JPS603372B2 - 新規なc↓2↓0ジオ−ルの製造法 - Google Patents

新規なc↓2↓0ジオ−ルの製造法

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JPS603372B2
JPS603372B2 JP18251181A JP18251181A JPS603372B2 JP S603372 B2 JPS603372 B2 JP S603372B2 JP 18251181 A JP18251181 A JP 18251181A JP 18251181 A JP18251181 A JP 18251181A JP S603372 B2 JPS603372 B2 JP S603372B2
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祐章 大村
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洋進 玉井
武郎 細貝
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【発明の詳細な説明】 本発明は新規なC2。
ジオールの製造法に関するものであり、さらに詳しくは
一般式〔式中、Rは または を表わす。
〕で示されるケトンの1種またはそれ以上をジアセチレ
ンのグリニャール化物もしくはアセチリドと反応させる
かまたはアルカリ金属化合物の存在下でジアセチレンと
反応させて一般式〔式中、2個のRは互に同一または異
なり、かつ上記の意味を有する。
〕で示される化合物を製造する方法に関する。
一般式(日)で示される化合物〔以下、これを化合物(
ロ)と託す〕は新規な化合物であって、種々の用途に供
することができ、たとえば式で示されるクロセタンの中
間体として有用である。クロセタンは皮膚との親和性に
きわめて優れているので、化粧品の基材、あるいは化粧
品、外用医薬品等の添加剤に用いることができる。
また、その融点がきわめて低いため低温度領域における
潤滑油等としても有用な物質である。さらにはまた、高
分子用の可塑剤としても有用である。化合物(0)を水
素添加することにより得られる式で示される6,11‐
ジヒドロキシクロセタン〔以下、これを化合物(m)と
託すことがある〕もまた新規化合物であり、この化合物
もクロセタン同様に皮層との親和性に優れた化合物であ
り、このままあるいはェステル化したものを化粧品の基
材としてあるし、は化粧品、外用医薬品等の添加剤とし
て用いることができる。化合物(0)はクロセタン、ジ
ヒドロキシクロセタン等の製造中間体以外にも接着剤、
高分子教質剤等の分野に用いることができる。現在、ク
ロセタンは工業的に製造されていないと考えられるが、
その合成法は二,三知られてし、る。
その1つは、シトラールを還元してテトラヒドロゲラニ
オールとし、これを臭素化剤でテトラヒドロゲラニルブ
ロミドとし、さらにこれを金属カリウムとWmtz反応
させてクロセタンを得る方法である〔N.A.Sore
nsenetal,ActaChemScand.,2
,140(1948)(Chem.Absb.,44,
1397f)〕。この方法は工業的に大量に生産する方
法としては好ましい方法ではない。さらにジゲラニルを
水素化してクロセタンを得る方法が知られている。
〔J.Pliveetal,Acね.Chem.Sca
nd.,4,846(1950),(Chem.Abs
$.,45,2388);N.ASorensonet
al,ibid5,757(1951),Chem.A
戊ts.,46,394幻);M.Soucek et
al,Collection Czechoslov
.Chem.Communs.,26,2551(19
61)(Chem.A広ts.,56,73686)〕
。原料であるジゲラニルをSorensenらはゲラニ
ルブロミドから金属マグネシウムを使って、テトラヒド
ロゲラニルプロミドと同様のWmtz型の反応によって
得、Soucekらはベルガモット油から分離して得て
いる。ベルガモツト油から得る方法は、クロセタンを工
業的に生産するには量的に少なく、また高価であり、ゲ
ラニルブロミドを経油する方法も大量のマグネシウム金
属を要し、好ましい方法とはいえない。またP.Kar
rerら〔Helv‐Chim‐Acta,望蔓149
4(1962)〕は1,20‐ジヒドロキシクロセタン
から臭素化剤を使って水酸基を除去する方法によりクロ
セタンを合成しているが、1,20‐ジヒドロキシクロ
セタンを工業的に得る方法は明らかではない。本発明に
おいて原料として用いる一般式(1)で示される化合物
〔以下、これを化合物(1)と記す〕のうち6‐メチル
ヘプタ‐5‐ヱン‐2‐オン(1a)は合成ビタミンA
