JPS60263942A - 防塵膜装着装置 - Google Patents
防塵膜装着装置Info
- Publication number
- JPS60263942A JPS60263942A JP59119955A JP11995584A JPS60263942A JP S60263942 A JPS60263942 A JP S60263942A JP 59119955 A JP59119955 A JP 59119955A JP 11995584 A JP11995584 A JP 11995584A JP S60263942 A JPS60263942 A JP S60263942A
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- JP
- Japan
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- frame
- dust
- original image
- driving mechanism
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路（ＬＳＩ）の回路パターン露
光製置に使用される露光用原画（レチクル又はマスク）
に塵が付着しないように、該原画に装着される防塵膜の
装着装置に関する。
光製置に使用される露光用原画（レチクル又はマスク）
に塵が付着しないように、該原画に装着される防塵膜の
装着装置に関する。
ＬＳＩの回路パターンをウェハ上に露光する場合に、露
光の原画となるレチクル又はマスク上に塵が付着すると
、この塵の影が露光されるため製品が不良となり、製品
の歩留シが低下する。この歩留シを向上させるだめの防
塵手段として露光光を透過できる防塵膜が使用されてい
る。
光の原画となるレチクル又はマスク上に塵が付着すると
、この塵の影が露光されるため製品が不良となり、製品
の歩留シが低下する。この歩留シを向上させるだめの防
塵手段として露光光を透過できる防塵膜が使用されてい
る。
第１図は、透明薄膜の防塵膜１が張られたフレーム２の
縦断面図を示したもので、第２図は、防塵膜１付のフレ
ーム２を原画３に装着する状態を示す斜視図である。
縦断面図を示したもので、第２図は、防塵膜１付のフレ
ーム２を原画３に装着する状態を示す斜視図である。
フレーム２と原画３とは、例えば両面接着テープ等によ
υ両部品の接着面を接着固定する。このフレーム２を原
画３に装着するに際しては、原画３内の回路パターン４
上に誤って接着されないように両部品の相対位置決めが
必要である。従来、この装着作業は手作業で行われてい
るために、装着精度が悪くなシ、また人間の手作業に起
因する塵が発生するなどの欠点があった。
υ両部品の接着面を接着固定する。このフレーム２を原
画３に装着するに際しては、原画３内の回路パターン４
上に誤って接着されないように両部品の相対位置決めが
必要である。従来、この装着作業は手作業で行われてい
るために、装着精度が悪くなシ、また人間の手作業に起
因する塵が発生するなどの欠点があった。
この発明の目的は、防塵膜の張られたフレームを原画上
に塵が付着しないように、また高精度で迅速かつ自動的
に装着できるようにした防塵膜装着装置を提供すること
である。
に塵が付着しないように、また高精度で迅速かつ自動的
に装着できるようにした防塵膜装着装置を提供すること
である。
本発明の防塵膜装着装置は、半導体集積回路の露光用原
画に防塵膜付フレームを装着する装置において、前記原
画を載置する固定台と、前記原画内に設けられた位置決
め用パターンを基準に前記原画の位置を測定する測定機
構と、前記固定台に装着され前記測定機構の測定結果に
よシ前記原画をＸＹ平面内の任意の位置に移動可能にし
たＸＹ駆動機構及び回転駆動機構と、前記固定台に装着
され前記原画を真空吸引し前記固定台に固定するように
した第１の真空吸引装置と、前記フレームを３点接触で
支持するように形成された取付は台と、該取付は台に装
着され前記フレームを真空吸引し前記取付は台に固定す
るようにした第２の真空吸引装置と、前記取付は台を前
記固定台に対して垂直方向に移動可能にした垂直駆動機
構とを備えたものである。
画に防塵膜付フレームを装着する装置において、前記原
画を載置する固定台と、前記原画内に設けられた位置決
め用パターンを基準に前記原画の位置を測定する測定機
構と、前記固定台に装着され前記測定機構の測定結果に
よシ前記原画をＸＹ平面内の任意の位置に移動可能にし
たＸＹ駆動機構及び回転駆動機構と、前記固定台に装着
され前記原画を真空吸引し前記固定台に固定するように
した第１の真空吸引装置と、前記フレームを３点接触で
支持するように形成された取付は台と、該取付は台に装
着され前記フレームを真空吸引し前記取付は台に固定す
るようにした第２の真空吸引装置と、前記取付は台を前
記固定台に対して垂直方向に移動可能にした垂直駆動機
構とを備えたものである。
上述の構成によると、防塵膜が張られたフレームは、取
付は台に３点接触で支持され第２の真空吸引装置によシ
真空吸引されて固定されているので、フレームが変形し
て防塵膜が破れるようなことはない。またフレームの原
画への装着は、測定機構、ＸＹ駆動機構１回転駆動機構
及び垂直駆動機構の協働作用により高精度で迅速かつ自
動的に行われる。更に原画は、第１真空吸引装置により
真空吸引され固定台に強固に固定される。
