JPS63217307A - 光合分波器およびその製造方法 - Google Patents
光合分波器およびその製造方法Info
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- JPS63217307A JPS63217307A JP5003787A JP5003787A JPS63217307A JP S63217307 A JPS63217307 A JP S63217307A JP 5003787 A JP5003787 A JP 5003787A JP 5003787 A JP5003787 A JP 5003787A JP S63217307 A JPS63217307 A JP S63217307A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、作成した段階の光合分波器の波長特性を微調
整できる光合分波器の構造および製造方法に関する。
整できる光合分波器の構造および製造方法に関する。
光フアイバ通信における光波長多重伝送技術は通信シス
テムの経済化をはかる上で重要であり、上記光波長多重
伝送において、光合分波器は必須のデバイスである。
テムの経済化をはかる上で重要であり、上記光波長多重
伝送において、光合分波器は必須のデバイスである。
光合分波器の構成法として、最近、低コスト化、1チツ
プモノリシツク化をめざした導波路型構造を研究する動
きが生じてきた。その−例として、方向性結合器形光分
波器(N 、 Takato 、他:高シリカ埋込みチ
ャンネル導波路を用いた低損失方向性結合器、OEC’
86.テクニカルダイジェスト、A3−3.1986年
7月)がある、これは第9図に示すように、二つの光導
波路を並行に配置させ、二つの光導波路の結合の波長依
存性を利用して光分波特性を得る方法である。
プモノリシツク化をめざした導波路型構造を研究する動
きが生じてきた。その−例として、方向性結合器形光分
波器(N 、 Takato 、他:高シリカ埋込みチ
ャンネル導波路を用いた低損失方向性結合器、OEC’
86.テクニカルダイジェスト、A3−3.1986年
7月)がある、これは第9図に示すように、二つの光導
波路を並行に配置させ、二つの光導波路の結合の波長依
存性を利用して光分波特性を得る方法である。
上記従来の方向性結合器形光分波器は簡単な構成である
ので、作成し易いという特長をもっている。しかし、製
造プロセス中での構造パラメータの変動によって中心波
長のシフトが生じるという問題があり、歩留り低下がさ
けられなかった。第10図は本発明者が計算して得た光
分波器の感度解析結果である。同図(a)は導波路のコ
ア幅Wを設定値10μmから±5%偏差させた場合の結
果、同図(b)は導波路のコア厚みTを設定値8μmか
ら±5%偏差させた場合の結果、同図(c)は導波路の
コアとクラッドの屈折率差Δnの設定値0.25 %か
ら±5%偏差させた場合の結果である。同図かられかる
ように、構造パラメータの偏差は中心波長を相対的にシ
フトさせる。上記偏差のうち、Wの偏差が波長シフトに
敏感であることがわかる。このような波長シフトはチャ
ンネル間の漏話特性の劣化をまねく。上記従来の光分波
器では、構造パラメータの変動によって生じた中心波長
シフトはどうすることもできず、結果的には中心波長シ
フトの生じたものは使えないので歩留り低下につながっ
ていた。
ので、作成し易いという特長をもっている。しかし、製
造プロセス中での構造パラメータの変動によって中心波
長のシフトが生じるという問題があり、歩留り低下がさ
けられなかった。第10図は本発明者が計算して得た光
分波器の感度解析結果である。同図(a)は導波路のコ
ア幅Wを設定値10μmから±5%偏差させた場合の結
果、同図(b)は導波路のコア厚みTを設定値8μmか
ら±5%偏差させた場合の結果、同図(c)は導波路の
コアとクラッドの屈折率差Δnの設定値0.25 %か
ら±5%偏差させた場合の結果である。同図かられかる
ように、構造パラメータの偏差は中心波長を相対的にシ
フトさせる。上記偏差のうち、Wの偏差が波長シフトに
敏感であることがわかる。このような波長シフトはチャ
ンネル間の漏話特性の劣化をまねく。上記従来の光分波
器では、構造パラメータの変動によって生じた中心波長
