JPS6031828B2 - ヘキサメチレンイミンの製法 - Google Patents
ヘキサメチレンイミンの製法Info
- Publication number
- JPS6031828B2 JPS6031828B2 JP50037025A JP3702575A JPS6031828B2 JP S6031828 B2 JPS6031828 B2 JP S6031828B2 JP 50037025 A JP50037025 A JP 50037025A JP 3702575 A JP3702575 A JP 3702575A JP S6031828 B2 JPS6031828 B2 JP S6031828B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hmd
- hmi
- hexamethyleneimine
- hydrogen
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/02—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring hetero elements
- C07D295/023—Preparation; Separation; Stabilisation; Use of additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水素及び水素触媒の存在下に液相中で、ヘキ
サメチレンジアミン（ＨＭＤ）及び（又は）その工業的
オリゴマーからアンモニアを脱離させるとともに開環さ
せることによる、ヘキサメチレンィミン（ＨＭＩ）の特
殊な連続的製法に関する。
サメチレンジアミン（ＨＭＤ）及び（又は）その工業的
オリゴマーからアンモニアを脱離させるとともに開環さ
せることによる、ヘキサメチレンィミン（ＨＭＩ）の特
殊な連続的製法に関する。
ＨＭＤからＨＭＩを得ることは公知である。
たとえばドイツ特許第７３８４４８号明細書によれば、
反応は気相においてアルミナ触媒との接触下に、ただし
水素の存在なしで行なわれる。液相中の同じ反応につき
米国特許第３６５２５４５号明細書（第４欄５乳；以下
）には、わずかに５０％の収率が記載され、さらに２０
０バール以上の圧力を必要とすることが説明されている
。
反応は気相においてアルミナ触媒との接触下に、ただし
水素の存在なしで行なわれる。液相中の同じ反応につき
米国特許第３６５２５４５号明細書（第４欄５乳；以下
）には、わずかに５０％の収率が記載され、さらに２０
０バール以上の圧力を必要とすることが説明されている
。
この特許は特にへキサンジオールからのＨＭＩの製造を
取り扱っているが、この方法も重大な欠点を有する。Ｈ
ＭＩが副生物として得られるＨＭＤの製法も専門家によ
く知られている。しかし収率が不満足であり、そして高
い温度又は高価な還元剤を用いなければ収率を改善する
ことができない。前記の閉環反応は最近ピロリジン及び
ピベリジンの製造に類似する方法により試みられた（キ
ンドラー及びマツティース、「ベリヒラ」９６巻（１９
６３王）９２４〜９２９頁、特に９２４頁参照）。
取り扱っているが、この方法も重大な欠点を有する。Ｈ
ＭＩが副生物として得られるＨＭＤの製法も専門家によ
く知られている。しかし収率が不満足であり、そして高
い温度又は高価な還元剤を用いなければ収率を改善する
ことができない。前記の閉環反応は最近ピロリジン及び
ピベリジンの製造に類似する方法により試みられた（キ
ンドラー及びマツティース、「ベリヒラ」９６巻（１９
６３王）９２４〜９２９頁、特に９２４頁参照）。
しかしＨＭＤは、キンドラーらによって論じられた条件
下では、閉環してＨＭＩ環を形成する代わりに往々にし
てアンモニアの脱離により重合体を形成する傾向がある
。これらの従来法においてはＨＭＩは少量生成するにす
ぎない。ここにＨＭＤを得るための他の方法をあげると
、たとえばアクロレィンから（米国特許第３６３５９５
１号）、ごーカプロラクタムから（米国特許第２１８１
１４ぴ号）、ビス−（６−アミノーＮ−へキシル）ーア
ミンから（ドイツ特許第１１３８７８び号）及びご−カ
プロラクトンから（英国特許第１１８５３１０号）から
出発するものがある。
下では、閉環してＨＭＩ環を形成する代わりに往々にし
てアンモニアの脱離により重合体を形成する傾向がある
。これらの従来法においてはＨＭＩは少量生成するにす
ぎない。ここにＨＭＤを得るための他の方法をあげると
、たとえばアクロレィンから（米国特許第３６３５９５
１号）、ごーカプロラクタムから（米国特許第２１８１
１４ぴ号）、ビス−（６−アミノーＮ−へキシル）ーア
ミンから（ドイツ特許第１１３８７８び号）及びご−カ
プロラクトンから（英国特許第１１８５３１０号）から
出発するものがある。
本発明者らは、反応を大気圧における少なくとも１４０
ｑｏの沸点を有する化学的に不活性な溶剤の中で行ない
