JPS60261951A - アイドル回転数制御装置 - Google Patents
アイドル回転数制御装置Info
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- JPS60261951A JPS60261951A JP59118106A JP11810684A JPS60261951A JP S60261951 A JPS60261951 A JP S60261951A JP 59118106 A JP59118106 A JP 59118106A JP 11810684 A JP11810684 A JP 11810684A JP S60261951 A JPS60261951 A JP S60261951A
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- flow rate
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02D—CONTROLLING COMBUSTION ENGINES
- F02D31/00—Use of speed-sensing governors to control combustion engines, not otherwise provided for
- F02D31/001—Electric control of rotation speed
- F02D31/002—Electric control of rotation speed controlling air supply
- F02D31/003—Electric control of rotation speed controlling air supply for idle speed control
- F02D31/005—Electric control of rotation speed controlling air supply for idle speed control by controlling a throttle by-pass
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02D—CONTROLLING COMBUSTION ENGINES
- F02D11/00—Arrangements for, or adaptations to, non-automatic engine control initiation means, e.g. operator initiated
- F02D11/06—Arrangements for, or adaptations to, non-automatic engine control initiation means, e.g. operator initiated characterised by non-mechanical control linkages, e.g. fluid control linkages or by control linkages with power drive or assistance
- F02D11/10—Arrangements for, or adaptations to, non-automatic engine control initiation means, e.g. operator initiated characterised by non-mechanical control linkages, e.g. fluid control linkages or by control linkages with power drive or assistance of the electric type
- F02D2011/101—Arrangements for, or adaptations to, non-automatic engine control initiation means, e.g. operator initiated characterised by non-mechanical control linkages, e.g. fluid control linkages or by control linkages with power drive or assistance of the electric type characterised by the means for actuating the throttles
