JPS6035439B2 - パラジウムの電気めつき法 - Google Patents
パラジウムの電気めつき法Info
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- JPS6035439B2 JPS6035439B2 JP13579877A JP13579877A JPS6035439B2 JP S6035439 B2 JPS6035439 B2 JP S6035439B2 JP 13579877 A JP13579877 A JP 13579877A JP 13579877 A JP13579877 A JP 13579877A JP S6035439 B2 JPS6035439 B2 JP S6035439B2
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- Japan
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- palladium
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
基材の表面にパラジウムを電気めつきする方法は公知で
あり、かかる方法はパラジウム塩の水溶液を含す浴中で
陽極及び基材間に電流を流すことを含む。
あり、かかる方法はパラジウム塩の水溶液を含す浴中で
陽極及び基材間に電流を流すことを含む。
本発明によれば、溶液はパラジウムジアンモニウムジニ
トリツト（Ｐｄ（ＮＨ３）２（Ｎ０２）２）及びピロり
ん酸テトラカリウムを含む。
トリツト（Ｐｄ（ＮＨ３）２（Ｎ０２）２）及びピロり
ん酸テトラカリウムを含む。
溶液は４乃至１８夕／そのパラジウム及び５乃至３００
夕／そのピロりん酸テトラカリウムを含み、ピロりん酸
又は水酸化カリウムを溶液に添加することにより格のｐ
Ｈを８．５乃至１１に保持し、かつ０．２乃至５．４ア
ンペア／１００の（ＡＳＤ）（２乃至５０アンペアノフ
ィート２（ＡＳＦ））の電流密度で電流を流すことが好
ましい。このめつき浴が本発明の別の特徴ともなってい
る。５．必ＳＤ（５０ＡＳＦ）以上の電流密度では基材
の表面を燃焼させる傾向がある。
夕／そのピロりん酸テトラカリウムを含み、ピロりん酸
又は水酸化カリウムを溶液に添加することにより格のｐ
Ｈを８．５乃至１１に保持し、かつ０．２乃至５．４ア
ンペア／１００の（ＡＳＤ）（２乃至５０アンペアノフ
ィート２（ＡＳＦ））の電流密度で電流を流すことが好
ましい。このめつき浴が本発明の別の特徴ともなってい
る。５．必ＳＤ（５０ＡＳＦ）以上の電流密度では基材
の表面を燃焼させる傾向がある。
０．２ＡＳＤ（２ＡＳＦ）以下の電流密度ではめつき速
度が遅い。
度が遅い。
ｐＨ８．５以下では電流効率が低下する煩向があり、ｐ
Ｈｉｌ以上ではめつき速度の増加がほとんどなない。非
常に満足な方法は、電流密度２．１ＡＳＤ（２船ＳＦ）
、ＰＨ８．７乃至９．５、俗の温度５７℃（１２坪）、
及び溶液が８夕／そのパラジウムを含む状態でめつきす
ることを含む。
Ｈｉｌ以上ではめつき速度の増加がほとんどなない。非
常に満足な方法は、電流密度２．１ＡＳＤ（２船ＳＦ）
、ＰＨ８．７乃至９．５、俗の温度５７℃（１２坪）、
及び溶液が８夕／そのパラジウムを含む状態でめつきす
ることを含む。
溶液中のピロりん酸テトラカリウム含量は１５０多／そ
であること都合がよい。の塩は便宜上三水和物の形で溶
液に添加するが、塩の濃度は無水物に関するものである
。本発明によるめつき法の電流効率はパラジウムの電気
めつきにおいてこれまで得られた値より高い。
であること都合がよい。の塩は便宜上三水和物の形で溶
液に添加するが、塩の濃度は無水物に関するものである
。本発明によるめつき法の電流効率はパラジウムの電気
めつきにおいてこれまで得られた値より高い。
効率は陰極効率として表わされ、本発明によれば９５％
以上である。バラジウムめつきの理論値は３３．１のタ
ノアンペア・分と計算されている。電流効率が９５％で
あれば、パラジウムは３１．４雌／アンペア・分の速度
でめつきされる。かかるめつき法に使用する陽極は不溶
性の白金、白金クラッド又はタンタル本体でもよい。
以上である。バラジウムめつきの理論値は３３．１のタ
ノアンペア・分と計算されている。電流効率が９５％で
あれば、パラジウムは３１．４雌／アンペア・分の速度
でめつきされる。かかるめつき法に使用する陽極は不溶
性の白金、白金クラッド又はタンタル本体でもよい。
陽極の陰極に対する踊は最低１：１で、浴はたとえば機
械的手段によりはげしく縄拝する。基材として銅、及び
黄鋼及び青銅のような銅の合金、又はニッケル、銀、鋼
又はステンレス鋼のような種々の合金を使用しうる。
械的手段によりはげしく縄拝する。基材として銅、及び
黄鋼及び青銅のような銅の合金、又はニッケル、銀、鋼
又はステンレス鋼のような種々の合金を使用しうる。
本発明を以下の例により更に記述する。
例１
溶液を以下の組成及び濃度で調製した。
１０多／そのパラジウム（Ｐｄ（ＣＨ３）２（Ｎ０２）
２として添加）１５０タノクのピロりん酸カリウム ピロりん酸又は水酸化カリウムの添加により溶液の−を
９に調整し、５４．５ｏｏ（１３００Ｆ）に加熱した。