、反応混合物中のＨＭＤの濃度が２５０夕／そを越える
ことがなく、そして生成するＨＭＩを連続的に蒸留除去
するとき、前記方法において優れた収率が得られること
を見出した。
ｑｏの沸点を有する化学的に不活性な溶剤の中で行ない
、反応混合物中のＨＭＤの濃度が２５０夕／そを越える
ことがなく、そして生成するＨＭＩを連続的に蒸留除去
するとき、前記方法において優れた収率が得られること
を見出した。
本方法によれば蒸留中にＨＭＤが有利に引き戻される。
これはたとえば図面に示す装置において、反応容器の上
に短い分留塔を置き、そして必要に応じある量のＨＭＩ
を還流させることにより容易に達せられる。気相法に比
して本方法の特に有利な点は、得られるＨＭＩ中にデヒ
ドロヘキサメチレンィミン異性体が認められないことで
ある。
これはたとえば図面に示す装置において、反応容器の上
に短い分留塔を置き、そして必要に応じある量のＨＭＩ
を還流させることにより容易に達せられる。気相法に比
して本方法の特に有利な点は、得られるＨＭＩ中にデヒ
ドロヘキサメチレンィミン異性体が認められないことで
ある。
これらの異性体はＨＭＩから蒸留により分離することが
困難である。反応温度は用いられる水素化触媒の種類及
び操作圧力に依存し、普通のコバルト触媒（担綾又は非
担特）たとえばニッケル、マンガン、銅、ク。
困難である。反応温度は用いられる水素化触媒の種類及
び操作圧力に依存し、普通のコバルト触媒（担綾又は非
担特）たとえばニッケル、マンガン、銅、ク。
ムなどにより変性されたものを用いると、大気圧ないし
約１０バールの圧力においてこれは一般に１４０〜２５
０こ○である。これらの条件下でＨＭＩは、それが生成
する反応温度において沸騰除去される（大気圧における
ＨＭＩの沸騰温度は約１３９ｑｏ、ＨＭＤの沸騰温度は
約２０５ｏ０である）。他の触媒たとえばラニーニッケ
ル、貴金属触媒及び担持又は非担特の他の型の触媒を用
いる場合には、所望により大気圧よりわずかに低いか又
はわずかに高い圧力を採用することにより、最も有利な
反応温度に調整することができ、好適な圧力を絶対圧で
０．３〜３バールである。しかし実質的大気圧において
操作することが好ましく、かつ多くの場合の有利である
。本発明方法のために適する水素化触媒は担持又は非担
特の触媒である。
約１０バールの圧力においてこれは一般に１４０〜２５
０こ○である。これらの条件下でＨＭＩは、それが生成
する反応温度において沸騰除去される（大気圧における
ＨＭＩの沸騰温度は約１３９ｑｏ、ＨＭＤの沸騰温度は
約２０５ｏ０である）。他の触媒たとえばラニーニッケ
ル、貴金属触媒及び担持又は非担特の他の型の触媒を用
いる場合には、所望により大気圧よりわずかに低いか又
はわずかに高い圧力を採用することにより、最も有利な
反応温度に調整することができ、好適な圧力を絶対圧で
０．３〜３バールである。しかし実質的大気圧において
操作することが好ましく、かつ多くの場合の有利である
。本発明方法のために適する水素化触媒は担持又は非担
特の触媒である。
有効な触媒はたとえば触媒活性成分としてニッケル、コ
バルト、鉄、マンガン、銀、銅及びクロムの中の少なく
とも１種の金属を含有するものである。貴金属たとえば
パラジウムも触媒に含有されてよい。担特の例は酸化ア
ルミニウム、珪酸塩及び珪酸である。特に好ましい触媒
は、担体上にニッケル５〜２５％、銅０．５〜１０％及
びマンガン０．１〜５％を含有するものである。
バルト、鉄、マンガン、銀、銅及びクロムの中の少なく
とも１種の金属を含有するものである。貴金属たとえば
パラジウムも触媒に含有されてよい。担特の例は酸化ア
ルミニウム、珪酸塩及び珪酸である。特に好ましい触媒
は、担体上にニッケル５〜２５％、銅０．５〜１０％及
びマンガン０．１〜５％を含有するものである。
少量たとえば０．１〜５％の燐酸を加えることも有利で
ある。この場合に特に好ましい担特はシリカゲルである
。本方法の特色は大気圧において実施しうろことである
。
ある。この場合に特に好ましい担特はシリカゲルである
。本方法の特色は大気圧において実施しうろことである
。
しかしこの特色は本発明を制限するものではない。なぜ
ならば本方法は適宜な装置を用いて０．１〜５０バール
、特に０．７〜２ルくールの範囲内で行なうことができ
るからである。供給されたＨＭＤの速やかな脱出を防止
するには、最高の操作温度は必然的に圧力に依存し、１
２０〜２８０００特に１８０〜２２５ｑｏの温度範囲が
適している。時によりかなり高い温度が、特にＨＭＤの
製造において得られる蒸留残査の使用にとって有利な影
響を与える。この残査は一般にＨＭＤのオリゴマーを含
有する。本発明方法は広い濃度範囲において、すなわち
液相１そにつきＨＭＤ約１０〜２５０夕の範囲で行なう
ことができる。
ならば本方法は適宜な装置を用いて０．１〜５０バール
、特に０．７〜２ルくールの範囲内で行なうことができ
るからである。供給されたＨＭＤの速やかな脱出を防止