付は台に３点接触で支持され第２の真空吸引装置によシ
真空吸引されて固定されているので、フレームが変形し
て防塵膜が破れるようなことはない。またフレームの原
画への装着は、測定機構、ＸＹ駆動機構１回転駆動機構
及び垂直駆動機構の協働作用により高精度で迅速かつ自
動的に行われる。更に原画は、第１真空吸引装置により
真空吸引され固定台に強固に固定される。
以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。な
お、第３図において、第１図及び第２図に示す部品と同
一の部品には同一符号を付してその説明は省略する。
お、第３図において、第１図及び第２図に示す部品と同
一の部品には同一符号を付してその説明は省略する。
本発明に係る防塵膜装着装置１１は、固定台１２と、測
定機構１３と、ＸＹ駆動機構１４と、回転駆動機構１５
と、第１の真空吸引装置１６と、取付は台１８と、第２
の真空吸引装置１９と、垂直駆動機構２０と、制御装置
２２とを備えている。
定機構１３と、ＸＹ駆動機構１４と、回転駆動機構１５
と、第１の真空吸引装置１６と、取付は台１８と、第２
の真空吸引装置１９と、垂直駆動機構２０と、制御装置
２２とを備えている。
固定台１２は、上面に原画３を載置するようになってお
り、測定機構１３は、原画３内に設けられた位置決めパ
ターン２５に対向して上方に例えば２個の位置測定器２
６．２８を備えておシ、該位置測定器２６．２８は、マ
イクロコンピュータ（マイコン）を内蔵した制御装置２
２に電気的に接続されている。そして位置決めパターン
２５を基準にして原画３の位置を測定するようになって
いる。
り、測定機構１３は、原画３内に設けられた位置決めパ
ターン２５に対向して上方に例えば２個の位置測定器２
６．２８を備えておシ、該位置測定器２６．２８は、マ
イクロコンピュータ（マイコン）を内蔵した制御装置２
２に電気的に接続されている。そして位置決めパターン
２５を基準にして原画３の位置を測定するようになって
いる。
ＸＹ駆動機構１４は、Ｘ方向駆動機構３０と、Ｙ方向駆
動機構３１からな）、回転駆動機構１５と共に固定台１
２に夫々装着され、位置測定器２６．２８の測定結果に
よシ駆動し、原画３をＸＹ平面内の任意の方向（Ｘ、Ｙ
、又はθ方向）に移動させることができるようになって
いる。
動機構３１からな）、回転駆動機構１５と共に固定台１
２に夫々装着され、位置測定器２６．２８の測定結果に
よシ駆動し、原画３をＸＹ平面内の任意の方向（Ｘ、Ｙ
、又はθ方向）に移動させることができるようになって
いる。
第１の真空吸引装置１６は、固定台１２に装着され、原
画３を真空吸引して固定台１２に固定するようになって
いる。
画３を真空吸引して固定台１２に固定するようになって
いる。
取付は台１８は、固定台１２の上方に設置されており、
フレーム２を一端面１８ａと耳部１８ｂの３点接触で支
持し位置決めするように形成されている。第２の真空吸
引装置１９は、取付は台１８に装着され、フレーム２を
真空吸引して取付は台１８に固定するようになっている
。
フレーム２を一端面１８ａと耳部１８ｂの３点接触で支
持し位置決めするように形成されている。第２の真空吸
引装置１９は、取付は台１８に装着され、フレーム２を
真空吸引して取付は台１８に固定するようになっている
。
垂直駆動機構２０は、取付は台１８に装着され、該取付
は台１８を固定台１２に対して垂直方向（２方向）に移
動させることができるようになっている。
は台１８を固定台１２に対して垂直方向（２方向）に移
動させることができるようになっている。
つぎに、本発明の実施例の動作を説明する。
固定台１２に載置された原画３の位置は、位置決め用パ
ターン２５を基準にして２個の位置測定器２６．２８に
よｊりＸＹ２方向及び回転成分が測定される。この測定
値は、電気信号に変換されて矢印への方向から制御装置
２２に入力され、マイコンによシ総合的に判断されてＸ
方向駆動機構３０、Ｙ方向駆動機構３１及び回転駆動機
構１５に制御装置２２から矢印Ｂの方向に出力信号が発
信され、これらの駆動機構３０，３１．１５を駆動し、
測定に基づき算出されたずれ量が修正される。この修正
が完了すると、第１の真空吸引装置１６によシ原画３が
真空吸引されて固定台１２に固定される。
ターン２５を基準にして２個の位置測定器２６．２８に
よｊりＸＹ２方向及び回転成分が測定される。この測定
値は、電気信号に変換されて矢印への方向から制御装置
２２に入力され、マイコンによシ総合的に判断されてＸ
方向駆動機構３０、Ｙ方向駆動機構３１及び回転駆動機
構１５に制御装置２２から矢印Ｂの方向に出力信号が発
信され、これらの駆動機構３０，３１．１５を駆動し、
測定に基づき算出されたずれ量が修正される。この修正
が完了すると、第１の真空吸引装置１６によシ原画３が
真空吸引されて固定台１２に固定される。
防塵膜１を張ったフレーム２は、取付は台１８に第２の
真空吸引装置１９によυ真空吸引され固定されておシ、
制御装置２２からの出力信号により垂直１駆動機構２０
が駆動され、取付は台１８が下降してフレー−ム２が原
画３上に装着される。
真空吸引装置１９によυ真空吸引され固定されておシ、
制御装置２２からの出力信号により垂直１駆動機構２０
が駆動され、取付は台１８が下降してフレー−ム２が原
画３上に装着される。
上述のとおり、本発明によれば、防塵膜が張られたフレ
ームは、取付は台に３点接触で支持され第２の真空吸引
