JPS6028814B2 - 2,6,11,15−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオ−ル - Google Patents
2,6,11,15−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオ−ルInfo
- Publication number
- JPS6028814B2 JPS6028814B2 JP30576A JP30576A JPS6028814B2 JP S6028814 B2 JPS6028814 B2 JP S6028814B2 JP 30576 A JP30576 A JP 30576A JP 30576 A JP30576 A JP 30576A JP S6028814 B2 JPS6028814 B2 JP S6028814B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- reaction
- diol
- product
- mixture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式(m)
で表わされる新規化合物2,6,11,15ーテトラメ
チルヘキサデカン−6,11−ジオール(以下6,11
−ジヒドロキシクロセタンということがある)に関する
。
チルヘキサデカン−6,11−ジオール(以下6,11
−ジヒドロキシクロセタンということがある)に関する
。
本発明による方向6,11−ジヒドロキシクロセタンは
、脱水および水素添加反応により、あるいは加水素分解
反応により、下記式(肌)で表わされるクロセタンを与
える。
、脱水および水素添加反応により、あるいは加水素分解
反応により、下記式(肌)で表わされるクロセタンを与
える。
クロセタンは皮膚との親和性が極めて優れているので、
化粧品の基材あるいは化粧品、外用医薬品等の添加剤と
して有用であり、またその融点が低いために、低温度領
域における潤滑油としても有用な物質である。
化粧品の基材あるいは化粧品、外用医薬品等の添加剤と
して有用であり、またその融点が低いために、低温度領
域における潤滑油としても有用な物質である。
しかしながらクロセタンは、その合成が工程的および経
済的に比較的困難なことから、工業的に大規模に生産さ
れるには至っていない。本発明による6,11−ジヒド
ロキシクロセタンは、容易にクロセタンに転化すること
ができ、また該ジヒドロキシクロセタン自体が容易に合
成される点において、クロセタン製造用中間体として極
めて有用であるのみならず、該物質自体あるいはそのェ
ステル化合物も化粧品基材および化粧品、外用医薬品等
の添加剤として有用である。
済的に比較的困難なことから、工業的に大規模に生産さ
れるには至っていない。本発明による6,11−ジヒド
ロキシクロセタンは、容易にクロセタンに転化すること
ができ、また該ジヒドロキシクロセタン自体が容易に合
成される点において、クロセタン製造用中間体として極
めて有用であるのみならず、該物質自体あるいはそのェ
ステル化合物も化粧品基材および化粧品、外用医薬品等
の添加剤として有用である。
本発明において、6,11−ジヒドロキシクロセタンは
、下記の各種の方法で容易に製造することができる。製
造法 風 下記一般式(1)で表わされる化合物(1)R−CR−
CH3(式(1)中Rは(CQ)2C=CH−(CH2
)2−−、または(C比)2CH −(CQ)3一を表わす)の少くとも一種をジアセチレ
ンと反応させて、式(0)で表わされる化合物(ロ)を
製造し、(式(0)中、Rは式(1)と同義であるが、
2個のRは互に異なっていてもよい)次いで上記化合物
(ロ)を水素添加することによって目的物質が得られる
。
、下記の各種の方法で容易に製造することができる。製
造法 風 下記一般式(1)で表わされる化合物(1)R−CR−
CH3(式(1)中Rは(CQ)2C=CH−(CH2
)2−−、または(C比)2CH −(CQ)3一を表わす)の少くとも一種をジアセチレ
ンと反応させて、式(0)で表わされる化合物(ロ)を
製造し、(式(0)中、Rは式(1)と同義であるが、
2個のRは互に異なっていてもよい)次いで上記化合物
(ロ)を水素添加することによって目的物質が得られる
。
化合物(1)に含まれる物質のうち、6ーメチルヘプタ
ー5−ェンー2ーオンは、ビタミンA、ビタミンE、リ
ナロ−ル、シトラール等の製造用中間体であり、現在工
業的に大量に製造されているので、入手が容易である。
また化合物(1)に含まれる6ーメチルヘプタ−6ーェ
ン−2−オンは、例えばァセトン、ィソブチレンおよび
トリオキサンの反応により容易に製造することができる
。これら不飽和化合物を水素添加して得られる6−メチ
ルヘプタン−2ーオンも、出発物質として使用すること
ができる。化合物(1)とジアセチレンとの反応は、ェ
チニル化反応として公知の手段によって行なうことがで
きるが、好ましい方法は、‘a〕−般的なグリニャール
反応に用いられる溶媒(例ジェチルェーテル)中で、ジ
アセチレンをそのグリニャール化物とし、これと化合物
(1)と反応させる方法 ‘bー 液体アンモニア中にアルカリ金属またはアルカ
リ士類金属例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、カ
ルシウムを溶解し、ジアセチレンを加えてアセチリドと
し、これに化合物(1)を作用させる方法‘c} 液体
アンモニアあるいはエーテル、ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフランなどの有機溶媒中で、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、ナトリウムアミドなどのアルカ
リ金属化合物の存在下、ジアセチレンと化合物(1)と
を反応させる方法などである。
ー5−ェンー2ーオンは、ビタミンA、ビタミンE、リ
ナロ−ル、シトラール等の製造用中間体であり、現在工
業的に大量に製造されているので、入手が容易である。
また化合物(1)に含まれる6ーメチルヘプタ−6ーェ
