JPS602906A - フイルタ付光導波路の製造方法 - Google Patents
フイルタ付光導波路の製造方法Info
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- JPS602906A JPS602906A JP11072483A JP11072483A JPS602906A JP S602906 A JPS602906 A JP S602906A JP 11072483 A JP11072483 A JP 11072483A JP 11072483 A JP11072483 A JP 11072483A JP S602906 A JPS602906 A JP S602906A
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- forming
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、波長多重伝送において光フィルタ。
光分波器等として使用するフィルタ付光４波路の製造方
法に四するものである。
法に四するものである。
一般に光フィルタ、光分波器等の元フィルタ膜を有する
光部品は、マイクロ・ロッドレンズ、反射蜆、干渉線な
どがら椛成されている。したがって、この情の光部品を
！！！造するには、マイクロ・ロッドレンズ等の個別（
１１放部品を製造する工程と、それらの個別４７ｇ敗部
品を組み立て、祠贅する工程との２つの工程が必要でめ
った。
光部品は、マイクロ・ロッドレンズ、反射蜆、干渉線な
どがら椛成されている。したがって、この情の光部品を
！！！造するには、マイクロ・ロッドレンズ等の個別（
１１放部品を製造する工程と、それらの個別４７ｇ敗部
品を組み立て、祠贅する工程との２つの工程が必要でめ
った。
第１図は、従来の光分波器の一例を示す凶である。この
図に示す光分波器においては、ファイバｌから、λ１．
λ、（λ、＞λ、）の２波長多重の信号光が入射する。
図に示す光分波器においては、ファイバｌから、λ１．
λ、（λ、＞λ、）の２波長多重の信号光が入射する。
マイクロ・ロッドレンズ４を通過した光は、長波長透過
フィルタ５に達する。
フィルタ５に達する。
長波長逝過フィルタ５のカットオフ波長がλ１ とλ、
の間に設定されていると、λ、の光はここで反射され、
ロッドレンズ４を通過した後ファイバ２に入射する。一
方λ、の光は、フィルタ５を迫遇し、戊射鋭６で反射さ
れた後、ｈびフィルタ５、ロッドレンズ４を通過し、フ
ァイバ３に入射する。
の間に設定されていると、λ、の光はここで反射され、
ロッドレンズ４を通過した後ファイバ２に入射する。一
方λ、の光は、フィルタ５を迫遇し、戊射鋭６で反射さ
れた後、ｈびフィルタ５、ロッドレンズ４を通過し、フ
ァイバ３に入射する。
このようにして、２波の光分波がなされる。
従来上記の光分波器を製造する方法としては、以１の製
造工程による方法が採られていた。（１）ロッドレンズ
４、長波長透過フィルタ５および反射跳６の谷々の製造
工程、（２）ロッドレンズ４に長波長透過フィルタ５を
装着する工程、（３）ロッドレンズ４のレンズ軸に対し
対称な位置に７アイパｌ。
造工程による方法が採られていた。（１）ロッドレンズ
４、長波長透過フィルタ５および反射跳６の谷々の製造
工程、（２）ロッドレンズ４に長波長透過フィルタ５を
装着する工程、（３）ロッドレンズ４のレンズ軸に対し
対称な位置に７アイパｌ。
２を接続する工程、（４１ｋ射蜆６のロツドレ／ズ４の
レンズ軸に対する傾きを股足し、それに合わｔて７アイ
パ３の位置を決め、ロッドレンズ４に接続する工程。以