、ビタミンEあるいはそれらの原料でもあるリナロール
、シトラールの製造用中間体であり、現在工業的に大量
に製造されているものである。
また6‐メチルヘプタ‐6‐エン‐2‐オン(1b)は
たとえばアセトン、イソブチレンおよびトリオキサンを
反応させて容易に得ることができる(日.Pommer
etal.,ドイツ特許第1268135号)。
さらに、6‐メチルヘプタン‐2‐オン(lc)は上記
6‐メチルヘプタ‐5‐ェン‐2−オンまたは6‐メチ
ルヘブタ‐6‐ェン‐2‐オンを水素添加することによ
り容易に得ることができる。本発明はこれらの工業的に
容易に得られる原料をジアセチレンと反応させて化合物
(ロ)を製造する方法を堤供するものであり、該化合物
(□)または前記化合物(m)は次の【ィ}、‘o}、
し一または8の方法によってクロセタン(N)に導くこ
とができる。ただし、‘ィ}〜0の方法は代表例であり
、これらの方法を併合して用いることができる。{ィ}
化合物(0)を一挙に加水素分解反応してクロセタン
とする。【〇ー 化合物(0)を部分的に水素添加反応
して少なくとも三重結合を有しない化合物とし、これを
加水素分解してクロセタンとする。
し一 化合物(ロ)を後述する9と同様に水素添加反応
して化合物(m)とし、次いで化合物(虹)を加水素分
解反応してクロセタンとする。
W 化合物(0)を水素添加反応して化合物(m)とし
、化合物(m)を脱水剤によって脱水反応してヒドロキ
シル基を有しない不飽和化合物とし、これを水素添加反
応してクロセタンとする。
これらの方法は従釆のクロセタンの合成方法に比べ、必
要とする原材料、各製造工程における反応収率、製造プ
ロセスの簡単さの点できわめて優れている。
次に本発明の方法を各工程別に詳しく説明する。
凶 2,6,11;15‐テトラメチルヘキサデ力‐2
,14‐ジエン‐7? 9‐ジイン‐6,11‐ジオー
ル(ロa)、2,6,11,15‐テトラメチルヘキサ
デ力‐1,15−ジエン‐7,9‐ジイン‐6,11‐
ジオール(0b)および2,6,11,15‐テトラメ
チルヘキサデ力‐799‐ジイン‐6,11‐ジオール
(oc)の製造化合物(1)をジアセチレンと反応させ
て化合物(0)を得る方法は種々あるが、本発明におい
て好ましく用いられる方法を挙げると「‘1} ジヱチ
ルェーテルのような一般的にグリニャール反応に用いら
れる溶媒中でジアセチレンをそのグリニャール化物とし
、これと化合物(1)を作用させる方法、 ■ 液体アンモニア中にアルカリ金属あるいはアルカリ
土類金属、例えばリチウム「ナトリウム、カリウムある
いはカルシウムなどを溶解させ、ジアセチレンを加えて
アセチリドとし、これに化合物(1)を作用させる方法
、【3} 液体アンモニアあるいはエーテルトジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフランなどの有機溶媒中で
水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムァミド
などのアルカリ金属化合物の存在下でジアセチレンと化
合物(1)を反応させる方法などがある。
溶媒として液体アンモニアを用い、触媒量の水酸化カリ
ウム、カリウムメトキシド等のアルカリ金属化合物を用
いる触媒的なェチニル化反応は、反応混合物からの溶媒
および金属化合物の除去の面から経済性も高く、特に好
ましい方法である。
このような反応は、ジアセチレンlmolに対し、原料
ケトン2holを要する反応であり、ジアセチレンに対
し、原料ケトンの量が少ないとジアセチレンlmolに
対し、ケトンlmolが反応した一般式〔式中、Rは一
般式(1)式中のそれと同機である。
〕で示される化合物〔以下、これを化合物(V)と記す
〕も生成する。この化合物(V)は、化合物(ロ)から
分離し、さらにェチニル化反応系に循環して反応させ最
終的に対応する化合物(ロ)とすることができる。
あるいはまたジアセチレンに対し原料ケトンを過剰に用
いて化合物(V)の生成を押え、過剰のケトンを循環再
使用することができる。過剰のケトンを循環する場合、
該ケトンは化合物(V)と同様に、反応系から分子蒸留
のような手段によって分離することが可能である。ある
いはまたェチニル化反応生成混合物を先ず水素添加反応
に付し、三重結合あるいは三重結合と一部または全部の
二重結合のみを選択的に水素添加し、しかるのちケトン
を蒸留し、このケトンをェチニル化反応系に循環するこ
ともできる。この場合、原料ケトンの不飽和度と循環ケ
トンの不飽和度に差が生じ、化合物(1)の混合物とな
ることがあるが、このことは何ら障害とならない。化合
物(0)および(V)は熱的に余り安定な化合物ではな
いので、ケトンとジァセチレンの反応にあたりケトンを