ン−2−オンは、例えばァセトン、ィソブチレンおよび
トリオキサンの反応により容易に製造することができる
。これら不飽和化合物を水素添加して得られる6−メチ
ルヘプタン−2ーオンも、出発物質として使用すること
ができる。化合物(1)とジアセチレンとの反応は、ェ
チニル化反応として公知の手段によって行なうことがで
きるが、好ましい方法は、‘a〕−般的なグリニャール
反応に用いられる溶媒(例ジェチルェーテル)中で、ジ
アセチレンをそのグリニャール化物とし、これと化合物
(1)と反応させる方法 ‘bー 液体アンモニア中にアルカリ金属またはアルカ
リ士類金属例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、カ
ルシウムを溶解し、ジアセチレンを加えてアセチリドと
し、これに化合物(1)を作用させる方法‘c} 液体
アンモニアあるいはエーテル、ジメチルホルムアミド、
テトラヒドロフランなどの有機溶媒中で、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、ナトリウムアミドなどのアルカ
リ金属化合物の存在下、ジアセチレンと化合物(1)と
を反応させる方法などである。
とくに上記{c}の方法のうち、溶媒として液体アンモ
ニアを用い、触媒量の水酸化カリウム、カリウムメトキ
シド等のアルカリ金属化合物を用いる触媒的なェチニル
化反応は、反応混合物からの溶媒および金属化合物の除
去が容易である点で、好ましい方法である。反応に用い
るジアセチレンは、良港蝶であるアミン類、ジメチルホ
ルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキ
シドなどに溶解してェチニル化反応系に供聯合すること
もできる。こうして得られる化合物(0)としては、化
合物(1)の種類によって異なるが、2,6,11,1
5−テトラメチルヘキサデカー2,14ージヱン−7,
9ージインー6,11−ジオール(ローa)、2,6,
11,15−テトラメチルヘキサデカー1,15−ジエ
ン−7,9ージインー6,11−ジオール(0一b)お
よび2,6,11,15ーテトラメチルヘキサデカー7
,9−ジイン−6,11ージオール(ローc)が代表的
な例である。化合物(ロ)から目的とする6,11ージ
ヒドロキシクロセタンを得るには、公知の水素添加反応
法を採用することができ、触媒としてはニッケル、コバ
ルト、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、ルテ
ニウム、オスミウム等を用いることができるが、特にラ
ネー型触媒のような塩基性を示すものが好ましい。
ニアを用い、触媒量の水酸化カリウム、カリウムメトキ
シド等のアルカリ金属化合物を用いる触媒的なェチニル
化反応は、反応混合物からの溶媒および金属化合物の除
去が容易である点で、好ましい方法である。反応に用い
るジアセチレンは、良港蝶であるアミン類、ジメチルホ
ルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキ
シドなどに溶解してェチニル化反応系に供聯合すること
もできる。こうして得られる化合物(0)としては、化
合物(1)の種類によって異なるが、2,6,11,1
5−テトラメチルヘキサデカー2,14ージヱン−7,
9ージインー6,11−ジオール(ローa)、2,6,
11,15−テトラメチルヘキサデカー1,15−ジエ
ン−7,9ージインー6,11−ジオール(0一b)お
よび2,6,11,15ーテトラメチルヘキサデカー7
,9−ジイン−6,11ージオール(ローc)が代表的
な例である。化合物(ロ)から目的とする6,11ージ
ヒドロキシクロセタンを得るには、公知の水素添加反応
法を採用することができ、触媒としてはニッケル、コバ
ルト、パラジウム、白金、ロジウム、イリジウム、ルテ
ニウム、オスミウム等を用いることができるが、特にラ
ネー型触媒のような塩基性を示すものが好ましい。
反応触媒は、酸性を有するものおよび極性度の大きいも
のを避けるのがよく、水素添加に不活性な飽和炭化水素
、飽和エーテル、飽和ェステル等を使用するのが好まし
い。反応温度は60〜150℃程度の比較的低温が望ま
しい。反応中における水素圧は100k9/均以下で充
分であり、常圧でも反応は可能である。製造法【B1 下記一般式(W)で表わされる化合物(W)(式(W)
中Rは式(1)の定義と同じ)を酸化的にカップリング
反応させて前記一般式(ロ)で表わされる化合物(0)
を調製し、次いで水素添加することにより、目的化合物
(血)が得られる。
のを避けるのがよく、水素添加に不活性な飽和炭化水素
、飽和エーテル、飽和ェステル等を使用するのが好まし
い。反応温度は60〜150℃程度の比較的低温が望ま
しい。反応中における水素圧は100k9/均以下で充
分であり、常圧でも反応は可能である。製造法【B1 下記一般式(W)で表わされる化合物(W)(式(W)
中Rは式(1)の定義と同じ)を酸化的にカップリング
反応させて前記一般式(ロ)で表わされる化合物(0)
を調製し、次いで水素添加することにより、目的化合物
(血)が得られる。
化合物(N)が包含する代表的な物質は、デヒドロリナ
ロール、3,7ージメチルオクター7−エン−1ーイン
ー3−オールおよび3,7ージメチルオクター1ーイン
ー3ーオールであり、これらは工業的に大量に生産され
ているか、あるいはアセトン、イソブチレンおよびトリ
オキサンから容易に製造することができる。化合物(W
)の酸化カップリング反応は、アセチレン化合物に関す
る公知の酸化カップリング、たとえば下記‘a},【b
はたは【dによって行なうことができる。
ロール、3,7ージメチルオクター7−エン−1ーイン
ー3−オールおよび3,7ージメチルオクター1ーイン
ー3ーオールであり、これらは工業的に大量に生産され
ているか、あるいはアセトン、イソブチレンおよびトリ
オキサンから容易に製造することができる。化合物(W
)の酸化カップリング反応は、アセチレン化合物に関す
る公知の酸化カップリング、たとえば下記‘a},【b
はたは【dによって行なうことができる。