- F02D2011/102—Arrangements for, or adaptations to, non-automatic engine control initiation means, e.g. operator initiated characterised by non-mechanical control linkages, e.g. fluid control linkages or by control linkages with power drive or assistance of the electric type characterised by the means for actuating the throttles at least one throttle being moved only by an electric actuator
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Electrical Control Of Air Or Fuel Supplied To Internal-Combustion Engine (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は内燃機関のアイドル回転数制御装置に関する。
従来の技術
内燃機関のアイドル回転数を制御するために、吸気通路
に配置されたスロットル弁をバイパスして形成されたバ
イパス通路に流量制御弁を設けたものは、例えば実開昭
５７−１３２０４６号公報に記載されているように公知
である。この考案ではさらに発進性能を確保するために
補助のバイパス通路を並設している。
に配置されたスロットル弁をバイパスして形成されたバ
イパス通路に流量制御弁を設けたものは、例えば実開昭
５７−１３２０４６号公報に記載されているように公知
である。この考案ではさらに発進性能を確保するために
補助のバイパス通路を並設している。
内燃機関のアイドル回転数を制御するに際しては、でき
るだけ低い回転数で安定した回転を得ることが望ましく
、このために、流量制御弁は機関作動状態に応じてフィ
ードバック制御される。弁体制御手段としてソレノイド
コイルが使用され、このコイルにはデユーティ比を変化
させたパルス信号が与えられる。一方、弁体駆動制御装
置に異状が起ったとしてもアイドル時にエンジンストー
ルしたり異常に回転数が上昇したりしないようにするた
めに、流量制御弁の駆動制御装置とは独立的に最小回転
数及び最大回転数を確保するようにしてお（のが好まし
く、このために例えば第３図に示されるようなバイメタ
ルガードが使用されている。バイメタルガードは流量制
御弁の弁体の運動を予め定められた上限と下限との範囲
内に規制するものであり、例えば弁体の運動が下限によ
り規制されているときにエンジンストールしないための
最小流量が確保されるようになっている。
るだけ低い回転数で安定した回転を得ることが望ましく
、このために、流量制御弁は機関作動状態に応じてフィ
ードバック制御される。弁体制御手段としてソレノイド
コイルが使用され、このコイルにはデユーティ比を変化
させたパルス信号が与えられる。一方、弁体駆動制御装
置に異状が起ったとしてもアイドル時にエンジンストー
ルしたり異常に回転数が上昇したりしないようにするた
めに、流量制御弁の駆動制御装置とは独立的に最小回転
数及び最大回転数を確保するようにしてお（のが好まし
く、このために例えば第３図に示されるようなバイメタ
ルガードが使用されている。バイメタルガードは流量制
御弁の弁体の運動を予め定められた上限と下限との範囲
内に規制するものであり、例えば弁体の運動が下限によ
り規制されているときにエンジンストールしないための
最小流量が確保されるようになっている。
発明が解決しようとする問題点
特に暖機完了付近及び暖機完了後においては、−必要な
吸入空気量が小さく入るので駆動制御装置により駆動制
御される弁体がバイメタルガードの下限設定位置に近接
した位置でフィードバンク制御されることになり、慣性
重量の小さい弁体がパルス毎に細く応動する際にバイメ
タルガードに接触して反撥され、その結果第７図に示さ
れるように流動変動を生ずる。これを避けるためには、
バイメタルガードの下限設定位置を弁体の常用運動領域
から離すことが必要であるが、バイメタルガードの設定
位置を下方にずらすと万一の場合のために必要最小流量
を確保するというバイメタルガード本来の機能が果せな
くなる。本発明の目的は前述したような流動変動を生ず
