加え室温で065時
間攪拌後、過剰のlキザリルクロリド、溶媒等を減圧留
去した。残渣を塩化メチレン(2,5ml )に溶解し
、4−ジメチルアミノピリジン(1B’r)、1−(−
1−メントー/1z(23”V)の塩化メチレン(1,
5m/)溶液を水冷下滴下し、0.5時間攪拌後、塩化
メチレン希釈、2 N −HCl水、食塩水、重曹水、
食塩水で順次洗浄後芒硝乾燥、溶媒留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにJlft
’fPJし、3−エチニル−1−(ジーP−アニシルメ
チル)=4−(ll−メンチルオキシカルボニル−2−
アゼチジノンを得 lこ 。
’fPJし、3−エチニル−1−(ジーP−アニシルメ
チル)=4−(ll−メンチルオキシカルボニル−2−
アゼチジノンを得 lこ 。
II、nujol(個−1) : 1755.1610
,1450゜nX 1295.1175,1110,1020,982,9
48NMRδ (CI)C43) : 3.79(61
(、S)。
,1450゜nX 1295.1175,1110,1020,982,9
48NMRδ (CI)C43) : 3.79(61
(、S)。
5.83(IH,8) P、P、m。
これを別途合成標品を用いて、HP L Cで同定分析
したところ(3R,45)−1−(’)−p−アニシル
メチル)−3−エチニル−4−l−1−)−メ〕/デル
オキシカルボニルー2−アゼデジノンと(35,4R)
−1−(ジー■)−アニシルメチル)−3−エチニル−
4−l−(−1−メンチルオ今ジカルボニルー2−アゼ
チジノンの比は、”2.6であった。
したところ(3R,45)−1−(’)−p−アニシル
メチル)−3−エチニル−4−l−1−)−メ〕/デル
オキシカルボニルー2−アゼデジノンと(35,4R)
−1−(ジー■)−アニシルメチル)−3−エチニル−
4−l−(−1−メンチルオ今ジカルボニルー2−アゼ
チジノンの比は、”2.6であった。
(1−3)
実施例(1−1)と同操作を抱水グリオキシル酸J−H
−メンチル上ステルのかわりに抱水グリオ片シル酸d
−fト)−メンチル” ステ/l/ ヲ用い行うことに
より3−エチニル−1−(ジーl)−アニシルメチル)
−4−d(4−1−メンチルオギシ力ルボニルー2−r
ゼチジノン(414W、82%)を得た。
−メンチル上ステルのかわりに抱水グリオ片シル酸d
−fト)−メンチル” ステ/l/ ヲ用い行うことに
より3−エチニル−1−(ジーl)−アニシルメチル)
−4−d(4−1−メンチルオギシ力ルボニルー2−r
ゼチジノン(414W、82%)を得た。
IR””3 (cm−1) : 1755,11308
,1455゜ax 1295.1172,1092,1020,983,9
50なお、そのに体と5体の生成比は約2対1(If
P L C分析)であった。
,1455゜ax 1295.1172,1092,1020,983,9
50なお、そのに体と5体の生成比は約2対1(If
P L C分析)であった。
〔実施例2〕
(2−1)
ジーP−アニシルメチルアミン(4B(3■。
2m M )と抱水グリオキシル酸−d−(ト)−メン
デルエステル(4QOff 、 2tnPif)の乾燥
トルエン(24mt )溶液を共沸脱水し留去量と同量
の乾燥l・ルエンを加え、トリエチルアミン(303F
”5’、3mM)を加えた。
デルエステル(4QOff 、 2tnPif)の乾燥
トルエン(24mt )溶液を共沸脱水し留去量と同量
の乾燥l・ルエンを加え、トリエチルアミン(303F
”5’、3mM)を加えた。
その溶液に70℃で3,3−ジメチルアクリ[1イルイ
