JPS6030005A - 導電被膜形成用組成物 - Google Patents

導電被膜形成用組成物

Info

Publication number
JPS6030005A
JPS6030005A JP13759283A JP13759283A JPS6030005A JP S6030005 A JPS6030005 A JP S6030005A JP 13759283 A JP13759283 A JP 13759283A JP 13759283 A JP13759283 A JP 13759283A JP S6030005 A JPS6030005 A JP S6030005A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
conductive film
powder
paste
forming conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13759283A
Other languages
English (en)
Inventor
関谷 茂
保住 勝信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP13759283A priority Critical patent/JPS6030005A/ja
Publication of JPS6030005A publication Critical patent/JPS6030005A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はセラミック基板のキャビティ部に滴下、焼成し
て該キャビティ部底部に導電被膜を形成するための組成
物の改良に関するものである。
所謂ザーディツプ(OerD工P)型の半導体パッケー
ジはキャビティを有するセラミック製の基板を用いる。
半導体素子をキャビティに固着する一般的方法はろう付
番プであるが、この場合はキャビディ底部に予めメタラ
イズ層が形成されている必要がある。このメタライズ層
の形成用に従来金、銀、白金、パラジウム等の貴金属を
少なくとも一種金属粉末又は合金粉末で65〜gs重量
メと軟化点ダ30〜1.00 CN熱膨張係数ダθ〜i
oθx io−ン’r:程度のガクス粉末0.3〜5重
jtグとバランス量の有機質ビヒクルとを混練したペー
スト状の導電組成物が用いられてきた。このような組成
物は通常の厚膜ペーストと同様に3本ロールミルで製造
されるが、そのままでは粘性が大きいので、シンナーで
希釈してキャビティへ滴下される。ところで希釈した該
組成物を滴下、塗布したセラミック基板を直ちに焼成炉
内に入れるとビヒクル中の溶剤及びシンナーが急激に蒸
発するため沸騰し、滑らかな導電被膜が得られないので
、通常焼成前に一旦乾燥処理を行なって溶剤及びシンナ
ーを蒸発させるようにしている。
この乾燥処理の温度は高い程乾燥時間が短縮されるので
あるが、温度を高くすると一時的にペースト組成物の粘
度が低下し、キャビティ内で対流が起こる結果微細な粒
子がペースト表面に集まり易くなる。溶剤とシンナーが
蒸発するにつれて粘度が増すと対流は起こらなくなるが
、一旦ペースト表面に集まった微粉は再び元に戻ること
はなくその結果これを焼成すると導電被膜表面に色ムラ
を生じたり、半導体素子の接合性(接合し易さの度合。
ろう材を用いる場合は濡れの度合◇)が不良になったり
する。このため通常乾燥温度をgO〜10θCとしてい
るが、生産性の点から13θ〜15θCで処理できる組
成物が望まれていた。
本発明者等は、上記従来の導電被膜形成用組成物の欠点
を解消すべく種々実験の結果、ナフテン酸又はす7テン
酸の金属塩を少量含有せしめると高温乾燥でも外観、接
合性共に良好な導電被膜が得られることを見出して本発
明に到達した。更に詳しくは、本発明は導電被膜形成用
組成物中にナフテン酸又はナフテン酸の金4塩を0.2
〜/θ重1%含有せしめた点に特徴がある。
ナフテン酸の金属塩とはナフテン酸銅、°ナフテン酸亜
鉛、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸マンガン、ナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸カルシウム等を包含する。
ナフテン酸及びナフテン酸の金属塩はペースト) 状#
1成物中にθ、2〜lo重量%含有されている必要があ
る。0.2重量%未満では色ムラ防止の効果があまり無
く、70重量%を超えると焼成被膜に亀裂が入り易くな
る。より好ましい含有割合はλ〜g′ 重IIk%であ
る。
ナフテン酸又はす7テン酸の金#I塩の添加により色ム
ラが無くなる理由は未だ明らかでないが、無添加の場合
と比較して乾燥後の被膜に光沢が認められることから、
乾燥処理の初期においてペースト表面に薄い乾燥膜が生
成し、この乾燥膜がペースト中の微細粒子の対流を防止
するのであろうと推測される。
本発明により従来より高温の乾燥処理を行なっ5 ても
色ムチが無く、半導体素子接合性の良好な導電被膜が得
られるようになり、生産性向上に寄与することができた
以下に実施例を示す。
゛実施例 実験AlN1゜ 平均粒径/、Sμmの粒状銀粉、平均粒径3μmの粒状
金粉、平Jθ粒径0.02μmのパテジウム粉、平均粒
径θ、/ fimの白金粉、平均粒径J、4tpmの硼
珪酸鉛ガラ7、 (PbOtOlB 20 a ’O5
s10230各重量%)粉)ナフテン酸銅、ナフテン酸
、ナフテン酸亜鉛、有機質ビヒクル(ターピネオールに
エチルセルロースを溶解したもの)を第7表に示すよう
に種々の割合で調合し、3本ロールミルで混練して均一
なペースト状とした。次いでこれらのペーストを各々タ
ーピネオールで2倍に希釈し、&、、7j−X#、、:
?Xθ、4t6深さのキャビティを有する黒色アルミナ
基板(/?、、7 X t、、g/x y、epb厚)
に滴下し、/30Cで2θ分間乾燥後、ピーク温度90
0c、ピーク時間g分、全焼成時間60分のベルト式焼
成炉で焼成した。このようにして得られた導電被膜を外
観検査し、色ムラ、変色の有無を調べた。次いでこの導
電被膜に2鴎角、厚さ、2oμmの硅素2重層石含有金
−硅幸合金ろう材を介して7.5鴎角、厚さ。、グπn
のSiチップをグイボンダーを用いて接合した後、S1
チツプの剥離試験を行なってチップ接合性(この場合ろ
う材と被膜の濡れ性)を調べた。
第7表にこれらの結果を示す。
第7表において、外観の欄は色ムラ、変色の詔められな
かったものを○、認められたものを×で示し、接合性の
欄は剥離試験の結果導電被膜とろう材の間で剥離してい
る部分が全体の1/4以下のものを○印、1/4以上の
ものをXで示しである〇第1表 第1表の結果からペースト中にナフテン酸又はナフテン
酸の金属塩を7〜10重量%含有せしめることにより、
導電被膜の外観及び接合性が改善されることが判る。
出願人 住友金属鉱山株式会社 代理人 弁理土中村勝成