【aー 1価の銅塩と塩化アンモニウムを水に溶解し、
化合物(W)を加えて酸素雰囲気下で反応させる。
化合物(W)を加えて酸素雰囲気下で反応させる。
この場合溶媒である水は、エタノール、アセトン、テト
ラヒドロフラン等の水と混合する有機溶剤との混合溶剤
とする方がより効果的である。【b’1価の銅塩をピリ
ジン、ピコIJン、トリェチルアミン等のアミン系溶剤
に溶解し、これに化合物(N)を加え、酸素雰囲気下室
温〜100℃で反応させる。
ラヒドロフラン等の水と混合する有機溶剤との混合溶剤
とする方がより効果的である。【b’1価の銅塩をピリ
ジン、ピコIJン、トリェチルアミン等のアミン系溶剤
に溶解し、これに化合物(N)を加え、酸素雰囲気下室
温〜100℃で反応させる。
‘c} 上記‘b}の方法において、1価の銅塩の代り
に2価の銅塩を使用する。
に2価の銅塩を使用する。
得られる化合物(ロ)は、製造法凶で述べたと同様に水
素添加することによって、目的とする6,11−ジヒド
ロキシクロセタンを与える。
素添加することによって、目的とする6,11−ジヒド
ロキシクロセタンを与える。
製造法【CI前記式(N)で表わされるモノアセチレン
アルコール化合物(W)を、一般式(V)で表わされる
鍵体触媒M×m(Lig)n (V
)(式(V)中Mは周期律表第風族の金属、×はハロゲ
ン原子であり、LigはLi鱗nd(配位子)の略で、
本発明においては有機の第3級ホスフィンまたはホスフ
アィト配位子を表わす。
アルコール化合物(W)を、一般式(V)で表わされる
鍵体触媒M×m(Lig)n (V
)(式(V)中Mは周期律表第風族の金属、×はハロゲ
ン原子であり、LigはLi鱗nd(配位子)の略で、
本発明においては有機の第3級ホスフィンまたはホスフ
アィト配位子を表わす。
mおよびnはそれぞれ1〜3の整数である)の存在下二
量化反応を行なって、下記式(W)で表わされる化合物
(W)を調製し、次いで化合物(W)水素添加すること
により、6,11−ジヒドロキシク。
量化反応を行なって、下記式(W)で表わされる化合物
(W)を調製し、次いで化合物(W)水素添加すること
により、6,11−ジヒドロキシク。
セタンが得られる。前記錆体触媒として使用される化合
物は、たとえばRhC1(Pph3)3,PdC12(
Pph3)2,PtC12(Pph3)2,PhC12
(P(OC6日5)3)2,CoC12(Pph3)2
,COBr2(Pph3)2,Col2(Pph3)2
,COBr2( P ( cyclohexyl )3
)2 , Col2 ( P(cyclohe増1)
3)2,NiC12(Pph3)2,NIBr2(Pp
h3)2,Nil2(Pph3)2,RuC12(Pp
h3)3などである。この錯体化合物を化合物(W)に
対して0.1重量%以上の量となるように加えて、適当
な溶媒中、好ましくは不活性ガス雰囲気下、室温〜20
0oo、好ましくは80〜150℃に加熱することによ
り、化合物(W)が得られる。反応溶媒としては、ベン
ゼン、トルェン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン、リグロイン等の脂肪
族炭化水素、ジメチルホルムアミド等のアミド類、エタ
ノール、ィソプロパノール、オクタノール等のアルコー
ル類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサ
ン等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル
等ニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン等のカル
ボニル化合物等、反応条件下で変化を受けない溶剤を使
用することができる。生成する化合物(W)は、製造法
凶で述べたと同様の水素添加反応により、6,11ージ
ヒドロキシクロセタンを与える。この方法の特徴は、目
的化合物を得るための出発物質である化合物(W)を製
造する場合の触媒を再使用することが可能であること、
および比較的穏和な条件で反応を行なうことができ、ま
た酸素を使用しないので、操作上の危険性が全くないこ
とである。本発明の2,6,11,15ーテトラメチル
ヘキサデカンー6,11ージオール(6,11ージヒド
ロキシクロセタン)は、合成が比較的容易であり、また
該ジオールからクロセタンを極めて容易に製造すること
ができるので、従来のクロセタンの合成方法に比して、
原料の各工程における反応収率、製造プロセスの簡便さ
に大いに貢献する。
物は、たとえばRhC1(Pph3)3,PdC12(
Pph3)2,PtC12(Pph3)2,PhC12
(P(OC6日5)3)2,CoC12(Pph3)2
,COBr2(Pph3)2,Col2(Pph3)2
,COBr2( P ( cyclohexyl )3
)2 , Col2 ( P(cyclohe増1)
3)2,NiC12(Pph3)2,NIBr2(Pp
h3)2,Nil2(Pph3)2,RuC12(Pp
h3)3などである。この錯体化合物を化合物(W)に
対して0.1重量%以上の量となるように加えて、適当
な溶媒中、好ましくは不活性ガス雰囲気下、室温〜20
0oo、好ましくは80〜150℃に加熱することによ
り、化合物(W)が得られる。反応溶媒としては、ベン
ゼン、トルェン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン、リグロイン等の脂肪
族炭化水素、ジメチルホルムアミド等のアミド類、エタ
ノール、ィソプロパノール、オクタノール等のアルコー
ル類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサ
ン等のエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル
等ニトリル類、アセトン、メチルエチルケトン等のカル
ボニル化合物等、反応条件下で変化を受けない溶剤を使
用することができる。生成する化合物(W)は、製造法
凶で述べたと同様の水素添加反応により、6,11ージ
ヒドロキシクロセタンを与える。この方法の特徴は、目