上の各工程のりら、（２）〜（４）はすべて組立て、シ
・４螢の工程でおる。
レンズ軸に対する傾きを股足し、それに合わｔて７アイ
パ３の位置を決め、ロッドレンズ４に接続する工程。以
上の各工程のりら、（２）〜（４）はすべて組立て、シ
・４螢の工程でおる。
ところで、上記従来の製造方法でれ（、組立て、１堅の
工程が多く、しかもこれらの工程でＷモい組立て１１度
が袂丞されると共にン−）んとうなＷ４整を心安とする
ために、量産化ができず、これらの光部品のコストが非
常に商くなるという欠点があった。
工程が多く、しかもこれらの工程でＷモい組立て１１度
が袂丞されると共にン−）んとうなＷ４整を心安とする
ために、量産化ができず、これらの光部品のコストが非
常に商くなるという欠点があった。
本発明は上記従来の方法の欠点を除去−すべくなされた
もので、組立て、刺整工程が小をでるり、一括大鼠生厘
がａＪ能でるるフィルタ付先導波路の製造方法を提供す
ることを目的とする。
もので、組立て、刺整工程が小をでるり、一括大鼠生厘
がａＪ能でるるフィルタ付先導波路の製造方法を提供す
ることを目的とする。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第２図れ、本発明の一実施ｉｔ’１１として示したフィ
ルタ付光導波路製造工程を示す図でおる。この実施例の
製造方法においては、第２図（ａ）〜（ｅ）の工程を順
次鮎ることによってフィルタ付先導波路を得る。第２図
（＆）は石英ガラス晶板７上に、バッファ層８、コア層
９、を形成する工程である。バッフ７７１８は８１０１
、コア層９はＴ１０．をドープした８１０、でできてお
シ、これらは、例えばバッファ層８については８１０Ｊ
４．コアＭ’Ｊについては５１ｏｒｋ 、 Ｔｉ０１４
を各々原料ガスとして、これらを鉦水素炎内で加水分解
反応させてガラス微粒子を合成し、地核した故に透明化
すれはよい。第２図（１））は、公知のフォトリングラ
フィの技術を用いて、この等波路に所望の回路形状をパ
ターン化する工程である。第２図（ｃｌ Ｂ 、仁の上
に、クラッドＪＶｉＩｌＯとしてＢ１０！を形成した工
程である。第２図（、ｉｌは、フォトリングラフィ技術
によシ、上記導波路にフィルタ膜形成：ｉ’ｊ ｌ １
（フィルタ膜形ｇ部）を形成する工程である。第２図
（ｅｌは、フィルタ膜ブレ成面ｌｌの中に、以１に述べ
る方法で、フィルター族１２を形成する工程である。
ルタ付光導波路製造工程を示す図でおる。この実施例の
製造方法においては、第２図（ａ）〜（ｅ）の工程を順
次鮎ることによってフィルタ付先導波路を得る。第２図
（＆）は石英ガラス晶板７上に、バッファ層８、コア層
９、を形成する工程である。バッフ７７１８は８１０１
、コア層９はＴ１０．をドープした８１０、でできてお
シ、これらは、例えばバッファ層８については８１０Ｊ
４．コアＭ’Ｊについては５１ｏｒｋ 、 Ｔｉ０１４
を各々原料ガスとして、これらを鉦水素炎内で加水分解
反応させてガラス微粒子を合成し、地核した故に透明化
すれはよい。第２図（１））は、公知のフォトリングラ
フィの技術を用いて、この等波路に所望の回路形状をパ
ターン化する工程である。第２図（ｃｌ Ｂ 、仁の上
に、クラッドＪＶｉＩｌＯとしてＢ１０！を形成した工
程である。第２図（、ｉｌは、フォトリングラフィ技術
によシ、上記導波路にフィルタ膜形成：ｉ’ｊ ｌ １
（フィルタ膜形ｇ部）を形成する工程である。第２図
（ｅｌは、フィルタ膜ブレ成面ｌｌの中に、以１に述べ
る方法で、フィルター族１２を形成する工程である。
フィルタ１１Ａ１２を形成する方法を硅しく述べると、
フィルタ膜１２は原料ガスの熱分Ｊ′珪反応によシ形成