するには、最高の操作温度は必然的に圧力に依存し、１
２０〜２８０００特に１８０〜２２５ｑｏの温度範囲が
適している。時によりかなり高い温度が、特にＨＭＤの
製造において得られる蒸留残査の使用にとって有利な影
響を与える。この残査は一般にＨＭＤのオリゴマーを含
有する。本発明方法は広い濃度範囲において、すなわち
液相１そにつきＨＭＤ約１０〜２５０夕の範囲で行なう
ことができる。
収率はある限度まではＨＭＤ濃度の低下とともに改善さ
れることが認められるが、経済上の理由から反応混合物
に対し約３〜１０％の濃度が好ましい。水素はＨＭＤか
らＨＭＩを生ずる化学量論的な方程式の中には入らない
が、水素化触媒と同様に必要である。
れることが認められるが、経済上の理由から反応混合物
に対し約３〜１０％の濃度が好ましい。水素はＨＭＤか
らＨＭＩを生ずる化学量論的な方程式の中には入らない
が、水素化触媒と同様に必要である。
反応混合物から生ずるアンモニアを追い出すためには不
活性ガス足りるであろうや、本発明者らは水素を少なく
とも混合物中に添加すること、そして特に好ましくは水
素だけを用いることが必要であることを見出した。随伴
されたＨＭＩ及びアンモニアを分離したのち水素を再循
環させることは、特に径済的であることが知られた。好
適な不活性の高沸点溶剤は、特に大気圧における水素化
に対し抵抗性を有し、かつ伝熱液体として適する多核炭
化水素、たとえばジフェニルェーテル、ジフェニルメタ
ン及びその誘導体、トリアリールジメタン及びデカリン
ならびにこれらの混合物である。
活性ガス足りるであろうや、本発明者らは水素を少なく
とも混合物中に添加すること、そして特に好ましくは水
素だけを用いることが必要であることを見出した。随伴
されたＨＭＩ及びアンモニアを分離したのち水素を再循
環させることは、特に径済的であることが知られた。好
適な不活性の高沸点溶剤は、特に大気圧における水素化
に対し抵抗性を有し、かつ伝熱液体として適する多核炭
化水素、たとえばジフェニルェーテル、ジフェニルメタ
ン及びその誘導体、トリアリールジメタン及びデカリン
ならびにこれらの混合物である。
反応中にいよいよ存在し、そしてその構造が一般に究明
されていないポリメチレンポリアミンは、かなり高い濃
度において存在することがあるが、通常は支障を起こさ
ない。溶剤の一部を新しいものと取り換えること（連続
的又は非連続的に）により、創生物の蓄積を適度に制限
することが好ましい。経験によれば全容積は比較的高い
分子量のアミンの生成により徐々に増加するので溶剤の
必要量は低く、従って溶剤を追加する必要はない。
されていないポリメチレンポリアミンは、かなり高い濃
度において存在することがあるが、通常は支障を起こさ
ない。溶剤の一部を新しいものと取り換えること（連続
的又は非連続的に）により、創生物の蓄積を適度に制限
することが好ましい。経験によれば全容積は比較的高い
分子量のアミンの生成により徐々に増加するので溶剤の
必要量は低く、従って溶剤を追加する必要はない。
もし前記の条件を満足する適当な高分子量のアミンが手
に入るならば、異なる化学的性質の溶剤は最初の装入物
のためにさえも不必要であり、従って本発明に用いられ
る溶剤は高沸点のアミドだけとなる。溶剤は特別な場合
にはＨＭＩと共沸混合物を形成することがあるが、これ
は本発明方法の操作の可能性に対し何の影響をも与えな
い。
に入るならば、異なる化学的性質の溶剤は最初の装入物
のためにさえも不必要であり、従って本発明に用いられ
る溶剤は高沸点のアミドだけとなる。溶剤は特別な場合
にはＨＭＩと共沸混合物を形成することがあるが、これ
は本発明方法の操作の可能性に対し何の影響をも与えな
い。
図面は本発明の実施態様を説明するための工程図であっ
て、好ましい装置は水素化触媒を充填した直立管１から
成り、この中を循環する液相、ＨＭＤ４及び水素５が連
続的に上方に通過する。
て、好ましい装置は水素化触媒を充填した直立管１から
成り、この中を循環する液相、ＨＭＤ４及び水素５が連
続的に上方に通過する。
反応器の上部には触媒を含まない空間が残されており、
従って一方ではガス及び蒸気が、そして他方では液相が
分離される。液相は反応器の下端に送られ、そしてポン
プにより再循環される。ガス及び蒸気は隔離された適当
な寸法の糟留塔２に送られ、そしてこれは次ぎのように
操作される。すなわち同様に蒸発されたＨＭＤは底部か
ら取り出して循環する液相中に導入され、そしてＨＭ蒸
気、アンモニア及び水素は塔の頂部から凝縮器３に送ら
れ、ここで高度に濃縮されたＨ肌が凝縮する。循環液相
からの取出しを調節することにより、反応器上部におけ
る液面はほとんど一定に保たれる。好ましくは反応器を
、管の断面１のにつき毎時５〜１００その水素がこれを
通って流れるように操作する。
従って一方ではガス及び蒸気が、そして他方では液相が
分離される。液相は反応器の下端に送られ、そしてポン
プにより再循環される。ガス及び蒸気は隔離された適当