シフトはどうすることもできず、結果的には中心波長シ
フトの生じたものは使えないので歩留り低下につながっ
ていた。
本発明の目的は上記中心波長シフトを補正することがで
きるようにした光合分波器およびその製造方法を提供す
ることにある。
きるようにした光合分波器およびその製造方法を提供す
ることにある。
上記目的は、低屈折率層(屈折率nb)の上にコアとな
る複数個の方形導波路(屈折率nc、nc)nb)を並
置して構成し、上記コア導波路に、屈折率がnCg (
net<nc r net≠nb)のクラッドを被覆し
た方向性結合器型光合分波器によって達成される6そし
て上記クラッドは熱処理することによって屈折率が高く
なる膜からなり、光合分波器の中心波長は熱処理時間、
あるいは熱エネルギー量を調節することによって制御す
る。
る複数個の方形導波路(屈折率nc、nc)nb)を並
置して構成し、上記コア導波路に、屈折率がnCg (
net<nc r net≠nb)のクラッドを被覆し
た方向性結合器型光合分波器によって達成される6そし
て上記クラッドは熱処理することによって屈折率が高く
なる膜からなり、光合分波器の中心波長は熱処理時間、
あるいは熱エネルギー量を調節することによって制御す
る。
本発明では、低屈折率層の上にコアを形成した段階で、
種々の構造パラメータを測定し、偏差の状態を考慮に入
れてクラッドの屈折率を調節し、中心波長シフトを完全
に補正するように制御できるので、歩留り100%で光
合分波器を得ることができる。
種々の構造パラメータを測定し、偏差の状態を考慮に入
れてクラッドの屈折率を調節し、中心波長シフトを完全
に補正するように制御できるので、歩留り100%で光
合分波器を得ることができる。
本発明の光合分波器の基本構成を第1図および第2図に
示す、第1図は方向性結合器が1個の場合、第2図は方
向性結合器が3個の場合である。
示す、第1図は方向性結合器が1個の場合、第2図は方
向性結合器が3個の場合である。
同図かられかるように、低屈折率層(屈折率nb)の上
に、コアとなる複数個(この場合2個であるが、3個以
上でもよい。)の方形導波路3−1゜3−2(屈折率n
C,n c> n b)を並置して構成し、上記コア
導波路に、屈折率がnew (nca<nc 。
に、コアとなる複数個(この場合2個であるが、3個以
上でもよい。)の方形導波路3−1゜3−2(屈折率n
C,n c> n b)を並置して構成し、上記コア
導波路に、屈折率がnew (nca<nc 。
net≠n+、)のクラッド4を被覆した構成である。
このクラッド4の屈折率nctはnbよりも低くても、
あるいは高くてもよい。第2図のように方向性結合器を
3個用いるのは、波長間のアイソレーションを高くして
チャネル間干渉による信号品質の劣化を小さくするため
である。すなわち、ボートiに入射した波長λl、λ2
の光信号は、Aにおいて、λ1は導波路5にそのまま導
波されるが、λ2は導波路6に分波される。次にBにお
いては導波路5に漏洩した波長λ2の非希望信号をボー
ト1に分波させ、ボート2には希望の光信号λ工のみを
とりだすように作用する。同様にCにおいては導波路6
に漏洩した波長λ1の非希望信号をボート3にそのまま
導波させ、ボート4には希望の光信号λ2のみを分波し
てとりだすようにしたものである。その結果、波長λ1
と12間のアイソレーションを極めて大きくとることが
できる。方向性結合器A、B、Cは同一構造のものであ
る。
あるいは高くてもよい。第2図のように方向性結合器を
3個用いるのは、波長間のアイソレーションを高くして
チャネル間干渉による信号品質の劣化を小さくするため
である。すなわち、ボートiに入射した波長λl、λ2
の光信号は、Aにおいて、λ1は導波路5にそのまま導
波されるが、λ2は導波路6に分波される。次にBにお
いては導波路5に漏洩した波長λ2の非希望信号をボー
ト1に分波させ、ボート2には希望の光信号λ工のみを
とりだすように作用する。同様にCにおいては導波路6
に漏洩した波長λ1の非希望信号をボート3にそのまま
導波させ、ボート4には希望の光信号λ2のみを分波し
てとりだすようにしたものである。その結果、波長λ1
と12間のアイソレーションを極めて大きくとることが
できる。方向性結合器A、B、Cは同一構造のものであ
る。
ここで、クラッド4の屈折率ncg低屈折率層2の屈折
