JPS60239335A - 光フアイバ用プリフオ−ムの製法 - Google Patents
光フアイバ用プリフオ−ムの製法Info
- Publication number
- JPS60239335A JPS60239335A JP9293084A JP9293084A JPS60239335A JP S60239335 A JPS60239335 A JP S60239335A JP 9293084 A JP9293084 A JP 9293084A JP 9293084 A JP9293084 A JP 9293084A JP S60239335 A JPS60239335 A JP S60239335A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- glass body
- porous glass
- preform
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光ファイバの製造に関するものであ）１ シＬ
ＩＦＩｒ＋−Ｈ弓ブ帰軸ヱ愉魯什ル宜担チ婢此透明ガ
ラス化する際に弗素系ガス含有雰囲気で行って、弗素を
添加した光フアイバ用プリフォームの製造方法に関する
ものである。
ＩＦＩｒ＋−Ｈ弓ブ帰軸ヱ愉魯什ル宜担チ婢此透明ガ
ラス化する際に弗素系ガス含有雰囲気で行って、弗素を
添加した光フアイバ用プリフォームの製造方法に関する
ものである。
（従来の技術）
光フアイバ用のガラス材料として、現在量も特性の優れ
たものとしては、石英を主としたガラスが知られている
。また屈折率を変化させる目的で、Ｇｅ０１（２酸化ゲ
ルマニウム）を固溶させたＳｉｎｇ−Ｇｅｍ、系ガラス
がよく使用されている。
たものとしては、石英を主としたガラスが知られている
。また屈折率を変化させる目的で、Ｇｅ０１（２酸化ゲ
ルマニウム）を固溶させたＳｉｎｇ−Ｇｅｍ、系ガラス
がよく使用されている。
最近、光フアイバ用ガラス材料の新しい組成として、弗
素を用いたＥＩｉＯ，−７ガラスが提案されておシ、種
々の検討が進められている。
素を用いたＥＩｉＯ，−７ガラスが提案されておシ、種
々の検討が進められている。
弗素をガラス中に含有させる方法については、多くの提
案がなされているが、その１つにＶＡＤ法によるものが
ある。この方法の概略は、まず多孔質なガラスを作製し
、該多孔質ガラスを電気炉中で加熱透明化する時、弗素
系ガスを含む雰囲気にて行うことによシ、透明化後のガ
ラス中に、弗素を残留させるものである。（参考文献１
： ０ｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂｅｒ Ｏｏｍｍｕｎｉｃ
ａｔｉｏｎ ’８４ ＮｅｗＯｒ’１ｅａｎｓ ＴＵＢ
、 Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ ］−ｏｗ（ｏｓｓ
ｓｉｎｇｌｅｍｏｄｅ ｆｉｂｅｒｓ、） 上記文献１に示された方法では、ＶＡＤ法によシ多孔質
母材を作製した□段階で、コアをＧｏ％ −８１−、ク
ラッドをＳｉＯ，として半径方向罠組成分布をつけてお
き、例えば第１図にその屈折率分布を示すような単１モ
ードファイバ用の多孔質母材としておく。第６図中のｎ
１ｉｉＱ３は、５ｉＯ１の屈折率値（ｎＤ＝ １．４５
８５ ）を示す。そして、該母材の焼結時に、母材に均
一に弗素を添加する事によシ、透明化後のプリフォーム
は第７図に示すような屈折率分布を得るものである。
案がなされているが、その１つにＶＡＤ法によるものが
ある。この方法の概略は、まず多孔質なガラスを作製し
、該多孔質ガラスを電気炉中で加熱透明化する時、弗素
系ガスを含む雰囲気にて行うことによシ、透明化後のガ
ラス中に、弗素を残留させるものである。（参考文献１
： ０ｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂｅｒ Ｏｏｍｍｕｎｉｃ
ａｔｉｏｎ ’８４ ＮｅｗＯｒ’１ｅａｎｓ ＴＵＢ
、 Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ ］−ｏｗ（ｏｓｓ
ｓｉｎｇｌｅｍｏｄｅ ｆｉｂｅｒｓ、） 上記文献１に示された方法では、ＶＡＤ法によシ多孔質
母材を作製した□段階で、コアをＧｏ％ −８１−、ク
ラッドをＳｉＯ，として半径方向罠組成分布をつけてお
き、例えば第１図にその屈折率分布を示すような単１モ