!ロリド(286’F 、 2.4 m、M )を含む
I・ルエン溶液(5ml )を2時nuで滴干し、3時
間同温度で攪拌した。後処理は実施例(1−1)と同様
に行い、シリカゲルカラノ・クロマトグラフィーにより
vr製し3−(1−メチルエチニル)−1−(ジーP−
アニシルブチル)74−”(1−1メンチルオキシカル
ボニル−2−アゼチジノンを得ブこ。
!ロリド(286’F 、 2.4 m、M )を含む
I・ルエン溶液(5ml )を2時nuで滴干し、3時
間同温度で攪拌した。後処理は実施例(1−1)と同様
に行い、シリカゲルカラノ・クロマトグラフィーにより
vr製し3−(1−メチルエチニル)−1−(ジーP−
アニシルブチル)74−”(1−1メンチルオキシカル
ボニル−2−アゼチジノンを得ブこ。
t、x オ、Ill”LC(Licbrogorb■5
l−60(2本)、展開液1.0チ イソプロパノ−/
L/ −n −ヘキサン、流速0.7 ml/min
、4に体72分、45体77分〕での分析、で4に体と
4S体の生成比は約2対1であった。
l−60(2本)、展開液1.0チ イソプロパノ−/
L/ −n −ヘキサン、流速0.7 ml/min
、4に体72分、45体77分〕での分析、で4に体と
4S体の生成比は約2対1であった。
IR”””’ (cm−1) : 1753,1009
,1450゜ax 1172.1105,910゜ 上で得た生成物をメタノールから結晶化することにより
4R体と4S体の比が約30対1(HPLC分析)の結
晶を得た。
,1450゜ax 1172.1105,910゜ 上で得た生成物をメタノールから結晶化することにより
4R体と4S体の比が約30対1(HPLC分析)の結
晶を得た。
m、P、139〜140.5℃
IRnu”’ (cm ’) : 17(32,173
0,160B。
0,160B。
ax
1505.1303.123B、1215,1179,
1030゜960.812 NMRδ(C61)6) : 3,5(3(311,d
J=Q、411z)。
1030゜960.812 NMRδ(C61)6) : 3,5(3(311,d
J=Q、411z)。
3.93(if−1,d、J4.4Hz) P 、P
、m。
、m。
さらに」二連のin、P、 139〜140.5℃の結
晶をメタノールを用いて再結晶することにより4R体の
結晶を得た。
晶をメタノールを用いて再結晶することにより4R体の
結晶を得た。
m 、 p。 165゜5〜166℃(fII状品)(
2−2) ジ−p−アユシルメチルアミン(243■)、抱水グリ
オキシル酸−r−(−1メンチルエステル(230”r
)、■・リエチルアミン(151■)、3.3−ジメヂ
ルーアクリロイルクロライド(143Py)を各々用い
実施例(2−1)の方法に準じて反応、後処理を行い3
−(1−メチルエチニル)−1−(ジーP−丁ニシルブ
チル)−4−1’−H−メンチルオキシカルボニル2−
アゼチジノン(232mg )を得た。HP L Cテ
0) 4 R体、45体の比は約1:2であった。なお
NMRにおいては(2−1)で得たスペクトルと同様の
スペクトルを示した。
2−2) ジ−p−アユシルメチルアミン(243■)、抱水グリ
オキシル酸−r−(−1メンチルエステル(230”r
)、■・リエチルアミン(151■)、3.3−ジメヂ
ルーアクリロイルクロライド(143Py)を各々用い
実施例(2−1)の方法に準じて反応、後処理を行い3
−(1−メチルエチニル)−1−(ジーP−丁ニシルブ
チル)−4−1’−H−メンチルオキシカルボニル2−
アゼチジノン(232mg )を得た。HP L Cテ
0) 4 R体、45体の比は約1:2であった。なお
NMRにおいては(2−1)で得たスペクトルと同様の