的化合物を得るための出発物質である化合物(W)を製
造する場合の触媒を再使用することが可能であること、
および比較的穏和な条件で反応を行なうことができ、ま
た酸素を使用しないので、操作上の危険性が全くないこ
とである。本発明の2,6,11,15ーテトラメチル
ヘキサデカンー6,11ージオール(6,11ージヒド
ロキシクロセタン)は、合成が比較的容易であり、また
該ジオールからクロセタンを極めて容易に製造すること
ができるので、従来のクロセタンの合成方法に比して、
原料の各工程における反応収率、製造プロセスの簡便さ
に大いに貢献する。
2,6,1L 15−テトラメチルヘキサデカンー6,
11−ジオ−ルは、無色、nーヘプタンからの再結晶後
の融点81−8〆○の物質である。
11−ジオ−ルは、無色、nーヘプタンからの再結晶後
の融点81−8〆○の物質である。
次に実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例 1‘1} 化合物(W)から化合物(mの製造
3〆丸底フラスコに3,7−ジメチルオクタ−6−エン
−1−インー3−オール(デヒドロリナロール)100
夕、塩化アンモニウム264夕、塩化第一銅165夕、
水660の‘を加え、酸素を吹込みながら室温で激しく
蝿梓し、2独特間反応した。
3〆丸底フラスコに3,7−ジメチルオクタ−6−エン
−1−インー3−オール(デヒドロリナロール)100
夕、塩化アンモニウム264夕、塩化第一銅165夕、
水660の‘を加え、酸素を吹込みながら室温で激しく
蝿梓し、2独特間反応した。
反応後、原料は全く残存していなかった。反応混合物に
ベンゼン600の‘を加え縄拝したのち、全反応混合物
を遠心分離し、固形物を除去したのち分液し、有機層を
蒸発して目的の生成物74.4夕を得た。このもの10
夕をベンゼン50の‘に溶解し、活性炭1夕を加えて室
温で一夜燈辞したのち炉過した。
ベンゼン600の‘を加え縄拝したのち、全反応混合物
を遠心分離し、固形物を除去したのち分液し、有機層を
蒸発して目的の生成物74.4夕を得た。このもの10
夕をベンゼン50の‘に溶解し、活性炭1夕を加えて室
温で一夜燈辞したのち炉過した。
さらにベンゼンを蟹去してベンゼンを完全に除去した。
きわめて粘縄な淡黄色の液体7.2夕を得た。前記生成
物についての元素分析値は次のとおりである。
きわめて粘縄な淡黄色の液体7.2夕を得た。前記生成
物についての元素分析値は次のとおりである。
C 日 ○理論値* 79.42 10.0
0 lo.58測定値 7856 9.7
2 10.28* 但し理論値は2,6,11,15
−テトラメチルヘキサデカー2,14−ジエンー7,9
ージィン−6,11−ジオールとして計算した。
0 lo.58測定値 7856 9.7
2 10.28* 但し理論値は2,6,11,15
−テトラメチルヘキサデカー2,14−ジエンー7,9
ージィン−6,11−ジオールとして計算した。
13C−NMRスペクトルを表1に示す。
凝固点は一14〜一15℃であった。表 1 2,6,
11,15ーテトラメチルヘキサデカー2,14−ジエ
ン−7,9ージインー6,11ージオールの13C一N
M旧スペクトル炭 素 スペクトル(ppm
)1 25.42
129.33
17・44 1
21.95 29.26
42.67
66.68
23.29
81.810 67.1
元素分析値、13C−NMRおよび下記に示す前記生成
物からの6,11−ジヒドロクロセタンおよびクロセタ
ンの合成から前記生成物が2,6,11,15ーテトラ
メチルヘキサデカー2,14ージエン−7,9ージイン
−6,11ージオールであることは明らかである。
11,15ーテトラメチルヘキサデカー2,14−ジエ
ン−7,9ージインー6,11ージオールの13C一N
M旧スペクトル炭 素 スペクトル(ppm
)1 25.42
129.33
17・44 1
21.95 29.26
42.67
66.68
23.29
81.810 67.1
元素分析値、13C−NMRおよび下記に示す前記生成
物からの6,11−ジヒドロクロセタンおよびクロセタ
ンの合成から前記生成物が2,6,11,15ーテトラ
メチルヘキサデカー2,14ージエン−7,9ージイン
−6,11ージオールであることは明らかである。
■ 化合物(0)から化合物(m)(6,11−ジヒド
ロキシクロセタン)の製造上記の酸化カップリング反応
の生成物74.4夕のうち30夕をプチルアルコール1
00のとに溶解し、5%PdC3夕を加えて常圧下に水
素を吹込みながら24時間室温で反応した。
ロキシクロセタン)の製造上記の酸化カップリング反応
の生成物74.4夕のうち30夕をプチルアルコール1
00のとに溶解し、5%PdC3夕を加えて常圧下に水
素を吹込みながら24時間室温で反応した。
反応生成物から触媒を除去し、n−ブチルァルコールを
蟹去して単蒸留した。
蟹去して単蒸留した。
目的の生成物は178〜179qo/0.52肌H夕
で留去した。留出量25.6夕。このものはn−へブタ
ンによって再結晶することができる。再結晶後の融点は
81〜8ぞ○であった。元素分析値を下記に示す。
で留去した。留出量25.6夕。このものはn−へブタ
ンによって再結晶することができる。再結晶後の融点は
81〜8ぞ○であった。元素分析値を下記に示す。
C 日 ○
理論値 76.37 13.46 10.17
測定値 76」47 13.59 10.69
また、このものの13C−NMRスペクトルを表2に示
す。
測定値 76」47 13.59 10.69
また、このものの13C−NMRスペクトルを表2に示
す。
表 2 6,11−ジヒドロキシクロセタンの13C−
NMRスペクトル炭 素 スペクトル〈ppm
) 1,3 22.42
27.44
38.85 21.
2 6 41.5 7 70.68
26.49
41.1 10 23.9元素分析
値、13C−NMRスペクトルおよび下記に示す上記生
成物からのクロセタンの合成に基づき、このものが6,
11ージヒドロキシクロセタンであることは明らかであ
った。
NMRスペクトル炭 素 スペクトル〈ppm
) 1,3 22.42
27.44
38.85 21.