率nbと異ならせるようにしたのは次のような理由によ
るものである。低屈折率層2の上にコアどなる膜を形成
し、ホトレジスト塗布、ホトリングラフィ、反応性イオ
ンエツチング、ホトレジスト除去などの製造プロセスを
経て方形状の導波路3−1.3−2を得る場合に、上記
プロセスによって、コアの屈折率nc、導波路の幅W、
導波路の厚みT、および導波路間隔Sに偏差が生じ、第
10図に示したような中心波長シフトが生じる。
率nbと異ならせるようにしたのは次のような理由によ
るものである。低屈折率層2の上にコアどなる膜を形成
し、ホトレジスト塗布、ホトリングラフィ、反応性イオ
ンエツチング、ホトレジスト除去などの製造プロセスを
経て方形状の導波路3−1.3−2を得る場合に、上記
プロセスによって、コアの屈折率nc、導波路の幅W、
導波路の厚みT、および導波路間隔Sに偏差が生じ、第
10図に示したような中心波長シフトが生じる。
このまま低屈折率層2と同じ屈折率nbのクラッドを被
覆したのでは、中心波長シフトの生じた光合分波器ばか
りができてしまい、まったく使いものにならなくなって
しまう。そこで本発明では、コアを形成した段階で、n
Cp W、T、およびSを測定し、偏差の状態を把握し
た後、クラッド4の屈折率ncgを上記偏差による中心
波長シフトを補正するように任意に選ぶようにしたもの
である。
覆したのでは、中心波長シフトの生じた光合分波器ばか
りができてしまい、まったく使いものにならなくなって
しまう。そこで本発明では、コアを形成した段階で、n
Cp W、T、およびSを測定し、偏差の状態を把握し
た後、クラッド4の屈折率ncgを上記偏差による中心
波長シフトを補正するように任意に選ぶようにしたもの
である。
その結果として、プロセス偏差による中心波長シフトを
完全に補正するようにncmを設定することにより1歩
留り100%の光合分波器を実現することができるよう
になり、大幅な低コスト化が可能になる。このように、
プロセスの途中段階でモニタし、そのモニタした情報に
より、プロセスにフィードバックをかける方法は、光合
分波器のように、わずかの構造パラメータの偏差によっ
て波長特性を変化させるものには極めて有効であり、今
までにまったく導入されていなかった新しいプロセス作
製法および新構造光合分波器を実現したものである。
完全に補正するようにncmを設定することにより1歩
留り100%の光合分波器を実現することができるよう
になり、大幅な低コスト化が可能になる。このように、
プロセスの途中段階でモニタし、そのモニタした情報に
より、プロセスにフィードバックをかける方法は、光合
分波器のように、わずかの構造パラメータの偏差によっ
て波長特性を変化させるものには極めて有効であり、今
までにまったく導入されていなかった新しいプロセス作
製法および新構造光合分波器を実現したものである。
次に、クラッドの屈折率nC慮によって中心波長特性を
どのように制御することができるかを本発明者が新規に
解析したので、その結果について説明する。第3図およ
び第4図がその解析結果の例である。図かられかるよう
に、nC露の値によって。
どのように制御することができるかを本発明者が新規に
解析したので、その結果について説明する。第3図およ
び第4図がその解析結果の例である。図かられかるよう
に、nC露の値によって。
中心波長がずれていくことが示されている。すなわち、
nc■の値によって中心波長をシフトさせることができ
るという全く新しい構成法を見いだしたものである。
nc■の値によって中心波長をシフトさせることができ
るという全く新しい構成法を見いだしたものである。
次に、任意の屈折率を有するクラッドの形成方法につい
て述べる。第5図は本発明者が試作し、測定したクラツ
ド膜の屈折率特性測定結果を示したものである。これは
、390”Cに加熱されたシリコン基板上に、モノシラ
ン5iHa(Nzで4%に希釈されたガス)、ホスフィ
ンPH8(NZで1%に希釈されたガス)、Nz、Ox
ガスを流して形成させた膜の屈折率特性であり、PH3
のガス流量を変えることにより、屈折率を1.454
から1.475 まで変えることができた。実線で
示した曲線がその場合の結果であり、点線で示した曲線
は1000℃の温度で約10時間(昇温時間2.5時間
、保温時間0.5 時間、降温時間7時間)、空気中で