ることなく必要最小流量を確保することができるアイド
ル回転数制御装置を得ることにある。
吸入空気量が小さく入るので駆動制御装置により駆動制
御される弁体がバイメタルガードの下限設定位置に近接
した位置でフィードバンク制御されることになり、慣性
重量の小さい弁体がパルス毎に細く応動する際にバイメ
タルガードに接触して反撥され、その結果第７図に示さ
れるように流動変動を生ずる。これを避けるためには、
バイメタルガードの下限設定位置を弁体の常用運動領域
から離すことが必要であるが、バイメタルガードの設定
位置を下方にずらすと万一の場合のために必要最小流量
を確保するというバイメタルガード本来の機能が果せな
くなる。本発明の目的は前述したような流動変動を生ず
ることなく必要最小流量を確保することができるアイド
ル回転数制御装置を得ることにある。
問題点を解決するための手段
本発明によるアイドル回転数制御装置は、吸気通路に配
置されたスロットル弁をバイパスして形成されたバイパ
ス通路に流量制御弁を設け、該流量制御弁は機関作動状
態に応じて予め設定されたアイドル回転数を得るために
制御装置の制御の下 □＼【 に弁体を駆動する弁体駆動装置を具備し、さらに温度に
依存して定められた最大アイドル流量と最小アイドル流
量とを前記弁体駆動装置の作用とは独立的に確保するた
めの裸°護装置を設け、該保護装置は前記弁体の運動を
温度に依存して移動される一定関係の上限と下限を有す
る範囲内に規制するガード装置と前記弁体及び前記スロ
ットル弁をバイパスして形成された第２バイパス通路と
からなり、予め定められた温度以下においては前記ガー
ド装置により弁体の運動を前記上限及び下限にそれぞれ
規制することにより前記最大アイドル流量と前記最小ア
イドル流量とが確保され、前記予め定められた温度以上
においては前記ガード装置の規制によることなく前記第
２バイパス通路からの流れにより前記最小アイドル流量
が確保されるとともに前記ガード装置により弁体の運動
を前記上限に規制することにより前記最大アイドル流量
が確保されるようにしたことを特徴とする。
置されたスロットル弁をバイパスして形成されたバイパ
ス通路に流量制御弁を設け、該流量制御弁は機関作動状
態に応じて予め設定されたアイドル回転数を得るために
制御装置の制御の下 □＼【 に弁体を駆動する弁体駆動装置を具備し、さらに温度に
依存して定められた最大アイドル流量と最小アイドル流
量とを前記弁体駆動装置の作用とは独立的に確保するた
めの裸°護装置を設け、該保護装置は前記弁体の運動を
温度に依存して移動される一定関係の上限と下限を有す
る範囲内に規制するガード装置と前記弁体及び前記スロ
ットル弁をバイパスして形成された第２バイパス通路と
からなり、予め定められた温度以下においては前記ガー
ド装置により弁体の運動を前記上限及び下限にそれぞれ
規制することにより前記最大アイドル流量と前記最小ア
イドル流量とが確保され、前記予め定められた温度以上
においては前記ガード装置の規制によることなく前記第
２バイパス通路からの流れにより前記最小アイドル流量
が確保されるとともに前記ガード装置により弁体の運動
を前記上限に規制することにより前記最大アイドル流量
が確保されるようにしたことを特徴とする。
実施例
第１図において、機関本体１には公知の吸気管２が接続
される。吸気管２には従来公知のようにエアクリーナ３
、エアフローメータ４、スロットル弁５、サージタンク
６、及び燃料噴射弁７が順に配置される。吸気管２から
スロットル弁５をバイパスするバイパス通路８が形成さ
れ、そこに流量制御弁９が配置される。流量制御弁９は
その弁体を駆動するためのコイル１０及びコイル１．０
制御電圧を送るための制御装置（ＨＣ［＋） １１を具
備する。制御装置１１は公知のデジタルコンピュータか
ら成り、機関回転数に基く信号ａ、機関冷却水温に基く
信号ｂ、スロットル弁５の位置によりアイドル状態を知
らせる信号Ｃ及びその他の検出信号を入力されて流量制
御弁９の開度を代表する電流を第４図に示すようなパル
スとしてコイル１０に出力する。第１図には流量制御弁
９の弁体をバイパスする第２のバイパス通路１２が示さ
れており、そこには流量設定手段１３が設けられている
。
される。吸気管２には従来公知のようにエアクリーナ３
、エアフローメータ４、スロットル弁５、サージタンク
６、及び燃料噴射弁７が順に配置される。吸気管２から
スロットル弁５をバイパスするバイパス通路８が形成さ
れ、そこに流量制御弁９が配置される。流量制御弁９は