スペクトルを示した。
なお、ここで得た3−(1−メチルエチニル)−1−ジ
ーP−アニシルメチル)−4−1−←)−メンチルオキ
シカルボニル−2−アゼチジノンの4R体と4S体の比
は以下の反応の生成物からもめた。
ーP−アニシルメチル)−4−1−←)−メンチルオキ
シカルボニル−2−アゼチジノンの4R体と4S体の比
は以下の反応の生成物からもめた。
3−(1−ブチルエテニル) −1,−(ジーP−アニ
シルメチル)−4−#−(−1−メンチルオキシカルボ
ニル−2−アゼチジノン(83mV 、 0.1(31
0M) ノ乾燥J’l/−/L/(8ml )混合液を
ドライアイス−アセトン浴で冷却しオゾンを導入し、約
30分後吹き込みをやめ、過剰のオゾンを窒素ガスで追
い出し、トリフェニルホスフィン(100η)を加え、
室温に放置後反応液を減圧溶媒留去し、残渣を薄層シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー精製し、3−アセデル
−1−(ジ−p−アユシルメチル)−4−1’−←−)
−メンチル詞ギシカルボニルー2−アゼデジ、ノンの3
.4−1−ランスイ本をj%ブこ。
シルメチル)−4−#−(−1−メンチルオキシカルボ
ニル−2−アゼチジノン(83mV 、 0.1(31
0M) ノ乾燥J’l/−/L/(8ml )混合液を
ドライアイス−アセトン浴で冷却しオゾンを導入し、約
30分後吹き込みをやめ、過剰のオゾンを窒素ガスで追
い出し、トリフェニルホスフィン(100η)を加え、
室温に放置後反応液を減圧溶媒留去し、残渣を薄層シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー精製し、3−アセデル
−1−(ジ−p−アユシルメチル)−4−1’−←−)
−メンチル詞ギシカルボニルー2−アゼデジ、ノンの3
.4−1−ランスイ本をj%ブこ。
)I P L C[Licl+rosorb■81 6
0r展in液;0゜5襲 イソブロノfノール−11−
ヘキツ。
0r展in液;0゜5襲 イソブロノfノール−11−
ヘキツ。
ン、流速1.5 m//1nin 、保持ff?jrI
f14Sイ木46分、4R体40分〕及びNMR分析に
よると本化合物の4R体と48(本の比(よ糸勺1:2
であった。
f14Sイ木46分、4R体40分〕及びNMR分析に
よると本化合物の4R体と48(本の比(よ糸勺1:2
であった。
IR,、、、、C(ctn ) −17Ci0.171
2 + 1505 + 1242 。
2 + 1505 + 1242 。
1170.1.03O
NNfP、δ(C61)、、) : 1.92,1.9
1(311,8)、3.2B。
1(311,8)、3.2B。
3.30(611,s)、4.11,4.01 (IH
,d、、J=2.4[−1l) 、4.75.4.79
(ill、d 、J=2.4Hz)p、p、nl な1づ、ここで得たアゼチジノン誘導4本ζよ参考イε
1]1て示す方法によって111ニイし合物とHPLC
:、心IMRで同定した。
,d、、J=2.4[−1l) 、4.75.4.79
(ill、d 、J=2.4Hz)p、p、nl な1づ、ここで得たアゼチジノン誘導4本ζよ参考イε
1]1て示す方法によって111ニイし合物とHPLC
:、心IMRで同定した。
〔実施例3〕
ジーP−アニシルブチルアミン(243■。
l m M )と抱水グリオキシル酸1−(51−←)
−フェニルエチルエステル(196”y、1mM)の乾
燥トルエン(12+++ff)溶液を共沸脱水し、留去
量と同門の乾力賃1、ルエンを加えトリエチルアミ7
(1507v、 1.5 mM )を加えた。その溶液