熱処理した結果を示したものである。熱処理した場合も
屈折率を広範囲に変えられることを示している。第5図
の結果からクラッドの屈折率を広範囲に変えることが明
確になり、本発明の光合分波器が実現できることを示し
ている。
て述べる。第5図は本発明者が試作し、測定したクラツ
ド膜の屈折率特性測定結果を示したものである。これは
、390”Cに加熱されたシリコン基板上に、モノシラ
ン5iHa(Nzで4%に希釈されたガス)、ホスフィ
ンPH8(NZで1%に希釈されたガス)、Nz、Ox
ガスを流して形成させた膜の屈折率特性であり、PH3
のガス流量を変えることにより、屈折率を1.454
から1.475 まで変えることができた。実線で
示した曲線がその場合の結果であり、点線で示した曲線
は1000℃の温度で約10時間(昇温時間2.5時間
、保温時間0.5 時間、降温時間7時間)、空気中で
熱処理した結果を示したものである。熱処理した場合も
屈折率を広範囲に変えられることを示している。第5図
の結果からクラッドの屈折率を広範囲に変えることが明
確になり、本発明の光合分波器が実現できることを示し
ている。
クラッドの屈折率を別の方法により変える方法を第6図
に示す。同図(a)は上面図、(b)は(a)のx−x
’断面図を示したものである。この方法は、熱処理によ
ってクラッドの屈折率が変わる膜をあらかじめ形成して
光合分波器を作っておき、その後、光合分波器の入力端
より測定波長範囲をカバーした光7gX(たとえば、白
色光源、この場合、波長λ1〜λ、=0.6〜1.6μ
m)7を入力し、各出力ポートの光出力8,9を光スペ
クトラムアナライザでモニタしておく。次にクラッド4
の上面にC○2レーザビームを照射させ、光合分波器の
パターン上を矢印11方向にビームを移動させるか、あ
るいはビームは固定しておき。
に示す。同図(a)は上面図、(b)は(a)のx−x
’断面図を示したものである。この方法は、熱処理によ
ってクラッドの屈折率が変わる膜をあらかじめ形成して
光合分波器を作っておき、その後、光合分波器の入力端
より測定波長範囲をカバーした光7gX(たとえば、白
色光源、この場合、波長λ1〜λ、=0.6〜1.6μ
m)7を入力し、各出力ポートの光出力8,9を光スペ
クトラムアナライザでモニタしておく。次にクラッド4
の上面にC○2レーザビームを照射させ、光合分波器の
パターン上を矢印11方向にビームを移動させるか、あ
るいはビームは固定しておき。
光合分波器をスライドさせるかして、クラッド4に熱エ
ネルギーを加え、クラッド4の屈折率を変化させ、分波
光出力9を光スペクトラムアナライザで観測しながら中
心波長を制御する。CO2レーザビーム照射光10のス
ポットサイズはパターンをカバーするように、数m径程
度が好ましい。
ネルギーを加え、クラッド4の屈折率を変化させ、分波
光出力9を光スペクトラムアナライザで観測しながら中
心波長を制御する。CO2レーザビーム照射光10のス
ポットサイズはパターンをカバーするように、数m径程
度が好ましい。
矢印11方向への移動速度、CO2レーザビームの光出
力は中心波長のシフト状況を観測しながら設定する。C
Ozレーザビームの照射によるクラッドの屈折率変化の
実測結果を第7図に示す。これは、CO2レーザ光源の
光出力約10Wの光をGe1lレンズで約6mφのビー
ムスポットサイズにしぼり、これを第5図に示したよう
に、390℃の温度で形成したガラス膜(シリケートガ
ラス膜と、フォスフオシリケードガラス膜)に照射して
得た結果である。照射時間によって屈折率を制御できる
ことがわかった。なお、屈折率の測定波長は0.63
μmである。
力は中心波長のシフト状況を観測しながら設定する。C
Ozレーザビームの照射によるクラッドの屈折率変化の
実測結果を第7図に示す。これは、CO2レーザ光源の
光出力約10Wの光をGe1lレンズで約6mφのビー
ムスポットサイズにしぼり、これを第5図に示したよう
に、390℃の温度で形成したガラス膜(シリケートガ
ラス膜と、フォスフオシリケードガラス膜)に照射して
得た結果である。照射時間によって屈折率を制御できる
ことがわかった。なお、屈折率の測定波長は0.63
μmである。
第8図は実際に試作した光合分波器の損失波長特性の測
定結果を示したものである。同図において、Δ印および