する。フィルタとしては、主にアモルファス・シリコン
（ａ−８ｉ ） 、 ５ｉＯ１、Ｔｉ０１の薄膜を用い
るが、これらは以下のような原料ガスからつくる。８１
Ｈ４→ａ−８ｉ、Ｓ土（ＯＲ）ａ→５ｉｏｔ。
フィルタ膜１２は原料ガスの熱分Ｊ′珪反応によシ形成
する。フィルタとしては、主にアモルファス・シリコン
（ａ−８ｉ ） 、 ５ｉＯ１、Ｔｉ０１の薄膜を用い
るが、これらは以下のような原料ガスからつくる。８１
Ｈ４→ａ−８ｉ、Ｓ土（ＯＲ）ａ→５ｉｏｔ。
Ｔｉ（ＯＲ）ｉ→Ｔｉｏ１ｏ ここで、ＲはＯｎＨ＊ｎ
−１−ｘ（ｎは整数）を表わす。
−１−ｘ（ｎは整数）を表わす。
Ｔ４３図にフィルター献形成装置を示す。１３ａ。
１３ｂ・・・ｔｉ原料容器、１４ａ、１４ｂ・・・は原
料容器１３ａ、１３ｂ・・・中の原料を気化さするため
の電気炉、１５ａ、１５ｂ・・・はυｉｌ閉ヅトである
＠開目１弁１５ａ、１５ｂ・・・のしｔＪＬ＃ｌによシ
所望の原料ガスのみを反応炉１６の中に入れる。１７は
第２図（ｄ）の工程までの処理を終った等波路でるる。
料容器１３ａ、１３ｂ・・・中の原料を気化さするため
の電気炉、１５ａ、１５ｂ・・・はυｉｌ閉ヅトである
＠開目１弁１５ａ、１５ｂ・・・のしｔＪＬ＃ｌによシ
所望の原料ガスのみを反応炉１６の中に入れる。１７は
第２図（ｄ）の工程までの処理を終った等波路でるる。
】８はトラップ、１９は＾空ポンプである。この装置σ
）操作は以下のように竹なう。（１）導波路１７を反応
炉１６の中におき、反応炉１６を適当な温庇まで加熱す
る。（２）Ａ空ポンプ１９で反応炉１６の中を減圧する
。（３）導波路１７の温展を上げ、原料ガスの熱分解温
匪Ｔ０ より高い瓢厩にして一定に保つ０（４）１９ｆ
望の原料容器、例えは、原料容器１３ａの開ｌ、４１弁
１５ａｔｔ開ける。（５）電気炉１４ａを加熱し、原料
容器１３ａの中の原料を気化させる。この操作の結果、
気化した原料ガス１＾をポンプ１９に吸引され、反応炉
１６の中に入っていく。導波路１７の烏温部で原料ガス
が上記に示すように熱分解され、したがって、導波路１
７０表向にフィルタ族が形成される。最後に導波路１７
をゆつくシとめ却することによυフィルタ膜が導波路１
７の表面に誓着し、安定な膜となる。
）操作は以下のように竹なう。（１）導波路１７を反応
炉１６の中におき、反応炉１６を適当な温庇まで加熱す
る。（２）Ａ空ポンプ１９で反応炉１６の中を減圧する
。（３）導波路１７の温展を上げ、原料ガスの熱分解温
匪Ｔ０ より高い瓢厩にして一定に保つ０（４）１９ｆ
望の原料容器、例えは、原料容器１３ａの開ｌ、４１弁
１５ａｔｔ開ける。（５）電気炉１４ａを加熱し、原料
容器１３ａの中の原料を気化させる。この操作の結果、
気化した原料ガス１＾をポンプ１９に吸引され、反応炉
１６の中に入っていく。導波路１７の烏温部で原料ガス
が上記に示すように熱分解され、したがって、導波路１
７０表向にフィルタ族が形成される。最後に導波路１７
をゆつくシとめ却することによυフィルタ膜が導波路１
７の表面に誓着し、安定な膜となる。
第２図（ｅ）の形状の回路でフィルタＨｔ２として＆−
８１を用いると長波長透過フィルタ回路（フィルタ付光
等波路）ができる。このようなフィルタ膜を形成する場
合には、フィルター腺形成に６たシ、原料ガスとしてＡ
ｒで希釈されたＳｉＨ４を流す。そして第３図の反応炉
１５０己展を上げ、５００〜５５０℃に設定するとＢｉ
Ｈａが熱分解する。この場合６５０℃よシ市くなるよう
に設定すると生成したａ−８ｉが結晶化するので望まし
くない。仁の結果、第２図（ｅ）のフィルタ膜１２とし
てａ−８１が形成される。第４図は、このようにして形