２として添加）１５０タノクのピロりん酸カリウム ピロりん酸又は水酸化カリウムの添加により溶液の−を
９に調整し、５４．５ｏｏ（１３００Ｆ）に加熱した。
次いで溶液を俗として使用し、銅の試料表面にパラジウ
ムを引掛けめつきした。電流密度は２．１ＡＳＤ（２Ｍ
ＳＦ）であった。めつき中格を機械的に燈拝した。かか
るめつき法の陰極効率は約約９４％であった。例２ 電流密度を１．１、３．２、４．３ 及び５．４ＡＳＤ
（１０、３止４０及び５船ＳＦ）にして例１の方法を繰
返した。
ムを引掛けめつきした。電流密度は２．１ＡＳＤ（２Ｍ
ＳＦ）であった。めつき中格を機械的に燈拝した。かか
るめつき法の陰極効率は約約９４％であった。例２ 電流密度を１．１、３．２、４．３ 及び５．４ＡＳＤ
（１０、３止４０及び５船ＳＦ）にして例１の方法を繰
返した。
１．１、３．２、及び４．３ＡＧＤ（１０、３０及び４
０ＡＳＦ）の電流密度における陰極効率は約９４％であ
った。
０ＡＳＦ）の電流密度における陰極効率は約９４％であ
った。
５．４ＡＳＤ（５船ＳＦ）における陰極効率は７６％で
あった。
あった。
例３
５７０（１２５０Ｆ）の温度において溶液のｐＨ値を変
化させ例１の方歩を繰返した。
化させ例１の方歩を繰返した。
ｐＨはピロりん酸又は水酸化カリウムの添加により調整
した。陰極効率は以下のとおりであった。− 陰極
効率 ８．０ ８９．３ ８．５ ９２．４ ９．０ ９４．０ ９．５ ９３．７ １０．０ ９４．３
した。陰極効率は以下のとおりであった。− 陰極
効率 ８．０ ８９．３ ８．５ ９２．４ ９．０ ９４．０ ９．５ ９３．７ １０．０ ９４．３
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ パラジウム塩の水溶液を含む溶中で陽極と基材との
間に電流を流すことを含む基材の表面にパラジウムを電
気めつきする方法において、該溶液がパラジウムジアン
モニウムジニトリツト（Ｐｄ（ＮＨ＿３）＿２（ＮＯ＿
２）＿２）及びピロりん酸テトラカリウムを含むことを
特徴とする方法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の方法において、溶液が
４乃至１８ｇ／ｌ（好ましくくは８ｇ／ｌ）のパラジウ
ム及び５乃至３００ｇ／ｌのピロりん酸テトラカリウム
を含み、ピロりん酸又は水酸化カリウムを前記溶液に添
加することにより溶のｐＨを８．５乃至１１（好ましく
は８．７乃至９．５）に保持し、かつ０．２乃至５．４
ＡＳＤ（２乃至５０ＡＳＦ）（好ましくは２．１ＡＳＤ
（２０ＡＳＦ））の電流密度で電流を流すことを特徴と
する方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74248276A | 1976-11-17 | 1976-11-17 | |
| US742482 | 1976-11-17 | ||
| US05/808,754 US4092225A (en) | 1976-11-17 | 1977-06-22 | High efficiency palladium electroplating process, bath and composition therefor |
| US808754 | 1991-12-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5363226A JPS5363226A (en) | 1978-06-06 |
| JPS6035439B2 true JPS6035439B2 (ja) | 1985-08-14 |
Family
ID=27114016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13579877A Expired JPS6035439B2 (ja) | 1976-11-17 | 1977-11-14 | パラジウムの電気めつき法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035439B2 (ja) |
| CA (1) | CA1089796A (ja) |
| DE (1) | DE2751055A1 (ja) |
| ES (1) | ES464140A1 (ja) |
| FR (1) | FR2371530A1 (ja) |
| GB (1) | GB1534452A (ja) |
| IT (1) | IT1088629B (ja) |
| NL (1) | NL183534C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0750426B2 (ja) * | 1986-06-09 | 1995-05-31 | 松下電器産業株式会社 | 透明パネル入力装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328286A (en) * | 1979-04-26 | 1982-05-04 | The International Nickel Co., Inc. | Electrodeposited palladium, method of preparation and electrical contact made thereby |