ム印が熱処理前の特性であり、0印および・印がC○2
レーザで熱処理した後の特性である。なお、同図には、
光ファイバ(単一モード光ファイバ)と導波路の間の給
金損失、および導波路損失は含まれていない、これらの
トータル値は約5dBであり、その大部分は前者、すな
わち、光ファイバと導波路との間の結合損失によるもの
である。
定結果を示したものである。同図において、Δ印および
ム印が熱処理前の特性であり、0印および・印がC○2
レーザで熱処理した後の特性である。なお、同図には、
光ファイバ(単一モード光ファイバ)と導波路の間の給
金損失、および導波路損失は含まれていない、これらの
トータル値は約5dBであり、その大部分は前者、すな
わち、光ファイバと導波路との間の結合損失によるもの
である。
本発明は上記実施例に限定されない。低屈折率層、コア
、クラッドはガラス以外に、高分子重合体、誘電体、磁
性体などでもよい、基板1には、上記材質の他に、Si
、Ink、GaAsなどの半導体を用いることができる
。また光合分波器に、半導体発光素子(半導体レーザ、
発光ダイオードなど)、受光素子などの能動光素子を搭
載した光モジュールに構成してもよい。またガラス材料
には、石英ガラス、P、Ge、Ti、Bなどのドーパン
トを含んだ石英ガラス、アルカリ金層およびアルカリ土
類金属を含んだいわゆる多成分系ガラスでもよい。熱処
理の方法には、電気炉、高周波加熱炉などによる方法、
CO2レーザ、YAGレーザなどのレーザによる方法、
など種々の方法を用いることができる。また、ガラス膜
の形成は。
、クラッドはガラス以外に、高分子重合体、誘電体、磁
性体などでもよい、基板1には、上記材質の他に、Si
、Ink、GaAsなどの半導体を用いることができる
。また光合分波器に、半導体発光素子(半導体レーザ、
発光ダイオードなど)、受光素子などの能動光素子を搭
載した光モジュールに構成してもよい。またガラス材料
には、石英ガラス、P、Ge、Ti、Bなどのドーパン
トを含んだ石英ガラス、アルカリ金層およびアルカリ土
類金属を含んだいわゆる多成分系ガラスでもよい。熱処
理の方法には、電気炉、高周波加熱炉などによる方法、
CO2レーザ、YAGレーザなどのレーザによる方法、
など種々の方法を用いることができる。また、ガラス膜
の形成は。
スート状の膜を形成後、焼結によってガラス化する方法
でもよい、またコアは完全な方形状でなくてもよい、た
とえば、楕円形状、円形状でもよい。
でもよい、またコアは完全な方形状でなくてもよい、た
とえば、楕円形状、円形状でもよい。
さらに第1図の光合分波器を第2図のごとく3つ組合せ
たり、あるいは2つ組合せてもよい。さらに波長多重数
を増大させるために4つ以上組合せてもよい。
たり、あるいは2つ組合せてもよい。さらに波長多重数
を増大させるために4つ以上組合せてもよい。
本発明によれば、低屈折率層の上にコアを形成した段階
で、種々の構造パラメータを測定し、偏差の状態を考慮
に入れてクラッドの屈折率を調節し、中心波長シフトを
完全に補正するように制御することができるので1歩留
り100%の割合いで光合分波器を実現することができ
る。その結果、従来法に比し、大幅に低コストな光合分
波器を実現することができる。
で、種々の構造パラメータを測定し、偏差の状態を考慮
に入れてクラッドの屈折率を調節し、中心波長シフトを
完全に補正するように制御することができるので1歩留
り100%の割合いで光合分波器を実現することができ
る。その結果、従来法に比し、大幅に低コストな光合分
波器を実現することができる。
第1図および第2図は本発明の光合分波器の基本構成図
、第3図および第4図は本発明の光合分波器の損失波長
特性解析結果図、第5@は本発明者が試作したクラッド
の屈折率特性および熱処理による屈折率変化特性図、第
6図は本発明の熱処理法によるクラッドの屈折率を調節
する方法図、第7図は本発明の熱処理法によるクラッド
の屈折率変化特性図、第8図は本発明の光合分波器の試
作器の損失波長特性図、第9図は従来の光合分波器の概
略図、第10図は従来の光合分波器の損失波長特性を本
発明者が解析した結果を示す図である。 1・・・基板、2・・・低屈折率層、3−1.3−2・