成した長波長透過フィルタ回路の！臣性図である。
８１を用いると長波長透過フィルタ回路（フィルタ付光
等波路）ができる。このようなフィルタ膜を形成する場
合には、フィルター腺形成に６たシ、原料ガスとしてＡ
ｒで希釈されたＳｉＨ４を流す。そして第３図の反応炉
１５０己展を上げ、５００〜５５０℃に設定するとＢｉ
Ｈａが熱分解する。この場合６５０℃よシ市くなるよう
に設定すると生成したａ−８ｉが結晶化するので望まし
くない。仁の結果、第２図（ｅ）のフィルタ膜１２とし
てａ−８１が形成される。第４図は、このようにして形
成した長波長透過フィルタ回路の！臣性図である。
１．２μｍ以上の波長で透過率６５チ、１．１μｍ以下
で通過率がほぼ０％である。
で通過率がほぼ０％である。
第５図は、本発明の方法によシ製造した光分波器の一例
を示す図でるる。第５図ｔａ＋はこの光分波器の導波路
形状を示している。この光分波器では、ＪＬＪ英ガラス
ｉ板７ａの上にバッファ層８已、８ｂ。
を示す図でるる。第５図ｔａ＋はこの光分波器の導波路
形状を示している。この光分波器では、ＪＬＪ英ガラス
ｉ板７ａの上にバッファ層８已、８ｂ。
８ｏおよびコア層９ａ、９ｂ、９０をパターン化し、そ
の上にり２ラド層１０ａを形成する。次い、で、フォト
リングラフィの技術を用いてフィルタ膜用の嬶を切シ、
この溝中にフィルタ膜１２ａを形成する。
の上にり２ラド層１０ａを形成する。次い、で、フォト
リングラフィの技術を用いてフィルタ膜用の嬶を切シ、
この溝中にフィルタ膜１２ａを形成する。
負′４５図（ｔ＋１はフィルタＭ Ｉ Ｑ ａの惜造を
示す図である。多層１ｇ２１は栄職通過フィルタでＴ１
０！と８１０、とをツユに１１層（Ｔｉ０，６層、Ｓｉ
ｎ、 ５層）積層したものである。各層は、通過域の中
心＆ ４％に対して１／４ｔＩＬ長光学的厚さとなるよ
うにしてるる。この厚さを８ｔｏｔ膜についてはり。
示す図である。多層１ｇ２１は栄職通過フィルタでＴ１
０！と８１０、とをツユに１１層（Ｔｉ０，６層、Ｓｉ
ｎ、 ５層）積層したものである。各層は、通過域の中
心＆ ４％に対して１／４ｔＩＬ長光学的厚さとなるよ
うにしてるる。この厚さを８ｔｏｔ膜についてはり。
ＴＩＯ，＞についてＦｉＨと記すと、ここでは通過域の
中心ｒＪｊ１．長を０．９μｍＫＭ定したので、Ｈ＝０
．５２μｍ５Ｌ＝０．３３μｍ＜ただし、Ｔｔｏｔａ、
ＪｉｔＲ率ｎＴ ＝２．３０ 、８１０１の屈折率ｎ１
＝１．４６とした）となる。ただし、多１輌膜中、！１
０．のＮ−の層の厚さのみ、２Ｌとする。この屑をキャ
ビティという。実施例では、キャビティを８１０１の第
３層目に設定した。フィルタ１）１２ａの中心部分５０
には、尋ｅ、に６のコアノーと同一のＴ１ ドープの５
１０２１帽を形成する。これによりフィルタ膜１２ａは
Ｔｉｅ、−８ｉｎ、の多層による１１層１キヤビテイの
帯域通過フィルタ２個から形成されていることになる。
中心ｒＪｊ１．長を０．９μｍＫＭ定したので、Ｈ＝０
．５２μｍ５Ｌ＝０．３３μｍ＜ただし、Ｔｔｏｔａ、
ＪｉｔＲ率ｎＴ ＝２．３０ 、８１０１の屈折率ｎ１
＝１．４６とした）となる。ただし、多１輌膜中、！１
０．のＮ−の層の厚さのみ、２Ｌとする。この屑をキャ
ビティという。実施例では、キャビティを８１０１の第
３層目に設定した。フィルタ１）１２ａの中心部分５０
には、尋ｅ、に６のコアノーと同一のＴ１ ドープの５
１０２１帽を形成する。これによりフィルタ膜１２ａは
Ｔｉｅ、−８ｉｎ、の多層による１１層１キヤビテイの
帯域通過フィルタ２個から形成されていることになる。
。
このフィルタ１１２ａの形成には、第３図の装置Ｍを用