過剰に用い、化合物(V)の生成を押え、反応混合物を
炭素‐炭素不飽和結合のみの水素添加反応を行ない熱的
により安定で操作の行ない易い飽和(あるいは部分的に
不飽和)のジオールおよびケトンを生成せしめ、しかる
のちケトンを蒸留分離して循環再使用する方法が操作上
、より容易な方法である。
化合物(V)の生成を5%以下に押えるためにはジアセ
チレン1モルに対するケトンの割合を2.2モル以上に
することが好ましい。用いるジアセチレソは、ヱチニル
化反応およびジアセチレンの良溶媒であるアミン類、ジ
メチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチル
スルホキシドなどに溶解して反応系に供給することもで
きる。
(B} 2,6,11,15,−テトラメチルヘキサデ
力‐2,14‐ジエン‐7,9‐ジイン‐6,11‐ジ
オール(ロa)、2,6,11,15‐テトラメチルヘ
キサデ力‐1,15‐ジエン‐7,9‐ジイン‐6,1
1‐ジオール(0b)および2,6,11,15‐テト
ラメチルヘキサデ力‐7,9‐ジイン‐6,11‐ジオ
ール(0c)の水素添加反応化合物(ロ)から6,11
‐ジヒドロキシクロセタンを得る方法については、触媒
として例えばニッケル、コバルト、パラジウム、白金、
0ジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウム等があ
り、これらの中「ごく一般的なものとしてラネーニッケ
ル、ケィソウ士等に担持させたニッケル(以下「Niー
ケィソウ士等」と略称する。
)、活性炭等に担持させたパラジウム(以下「Pd−炭
素等」と略称する。)等があるが、いずれも好ましく用
いることができる。本反応時に反応条件によっては加水
素分解反応も起り、6,11‐ジヒドロキシクロセタン
と、6‐ヒドロキシクロセタンおよび/またはクロセタ
ンとの混合物を与える場合がある。6,11‐ジヒドロ
キシクロセタンをクロセタンの製造に用いるときは上記
の混合物をそのままクロセタン製造工程に供給すること
もできる。
所望ならば該混合物から生成クロセタンを分離後にジヒ
ドロキシクロセタン含有分をクロセタン製造工程に供給
してもよい。6,11‐ジヒドロキシクロセタンのみ得
ることを目的とする場合は、反応条件を選ぶ必要がある
水素添加反応時に加水素分解反応を誘起しないためには
、一般的に次のような条件を選ぶことが望ましい。即ち
、触媒に関してはラネー型触媒のような塩基性を滋うも
のがよい。反応溶媒としては、酸性を有するものおよび
極性度の大きいものの使用を避けることが好ましく、水
素添加時に変化を受けない飽和炭化水素、飽和エーテル
、飽和ェステル等を使用することが好ましい。反応温度
に関しても大きな影響を受け、一般的に低い温度下の方
がよく、60〜15000位が好ましい。極端に酸性度
あるいは樋性度の高い溶媒中で水素添加反応を行なうと
環化反応を伴う場合がある。次に実施例を挙げて本発明
を具体的に説明する。
実施例 1 2,6,11,15‐テトラメチルヘキサデカ‐2,1
4‐ジエン‐7,9‐ジイン‐6,11‐ジオールの合
成3〆‐丸底フラスコに液体アンモニア1夕をとり、金
属ナトリウム11.5夕を溶解し、一70〜一8000
でジアセチレン12.5夕および6 ‐メチルヘフ。
ター5‐ェン−2‐オン78.9夕を加えた後、還流下
に8時間反応した。反応後、塩化アンモニウム40夕を
加えて中和した。アンモニアを溜去した後、エーテル5
00の【および水200地を加えて溶解し、分液したの
ち5%食塩水および水で数回洗浄した。有機層からエー
テルを溜去して粗反応生成物108.7夕を得た。この
粗反応生成物のうちの5夕をとり、ベンゼン‐クロロホ
ルムを溶剤とするシリカゲルクロマトグラフィーにより
、ほとんど純粋な2,6,11,15‐テトラメチルヘ
キサデカ‐2,14‐ジエン‐7,9‐ジイン‐6,1
1‐ジオール1.8夕を得た。このものの、低分子用ゲ
ルパーミェーションクロマトグラ‐フィ−(以下GPC
と略称)による分析結果および1℃−NMRスペクトル
は参考例2に示した別途合成した2,6,11,15−
テトラメチルヘキサデ力‐2,14‐ジエン‐7,9‐
ジイン‐6,11‐ジオールのそれと一致した。上記ェ
チニル化反応によって得た粗反応生成物(108.7夕
)中における2,6,11,15‐テトラメチルヘキサ
デ力‐2,14‐ジエン‐7,9‐ジイン−6,11‐
ジオールの純度は57.1%であり、ジアセチレンから
の反応収率は82.1%であった。
参考例 16,11‐ジヒドロキシクロセタンの合成実
施例1において得られた精製された2,6,11,15
‐テトラメチルヘキサヂ力‐2,14‐ジエン‐7,9
‐ジイン‐6,11‐ジオール1.8夕のうちの約1.