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金、銀、白金、パラジウム等の貴金属を少なくと
    も一種金属粉末又は合金粉末として含有し、ガラス粉末
    と共に有機質ビヒクルに分散セしめた滴下塗布型の導電
    被膜形成用組成物において、ナフテン酸又はす7テン酸
    の金属塩を、00.2〜lθ重量%含有せしめたことを
    特徴とする導電被膜形成用組成物。
JP13759283A 1983-07-29 1983-07-29 導電被膜形成用組成物 Pending JPS6030005A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13759283A JPS6030005A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 導電被膜形成用組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13759283A JPS6030005A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 導電被膜形成用組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6030005A true JPS6030005A (ja) 1985-02-15

Family

ID=15202304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13759283A Pending JPS6030005A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 導電被膜形成用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6030005A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5024036A (ja) * 1973-06-28 1975-03-14

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5024036A (ja) * 1973-06-28 1975-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6254206B2 (ja)
JPH0732310B2 (ja) 多層電子回路の製造方法
EP0009245A1 (en) Gold conductor compositions, process for preparing the same, gold conductor metallization and process for preparing the same
JPH0393683A (ja) 銅ペースト及びそれを用いたメタライズ方法
JPS6151361B2 (ja)
JPH0534312B2 (ja)
US4084314A (en) Producing thick film circuits having terminal elements
JPS61248302A (ja) 炭化ケイ素焼結体用メタライズペ−スト
JP2822518B2 (ja) 窒化アルミニウム焼結体への金属化層形成方法
JPS6030005A (ja) 導電被膜形成用組成物
JP2000138010A (ja) 銅導体ペ―スト
JPH08306816A (ja) 電極パッド
JPH10233119A (ja) 銅導体ペースト及び該銅導体ペーストを印刷した基板
JP2550630B2 (ja) 導電性被膜形成用銅ペースト
JPS59132502A (ja) 導電被膜形成用組成物
JPS63283184A (ja) 導体組成物を被覆した回路基板
JPH01159908A (ja) 耐熱性に優れた加熱硬化型銀ペースト組成物
JPH02207539A (ja) 半導体装置
JPH0440802B2 (ja)
JPS5871507A (ja) 導電ペ−スト
JP2733613B2 (ja) 導電性ペーストおよび回路基板
JPS60154403A (ja) 導電性ペ−スト
JPS61247672A (ja) 金属粒子を基板に接着する方法
JPS58130590A (ja) セラミツク配線基板および該セラミツク配線基板を用いた厚膜ハイブリツドic
JPH0367281B2 (ja)