いて、原料ガスにＴｉ（ＯＯｌＪ）ａと５ｉ（００！Ｈ
，：にとを使用する。反応炉の温度を１０００℃にすれ
ば、各々熱分解してＴ１０．とＳ１０．とが形成される
ので、既に述べた方法により、これらの膜が形成できる
。第５図の例ではＴｉｅｔとＳｉｎ、との多層膜を形成
した後、Ｓ波路のクラッド層の上についだ多層膜を研謔
しているが、この過程は必ずしも必要ではない。中心部
分５０を形成するにはコア層形成と同一の製法によった
。
いて、原料ガスにＴｉ（ＯＯｌＪ）ａと５ｉ（００！Ｈ
，：にとを使用する。反応炉の温度を１０００℃にすれ
ば、各々熱分解してＴ１０．とＳ１０．とが形成される
ので、既に述べた方法により、これらの膜が形成できる
。第５図の例ではＴｉｅｔとＳｉｎ、との多層膜を形成
した後、Ｓ波路のクラッド層の上についだ多層膜を研謔
しているが、この過程は必ずしも必要ではない。中心部
分５０を形成するにはコア層形成と同一の製法によった
。
このようにして得られた光分波器の特性を第６図に示す
。第５図（−の導波路９ｂに光を入射した時の導波路９
Ｃでの特性＃ｉ第６＃ＡＫムの曲線で示されている。通
過域波長での損失は約２．５（ＬＢで、１訂正域派表址
は幻１台（ＬＢであった。第５図（ａ）の等阪船９ａで
の骨性れ、第６図にＢの曲りで示しである。これよ１本
光分披器は、例えはＱ、９層１ｍ蛍と１．３８ａ帝との
２波多別用に便える仁とがわかる。
。第５図（−の導波路９ｂに光を入射した時の導波路９
Ｃでの特性＃ｉ第６＃ＡＫムの曲線で示されている。通
過域波長での損失は約２．５（ＬＢで、１訂正域派表址
は幻１台（ＬＢであった。第５図（ａ）の等阪船９ａで
の骨性れ、第６図にＢの曲りで示しである。これよ１本
光分披器は、例えはＱ、９層１ｍ蛍と１．３８ａ帝との
２波多別用に便える仁とがわかる。
以上説明したように、本発明のフィルタ付光導波路の製
−ｍ法によれは、フォトリングラフィ技術と膜形成技術
のみからなる工程で元フィルタ回路。
−ｍ法によれは、フォトリングラフィ技術と膜形成技術
のみからなる工程で元フィルタ回路。
光分波器が製造できる。本発明によれは、組立て、＃１
４ｉが不袂であるので、これらの光学部品の一括大閂牛
像が司絽という利点がおる。
４ｉが不袂であるので、これらの光学部品の一括大閂牛
像が司絽という利点がおる。
第１１１！Ｊは従来の方法によって＃！蚕された光分波
器の一例を示すＩＩｌ向図、第２悶（ａ）〜ｓｅｔは本
発明の一爽施例として示したフイｙり付光導波路の製造
工程を示す図、第３図れ本発明に使用されるフィルタ農
製造装置の一例を示す概略構成図、第４図は不発明によ
って形成した長波長透過フィルタ回路の特性図、第５図
（ａ１社不発明により製造した光分波器の斜視図、第５
回（ｂ）は同光分波器の賛部の断面図、第６図は同光分
波器の分＊ｑ！ｆ性図でるる。 ７．７＆・・・石英ガラス基板、８，８ａ、８ｂ。 ８ｃ・・・バッファノー、９，９ａ、９ｂ、９ｃｍ・・
コア層、１０．ｌＯａ・・・クラッド層、１１・・・フ
ィルタ膜用Ｄ’ｘ、ＩＦｊ、１２ 、１２ａ＝フイルタ
膜、１３ａ、１３ｂ、〜１３ｃ・・・原料υ器、１４ａ
。 １４ｂ、〜１４ｃ・・・電気炉、１５ａ、１５ｂ、〜１
５ｅ・・・１１１閉弁、１６・・・反応炉、１７・・・
導波路、１８・・・トラップ、１９・・・ｌ（空ポンプ
、２１・・・フィルタｈの多層わ！部分、５０・・・フ
ィルタ膜の中心部分。 出願人 日本ｔイば也話公社 第１図 第２図
器の一例を示すＩＩｌ向図、第２悶（ａ）〜ｓｅｔは本
発明の一爽施例として示したフイｙり付光導波路の製造
工程を示す図、第３図れ本発明に使用されるフィルタ農
製造装置の一例を示す概略構成図、第４図は不発明によ
