KR100625886B1 - 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는디-무스콘의 정제방법 - Google Patents
입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는디-무스콘의 정제방법 Download PDFInfo
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Description
Claims (7)
- 디,엘-무스콘의 라세미체로부터 엘-무스콘 또는 디-무스콘을 정제함에 있어서,(1) 디,엘-무스콘 라세미체에 고리형 디알킬(혹은 아릴)-(S)-스레이톨 유도체를 헥산, 시클로헥산, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 디이소프로필에테르, 에틸아세테이트 또는 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 용매 중에서 선택된 초기 반응용매 내에서 반응시켜 하기 반응식 3 중의 하기 구조식 3-1의 디,엘-무스콘의 고리형 디알킬(혹은 아릴)-(S)-스레이톨 유도체의 케탈을 합성하는 디아스테레오머합성단계;(2) 상기 디아스테레오머들을 적당한 압력 하에서 니켈, 백금, 코발트, 아연, 바나듐, 팔라듐 또는 텅스텐으로 이루어지는 그룹 중에서 선택되는 1종 이상의 촉매를 이용하여 수소화 반응을 실시하여 디알킬(혹은 아릴)을 절단하여 하기 구조식 4-1의 디올 유도체를 합성하는 디올합성단계;(3) 상기 디올 유도체를 헥산, 시클로헥산, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 디이소프로필에테르, 에틸아세테이트 또는 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 용매 중에서 선택된 재결정화 유기용매 중에서 재결정을 실시하여 하기 구조식 5-1 및 5-2 화합물을 분리정제하는 분리단계; 및(4) 계속해서 수득된 화합물을 가수분해시키는 가수분해단계;들을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는 디-무스콘의 정제방법;반응식 3상기 식에서, X는 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌 또는 디메틸페닐렌임.
- 디,엘-무스콘의 라세미체로부터 엘-무스콘 또는 디-무스콘을 정제함에 있어서,(1) 디,엘-무스콘 라세미체에 고리형 디알킬(혹은 아릴)-(R)-스레이톨 유도체를 헥산, 시클로헥산, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 디이소프로필에테르, 에틸아세테이트 또는 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 용매 중에서 선택된 초기 반응용매 내에서 반응시켜 하기 반응식 4 중의 하기 구조식 3-2의 디,엘-무스콘의 고리형 디알킬(혹은 아릴)-(R)-스레이톨 유도체의 케탈을 합성하는 디아스테레오머합성단계;(2) 상기 디아스테레오머들을 적당한 압력 하에서 니켈, 백금, 코발트, 아연, 바나듐, 팔라듐 또는 텅스텐으로 이루어지는 그룹 중에서 선택되는 1종 이상의 촉매를 이용하여 수소화 반응을 실시하여 디알킬(혹은 아릴)을 절단하여 하기 반응식 4 중의 하기 구조식 4-2의 디올 유도체를 합성하는 디올합성단계;(3) 상기 디올 유도체를 헥산, 시클로헥산, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 디이소프로필에테르, 에틸아세테이트 또는 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 용매 중에서 선택된 재결정화 유기용매 중에서 재결정을 실시하여 하기 반응식 4 중의 하기 구조식 5-3 및 5-4 화합물을 분리정제하는 분리단계; 및(4) 계속해서 수득된 화합물을 가수분해시키는 가수분해단계;들을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는 디-무스콘의 정제방법;반응식 4상기 식에서, X는 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌 또는 디메틸페닐렌임.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,초기 반응 용매가 에탄올 또는 에탄올/에틸아세테이트 혼합용매를 반응물 대비 150 내지 500중량%의 양으로 사용됨을 특징으로 하는 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는 디-무스콘의 정제방법.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,수소화 반응에 사용되는 촉매가 팔라듐, 니켈, 또는 백금을 반응물 중량대비 0.5 내지 5중량% 사용하고, 수소화 반응 압력이 25 내지 100psi이며, 반응 온도가 40 내지 70℃ 임을 특징으로 하는 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는 디-무스콘의 정제방법.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서,재결정화 유기용매로 헥산 또는 헥상/에틸아세테이트 혼합용매 (1:1 내지 20:1)를 사용하되, 여과 여액에 대해 중량비로 5 내지 20배량을 사용함을 특징으로 하는 입체선택적 분리방법을 이용하는 엘-무스콘 또는 디-무스콘의 정제방법.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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|---|---|
| KR20050122112A KR20050122112A (ko) | 2005-12-28 |
| KR100625886B1 true KR100625886B1 (ko) | 2006-09-20 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
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| KR (1) | KR100625886B1 (ko) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000049980A (ko) * | 2000-05-10 | 2000-08-05 | 김권 | 엘-무스콘의 광학활성 분리 정제 방법 |
| KR20010099122A (ko) * | 2001-09-03 | 2001-11-09 | 김권 | 무스콘 라세미체로부터 엘-무스콘 또는 디-무스콘을 분리정제하는 방법 |
-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000049980A (ko) * | 2000-05-10 | 2000-08-05 | 김권 | 엘-무스콘의 광학활성 분리 정제 방법 |
| KR20010099122A (ko) * | 2001-09-03 | 2001-11-09 | 김권 | 무스콘 라세미체로부터 엘-무스콘 또는 디-무스콘을 분리정제하는 방법 |
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| 1020000049980 |
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| KR20050122112A (ko) | 2005-12-28 |
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| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
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| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
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| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
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| PG1501 | Laying open of application |
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|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
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|
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| PJ0201 | Trial against decision of rejection |
St.27 status event code: A-3-3-V10-V11-apl-PJ0201 |
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| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-6-3-E10-E12-rex-PB0901 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| B701 | Decision to grant | ||
| PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
St.27 status event code: A-3-4-F10-F13-rex-PB0701 |
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| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
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| PR1002 | Payment of registration fee |
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| PR1001 | Payment of annual fee |
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| FPAY | Annual fee payment |
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| PR1001 | Payment of annual fee |
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