に70℃でクロ1−ン酸クロリド(135mV 、 1
.31nM )を含むトルエン溶液(xmt)を10分
で滴下し、2時間攪拌した。後処理は実施例(1−1)
と同様に行い、シリカゲルノJラムクロマトグラフィー
により精製し、3−エチニル−1−(ジ−p−アユシル
−メチル)−4−< 1−ts+−t→−フェニルエチ
ルオキシカルボ=ル)−2−Tゼチジ/ 7 (353
Tr′y、 75俤 ) を 得 メこ。
−フェニルエチルエステル(196”y、1mM)の乾
燥トルエン(12+++ff)溶液を共沸脱水し、留去
量と同門の乾力賃1、ルエンを加えトリエチルアミ7
(1507v、 1.5 mM )を加えた。その溶液
に70℃でクロ1−ン酸クロリド(135mV 、 1
.31nM )を含むトルエン溶液(xmt)を10分
で滴下し、2時間攪拌した。後処理は実施例(1−1)
と同様に行い、シリカゲルノJラムクロマトグラフィー
により精製し、3−エチニル−1−(ジ−p−アユシル
−メチル)−4−< 1−ts+−t→−フェニルエチ
ルオキシカルボ=ル)−2−Tゼチジ/ 7 (353
Tr′y、 75俤 ) を 得 メこ。
IR”” (c*−1) : 1753.1(313,
1587゜mλX 1512.14CiO,1302,1250,11B1
.1100゜1030.990.932.8213 NMRδ(C6D6) : 1.22,1゜24(37
1,d、J=Q 、6IIZ)、3.93(Ill、d
、J=1311z)なお、その4R体と45休の比は
約4;3(NMR分析)であった。
1587゜mλX 1512.14CiO,1302,1250,11B1
.1100゜1030.990.932.8213 NMRδ(C6D6) : 1.22,1゜24(37
1,d、J=Q 、6IIZ)、3.93(Ill、d
、J=1311z)なお、その4R体と45休の比は
約4;3(NMR分析)であった。
〔実施例4]
(4−1)
p −7= シジ7 (123W 、 1111M )
と抱水クリオキシル酸(ff+−←)−ボルニルエステ
ル(228’7.1mM)の乾燥トルエン(12ml
)溶液を共沸脱水し、留去p、と同月、の乾燥トルエン
を加え、1−リエチルアミン(156”S’ 、 1.
5 mM )を加えた。ぞの溶液に70℃でクロトン酸
クロリド(335■。
と抱水クリオキシル酸(ff+−←)−ボルニルエステ
ル(228’7.1mM)の乾燥トルエン(12ml
)溶液を共沸脱水し、留去p、と同月、の乾燥トルエン
を加え、1−リエチルアミン(156”S’ 、 1.
5 mM )を加えた。ぞの溶液に70℃でクロトン酸
クロリド(335■。
I、3mM)を含むトルエン液(1−)を10分間で滴
下し、2時間同温度で1:拌した。後処理は実施例(1
−1)と同様に行いシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、3−エチニル−1−(P−メトキシフ
ェニル)−4−、e−←)−ボルニル」キシカルボニル
−2−7ゼチジノン(341”V。
下し、2時間同温度で1:拌した。後処理は実施例(1
−1)と同様に行いシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、3−エチニル−1−(P−メトキシフ
ェニル)−4−、e−←)−ボルニル」キシカルボニル
−2−7ゼチジノン(341”V。
89%) を 得 ブこ 。
IR””” (CIl+−1) : 1743,151
39,1512゜ax 1444.1390,1297 .1243 .11.
1+3,103] 。
39,1512゜ax 1444.1390,1297 .1243 .11.