0夕をとり、これにn‐へキサン10の‘および5%P
d−炭素01夕を加えて水素圧3〜8k9/地、60午
0で4時間反応した。
反応混合物から触媒を炉別し、炉液からn‐へキサンを
蟹去して粗結晶を得た。これをn‐へキサンから再結晶
して融点81〜82℃の精製された結晶0.4夕を得た
。このものの13C−NMRスペクトルは参考例2で別
途に合成した6,11‐ジヒドロキシクロセタンのそれ
と一致した。参考例 2 3夕丸底フラスコに3,7‐ジメチルオクタ‐6‐エン
‐1‐イン‐3‐オール(デヒドロリナロール)100
夕、塩化アンモニウム264夕、塩化第一銅165夕お
よび水660の‘を加え、酸素を吹込みながら室温で激
しく薄拝し、2独時間反応した。
反応後、原料デヒドロリナロールは全く残存していなか
った。反応生成混合物にベンゼン600の‘を加え燈拝
したのち遠心分離し、固形物を除去した後、分液し、有
機層から低沸点物を蒸発除去して目的の生成物74.4
夕を得た。このもの10夕をベンゼン,50の‘に溶解
し、活性炭1夕を加えて室温で一夜縄拝したのち炉遇し
た。さらに炉液からベンゼンを完全に留去しきわめて粘
鋼な淡黄色の液体7.2夕を得た。このものについての
元素分析値は次のとおりである。
C 日 ○ 理 論 値* 79.42 1o.oo
lo.58測 定 値 78.56 9
.72 10.28*埋論値は2,6,11,15
−テトラメチルヘキサデヵー2,14−ンェン−7,9
ージィン−6,11−ソォールとして計算した。
18C−NMRスペクトルを表1に示す。
表1 2,6,11,15‐テトラメチルヘキサデカー2,1
4‐ジエン‐7,9‐ジイン‐6,11‐ジオールの1
3C一NMRスペクトル炭 素 スペク
トル(柳)1−
25.42
129−33
17.44 121
.95 29
.26 42.
67 66.6
8 23.29
81.810
67.1凝固点は−
14〜一15C0であった。
元素分析値「13C−NMRスペクトルおよび下記に示
すこのものからの6.11‐ジヒドロキシクロセタンお
よびクロセタンの合成から、このものが2,6,11.
15‐テトラメチルヘキサデカ‐2,14‐ジエン‐7
,9‐ジイン‐6,11‐ジオールであることは明らか
である。
上記酸化カップリング反応の生成物74.4夕のうちの
30夕をブチルアルコール100泌に溶解し、5%Pd
−炭素3夕を加えて常圧下に水素を吹込みながら2鮒時
間室温で反応した。
反応生成物から触媒を除去し、n‐ブチルアルコールを
溜去して単蒸溜した。
目的の生成物は178〜179℃/0.52側Hgで溜
出した。溜出量256夕。このものはn‐へブタンによ
って再結晶することができる。再結晶した生成物の融点
は81〜82℃であった。元素分析値を下記に示す。C
日 O 理論値 76.37 13.46 10.17測定値
76.47 13.59 10.69また、このものの
13C−NMRスペクトルを表2に示す。
元素分析値、13C−NMRスペクトルおよび下記に示
すこのものからのクロセタンの合成から、このものが6
,11‐ジヒドロキシクロセタンであることは明らかで
ある。表2 6,11‐ジヒドロキシクロセタンの133‐NM旧ス
ペクトル炭 素 スペクトル(跡) 1,3 22.4
2 27.44
38.85
21.26
41.27
70.68
26.49
41.110
23.9次に水素添加生成物25.