・・コア、4・・・クラッド。 (二、′ 璃 l 記 (cL) X′ (+b) (χ−x’t?lri記) WiJ2 日 (x−X’#fQ凹) lル根 3−2コア 4 フラ・2ド 5 比力尊二皮」ト 6りI 第3図 成長 (μ舛) 第41!1 地表(j鷹) 第 51!11 PH3(SCCM ) 毛 7 名 002シーナ゛ビーム/)ew*ps仁(sec)葛
′3 圀 シ慶 (2(メツ1〕 轟 ・ : ビor七2出力 ΔO二l’ort4出力
、第3図および第4図は本発明の光合分波器の損失波長
特性解析結果図、第5@は本発明者が試作したクラッド
の屈折率特性および熱処理による屈折率変化特性図、第
6図は本発明の熱処理法によるクラッドの屈折率を調節
する方法図、第7図は本発明の熱処理法によるクラッド
の屈折率変化特性図、第8図は本発明の光合分波器の試
作器の損失波長特性図、第9図は従来の光合分波器の概
略図、第10図は従来の光合分波器の損失波長特性を本
発明者が解析した結果を示す図である。 1・・・基板、2・・・低屈折率層、3−1.3−2・
・・コア、4・・・クラッド。 (二、′ 璃 l 記 (cL) X′ (+b) (χ−x’t?lri記) WiJ2 日 (x−X’#fQ凹) lル根 3−2コア 4 フラ・2ド 5 比力尊二皮」ト 6りI 第3図 成長 (μ舛) 第41!1 地表(j鷹) 第 51!11 PH3(SCCM ) 毛 7 名 002シーナ゛ビーム/)ew*ps仁(sec)葛
′3 圀 シ慶 (2(メツ1〕 轟 ・ : ビor七2出力 ΔO二l’ort4出力
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、低屈折率層(屈折率n_b)の上にコアとなる複数
個の略方形導波路(屈折率n_c、n_c>n_b)を
並置して構成し、該コア導波路に、屈折率がn_c_■
(n_c_■<n_c、n_c_■≠n_b)のクラッ
ドを被覆してなる光合分波器。 2、特許請求の範囲第1項において、上記光合分波器を
2つ、あるいはそれ以上組合せて構成した光合分波器。 3、特許請求の範囲第1項又は第2項において、上記ク
ラッドは熱処理によつて屈折率が変化するものである光
合分波器。 4、低屈折率層(屈折率n_b)の上にコアとなる複数
個の略方形導波路(屈折率n_c、n_c>n_b)を
並置して構成し、該コア導波路に、熱処理によつて屈折
率が変化する屈折率がn_c_■(n_c_■<n_c
、n_c_■≠n_b)のクラッドを被覆し、このクラ
ッドに熱処理を加えることによつて分波特性の中心波長
をシフトさせるようにした光合分波器の製造方法。 5、特許請求の範囲第4項において、上記クラッド上面
よりCO_2レーザビームを照射することにより上記ク
ラッドの屈折率を調節して中心波長をシフトさせるよう
にした光合分波器の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5003787A JPS63217307A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 光合分波器およびその製造方法 |
PCT/JP1987/000969 WO1988004785A1 (en) | 1986-12-19 | 1987-12-11 | Optical synthesizing/branching filter and optical module using the same |
US07/204,551 US4909584A (en) | 1986-12-19 | 1987-12-11 | Optical multi/demultiplexer and optical module using the same |
DE3789551T DE3789551T2 (de) | 1986-12-19 | 1987-12-11 | Optischer multiplexer/demultiplexer und dessen verwendung in einem optischen modul. |