装置によシ具空吸引されているので、フレームが変形し
て防塵膜が破れるようなことがなく、また高い位置精度
でフレームを取付は台に固定することができる。またフ
レームの原画へ、′Ω装着は、測゛定機構、ＸＹ駆動機
構２回転駆動機構及び垂直駆動機構が制御装置によシ駆
動されて、これらの機構の協働作用により高精度で迅速
かつ自動的に行うことができ、原画に塵が付着すること
なく製品の歩留シが著しく向上する。また原画は、第１
の真空吸引装置により真空吸引されているので、固定台
に強固に固定することができる。
ームは、取付は台に３点接触で支持され第２の真空吸引
装置によシ具空吸引されているので、フレームが変形し
て防塵膜が破れるようなことがなく、また高い位置精度
でフレームを取付は台に固定することができる。またフ
レームの原画へ、′Ω装着は、測゛定機構、ＸＹ駆動機
構２回転駆動機構及び垂直駆動機構が制御装置によシ駆
動されて、これらの機構の協働作用により高精度で迅速
かつ自動的に行うことができ、原画に塵が付着すること
なく製品の歩留シが著しく向上する。また原画は、第１
の真空吸引装置により真空吸引されているので、固定台
に強固に固定することができる。
第１図は防−膜付フレームの縦断面図、第２図は防塵膜
付フレームを原画に装着する状態を示す斜視図、第３図
は本発明に係る防塵膜装置の分解斜視図である。
付フレームを原画に装着する状態を示す斜視図、第３図
は本発明に係る防塵膜装置の分解斜視図である。
Claims (1)
- １、半導体集積回路の露光用原画に防塵膜付フレームを
装着する装置において、前記原画を載置する固定台と、
前記原画内に設けられた位置決め用パターンを基準に前
記原画の位置を測定する測定機構と、前記固定台に装着
され前記測定機構の測定結果によシ前記原画をＸＹ千面
内の任意の位置に移動可能にしたＸＹ駆動機構及び回動
駆動機構と、前記固定台に装着され前記原画を真空吸引
し前記固定台に固定するようにした第１の真空吸引装置
と、前記フレームを３点接触で支持するように形成され
た取付は台と、該取付は台に装着され前記フレームを真
空吸引し前記取付は台に固定するようにした第うの真空
吸引装置と、前記取付は台に装着され該取付は台を前記
固定台に対して垂直方向に移動可能にした垂直駆動機構
とを備えたことを特徴とする防塵膜装着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59119955A JPS60263942A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 防塵膜装着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59119955A JPS60263942A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 防塵膜装着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60263942A true JPS60263942A (ja) | 1985-12-27 |
Family
ID=14774334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59119955A Pending JPS60263942A (ja) | 1984-06-13 | 1984-06-13 | 防塵膜装着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60263942A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0197961A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Nikon Corp | 露光用原板作成装置及び方法 |
| JPH0436346U (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-26 | ||
| JPH09204038A (ja) * | 1996-09-24 | 1997-08-05 | Hitachi Ltd | マスクの製造方法 |
-
1984
- 1984-06-13 JP JP59119955A patent/JPS60263942A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0197961A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Nikon Corp | 露光用原板作成装置及び方法 |
| JPH0436346U (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-26 | ||
| JPH0735469Y2 (ja) * | 1990-07-23 | 1995-08-09 | 横河電機株式会社 | バトンパス方式の通信バス制御装置 |
| JPH09204038A (ja) * | 1996-09-24 | 1997-08-05 | Hitachi Ltd | マスクの製造方法 |
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