ードファイバ用の多孔質母材としておく。第６図中のｎ
１ｉｉＱ３は、５ｉＯ１の屈折率値（ｎＤ＝ １．４５
８５ ）を示す。そして、該母材の焼結時に、母材に均
一に弗素を添加する事によシ、透明化後のプリフォーム
は第７図に示すような屈折率分布を得るものである。
上記文献１に記載の方法では、プリフォームの半径方向
の屈折率分布は、ＧｅＯ２の含有量分布によシ決定され
、弗素は外部の石英ジャケット管と、その内部のガラス
との屈折率差をつけるのには役立っているが、コア部と
クラッド部と１ ０屈折率差′ｆ−９成す、Ｌｊ、！ｌ
ｌｄ寄与し１“棹・つまシ、上記文献１に記載の方法で
は、５ｉＯ１と弗素以外に、例えば上述のＧｅｍ、のよ
うな屈折率を変化させる物質の存在を必要とする。した
がって、もし光ファイバの構成要素をＥｌｉＯ，と弗素
のみに限定するとすれば、上記文献１に記載の方法では
、光を閉じ込めるしかるべき導波構造をもつ屈折率分布
、すなわちコア部とクラッド部を持つ構造を作製するこ
とは不可能である。
の屈折率分布は、ＧｅＯ２の含有量分布によシ決定され
、弗素は外部の石英ジャケット管と、その内部のガラス
との屈折率差をつけるのには役立っているが、コア部と
クラッド部と１ ０屈折率差′ｆ−９成す、Ｌｊ、！ｌ
ｌｄ寄与し１“棹・つまシ、上記文献１に記載の方法で
は、５ｉＯ１と弗素以外に、例えば上述のＧｅｍ、のよ
うな屈折率を変化させる物質の存在を必要とする。した
がって、もし光ファイバの構成要素をＥｌｉＯ，と弗素
のみに限定するとすれば、上記文献１に記載の方法では
、光を閉じ込めるしかるべき導波構造をもつ屈折率分布
、すなわちコア部とクラッド部を持つ構造を作製するこ
とは不可能である。
上記の８１０．と弗素だけの組成による光ファイバの利
点を以下に簡単に説明するが、その最も重要な点は損失
特性に関する利点である。
点を以下に簡単に説明するが、その最も重要な点は損失
特性に関する利点である。
一般にＧｏｏｌ等の酸化物のドーパント量を増やすと、
ドーパント添加に伴う光散乱（レイリー散乱）が生じ、
かつ、この散乱の大きさはドーパント量に比例する。こ
の散乱は伝送損失を増加せしめ、光伝送上好ましく々い
。さらには、ドーパントを多量に添加すると、ガラス母
材中に、気泡や単結晶を生じさせ易い。例えば、Ｇｅｍ
、を用いた場合、ＧｅＯ２ガスに由来する気泡を生じさ
せることがある。
ドーパント添加に伴う光散乱（レイリー散乱）が生じ、
かつ、この散乱の大きさはドーパント量に比例する。こ
の散乱は伝送損失を増加せしめ、光伝送上好ましく々い
。さらには、ドーパントを多量に添加すると、ガラス母
材中に、気泡や単結晶を生じさせ易い。例えば、Ｇｅｍ
、を用いた場合、ＧｅＯ２ガスに由来する気泡を生じさ
せることがある。
したがって、コア部はドーパントが存在せず、純粋なＥ
ＩｉＯｌからなり、クラッド部のみが弗素を添加されて
いて、クラッド部の屈折率がコア部の屈折率より低い構
造の光ファイバが、伝送特性上、最も優れていると言え
る。
ＩｉＯｌからなり、クラッド部のみが弗素を添加されて
いて、クラッド部の屈折率がコア部の屈折率より低い構
造の光ファイバが、伝送特性上、最も優れていると言え
る。
上記のコア部が５ｉＯ１、クラッド部が弗素添加された
Ｓｉｎ、からなる構造を実現する方法としては、すでに
ＭＯＶＤ法によるもの（参考文献２：０ｐｔｉｃａｌ
Ｆｉｂｅｒ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ ’８４ Ｎ
ｅｗ ０ｒｌｅａｎｓＴＵＢ、Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ
ｏｆ ｌｏｗ−１ｏｓｓ ６１ｎｇｌｅ ｍｏｄｅｆ
ｉｂｅｒｓ、 ）が提案されている。
Ｓｉｎ、からなる構造を実現する方法としては、すでに
ＭＯＶＤ法によるもの（参考文献２：０ｐｔｉｃａｌ
Ｆｉｂｅｒ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ ’８４ Ｎ
ｅｗ ０ｒｌｅａｎｓＴＵＢ、Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ
ｏｆ ｌｏｗ−１ｏｓｓ ６１ｎｇｌｅ ｍｏｄｅｆ
ｉｂｅｒｓ、 ）が提案されている。
しかし、ＭＣｖＤ法に比べ量産性及び製品品質において
優れるＶＡＤ法によって、上記構造を実現するには、従
来、多くの困難があった。その原因は、弗素が５ｉＯ１
ガラス中に固溶する反応の特異性にあシ、クラッド部に