って形成した長波長透過フィルタ回路の特性図、第５図
（ａ１社不発明により製造した光分波器の斜視図、第５
回（ｂ）は同光分波器の賛部の断面図、第６図は同光分
波器の分＊ｑ！ｆ性図でるる。 ７．７＆・・・石英ガラス基板、８，８ａ、８ｂ。 ８ｃ・・・バッファノー、９，９ａ、９ｂ、９ｃｍ・・
コア層、１０．ｌＯａ・・・クラッド層、１１・・・フ
ィルタ膜用Ｄ’ｘ、ＩＦｊ、１２ 、１２ａ＝フイルタ
膜、１３ａ、１３ｂ、〜１３ｃ・・・原料υ器、１４ａ
。 １４ｂ、〜１４ｃ・・・電気炉、１５ａ、１５ｂ、〜１
５ｅ・・・１１１閉弁、１６・・・反応炉、１７・・・
導波路、１８・・・トラップ、１９・・・ｌ（空ポンプ
、２１・・・フィルタｈの多層わ！部分、５０・・・フ
ィルタ膜の中心部分。 出願人 日本ｔイば也話公社 第１図 第２図
Claims (1)
- 基板上に先導波路を形成する工程と、光等波路にフィル
タ膜形成部を形成する工程と、前記フィルタ膜形成部に
膜形成原料の気相化学反応によりフィルタ組を形成する
工程とから成るフィルタ付先導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11072483A JPS602906A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | フイルタ付光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11072483A JPS602906A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | フイルタ付光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS602906A true JPS602906A (ja) | 1985-01-09 |
Family
ID=14542879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11072483A Pending JPS602906A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | フイルタ付光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602906A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62121407A (ja) * | 1985-11-21 | 1987-06-02 | Hitachi Ltd | 光フイルタおよびそれを用いた波長多重伝送デバイス |
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| JPS63223712A (ja) * | 1987-03-13 | 1988-09-19 | Hitachi Ltd | 光導波路およびその製造方法 |
| JPS63287806A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-24 | Hitachi Ltd | 光集積回路の製造方法 |
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-
1983
- 1983-06-20 JP JP11072483A patent/JPS602906A/ja active Pending
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