6夕のうち2雌に無水塩化亜鉛1gを加え150ooで
30分間脱水反応した。
n‐へブタン100の‘を加えて反応混合物を溶解させ
、得られたn‐へブタン溶液をくり返し水洗した。さら
に得られたn−へブタン溶液に5%Pd−炭素聡を加え
5〜10k9′地の水素加圧下50qoで水素添加反応
した。反応後触媒を除去し、n‐へブタンを蟹去して減
圧蒸留した。主蟹分は沸点127〜13600/0.3
8肌Hg(文献値144〜155℃/2.0肋Hg,N
,A S6renSen et al,,Acta,C
hemScand., 2,140(1948)、nも
9.ol.4412〔文献値n奪〇1‐4431,1‐
44〇6,P‐Kamer et a1‐,HeIV,
Chim,Acta,35,1494(1962)〕、
凝固点−108〜一110こ0、d登員0.783〔文
献値0.792,0.789,PKarrer et
al.,Helv.Chim.Acta,35,149
4(1962);J.P1iva etal.,Act
a.Chem.Scand.,4,846(1950)
〕であり、物性値は文献値とよい一致を示す。なおMa
ss分析の結果〔M〕十=282を与え、そのスペクト
ルのパターンはクロセタンに一致する。表3に得られた
クロセタンの13C−NM旧スペクトルを示す。表3 クロセタンの13C−NMRスペクトル 炭 素 スペクトル(胸) 1,3 22.4
2 27.54
38.95
24.46,9
36.67
32.38
19.410
27.0参考例 3実施例
1において得られた粗反応生成物 (108.を)のうちの6雌ならびにn‐へブタン12
0の‘、アルミナ成分約30%の組成を有するシリカア
ルミナ0.3酸およびニッケル成分約50%のNiーケ
イソウ士触媒2.7gを300の‘オートクレープに仕
込み、水素圧50〜100k9/地、反応温度230o
oで5時間反応した。
反応混合物をガスクロマトグラフィ一によって定量分析
して明らかになったクロセタンの生成量は28.総であ
った。実施例 2 1〆‐丸底フラスコに液体アンモニア400の‘をとり
、金属ナトリウム4.館、ジアセチレン5.雌および6
‐メチルヘプタン‐2‐オン32.1gを加え、実施例
1と同機に反応して2,6,11,15‐テトラメチル
ヘキサデ力‐7,9‐ジイン‐6,11‐ジオール60
.5重量%を含む粗生成物42.巡を得た。
このものにエチルアルコール100叫およびフネーニッ
ケル触媒暖を加えて水素圧30〜50k9′洲、反応温
度150qoで4時間反応した。ラネーニッケルを炉別
し、炉液から低沸点物を蒸発除去して6,11‐ジヒド
ロキシクロセタン52.1重量%を含む粗生成物46.
1gを得た。参考例 4 実施例2で得られた6,11‐ジヒドロキシクロセタン
を含む粗生成物46.1gに酢酸low【、n‐へブタ
ン100机【および5%Pd/炭素触媒3gを加えて水
素圧50〜100k9′の、反応温度230℃で5時間
反応した。
GLC分析によるクロセタンの生成量は22.略であっ
た。実施例 3 実施例2における6‐メチルヘプタン‐2‐オンの代り
に6‐メチルヘプタ‐6‐ェン‐2‐オン31.舷を用
いて実施例2と同様にジァセチレンとェチニル化反応さ
せ2,6,11,15‐テトラメチルヘキサデカ‐1,
15‐ジエン‐7,9‐ジイン‐6,11‐ジオール5
8.2雲量%を含む粗生成物45.燐を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす。 〕で示されるケトンの1種またはそれ以上をジアセチレ
    ンのグリニヤール化物もしくはアセチリドと反応させる
    かまたはアルカリ金属化合物の存在下でジアセチレンと
    反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表
    等があります▼ 〔式中、2個のRは互に同一または異なり、かつ上記の
    意味を有する。 〕で示される化合物の製造法。
JP18251181A 1981-11-13 1981-11-13 新規なc↓2↓0ジオ−ルの製造法 Expired JPS603372B2 (ja)

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