JP2007204388A - 反応熱の回収方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液相で気液接触反応を行う第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを気相接触反応を行う第二反応器に供給して未反応原料を反応させる反応プロセスにおいて、第一反応器の反応液体から外部循環除熱方式、コイル除熱方式またはジャケット除熱方式によって熱回収し、第一反応器から発生する蒸気から還流除熱方式によって熱回収することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
(1)液相で気液接触反応を行う第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを気相接触反応を行う第二反応器に供給して未反応原料を反応させる反応プロセスにおいて、第一反応器の反応液体から外部循環除熱方式、コイル除熱方式またはジャケット除熱方式によって熱回収し、第一反応器から発生する蒸気から還流除熱方式によって熱回収することを特徴とする反応熱回収方法。
(2)液体を使用して除熱し、蒸気として熱回収することを特徴とする前項(1)記載の反応熱回収方法。
(3)第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを充填塔または棚段塔に供給して蒸留し、塔頂ガスを第二反応器に供給することを特徴とする前項(1)記載の反応熱回収方法。
(4)第一反応器の反応液体から外部循環除熱方式、コイル除熱方式またはジャケット除熱方式によって第一反応器における反応温度を制御し、第一反応器から発生する蒸気から還流除熱方式によって第二反応器における反応温度を制御することを特徴とする前項(1)記載の反応熱回収方法。
(5)ニトロベンゼンおよび水素ガスを第一反応器に供給して液相で気相接触反応を行い、第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを第二反応器に供給して気相接触反応を行って未反応原料を完全に反応させてアニリンを製造することを特徴とする前項(1)〜(4)のいずれかに記載の反応熱回収方法。
(6)第一反応器における反応温度を210〜250℃、第二反応器における反応温度を170〜240℃で行うことを特徴とする前項(5)記載の反応熱回収方法。
以下、ニトロベンゼンの水素還元反応によるアニリンの製造プロセスを例に、本発明を詳細に説明する。
第一反応器における反応は、通常、溶媒の存在下に行い、一般的には反応生成物であるアニリンを溶媒とし、触媒を分散させて行う。
触媒としては、パラジウム触媒、パラジウム-白金系担持触媒、ニッケル系触媒、コバルト系触媒などを使用する。
反応は約150℃〜250℃で行う。
触媒としては、銅−クロム系触媒などを使用する。
反応は約100〜245℃で行う。
第一反応器1に仕込んだ溶媒(アニリン)に触媒を分散させ、これに原料液A(ニトロベンゼン)および原料ガスB(水素ガス)を供給し、液相で気液接触反応を行う。反応液は循環ポンプ2によって熱交換器3を経由して循環する。熱交換器3において、反応液を液体で冷却し、除熱する。通常、液体として水を使用して行う。除熱は熱水を循環して行い、加熱された熱水は蒸気発生器(図示していない)で水蒸気を発生させ、水蒸気を分離した熱水には新水を追加し、熱交換器3に循環する。すなわち、外部循環除熱方式によって反応熱の回収を行う。
第一反応器にける反応温度が約150〜250℃の場合、回収できる蒸気圧力は約0.1〜3.2MPaGとなる。
上記の3方式を組み合わせて熱回収することも可能である。
一般的に水素還元反応など発熱量が大きい反応を扱うプロセスでは、ジャケット除熱やコイル除熱のみでは能力が不足するため、外部循環除熱によって行うことが多い。
第二反応器にける反応温度を約100〜245℃とする場合、回収できる蒸気圧力は約0.0〜3.1MPaGとなる。
熱交換器4で冷却されたガスは第二反応器5に導入し、気相接触反応によって未反応のニトロベンゼンを完全に反応させる。
なお、第二反応器は断熱反応器または除熱をともなう反応器のいずれでもかまわない。
この例では、第一反応器1と熱交換器4の間に充填塔または棚段塔6が設置されている。
ニトロベンゼンからアニリンを製造する場合のように、原料(ニトロベンゼン)が生成物(アニリン)より高い沸点を有する場合は、第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを充填塔または棚段塔に供給して蒸留し、第二反応器に導入されるガス中のニトロベンゼンの濃度を抑制することができ、その結果、不純物の生成を抑制することが容易になる。