その弁体を駆動するためのコイル１０及びコイル１．０
制御電圧を送るための制御装置（ＨＣ［＋） １１を具
備する。制御装置１１は公知のデジタルコンピュータか
ら成り、機関回転数に基く信号ａ、機関冷却水温に基く
信号ｂ、スロットル弁５の位置によりアイドル状態を知
らせる信号Ｃ及びその他の検出信号を入力されて流量制
御弁９の開度を代表する電流を第４図に示すようなパル
スとしてコイル１０に出力する。第１図には流量制御弁
９の弁体をバイパスする第２のバイパス通路１２が示さ
れており、そこには流量設定手段１３が設けられている
。
第２図は第１図の流量制御弁９の詳細を示し、第３図は
第２図の弁体部分の詳細を示すものである。流量制御弁
９は内部にほぼまっすぐな主通路１４ａを形成した弁本
体１４からなり、前記主通路に連通してバイパス通路８
の一部を形成するインレットパイプ８ａ及びアウトレッ
トパイプ８ｂが接続される。そこで空気は矢印Ｆで示さ
れる方向に流れることができる。主通路１４ａに直交す
るように弁軸１５が取付けられ、図示しない軸受により
弁本体１４に支承される。弁軸１５には２個の平板状ス
テー１６間に円柱の縦割すされた一部からなる形状の弁
体１７が支持され、この弁体１７は弁軸１５の回転とと
もに回転して弁本体１４に形成した弁座１８に係合する
ことができる。
第２図の弁体部分の詳細を示すものである。流量制御弁
９は内部にほぼまっすぐな主通路１４ａを形成した弁本
体１４からなり、前記主通路に連通してバイパス通路８
の一部を形成するインレットパイプ８ａ及びアウトレッ
トパイプ８ｂが接続される。そこで空気は矢印Ｆで示さ
れる方向に流れることができる。主通路１４ａに直交す
るように弁軸１５が取付けられ、図示しない軸受により
弁本体１４に支承される。弁軸１５には２個の平板状ス
テー１６間に円柱の縦割すされた一部からなる形状の弁
体１７が支持され、この弁体１７は弁軸１５の回転とと
もに回転して弁本体１４に形成した弁座１８に係合する
ことができる。
弁軸１５の弁体１７より上方部分にはマグネ。
ト１９が取付けられ、マグネット１９を挟むように一対
のソレノイド１０が弁本体１４内に配置されている。コ
イルｌＯには制御装Ｎ１１からパルス電圧が供給される
。このパルス電圧のデユーティ比（Ｗ／Ｔ）を変化させ
ることにより弁体１７を適切な位置に駆動することがで
きる。
のソレノイド１０が弁本体１４内に配置されている。コ
イルｌＯには制御装Ｎ１１からパルス電圧が供給される
。このパルス電圧のデユーティ比（Ｗ／Ｔ）を変化させ
ることにより弁体１７を適切な位置に駆動することがで
きる。
弁軸１５の弁体１７より下方部分には円板状ガー −ド
２０が取付けられる。円板状ガード２０の外周面は切欠
かれており、その切欠の一定間隔を有する対向面２１ａ
、２１ｂ間に弁本体１４に固着されたバイメタル２２の
自由端が遊挿される。バイメタル２２の自由端は温度の
変化とともにほぼ弁軸１５の回りを動くことができ、こ
のバイメタル２２の運動はコイル１０により駆動される
弁軸１５及び弁軸に一体的な部分の運動とは独立的であ
る。
２０が取付けられる。円板状ガード２０の外周面は切欠
かれており、その切欠の一定間隔を有する対向面２１ａ
、２１ｂ間に弁本体１４に固着されたバイメタル２２の
自由端が遊挿される。バイメタル２２の自由端は温度の
変化とともにほぼ弁軸１５の回りを動くことができ、こ
のバイメタル２２の運動はコイル１０により駆動される
弁軸１５及び弁軸に一体的な部分の運動とは独立的であ
る。
特定の温度にあるときを考えれば、バイメタル２２の自
由端は静止しており、一方、弁軸１５及びその同体部分
は供給されるパルス電圧に応じて運動することになる。
由端は静止しており、一方、弁軸１５及びその同体部分
は供給されるパルス電圧に応じて運動することになる。
この弁軸１５及びその同体部分の運動はガード２０の切
欠面２１ａ及び２１ｂがそれぞれバイメタル２２の自由
端に当接される範囲内に制限されることになる。即ち、
切欠面２１ａ及び２１ｂの一方がバイメタル２２の自由
端に当接することによって弁体１７の回転運動の範囲が
上限に規制され、他方の切欠面が当接されることによっ
て下限に規制されることになる。
欠面２１ａ及び２１ｂがそれぞれバイメタル２２の自由
端に当接される範囲内に制限されることになる。即ち、
切欠面２１ａ及び２１ｂの一方がバイメタル２２の自由
端に当接することによって弁体１７の回転運動の範囲が
上限に規制され、他方の切欠面が当接されることによっ
て下限に規制されることになる。
第１図に示された第２のバイパス通路１２は第２図では