1+3,103] 。
988.936.827
NMRδ (CDCI!3) : 3.79(31−1
,s)、4.27(IH。
,s)、4.27(IH。
”+J−−a。6Hz)、4.67.4.69(IH,
d、J=QI[7,) なお、その4R体と4S体の比は約5ニア(NI(R分
析)であった。
d、J=QI[7,) なお、その4R体と4S体の比は約5ニア(NI(R分
析)であった。
(4−2)
1)AM
ジー1)−丁ニシルメチルアミン(243+++7゜l
m M )と抱水グリオキシル酸−J −(−1−ボ
ルニルエステル(228Q 、 1 mM)の乾燥l・
ルエン(12ml)溶液を共沸脱水し、留去量と同量の
乾燥トルエンを加え、イミダゾール(105m?、 1
.5 mM )を加えた。
m M )と抱水グリオキシル酸−J −(−1−ボ
ルニルエステル(228Q 、 1 mM)の乾燥l・
ルエン(12ml)溶液を共沸脱水し、留去量と同量の
乾燥トルエンを加え、イミダゾール(105m?、 1
.5 mM )を加えた。
その溶液に70℃でクロトン酸クロリド(135rn7
.1.3 mM )を含むトルエン溶液(1−)を7分
で滴下し、2時間攪拌した。
.1.3 mM )を含むトルエン溶液(1−)を7分
で滴下し、2時間攪拌した。
後処理は実施例(1−1)と同様に行い、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、3−エチニル−
1−(ジーP−メトキシフェニルメチル)−4−I!−
(−3−ボルニルオキシカルボニル−2−アゼチジノン
(277〜、55チ)を得た。
ラムクロマトグラフィーにより精製し、3−エチニル−
1−(ジーP−メトキシフェニルメチル)−4−I!−
(−3−ボルニルオキシカルボニル−2−アゼチジノン
(277〜、55チ)を得た。
4R体と4S体の生成比はめていない。
■Ry−,”、” (CI ’) : 1750+16
09,1582゜150B、1455,1387,13
32,1305,1243゜1175.1112,10
30,930,823NMRδ(C6D6) : 3.
35(3)(+8)13.37(3I(18)14.0
1(IH,d、J=(iHQ p+p、m〔実施例5〕 AM ンーP−アニシルブチルアミン(121rny。
09,1582゜150B、1455,1387,13
32,1305,1243゜1175.1112,10
30,930,823NMRδ(C6D6) : 3.
35(3)(+8)13.37(3I(18)14.0
1(IH,d、J=(iHQ p+p、m〔実施例5〕 AM ンーP−アニシルブチルアミン(121rny。
4−ジクロロフェニル)エチルエステル(133mr
、 0.5mM)(7)乾燥トルエン(6−)溶液を共
沸脱水し、留去量と同量の乾燥トルエンを加え、トリエ
チルア乏ン(767、Q、75 m M )を加えた。
、 0.5mM)(7)乾燥トルエン(6−)溶液を共
沸脱水し、留去量と同量の乾燥トルエンを加え、トリエ
チルア乏ン(767、Q、75 m M )を加えた。
70℃でクロトン酸クロリド(135p?、 1,3
ynM)を含む!・ルエン液(1,、g)を、20分間
で滴下し、1時間同温度で攪拌した。後処理は実施例(
1−1)と同様に行い、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、3−エチニル−1−(ジーP−ア
ニシルメチル)−4−(1−(2、4−ジクロロフェニ
ル)エチル〕オキシカルボニルー2−アゼチジノン(2
70! 、 100%)を得た。
ynM)を含む!・ルエン液(1,、g)を、20分間
で滴下し、1時間同温度で攪拌した。後処理は実施例(
1−1)と同様に行い、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、3−エチニル−1−(ジーP−ア
ニシルメチル)−4−(1−(2、4−ジクロロフェニ
ル)エチル〕オキシカルボニルー2−アゼチジノン(2
70! 、 100%)を得た。
1505.1455,1375,1300,1245,
1175゜1095,1070,1032,930,8
2ONMRδ(C6D6) :’1.1(3(3)I、
d、J=O05Hz)。
1175゜1095,1070,1032,930,8
2ONMRδ(C6D6) :’1.1(3(3)I、
d、J=O05Hz)。
3−93 + 3−95 (1”# ’ + J”””
) P 、P 1mなお、その異性体比は5:3であ
った。