な寸法の糟留塔２に送られ、そしてこれは次ぎのように
操作される。すなわち同様に蒸発されたＨＭＤは底部か
ら取り出して循環する液相中に導入され、そしてＨＭ蒸
気、アンモニア及び水素は塔の頂部から凝縮器３に送ら
れ、ここで高度に濃縮されたＨ肌が凝縮する。循環液相
からの取出しを調節することにより、反応器上部におけ
る液面はほとんど一定に保たれる。好ましくは反応器を
、管の断面１のにつき毎時５〜１００その水素がこれを
通って流れるように操作する。
しかしこの範囲は厳密なものではない。なぜならば触媒
床中に層が配置される様式及び装置の設計も影響を与え
るからである。液相が反応器を通して送られる速度はも
ちろんＨＭＤの平均滞留時間に影響する。
床中に層が配置される様式及び装置の設計も影響を与え
るからである。液相が反応器を通して送られる速度はも
ちろんＨＭＤの平均滞留時間に影響する。
好ましい滞留時間は２〜２０分であり、最適値はそれぞ
れの場合につき決定され、そして反応温度及び装置に依
存する。多くの場合にかなり少ない量に適する他のより
簡単な装置は、加熱可能な蝿洋式容器であって部分的に
溶剤によって満たされ、そして新しいＨＭＤを供給する
ための手段及びＨＭＩを蒸留除去するための装置を有す
るものから成る。
れの場合につき決定され、そして反応温度及び装置に依
存する。多くの場合にかなり少ない量に適する他のより
簡単な装置は、加熱可能な蝿洋式容器であって部分的に
溶剤によって満たされ、そして新しいＨＭＤを供給する
ための手段及びＨＭＩを蒸留除去するための装置を有す
るものから成る。
この装置においては分散された触媒たとえばラニーニツ
ケルを用いることが有利である。実施例 １ ９３蟹容量部の内容を有する直立した加熱可能な反応管
に、ニッケル１亀重量％、銅５重量％、マンガン１重量
％及びＰ２０５１重量％をシリカゲル上に含有する触媒
８５畔容量部を袋入する。
ケルを用いることが有利である。実施例 １ ９３蟹容量部の内容を有する直立した加熱可能な反応管
に、ニッケル１亀重量％、銅５重量％、マンガン１重量
％及びＰ２０５１重量％をシリカゲル上に含有する触媒
８５畔容量部を袋入する。
この装置に高沸点の熱交換液体（マーロサームＳ、製造
業者の説明によればトリアリールジメタン異性体の混合
物である）を、２０５〜２０８℃に加熱したのちに液相
を循環しうる限度まで満たす。毎時２００００舷容量部
の水素及び７２容量部のＨＭＤを管の下端から供給する
。液相は循環時間が約９分となるようにポンプで送られ
る。蒸留により９５％の純度を有するＨＭＩ毎時５９容
量部（収率は理論値の９４％）が得られる。実施例 ２ １０００容量部の内容を有し、縄伴機、ガス供給管、温
度計、貯槽及び上部に取り付けられた１２００容量部の
内容を有する充填塔を備えた丸底フラスコに、ヘキサ−
ｎ−プチル燐酸トリアミド２２０容量部及びラニーニッ
ケル２４部を装入する。
業者の説明によればトリアリールジメタン異性体の混合
物である）を、２０５〜２０８℃に加熱したのちに液相
を循環しうる限度まで満たす。毎時２００００舷容量部
の水素及び７２容量部のＨＭＤを管の下端から供給する
。液相は循環時間が約９分となるようにポンプで送られ
る。蒸留により９５％の純度を有するＨＭＩ毎時５９容
量部（収率は理論値の９４％）が得られる。実施例 ２ １０００容量部の内容を有し、縄伴機、ガス供給管、温
度計、貯槽及び上部に取り付けられた１２００容量部の
内容を有する充填塔を備えた丸底フラスコに、ヘキサ−
ｎ−プチル燐酸トリアミド２２０容量部及びラニーニッ
ケル２４部を装入する。
フラスコを１９８〜２０４ｑｏに加熱し、毎時２１００
０咳容量部の水素を通過させ、そしてＨＭＤ４８２容量
部を７時間にわたって一様に滴下する。蒸留により８２
％の純度を有するＨＭ１３１１容量部（収率は理論値の
６６％）が得られる。
０咳容量部の水素を通過させ、そしてＨＭＤ４８２容量
部を７時間にわたって一様に滴下する。蒸留により８２
％の純度を有するＨＭ１３１１容量部（収率は理論値の
６６％）が得られる。
図面は本発明の実施態様を説明するための工程図であり
、１は反応管、２は糟留塔、３は凝縮器、４はＨＭＤの
供給、そして５は水素の供給を示す。
、１は反応管、２は糟留塔、３は凝縮器、４はＨＭＤの
供給、そして５は水素の供給を示す。
Claims (1)
- １ 反応を大気圧における少なくとも１４０℃の沸点を
有する溶剤の中で行ない、反応混合物中のヘキサメチレ
ンジアミンの濃度が２５０ｇ／ｌを越えることがなく、
そして生成するヘキサメチレンイミンを連続的に蒸留除
去することを特徴とする、水素及び水素化触媒の存在下
にヘキサメチレンジアミンからアンモニアを脱離させそ
して閉環させることによる、ヘキサメチレンイミンの連