弁本体１４内に弁本体１７をバイパスして形成され、こ
の第２のバイパス通路１２には前述した流量設定手段１
３としてアジャストスクリューが配置され、第２のバイ
パス通路１２の流量を所望のほぼ一定値に設定すること
ができるようになっている。
弁本体１４内に弁本体１７をバイパスして形成され、こ
の第２のバイパス通路１２には前述した流量設定手段１
３としてアジャストスクリューが配置され、第２のバイ
パス通路１２の流量を所望のほぼ一定値に設定すること
ができるようになっている。
以上説明したガード２０及びバイメタル２２からなるガ
ード装置と第２のバイパス通路１２とには密接な関係が
あり、協働してコイル１０等の異状時のための保護装置
となるものであり、第５図から第７図を参照してその関
係について説明する。
ード装置と第２のバイパス通路１２とには密接な関係が
あり、協働してコイル１０等の異状時のための保護装置
となるものであり、第５図から第７図を参照してその関
係について説明する。
第５図は温度（例えば機関冷却水温）に依存してアイド
ル流量を制御するためのグラフを示し、実線Ａはエンジ
ンストール等が起きないようにするために必要な最小の
アイドル流量を示し、実線Ｂは機関回転数が異常に上昇
し過ぎないようにするために抑えなければならない最大
のアイドル流量を示す。矢印Ｃで示さ糺る範囲は弁体１
７の駆動により制御される範囲であり、例えば、温度Ｔ
。
ル流量を制御するためのグラフを示し、実線Ａはエンジ
ンストール等が起きないようにするために必要な最小の
アイドル流量を示し、実線Ｂは機関回転数が異常に上昇
し過ぎないようにするために抑えなければならない最大
のアイドル流量を示す。矢印Ｃで示さ糺る範囲は弁体１
７の駆動により制御される範囲であり、例えば、温度Ｔ
。
に対して予め設定された機関回転数（目標値）に対して
、その温度とともに検出された機関回転数が高すぎる場
合には吸入空気量を低下させるように弁体１７を制御す
ることになる。そして、この低下量が例えば実線Ａを越
えて行われ゛ようとする場合には、ガード装置により実
線Ａより低下しないように弁体１７の運動が制限される
。
、その温度とともに検出された機関回転数が高すぎる場
合には吸入空気量を低下させるように弁体１７を制御す
ることになる。そして、この低下量が例えば実線Ａを越
えて行われ゛ようとする場合には、ガード装置により実
線Ａより低下しないように弁体１７の運動が制限される
。
第５図に示されるように、アイドル流量は温度が低い間
は多く、温度の上昇とともに漸減され、そして暖機完了
温度（例えばＴｏ）に達すると以後は相対的に少い流量
に一部されるのが好ましい。
は多く、温度の上昇とともに漸減され、そして暖機完了
温度（例えばＴｏ）に達すると以後は相対的に少い流量
に一部されるのが好ましい。
第６図の実線りは制御出力となるデユーティ比とそのデ
ユーティ比により制御された弁体１７の運動に対応ずア
イドル流量との関係を示し、第５図の温度Ｔ１に対応す
る制御範囲がＣ８で、温度Ｔ２に対応する制御範囲がＣ
ｔでそれぞれ示されている。破線Ａ′は暖機完了後の必
要最小流量を示す。
ユーティ比により制御された弁体１７の運動に対応ずア
イドル流量との関係を示し、第５図の温度Ｔ１に対応す
る制御範囲がＣ８で、温度Ｔ２に対応する制御範囲がＣ
ｔでそれぞれ示されている。破線Ａ′は暖機完了後の必
要最小流量を示す。
この暖機完了後の必要最小流量は（第２のバイパス通路
１２の無い）従来の構造では前述したガード装置により
確保されていたものであり、第６図には制御範囲Ｃｔと
して示されているが暖機完了後には回転が安定している
ことが多いので弁体１７は実際にはガード装置のガード
２０の規制面２１ａ又は２１ｂに極く近接した位置付近
又は前記規制面にむしろ押付けられるようにしてフィー
ドバック制御されることになり、その結果第７図に示さ
れるような流動変動を生じて機関回転が不安定になるこ
とは前述した通りである。
１２の無い）従来の構造では前述したガード装置により
確保されていたものであり、第６図には制御範囲Ｃｔと
して示されているが暖機完了後には回転が安定している
ことが多いので弁体１７は実際にはガード装置のガード
２０の規制面２１ａ又は２１ｂに極く近接した位置付近
又は前記規制面にむしろ押付けられるようにしてフィー
ドバック制御されることになり、その結果第７図に示さ
れるような流動変動を生じて機関回転が不安定になるこ
とは前述した通りである。
本発明においては常時開口している第２のバイパス通路