2 6 41.5 7 70.68
26.49
41.1 10 23.9元素分析
値、13C−NMRスペクトルおよび下記に示す上記生
成物からのクロセタンの合成に基づき、このものが6,
11ージヒドロキシクロセタンであることは明らかであ
った。
‘3} 化合物(m)から化合物(肌)(クロセタンの
製造)次に上記水素添加生成物(6,11ージヒドロキ
シクロセタン)25.6夕のうち20のこ無水塩化−亜
鉛19を加え150qoで30分間脱水反応した。
製造)次に上記水素添加生成物(6,11ージヒドロキ
シクロセタン)25.6夕のうち20のこ無水塩化−亜
鉛19を加え150qoで30分間脱水反応した。
nーヘプタン100の‘を加え反応混合物を溶解させ、
nーヘフ。タン溶液をくり返し水洗した。さらに得られ
たn−へブタン溶液に5%Pd/C2夕を加え5〜10
k9/地の水素加圧下50℃で水素添加反応した。反応
後、Pd/Cを除去し、nーヘプタンを溜去して減圧蒸
溜した。主溜分の沸点127〜136oo/0.38肋
日夕(文献値144〜155℃/2,0側日タ N.A
.SorensenetaI Acね,Chim Sc
and,2 140(1948)〕nも9.01.44
12(文献値n答 1.4431、1.4406P.
Kaner etal,Helv ChinActa
35 1494(1962))、凝固点一1雌〜一11
000、d奪 0.783(文献値0.792、0.7
8班.Kaner et al,Helv ChimA
cta 35 1494(1962),J.P1iva
eね1,ActaChemScand 4槌6(195
0))であり、物性値は文献値とよい一致を示す。なお
Mass分析の結果〔M〕十=282を与え、そのスペ
クトルのパターンはクロセタンに一致する。表3に得ら
れたクロセタンの13C−NMRスべクトルを示す。
nーヘフ。タン溶液をくり返し水洗した。さらに得られ
たn−へブタン溶液に5%Pd/C2夕を加え5〜10
k9/地の水素加圧下50℃で水素添加反応した。反応
後、Pd/Cを除去し、nーヘプタンを溜去して減圧蒸
溜した。主溜分の沸点127〜136oo/0.38肋
日夕(文献値144〜155℃/2,0側日タ N.A
.SorensenetaI Acね,Chim Sc
and,2 140(1948)〕nも9.01.44
12(文献値n答 1.4431、1.4406P.
Kaner etal,Helv ChinActa
35 1494(1962))、凝固点一1雌〜一11
000、d奪 0.783(文献値0.792、0.7
8班.Kaner et al,Helv ChimA
cta 35 1494(1962),J.P1iva
eね1,ActaChemScand 4槌6(195
0))であり、物性値は文献値とよい一致を示す。なお
Mass分析の結果〔M〕十=282を与え、そのスペ
クトルのパターンはクロセタンに一致する。表3に得ら
れたクロセタンの13C−NMRスべクトルを示す。
表 3 クロセタンの13C−NMRスペクトル炭
素 スペクトルくppm)1,3
2 2‐42
27.54 38.9
5 24.46,9
36.67
32.38 19
.410 27‐0実施
例 2‘1’化合物(N)から化合物(0)の製造5そ
丸底フラスコに酢酸第二銅32.7夕、ピリジン145
叫、nーヘプタン2そおよびデヒド。
素 スペクトルくppm)1,3
2 2‐42
27.54 38.9
5 24.46,9
36.67
32.38 19
.410 27‐0実施
例 2‘1’化合物(N)から化合物(0)の製造5そ
丸底フラスコに酢酸第二銅32.7夕、ピリジン145
叫、nーヘプタン2そおよびデヒド。
リナロール913夕を加え、燈拝しながら酸素を吹込み
、60〜80qoで8時間反応した。反応後、洲−硫酸
水溶液、次いで水で数回洗浄した。得られたn−へブタ
ン溶液はn−へブタンを留去し1287夕の粗生成物を
得た。粗生成物中の2,6,11,15一テトラメチル
ヘキサデカー2,14ージエンー7,9ージイン−6,
11ージオールの濃度は液体クロマトグラフィーだ分析
した結果61.4%であった。{2) 化合物(0)か
ら化合物(m)の製造この粗反応生成物4.02夕、n
ーヘプタン200汎Z、ラネーニツケル30夕を1〆オ
ートクレープにとり、水素圧50〜100k9/地、1
00qoで8時間反応した。
、60〜80qoで8時間反応した。反応後、洲−硫酸
水溶液、次いで水で数回洗浄した。得られたn−へブタ
ン溶液はn−へブタンを留去し1287夕の粗生成物を
得た。粗生成物中の2,6,11,15一テトラメチル
ヘキサデカー2,14ージエンー7,9ージイン−6,
11ージオールの濃度は液体クロマトグラフィーだ分析
した結果61.4%であった。{2) 化合物(0)か
ら化合物(m)の製造この粗反応生成物4.02夕、n
ーヘプタン200汎Z、ラネーニツケル30夕を1〆オ
ートクレープにとり、水素圧50〜100k9/地、1
00qoで8時間反応した。
反応後触媒を炉過し、n−へブタンを溜去して粗反応生
成物を2632を得た。GLCによる分析により生成物
は、ほとんど2,6,11,15−テトラメチルヘキサ
デカンー6,11ージオールであり、モノヒドロキシク
ロセタンと考えられるピークおよびクロセタンは、ほと
んどみられなかった。‘3’化合物(m)から化合物(
W)の製造組反応生成物263夕の中20夕、n−へブ
タン40の‘、酢酸5泌、5%Pd/CO.59を10
0叫オートクレーブにとり水素圧80〜100k9/地
、230qCで1曲時間加水素分解反応を行った。
成物を2632を得た。GLCによる分析により生成物
は、ほとんど2,6,11,15−テトラメチルヘキサ
デカンー6,11ージオールであり、モノヒドロキシク
ロセタンと考えられるピークおよびクロセタンは、ほと
んどみられなかった。‘3’化合物(m)から化合物(
W)の製造組反応生成物263夕の中20夕、n−へブ
タン40の‘、酢酸5泌、5%Pd/CO.59を10
0叫オートクレーブにとり水素圧80〜100k9/地
、230qCで1曲時間加水素分解反応を行った。
反応後のクロセタンの生成量は15.3夕であった。実
施例 3 {1) 化合物(1)から化合物(D)に製造3そ一丸