(2)および(3)の手段は設備費の上昇につながるため、(1)の手段で対応するのが好ましいが、第一反応器における温度上昇にともない第二反応器へ導入される蒸気温度も上昇し、第二反応器における反応温度が上昇し、気相反応における不純物の生成や触媒寿命の短命化が問題となる。第一反応器における転化率を100%未満に抑えるため反応温度が上昇しても不純物の生成は少ない。一方、第二反応器においては、転化率を100%とするため不純物の生成に及ぼす反応温度の影響が大きく、反応温度の上昇に伴い劇的に不純物生成量が増加する。この不純物の生成を抑制するために、熱交換器4における還流除熱によって第二反応器に導入するガスの温度を制御し、その結果、第二反応器における反応温度を制御する。
不純物の生成を抑制し、効率的に反応熱を回収するには、第一反応器における反応温度を210〜250℃、第二反応器における反応温度を170〜240℃で行うことが好ましい。
容量1Lのオートクレーブ(第一反応器)に攪拌機、ガス導入管、触媒投入口、反応液抜出口、ニトロベンゼン導入口、アニリン導入口、蒸気発生口、熱交換器(コンデンサー)を取り付けた。第一反応器にアニリン350gと、活性炭にパラジウムを5%担持させた触媒を70mg仕込んだ。第一反応器を200℃まで昇温後、ニトロベンゼンを175g/hrで、水素を系内の全圧を0.5MPaGに保ちつつ5L/minの速さで導入し、反応を開始した。
この後、触媒の5%Pd/活性炭を3.5mg/hrで追加し、液相の溶液を17.5g/hrで抜き出した。オートクレーブの外面を空気で冷却(ジャケット除熱に相当)して反応温度を約230℃に維持した。ジャケット除熱して回収される熱量は約105kcal/hrになる。
なお、第一反応器中のニトロベンゼン濃度を0.3〜2%に保った。また、第一反応器からのガスを凝縮させたところ、得られた粗アニリンはやや黄色を帯びた透明液で、ニトロベンゼンが0.4重量%、シクロヘキシルアミンが80ppm、シクロヘキサノンが500ppm、N-シクロヘキシルアニリンが350mmであった。この結果処理されたニトロベンゼンに対して、アニリンの収率は、99.4%になる。
銅系触媒7.2gを充填した、内径22mm、充填高さ35mmのステンレス製反応器(第二反応器)にガス導入管、アニリン導入口、3mm径の熱電対用内挿管、ガス出口、コンデンサーを取り付け、保温下に、還流除熱して得たガスを導入し、気相接触反応を行った。
反応温度は約205℃であった。反応ガスをコンデンサーで凝縮させ、粗アニリンを捕集した。得られた粗アニリンは無色透明で、ニトロベンゼンが1ppm以下、シクロヘキシルアミンが226ppm、シクロヘキサノンが66ppm、N-シクロヘキシルアニリンが2850ppmであった。
第二反応器の反応温度が増加すると、得られる粗アニリン中の不純物であるN−シクロヘキシルアニリンの濃度が増加する。
2 循環ポンプ
3、4 熱交換器
5 第二反応器
6 充填塔または棚段塔
Claims (6)
- 液相で気液接触反応を行う第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを気相接触反応を行う第二反応器に供給して未反応原料を反応させる反応プロセスにおいて、第一反応器の反応液体から外部循環除熱方式、コイル除熱方式またはジャケット除熱方式によって熱回収し、第一反応器から発生する蒸気から還流除熱方式によって熱回収することを特徴とする反応熱回収方法。
- 液体を使用して除熱し、蒸気として熱回収することを特徴とする請求項1記載の反応熱回収方法。
- 第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを充填塔または棚段塔に供給して蒸留し、塔頂ガスを第二反応器に供給することを特徴とする請求項1記載の反応熱回収方法。
- 第一反応器の反応液体から外部循環除熱方式、コイル除熱方式またはジャケット除熱方式によって第一反応器における反応温度を制御し、第一反応器から発生する蒸気から還流除熱方式によって第二反応器における反応温度を制御することを特徴とする請求項1記載の反応熱回収方法。
- ニトロベンゼンおよび水素ガスを第一反応器に供給して液相で気相接触反応を行い、第一反応器から発生する反応生成物および未反応原料のガスを第二反応器に供給して気相接触反応を行って未反応原料を完全に反応させてアニリンを製造することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の反応熱回収方法。
- 第一反応器における反応温度を210〜250℃、第二反応器における反応温度を170〜240℃で行うことを特徴とする請求項5記載の反応熱回収方法。
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