) P 、P 1mなお、その異性体比は5:3であ
った。
なお、その比はR体と5体の生成比ではなく(β−ラク
タム4位の配位、ニスデルの配位)として示した( R
、R)体−(S。
タム4位の配位、ニスデルの配位)として示した( R
、R)体−(S。
S)体と(RlS)休−(S 、 R)体の生成比を意
味する。どちらが主生成物であるかは不明である。
味する。どちらが主生成物であるかは不明である。
(1)表中のIRスペクトルデータは
■l’max(α )でボした。
(2)表中のNMRスペクトルデータのケミカルシフト
はδ値(p−p、m)で示し1カツプリングコンスタン
I・(J値)の単位は117、で示した。なお、特に溶
媒を示していない場合は爪ベンゼン(C6D6)中で測
定したデータである。
はδ値(p−p、m)で示し1カツプリングコンスタン
I・(J値)の単位は117、で示した。なお、特に溶
媒を示していない場合は爪ベンゼン(C6D6)中で測
定したデータである。
(3)注1〜4は以下の意味を示す。
注1 : R2011誘導体の旋光度の符号を示す。
注7;NMI′−データからめた2つの異性体の生成比
注3=に体と5体の生成比はめられて
いない。
tl: A : R体と5体の生成比でなく(β−ラク
タム4位の配位、R2の配位) として示した(R,R)休−(S。
タム4位の配位、R2の配位) として示した(R,R)休−(S。
S)体と(Rr S)休−(SIR)
体の生成比を意味する。なお、ど
ちらが主生成物であるかは不明で
ある。
〔参考例1〕
ジーP−アニシルブチルアミン1.118 F(4,4
3m M )、グリオ片シル酸−J −H−メンチル1
.0589 (4,6m M )を乾燥トルエン(43
m/)に溶解し、共沸脱水してシッフ塩基を生成せしめ
、留去量と同量の乾燥トルエンを加え、イミダゾール3
13m!i’(4,43m M )を加え、50℃でジ
ケ7ン4.646 y (5,5m M )の乾燥トル
エン(14−)溶液を2時間で滴下、攪拌した。反応液
を〔実施例1〕で述べたと同様の方法で、後処理分際精
製を行うことによし、1−(ジ−p−アユシルメチル)
−3−アセチル−4−1’−←)−メンチルオキシカル
ボニル−2−アゼデジノン1.9655’ (82%)
を得た。(NMRより得られた4−(Si体と41’−
1体の生成比は3対2であった。)さらに、 1−(ジ
ーP−アニシルメチル)−3−アセデル−4−,7?−
F)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノンは
、n−ヘキサンー四塩化炭素溶媒で分別再結晶を行うこ
とIこより、4−151体の分離が可能であり、(3S
、 4 S ) −1−(ジーP−アユシルブチル)
−3−アセチル−4−1−()−メンチルオキシカルボ
ニル−2−アゼチジノンが得られた。
3m M )、グリオ片シル酸−J −H−メンチル1
.0589 (4,6m M )を乾燥トルエン(43
m/)に溶解し、共沸脱水してシッフ塩基を生成せしめ
、留去量と同量の乾燥トルエンを加え、イミダゾール3
13m!i’(4,43m M )を加え、50℃でジ
ケ7ン4.646 y (5,5m M )の乾燥トル
エン(14−)溶液を2時間で滴下、攪拌した。反応液
を〔実施例1〕で述べたと同様の方法で、後処理分際精
製を行うことによし、1−(ジ−p−アユシルメチル)
−3−アセチル−4−1’−←)−メンチルオキシカル
ボニル−2−アゼデジノン1.9655’ (82%)
を得た。(NMRより得られた4−(Si体と41’−
1体の生成比は3対2であった。)さらに、 1−(ジ
ーP−アニシルメチル)−3−アセデル−4−,7?−
F)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼチジノンは
、n−ヘキサンー四塩化炭素溶媒で分別再結晶を行うこ
とIこより、4−151体の分離が可能であり、(3S
、 4 S ) −1−(ジーP−アユシルブチル)
−3−アセチル−4−1−()−メンチルオキシカルボ
ニル−2−アゼチジノンが得られた。
m、p、99〜100℃
IR””” (CIl+ 1) : 4763,173
9,1712゜1613.1510.1242.103
3.818NMRδ(C6D6) : 0.50〜1.
95(1911,m)。
9,1712゜1613.1510.1242.103
3.818NMRδ(C6D6) : 0.50〜1.
95(1911,m)。
1.94(3H,り 、3.33(6H,8) 、4.