底フラスコに液体アンモニア1夕をとり、金属ナトリウ
ム11.5夕を溶解し、一70〜−80COでジアセチ
レン12.5夕および6ーメチルヘプター5−エン−2
−オン78.9夕を加えた後、還流下に8時間反応した
。
施例 3 {1) 化合物(1)から化合物(D)に製造3そ一丸
底フラスコに液体アンモニア1夕をとり、金属ナトリウ
ム11.5夕を溶解し、一70〜−80COでジアセチ
レン12.5夕および6ーメチルヘプター5−エン−2
−オン78.9夕を加えた後、還流下に8時間反応した
。
反応後、塩化アンモニウム40夕を加えて中和した。ア
ンモニアを溜去した後、エーテル500叫および水20
0のZを加えて溶解し、分液したのち5%食塩水および
水で数回洗浄した。有機層からエーテルを溜去して粗反
応生成物108.7夕を得た。この粗反応生成物のうち
の5夕をとり、ベンゼンークロロホルムを溶剤とするシ
リカゲルクロマトグラフィーにより、ほとんど純粋な2
,6,11,15ーテトラメチルヘキサデカー2,14
−ジエンー7,9−ジィンー6,11−ジオール1.8
夕を得た。このものの、低分子用ゲルパーミェーション
クロマトグラフィー(以下GPCと略称)による分析結
果および13C−NMRスペクトルは実施例1に示した
別途合成した2,6,11,15−テトラメチルヘキサ
ヂカー2,14ージエンー7,9−ジイン−6,11−
ジオールのそれと一致した。上言己ェチニル化反応によ
って得た粗反応生成物(108.7夕)中における2,
6,11,15一テトラメチルヘキサデカー2,14−
ジエンー7,9−ジィンー6,11−ジオールの純度は
57.1%であり、ジァセチレンからの反応収率は82
.1%であった。
ンモニアを溜去した後、エーテル500叫および水20
0のZを加えて溶解し、分液したのち5%食塩水および
水で数回洗浄した。有機層からエーテルを溜去して粗反
応生成物108.7夕を得た。この粗反応生成物のうち
の5夕をとり、ベンゼンークロロホルムを溶剤とするシ
リカゲルクロマトグラフィーにより、ほとんど純粋な2
,6,11,15ーテトラメチルヘキサデカー2,14
−ジエンー7,9−ジィンー6,11−ジオール1.8
夕を得た。このものの、低分子用ゲルパーミェーション
クロマトグラフィー(以下GPCと略称)による分析結
果および13C−NMRスペクトルは実施例1に示した
別途合成した2,6,11,15−テトラメチルヘキサ
ヂカー2,14ージエンー7,9−ジイン−6,11−
ジオールのそれと一致した。上言己ェチニル化反応によ
って得た粗反応生成物(108.7夕)中における2,
6,11,15一テトラメチルヘキサデカー2,14−
ジエンー7,9−ジィンー6,11−ジオールの純度は
57.1%であり、ジァセチレンからの反応収率は82
.1%であった。
{2} 化合物(ロ)から化合物(m)の製造次に精製
された2,6,11,15一テトラメチルヘキサデカー
2,14−ジエン−7,9−ジインー6,11ージオー
ル1.8夕のうちの約1.0夕をとり、これにnーヘキ
サン10のとおよび5%Pd−炭素0.1夕を加えて水
素圧3〜8k9/地、60℃で4時間反応した。
された2,6,11,15一テトラメチルヘキサデカー
2,14−ジエン−7,9−ジインー6,11ージオー
ル1.8夕のうちの約1.0夕をとり、これにnーヘキ
サン10のとおよび5%Pd−炭素0.1夕を加えて水
素圧3〜8k9/地、60℃で4時間反応した。
反応混合物から触媒を炉列し、炉液からn−へキサンを
留去して粗結晶を得た。これをnーヘキサンから再結晶
して融点81〜8?0の精製された結晶0.4夕を得た
。このものの13C−NM旧スペクトルは実施例1で別
途に合成した6,11−ジヒドロキシクロセタンのそれ
と一致した。{3’化合物(m)から化合物(W)(ク
ロセタン)の製造次いで、上記ェチニル化反応によって
得た粗反応生成物(108.7夕)のうち60夕、n−
へブタン120の‘、アルミナ成分約30%の組成を有
するシリカアルミナ0.35夕およびニッケル成分約5
0%のNi−ケィソゥ士触媒2.7夕を300の【オー
トクレープに仕込み、水素圧50〜100k9/塊、反
応温度23000で5時間反応した。
留去して粗結晶を得た。これをnーヘキサンから再結晶
して融点81〜8?0の精製された結晶0.4夕を得た
。このものの13C−NM旧スペクトルは実施例1で別
途に合成した6,11−ジヒドロキシクロセタンのそれ
と一致した。{3’化合物(m)から化合物(W)(ク
ロセタン)の製造次いで、上記ェチニル化反応によって
得た粗反応生成物(108.7夕)のうち60夕、n−
へブタン120の‘、アルミナ成分約30%の組成を有
するシリカアルミナ0.35夕およびニッケル成分約5
0%のNi−ケィソゥ士触媒2.7夕を300の【オー
トクレープに仕込み、水素圧50〜100k9/塊、反
応温度23000で5時間反応した。
反応混合物をガスクロマトグラフィ一によって定量分析
して明らかになったクロセタンの生成量は28.3夕で
あった。実施例 4 1夕−丸底フラスコに液体アンモニア400泌をとり、
金属ナトリウム46夕、ジアセチレン5.0夕および6
ーメチルヘプタンー2−オン32.1夕を加え、実施例
3と同様に反応して粗生成物42.3夕を得た。
して明らかになったクロセタンの生成量は28.3夕で
あった。実施例 4 1夕−丸底フラスコに液体アンモニア400泌をとり、
金属ナトリウム46夕、ジアセチレン5.0夕および6
ーメチルヘプタンー2−オン32.1夕を加え、実施例
3と同様に反応して粗生成物42.3夕を得た。
このものにエチルアルコール100泌およびフネーニッ
ケル触媒4夕を加えて水素圧30〜50kg/の、反応
温度150午0で4時間反応した。ラネーニッケルを炉
則し炉液から低沸点物を蒸発除去して6,11ージヒド
ロキシクロセタンを含む粗生成物46.1夕を得た。こ
のものに酢酸10のと、n−へブタン100肌‘、5%
Pd/炭素触媒3夕を加えて水素圧50〜100k9/
地、反応温度23ぴ0で5時間反応した。GLC分析に
よるクロセタンの生成量は22.4夕であった。実施例
5 5クーオートクレーブに液体アンモニア2.5夕をとり
、ジアセチレン50夕、6ーメチルヘプタ−5ーェンー