１２が設けられており、この第２のバイパス通路１２の
流量が前述の流量Ａ′に対応するように定められる。こ
れによって、弁体１７の運動の下限を規制するガード装
置のガード２０の規制面２１ａ又は２１ｂをより低流量
側にずらして、例えば第５図に破線Ｅで示されたように
することができる。これは、ガード２０の弁体１７に対
する位置を従来よりもずらすことによって達成すること
ができる。その結果、弁体１７はコイル１０による駆動
装置及び制御装置１１の制御の下に駆動され、一方、弁
体１７の運動は温度Ｔ０以下では上限及び下限ともガー
ド２０により規制されてそ−れぞれの規制位置に従７た
最大流量と最小流量が確保され、温度１０以上では弁体
１７の運動はその上限のみガード２０により規制されて
最大流量を確保することができ、温度１０以上での最小
流量はガード２０の規制によることなく第２のバイパス
通路１２からの流れにより確保され、このときには弁体
１７はほとんど弁座１８の通路を閉ざす状態になる。そ
の結果、第７図に示したような流動変動が解消されるこ
とになる。
１２が設けられており、この第２のバイパス通路１２の
流量が前述の流量Ａ′に対応するように定められる。こ
れによって、弁体１７の運動の下限を規制するガード装
置のガード２０の規制面２１ａ又は２１ｂをより低流量
側にずらして、例えば第５図に破線Ｅで示されたように
することができる。これは、ガード２０の弁体１７に対
する位置を従来よりもずらすことによって達成すること
ができる。その結果、弁体１７はコイル１０による駆動
装置及び制御装置１１の制御の下に駆動され、一方、弁
体１７の運動は温度Ｔ０以下では上限及び下限ともガー
ド２０により規制されてそ−れぞれの規制位置に従７た
最大流量と最小流量が確保され、温度１０以上では弁体
１７の運動はその上限のみガード２０により規制されて
最大流量を確保することができ、温度１０以上での最小
流量はガード２０の規制によることなく第２のバイパス
通路１２からの流れにより確保され、このときには弁体
１７はほとんど弁座１８の通路を閉ざす状態になる。そ
の結果、第７図に示したような流動変動が解消されるこ
とになる。
第８図は流量制御弁９の変形例を示し、第２図に１２で
示された第２のバイパス通路が主通路１４ａを形成する
弁本体壁面に弁座１８を縦断して延びる溝２５として形
成されたものである。その他の構成については前述した
実施例と同様である。
示された第２のバイパス通路が主通路１４ａを形成する
弁本体壁面に弁座１８を縦断して延びる溝２５として形
成されたものである。その他の構成については前述した
実施例と同様である。
第９図は第１図の変形例を示し、ここでは第２のバイパ
ス通路が第１のバイパスポート８の他にさらにスロット
ル弁５を）マイパスするバイパス通路として形成される
。これらの両側においても、第２のバイパス通路の流量
はガード装置と密接に関係して定められる。
ス通路が第１のバイパスポート８の他にさらにスロット
ル弁５を）マイパスするバイパス通路として形成される
。これらの両側においても、第２のバイパス通路の流量
はガード装置と密接に関係して定められる。
発明の効果 １゜
以上説明したように、本発明によればアイドル、時の空
気流動変動を解消することができ、よって安定したアイ
ドル回転を得ることができる。
気流動変動を解消することができ、よって安定したアイ
ドル回転を得ることができる。
第１図は本、発明を適用した内燃機関の吸気系の略図、
第２図は第１図の流量制御弁の詳細断面図、第３図は第
２図の流量制御弁の弁体部分の斜視図、第４図は弁体の
駆動を説明する回路図、第５図は温度に対するアイドル
流量のグラフ、第６図はデユーティ比に対するアイドル
流量のグラフ、第７図は従来の流動変動を有するアイド
ル流量のグラフ、第８図は第２図の変形例彎示す断面図
、第９図は第１図の変形例を示す略図である。 １・・・機関本体、 ２・・・吸気管、８・・・バイパ
ス通路、 ９・・・流量制御弁、１０・・・コイル、
１１・・・制御装置、１２・・・第２のバイパス通路、 １７・・・弁体、 ２０・・・ガード、２１ａ、２１ｂ
・・・対向切欠面（規制面）、２２・・・バイメタル。 第１図 第２回 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図
第２図は第１図の流量制御弁の詳細断面図、第３図は第
２図の流量制御弁の弁体部分の斜視図、第４図は弁体の
駆動を説明する回路図、第５図は温度に対するアイドル
流量のグラフ、第６図はデユーティ比に対するアイドル