00(ill。
00(ill。
d、 J=2H2) 、4.75(1it、a 、J=
2)17.)14−40〜5−05 (1” +”)
+ 5−90 (1” 、S) +6.60〜7.60
(811,In)p、p、m。
2)17.)14−40〜5−05 (1” +”)
+ 5−90 (1” 、S) +6.60〜7.60
(811,In)p、p、m。
また、そのr液をn−・ヘキ→ノーンー四塩化炭素溶媒
で結晶化することにより (3R。
で結晶化することにより (3R。
4 R) −1−(ジーP−アニシルゾチル)−3−ア
セチル−4−1’−f−)−メンチルオキシカルボニル
−2−アゼチジノンが得られ ブこ 。 m、P、 1
23 〜125 ℃IRnL”’ (c+n−1) :
1770,1740,1713゜ax 1606.1506,1241.1202.1028.
822NMRδ(C6D6) : 0.50〜1.95
(1911,”)。
セチル−4−1’−f−)−メンチルオキシカルボニル
−2−アゼチジノンが得られ ブこ 。 m、P、 1
23 〜125 ℃IRnL”’ (c+n−1) :
1770,1740,1713゜ax 1606.1506,1241.1202.1028.
822NMRδ(C6D6) : 0.50〜1.95
(1911,”)。
1.93(3)1.S)、3.28(311,S)。
3.30(3”、’ ) 、4−12 (It−i、d
、J−2Hz) 。
、J−2Hz) 。
4.75(IH,d 、J=2117) 、4.40〜
4゜8仄1ii。
4゜8仄1ii。
”) 、5.94(1[1,s) 、6.50〜7.5
0(8I−1,m) 。
0(8I−1,m) 。
p、p−m・
〔参考例2〕
OI■
(3S 、45)−1−(ジーP−アニシルブチル)−
3−アセチル−4−/ −(”−) −メンチル」キシ
カルボニル−2−アゼチジノン(27■)のイソブロノ
fノール(0,5ml )溶液に水素化ホウ素プ用・リ
ウム(2”Q )の水(0゜] m/ )溶液を室温で
加えて10分間1n拝した。
3−アセチル−4−/ −(”−) −メンチル」キシ
カルボニル−2−アゼチジノン(27■)のイソブロノ
fノール(0,5ml )溶液に水素化ホウ素プ用・リ
ウム(2”Q )の水(0゜] m/ )溶液を室温で
加えて10分間1n拝した。
反応液を飽和食塩水、酢酸エチルを加えて希釈し、希塩
酸、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、芒硝乾燥、溶媒
留去する。
酸、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、芒硝乾燥、溶媒
留去する。
残渣を薄層シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
、(35,48) −1−(ジ−p−アユシルメチル)
−3−(1−ヒFロキシエチル) −4−e−1−3−
メンチル1゛キシカルボニル−2−アーI!チジノン(
23■)を得た。高速液体クロマトグラフィー分析(カ
ラム; Licbrosorb■31−[) 。
、(35,48) −1−(ジ−p−アユシルメチル)
−3−(1−ヒFロキシエチル) −4−e−1−3−
メンチル1゛キシカルボニル−2−アーI!チジノン(
23■)を得た。高速液体クロマトグラフィー分析(カ
ラム; Licbrosorb■31−[) 。
Ulllfll:5%イソブロノ々ノール−ヘキ→ノ゛
ン)による目的成績体の5−凸)一体と5−(SL一体
の比は約3対5であった。
ン)による目的成績体の5−凸)一体と5−(SL一体
の比は約3対5であった。
IR二lご3(σ−1) : +735.1600,1
500゜1350.116R,1022 〔参考例3〕 (3S 、 4 S 、 5 R) −1−(ジーP−
アニシルメチル)−3−(1−ヒ11ローヤンエチル)
−4−1−←)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼ
チジノン(30mi?)をデトラヒドロフラン(0,9
ml ) 、メタノール(0゜45m/)に溶解し、I
N−水酸化ナトリウム(0,00mt )滴下後、室温
で4時間攪拌した。IN−塩酸で中和し、反応液を濃縮
後エーテルで希釈し、IN−水酸化ナトリウム(0゜I
ml)を加えて、水で抽出した。
500゜1350.116R,1022 〔参考例3〕 (3S 、 4 S 、 5 R) −1−(ジーP−
アニシルメチル)−3−(1−ヒ11ローヤンエチル)
−4−1−←)−メンチルオキシカルボニル−2−アゼ
チジノン(30mi?)をデトラヒドロフラン(0,9
ml ) 、メタノール(0゜45m/)に溶解し、I
N−水酸化ナトリウム(0,00mt )滴下後、室温
で4時間攪拌した。IN−塩酸で中和し、反応液を濃縮
後エーテルで希釈し、IN−水酸化ナトリウム(0゜I
ml)を加えて、水で抽出した。
抽出水層に、IN−塩酸(0,12ml)を滴下、エー
テル抽出後、抽出液を水洗、芒硝乾繰、溶媒留去するこ
とにより、(3S。
テル抽出後、抽出液を水洗、芒硝乾繰、溶媒留去するこ
とにより、(3S。
4 S 、 5 R) −−1−(ジーP−アニシルメ
チル)−3−(1−ヒドロキシエチル)−4−カルボキ
シル−2−アゼデジノン (22rnLj) を 得 ブこ 。
チル)−3−(1−ヒドロキシエチル)−4−カルボキ
シル−2−アゼデジノン (22rnLj) を 得 ブこ 。
JunI′j”(n++ 1) : 3250.175