2ーオン280夕、および水酸化カリウム14夕を含む
メタノール溶液200の‘を加えて0〜15qoで3時
間反応した。
ケル触媒4夕を加えて水素圧30〜50kg/の、反応
温度150午0で4時間反応した。ラネーニッケルを炉
則し炉液から低沸点物を蒸発除去して6,11ージヒド
ロキシクロセタンを含む粗生成物46.1夕を得た。こ
のものに酢酸10のと、n−へブタン100肌‘、5%
Pd/炭素触媒3夕を加えて水素圧50〜100k9/
地、反応温度23ぴ0で5時間反応した。GLC分析に
よるクロセタンの生成量は22.4夕であった。実施例
5 5クーオートクレーブに液体アンモニア2.5夕をとり
、ジアセチレン50夕、6ーメチルヘプタ−5ーェンー
2ーオン280夕、および水酸化カリウム14夕を含む
メタノール溶液200の‘を加えて0〜15qoで3時
間反応した。
反応後、液体アンモニアを留去し、n−へキサン2そお
よび水1〆を加えて振とう後に水層とnーヘキサン溶液
層とに分液し、得られたnーヘキサン溶液を6%食塩水
で数回洗浄した。このn−へブタン溶液からnーヘプタ
ンの一部を蟹去して約1そのn−へブタン溶液(粗生成
物)とした。この1その粗生成物を3〆オートクレープ
に仕込み、5%Pd/炭素触媒20夕を加え、室温〜6
0qo水素圧5〜15kg/ので水素添加反応を行なっ
た。反応生成物から触媒を除去し、n−へブタン等の低
沸点物を蒸発除去した後、残澄を蒸留し、低沸点蟹分の
み蟹去した。低灘点留分から6−メチルヘプタン−2−
オン(沸点約78〜85qo/21柳日の40.0夕(
GLC分析による)を回収した。残留残澄にn−へキサ
ン600の‘を加え、これをアルミナ成分約30%のシ
リカアルミナ触媒12夕およびニッケル成分約50%の
Ni−ケィソウ士触媒12夕とともに3そオートクレー
プに仕込み、水素圧80〜100k9/洲、230qo
で1曲時間反応した。反応後触媒を炉遇して除去し、n
ーヘキサンを蟹去したのち蒸留し沸点138〜1490
0/10〜1.1側日タのクロセタン留分215.3夕
を得た。このものはGLC分析によると、ほとんど不純
分を含まないクロセタンであった。実施例 6 {1’化合物(W)から化合物(町)の製造500地の
3つ口フラスコに3,7ージメチルオクタ−6−エンー
1ーインー3−オール(デヒドロリナロール)152夕
、乾燥トルェン300M、トリスートリフェニルホスフ
インー塩化ロジウム錯体RhC1(Pph3)37.5
夕を混合し、窒素雰囲気中90午Cにて激しく櫨幹しな
がら3時間反応を行った。
よび水1〆を加えて振とう後に水層とnーヘキサン溶液
層とに分液し、得られたnーヘキサン溶液を6%食塩水
で数回洗浄した。このn−へブタン溶液からnーヘプタ
ンの一部を蟹去して約1そのn−へブタン溶液(粗生成
物)とした。この1その粗生成物を3〆オートクレープ
に仕込み、5%Pd/炭素触媒20夕を加え、室温〜6
0qo水素圧5〜15kg/ので水素添加反応を行なっ
た。反応生成物から触媒を除去し、n−へブタン等の低
沸点物を蒸発除去した後、残澄を蒸留し、低沸点蟹分の
み蟹去した。低灘点留分から6−メチルヘプタン−2−
オン(沸点約78〜85qo/21柳日の40.0夕(
GLC分析による)を回収した。残留残澄にn−へキサ
ン600の‘を加え、これをアルミナ成分約30%のシ
リカアルミナ触媒12夕およびニッケル成分約50%の
Ni−ケィソウ士触媒12夕とともに3そオートクレー
プに仕込み、水素圧80〜100k9/洲、230qo
で1曲時間反応した。反応後触媒を炉遇して除去し、n
ーヘキサンを蟹去したのち蒸留し沸点138〜1490
0/10〜1.1側日タのクロセタン留分215.3夕
を得た。このものはGLC分析によると、ほとんど不純
分を含まないクロセタンであった。実施例 6 {1’化合物(W)から化合物(町)の製造500地の
3つ口フラスコに3,7ージメチルオクタ−6−エンー
1ーインー3−オール(デヒドロリナロール)152夕
、乾燥トルェン300M、トリスートリフェニルホスフ
インー塩化ロジウム錯体RhC1(Pph3)37.5
夕を混合し、窒素雰囲気中90午Cにて激しく櫨幹しな
がら3時間反応を行った。
反応後原料デヒドロリナロールはほとんど残存していな
かった。反応生成混合物を10℃に冷却し、固形物を除
去した後、水洗し、有機層から低沸点物を蒸発除去して
目的の生成物137夕を得た。このもの10夕をベンゼ
ン50の‘に溶解し、活性炭1夕を加えて室温で一夜蝿
拝したのち炉遇した。
かった。反応生成混合物を10℃に冷却し、固形物を除
去した後、水洗し、有機層から低沸点物を蒸発除去して
目的の生成物137夕を得た。このもの10夕をベンゼ
ン50の‘に溶解し、活性炭1夕を加えて室温で一夜蝿
拝したのち炉遇した。
さらに炉液からベンゼンを完全に蟹去し、きわめて粘鋼
な淡黄色の液体8.2夕を得た。このものについての元
素分析値は次のとおりである。理論値* C:78.8
9 H:10.59 0:10.51計算値 C:7
8.62 H:10.41 0:10.87* 但し、
理論値は2,6,11,15ーテトラメチルヘキサデカ
−2,7,14−トリエンー9ーインー6,11−ジオ
ールとして計算した。
な淡黄色の液体8.2夕を得た。このものについての元
素分析値は次のとおりである。理論値* C:78.8
9 H:10.59 0:10.51計算値 C:7
8.62 H:10.41 0:10.87* 但し、
理論値は2,6,11,15ーテトラメチルヘキサデカ
−2,7,14−トリエンー9ーインー6,11−ジオ
ールとして計算した。
凝固点は17〜1900であった。■ 化合物(W)か
ら化合物(m)の製造前記生成物を、実施例1と同様に
して水素添加し、6,11山ジヒドロキシクロセタンを
得た。
ら化合物(m)の製造前記生成物を、実施例1と同様に
して水素添加し、6,11山ジヒドロキシクロセタンを
得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式(III)で表わされる2,6,11,15,