流量のグラフ、第７図は従来の流動変動を有するアイド
ル流量のグラフ、第８図は第２図の変形例彎示す断面図
、第９図は第１図の変形例を示す略図である。 １・・・機関本体、 ２・・・吸気管、８・・・バイパ
ス通路、 ９・・・流量制御弁、１０・・・コイル、
１１・・・制御装置、１２・・・第２のバイパス通路、 １７・・・弁体、 ２０・・・ガード、２１ａ、２１ｂ
・・・対向切欠面（規制面）、２２・・・バイメタル。 第１図 第２回 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図
Claims (1)
- 吸気通路に配置されたスロットル弁をバイパスして形成
されたバイパス通路に流量制御弁を設け、該流量制御弁
は機関作動状態に応じて予め設定されたアイドル回転数
を得□るために制御装置の制御の下に弁体を駆動する弁
体駆動装置を具備し、さらに温度に依存して定められた
最大アイドル流量と最小アイドル流量とを前記弁体駆動
装置の作用とは独立的に確保するための保護装置を設け
、該保護装置は前記弁体の運動を温度に依存して移動さ
れる一定関係の上限と下限を有する範囲内に規制するガ
ード装置と前記弁体及び前記スロットル弁をバイパスし
て形成された第２バイパス通路とからなり、予め定めら
れた□温度以下においては前記ガード装置により弁体の
運動を前記上限及び下限にそれぞれ規制することにより
前記最大アイドル流量と前記最小アイドル流量とが確保
され、前記予め定められた温度以上においては前記ガー
ド装置の規制によることなく前記第２バイパス通路から
の流れにより前記最小アイドル流量が確保さ前記上限に
規制することにより前記最大アイドル流量が確保される
ようにしたアイドル回転数制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59118106A JPS60261951A (ja) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | アイドル回転数制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59118106A JPS60261951A (ja) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | アイドル回転数制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60261951A true JPS60261951A (ja) | 1985-12-25 |
| JPH0243016B2 JPH0243016B2 (ja) | 1990-09-26 |
Family
ID=14728161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59118106A Granted JPS60261951A (ja) | 1984-06-11 | 1984-06-11 | アイドル回転数制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60261951A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6109238A (en) * | 1998-06-03 | 2000-08-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Idling-engine-speed control method and controller therefor |
-
1984
- 1984-06-11 JP JP59118106A patent/JPS60261951A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6109238A (en) * | 1998-06-03 | 2000-08-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Idling-engine-speed control method and controller therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0243016B2 (ja) | 1990-09-26 |
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