| FR2539145B1 (fr) * | 1983-01-07 | 1986-08-29 | Omi Int Corp | Procede pour former a grande vitesse, par electrolyse, une couche de revetement en palladium sur un substrat et bain pour la mise en oeuvre de ce procede |
| ITFI20120098A1 (it) * | 2012-05-22 | 2013-11-23 | Bluclad Srl | Bagno galvanico a base di palladio e fosforo, suo uso in processi galvanici e leghe ottenute applicando il processo galvanico a detti bagni. |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE371542A (ja) * | 1929-07-02 | |||
| GB367588A (en) * | 1931-03-12 | 1932-02-25 | Alan Richard Powell | Improvements in or relating to the electrodeposition of the metals of the platinum group |
| US2984595A (en) * | 1956-06-21 | 1961-05-16 | Sel Rex Precious Metals Inc | Printed circuit manufacture |
| GB1035850A (en) * | 1964-06-12 | 1966-07-13 | Johnson Matthey Co Ltd | Improvements in and relating to the electrodeposition of palladium |
| GB1431548A (en) * | 1972-09-21 | 1976-04-07 | Engelhard Ind Ltd | Electrodeposition of plantinum |
| CH572989A5 (ja) * | 1973-04-27 | 1976-02-27 | Oxy Metal Industries Corp |
-
1977
- 1977-10-20 CA CA289,192A patent/CA1089796A/en not_active Expired
- 1977-10-26 NL NL7711735A patent/NL183534C/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-10-27 GB GB4472077A patent/GB1534452A/en not_active Expired
- 1977-10-31 IT IT2919177A patent/IT1088629B/it active
- 1977-11-14 JP JP13579877A patent/JPS6035439B2/ja not_active Expired
- 1977-11-15 DE DE19772751055 patent/DE2751055A1/de active Granted
- 1977-11-15 ES ES464140A patent/ES464140A1/es not_active Expired
- 1977-11-16 FR FR7734499A patent/FR2371530A1/fr active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0750426B2 (ja) * | 1986-06-09 | 1995-05-31 | 松下電器産業株式会社 | 透明パネル入力装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2371530B1 (ja) | 1983-07-22 |
| JPS5363226A (en) | 1978-06-06 |
| NL183534C (nl) | 1988-11-16 |
| GB1534452A (en) | 1978-12-06 |
| CA1089796A (en) | 1980-11-18 |
| IT1088629B (it) | 1985-06-10 |
| FR2371530A1 (fr) | 1978-06-16 |
| ES464140A1 (es) | 1978-09-01 |
| DE2751055C2 (ja) | 1987-06-11 |
| DE2751055A1 (de) | 1978-05-24 |
| NL7711735A (nl) | 1978-05-19 |
| NL183534B (nl) | 1988-06-16 |
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