続的製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2414930A DE2414930C2 (de) | 1974-03-28 | 1974-03-28 | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Hexamethylenimin |
| DE2414930.2 | 1974-03-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50130775A JPS50130775A (ja) | 1975-10-16 |
| JPS6031828B2 true JPS6031828B2 (ja) | 1985-07-24 |
Family
ID=5911400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50037025A Expired JPS6031828B2 (ja) | 1974-03-28 | 1975-03-28 | ヘキサメチレンイミンの製法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4229346A (ja) |
| JP (1) | JPS6031828B2 (ja) |
| BE (1) | BE827199A (ja) |
| DE (1) | DE2414930C2 (ja) |
| FR (1) | FR2265745B3 (ja) |
| GB (1) | GB1492847A (ja) |
| IT (1) | IT1034523B (ja) |
| NL (1) | NL7503442A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6428122U (ja) * | 1987-08-12 | 1989-02-17 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2532871C2 (de) * | 1974-07-25 | 1982-09-23 | Asahi Kasei Kogyo K.K., Osaka | Verfahren zur Herstellung von Hexamethylenimin |
| US4937336A (en) * | 1988-12-05 | 1990-06-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of hexamethylene imine |
| DE19842905A1 (de) | 1998-09-18 | 2000-03-23 | Basf Ag | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung eines cyclischen Lactams und eines cyclischen Amins |
| DE19842900A1 (de) | 1998-09-18 | 2000-03-23 | Basf Ag | Verfahren zur gemeinsamen Herstellung eines cyclischen Lactams und eines cyclischen Amins |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA920606A (en) * | 1971-01-19 | 1973-02-06 | J. Kershaw Bernard | Manufacture of hexamethyleneimine |
| JPS5163184A (ja) * | 1974-11-28 | 1976-06-01 | Asahi Chemical Ind |
-
1974
- 1974-03-28 DE DE2414930A patent/DE2414930C2/de not_active Expired
-
1975
- 1975-03-07 US US05/556,469 patent/US4229346A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-03-21 NL NL7503442A patent/NL7503442A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-03-24 IT IT21636/75A patent/IT1034523B/it active
- 1975-03-26 FR FR7509451A patent/FR2265745B3/fr not_active Expired
- 1975-03-26 BE BE154782A patent/BE827199A/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-03-27 GB GB12853/75A patent/GB1492847A/en not_active Expired