0,1723゜ax 1515.1305,1,250,1177.1030
.835NMRδ (coc13) : 1.22(3
n、d、)=aoy)。
0,1723゜ax 1515.1305,1,250,1177.1030
.835NMRδ (coc13) : 1.22(3
n、d、)=aoy)。
3.18(III、m)、3.72((iil、S)、
4.10(III。
4.10(III。
d、J=211y)、5.75(111,s) p、p
、m。
、m。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式(11 %式%() 〔式中、R□ は水素原子または低級アルキル基を示す
。〕 で表わされるカルボン酸の活性酸無水物と一般式(II
) 表3 〔式中、R2は置換基内に不斉炭素を有するカルボキシ
ル基の保護基を示し、R3は窒素原子の保護基を示す。 〕 で表わされるシッフ塩基とを塩基の存在下で反応させる
ことを特徴とする一般式(III)1 〔式中、kよ 、R2および艮、は前述と同じ意味を有
する。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58145233A JPS6036458A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | β−ラクタム誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58145233A JPS6036458A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | β−ラクタム誘導体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6036458A true JPS6036458A (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=15380414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58145233A Pending JPS6036458A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | β−ラクタム誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6036458A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51136694A (en) * | 1975-05-05 | 1976-11-26 | Smithkline Corp | Novel antiibacterial compound |
JPS5265263A (en) * | 1975-10-06 | 1977-05-30 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Azetidinone compounds |
JPS56125361A (en) * | 1980-03-07 | 1981-10-01 | Sagami Chem Res Center | Azetidinone compound |
JPS5726660A (en) * | 1980-07-24 | 1982-02-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel beta-lactam compound and its preparation |
JPS5846066A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-17 | エフ・ホフマン・ラ・ロシユ・ウント・コンパニ−・アクチエンゲゼルシヤフト | β−ラクタム類 |
-
1983
- 1983-08-08 JP JP58145233A patent/JPS6036458A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51136694A (en) * | 1975-05-05 | 1976-11-26 | Smithkline Corp | Novel antiibacterial compound |
JPS5265263A (en) * | 1975-10-06 | 1977-05-30 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Azetidinone compounds |
JPS56125361A (en) * | 1980-03-07 | 1981-10-01 | Sagami Chem Res Center | Azetidinone compound |
JPS5726660A (en) * | 1980-07-24 | 1982-02-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | Novel beta-lactam compound and its preparation |
JPS5846066A (ja) * | 1981-08-27 | 1983-03-17 | エフ・ホフマン・ラ・ロシユ・ウント・コンパニ−・アクチエンゲゼルシヤフト | β−ラクタム類 |
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