−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオール。 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30576A JPS6028814B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | 2,6,11,15−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオ−ル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30576A JPS6028814B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | 2,6,11,15−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオ−ル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5283704A JPS5283704A (en) | 1977-07-12 |
JPS6028814B2 true JPS6028814B2 (ja) | 1985-07-06 |
Family
ID=11470179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30576A Expired JPS6028814B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | 2,6,11,15−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオ−ル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6028814B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61186301U (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-20 |
-
1976
- 1976-01-01 JP JP30576A patent/JPS6028814B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61186301U (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-20 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5283704A (en) | 1977-07-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1858903B1 (de) | Diarylphenoxy-aluminium-verbindungen | |
Gleiter et al. | Skipped cyclic ene-and dienediynes. 1. Synthesis, spectroscopic properties and reactions of a new hydrocarbon ring family | |
JPS6028814B2 (ja) | 2,6,11,15−テトラメチルヘキサデカン−6,11−ジオ−ル | |
JP4519255B2 (ja) | 光学活性3,7−ジメチル−6−オクテノールの製造方法 | |
US3910958A (en) | Process for preparing arylacetic acids and esters thereof | |
Misumi et al. | The Preparation of Stereoisomeric α, ω-Diphenylpolyenes and Related Compounds by Means of the Wittig Reaction | |
JP2762106B2 (ja) | 3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 | |
JPS61137834A (ja) | 新規フェノールケトン誘導体 | |
JPS63297363A (ja) | 3−メチルインド−ル類の製造法 | |
JP7168161B2 (ja) | ヘテロール多量体の製造方法 | |
JPS603372B2 (ja) | 新規なc↓2↓0ジオ−ルの製造法 | |
EP0529444B1 (de) | 2-Arylpropensäuren und ihre Verwendung bei der Herstellung von S-Ketoprofen | |
JPS609014B2 (ja) | 新規なc↓2↓0ジオ−ルの製造方法 | |
Walters et al. | Condensation of Formaldehyde with Reissert Compounds | |
JP2512958B2 (ja) | 1−ビフェニリルエタノ―ル誘導体およびその製法 | |
JP2004131439A (ja) | 2,5−ジ置換シクロペンタノン化合物及び2,5−ジ置換シクロペンタノール化合物の製造方法。 | |
RU2305091C2 (ru) | Способ получения фитона | |
KR100625886B1 (ko) | 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는디-무스콘의 정제방법 | |
CN112824411A (zh) | 一类桥环异吲哚啉酮衍生物及其制备方法和用途 | |
KR20100114833A (ko) | γ―투야플리신의 제조방법 | |
KR20010099122A (ko) | 무스콘 라세미체로부터 엘-무스콘 또는 디-무스콘을 분리정제하는 방법 | |
JPS5829767B2 (ja) | クロセタンの製造法 | |
JPH0316354B2 (ja) | ||
JPH0386840A (ja) | α,β―不飽和カルボニル化合物の製造方法 | |
JPH0248594A (ja) | D−グルコフラノース又はd−キシロフラノース誘導体の製法 |