- 1975-03-28 JP JP50037025A patent/JPS6031828B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6428122U (ja) * | 1987-08-12 | 1989-02-17 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1492847A (en) | 1977-11-23 |
| NL7503442A (nl) | 1975-09-30 |
| BE827199A (fr) | 1975-09-26 |
| US4229346A (en) | 1980-10-21 |
| FR2265745A1 (ja) | 1975-10-24 |
| DE2414930C2 (de) | 1983-07-07 |
| FR2265745B3 (ja) | 1977-12-02 |
| JPS50130775A (ja) | 1975-10-16 |
| DE2414930A1 (de) | 1975-10-23 |
| IT1034523B (it) | 1979-10-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2202537C2 (ru) | Водосодержащий толуилендиамин, пригодный для хранения или транспортировки в жидком виде, способ его получения и способ получения толуилендиизоцианата | |
| EP2636662A1 (en) | Process for producing trans-1,3,3,3-tetrafluoropropene | |
| JP4451444B2 (ja) | ジニトリル化合物の製造および分離方法 | |
| WO2018079502A1 (ja) | ペンタメチレンジイソシアネートの製造方法 | |
| US3305586A (en) | Process for preparing cyclohexanone | |
| JP3523332B2 (ja) | ε−カプロラクタムの精製法 | |
| US3109005A (en) | Process for making 2-pyrrolidone from maleic anhydride | |
| JPS6031828B2 (ja) | ヘキサメチレンイミンの製法 | |
| JPS62221639A (ja) | １，２−ジクロルエタンの製造法 | |
| JPH07188117A (ja) | Ｃｕ触媒使用ジメチルカーボネート製造で得られる液状反応生成物の処理方法 | |
| US5288903A (en) | Preparation of 3-pentenoic acid and a catalyst therefore | |
| WO2018066447A1 (ja) | １，４－ジシアノシクロヘキサン、１，４－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、及び１，４－シクロヘキサンジカルボン酸の製造方法 | |
| JP3268890B2 (ja) | １，３−シクロヘキサンジカルボン酸の製造方法 | |
| JPH0753441A (ja) | メタノールのカルボニル化による酢酸、酢酸メチルおよび無水酢酸の製造方法 | |
| WO2021172499A1 (ja) | 精製フタロニトリル類の製造方法およびフタロニトリル類の精製方法 | |
| CN114746384B (zh) | 烷烃化合物的制造方法 | |
| KR100492200B1 (ko) | 6-아미노카프로산 니트릴 및 이민을 함유하는 혼합물로부터 6-아미노카프로산 니트릴의 분리 방법 | |
| JPH11335335A (ja) | トランス型１，４−ビス （アミノメチル） シクロヘキサンの製造方法 | |
| JP5902885B2 (ja) | 芳香族ヨード化化合物の製造方法 | |
| Peters et al. | Methacrylonitrile and acrylonitrile | |
| JP2007204388A (ja) | 反応熱の回収方法 | |
| US4962210A (en) | Process for the preparation of high-purity tetrahydrofuran | |
| JP6173908B2 (ja) | クロロ高次アルケンの製造方法 | |
| US2945897A (en) | Recovery of 1, 1-dichloroethane | |
| US5463156A (en) | Method and apparatus for dehydrogenation |