EP88900099A EP0296247B1 (en) | 1986-12-19 | 1988-07-05 | Optical multiplexer/demultiplexer and use of the same in an optical module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5003787A JPS63217307A (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | 光合分波器およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63217307A true JPS63217307A (ja) | 1988-09-09 |
Family
ID=12847800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5003787A Pending JPS63217307A (ja) | 1986-12-19 | 1987-03-06 | 光合分波器およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63217307A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7221826B2 (en) | 2002-10-08 | 2007-05-22 | Tdk Corporation | Spot-size transformer, method of producing spot-size transformer and waveguide-embedded optical circuit using spot-size transformer |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57152159A (en) * | 1981-03-16 | 1982-09-20 | Nec Corp | Directional coupler type optical modulator |
JPS59111941A (ja) * | 1982-12-02 | 1984-06-28 | ウエスタ−ン・エレクトリツク・カムパニ−,インコ−ポレ−テツド | 光学デバイスおよびその製造法 |
JPS602906A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フイルタ付光導波路の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP5003787A patent/JPS63217307A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57152159A (en) * | 1981-03-16 | 1982-09-20 | Nec Corp | Directional coupler type optical modulator |
JPS59111941A (ja) * | 1982-12-02 | 1984-06-28 | ウエスタ−ン・エレクトリツク・カムパニ−,インコ−ポレ−テツド | 光学デバイスおよびその製造法 |
JPS602906A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フイルタ付光導波路の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7221826B2 (en) | 2002-10-08 | 2007-05-22 | Tdk Corporation | Spot-size transformer, method of producing spot-size transformer and waveguide-embedded optical circuit using spot-size transformer |
US7236668B2 (en) | 2002-10-08 | 2007-06-26 | Tdk Corporation | Spot-size transformer, method of producing spot-size transformer and waveguide-embedded optical circuit using spot-size transformer |
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