のみ局部的、選択的に弗素を添加することが従来技術で
は非常に困難であった。例えば文献１に記載される方法
忙よれば、弗素はコア部及びクラッド部両方に添加され
てしまっていた。
優れるＶＡＤ法によって、上記構造を実現するには、従
来、多くの困難があった。その原因は、弗素が５ｉＯ１
ガラス中に固溶する反応の特異性にあシ、クラッド部に
のみ局部的、選択的に弗素を添加することが従来技術で
は非常に困難であった。例えば文献１に記載される方法
忙よれば、弗素はコア部及びクラッド部両方に添加され
てしまっていた。
（発明の解決しようとする問題点）
太亮Ｂ１１１）ｔｌ！Ｊ１−ｔ！！ｌ奔径ホ炊ｆ私はス
闇題占を解決し、多孔質ガラス体を作製した後、焼結段
階で弗素を添加するにあたシ、コア相当部には弗素が入
らずクラッド相当部に選択的に弗素の添加された弗素含
有光ファイバ用プリフォームの製造方法を提供すること
を目的とするものである。
闇題占を解決し、多孔質ガラス体を作製した後、焼結段
階で弗素を添加するにあたシ、コア相当部には弗素が入
らずクラッド相当部に選択的に弗素の添加された弗素含
有光ファイバ用プリフォームの製造方法を提供すること
を目的とするものである。
（問題点を解決する手段）
本発明者らは、作製する多孔質ガラス体の形状を、従来
の棒状のものとは異った、パイプ状とすること、さらに
該多孔質ガラス体を焼結する新しい方法を創案して、本
発明の完成を見た。
の棒状のものとは異った、パイプ状とすること、さらに
該多孔質ガラス体を焼結する新しい方法を創案して、本
発明の完成を見た。
すなわち本発明は、光フアイバ用プリフォームを製造す
る方法において、まず中空円筒状の多孔質ガラス体を作
製し、次いで該中空円筒状多孔質ガラス体を炉内にて加
熱焼結する際に、該中空円筒状多孔質ガラス体の中空部
は弗素系ガスを含まない雰囲気とし、かつ炉内全体を弗
素系ガスを含む雰囲気として加熱処理することを特徴と
する弗素含有光ファイバ用プリフォームの製造方法を提
供するものである。
る方法において、まず中空円筒状の多孔質ガラス体を作
製し、次いで該中空円筒状多孔質ガラス体を炉内にて加
熱焼結する際に、該中空円筒状多孔質ガラス体の中空部
は弗素系ガスを含まない雰囲気とし、かつ炉内全体を弗
素系ガスを含む雰囲気として加熱処理することを特徴と
する弗素含有光ファイバ用プリフォームの製造方法を提
供するものである。
以下に本発明方法を詳述する。
本発明の方法の第１の特徴は、まず例えばＷＡＤ法によ
シ作製する多孔質ガラス体の形状を第１図の１に示す如
き、中心部に穴のあいた、中空円筒状とする点ＶＣする
。
シ作製する多孔質ガラス体の形状を第１図の１に示す如
き、中心部に穴のあいた、中空円筒状とする点ＶＣする
。
該中空円筒状多孔質ガラス体１の製造方法の１例を第２
図に示す。すなわち、通常のｖＡＤ装置を用いて、軸と
なる棒（芯の棒）２を一定速度にて引き上げながら、そ
の外周部に、８１％合成用バーナー３を用いて、ｅｉｏ
Ｒの多孔質ガラス体１を堆積させ、後に軸となる棒２を
引き抜くととにより、パイプ状多孔質ガラス体１が容易
に得られる。
図に示す。すなわち、通常のｖＡＤ装置を用いて、軸と
なる棒（芯の棒）２を一定速度にて引き上げながら、そ
の外周部に、８１％合成用バーナー３を用いて、ｅｉｏ
Ｒの多孔質ガラス体１を堆積させ、後に軸となる棒２を
引き抜くととにより、パイプ状多孔質ガラス体１が容易
に得られる。
なお、ＥｌｉＯ，合成用バーナー３は、通常のｖＡＤ法
による多孔質母材合成に用いるものを、そのまま使用す
ることが可能である。また第２図では説明のために１本
のバーナーを示しであるが。
による多孔質母材合成に用いるものを、そのまま使用す
ることが可能である。また第２図では説明のために１本
のバーナーを示しであるが。
、 ７１”＊”−ｆ−ｔＭｖ−ｃ＋ｚｚ・軸となる棒２
は、側熱及び耐腐食性のものであればいずれでもよいが
、石英ガラス棒が使い易い。他忙は冷却された金属棒、
あるいはム１＊Ｏａ、ＳｉＯなどのセラミックス等も使
用可能である。
は、側熱及び耐腐食性のものであればいずれでもよいが
、石英ガラス棒が使い易い。他忙は冷却された金属棒、
あるいはム１＊Ｏａ、ＳｉＯなどのセラミックス等も使
用可能である。
本発明方法の第２の特徴は、軸となる棒２を引き抜いて
、ＳｔＯ，の中空円筒状多孔質ガラス体１を作製した後
、該中空円筒状多孔質ガラス体１を焼結するにあたシ、
クラッド相当部に弗素を添加する目的のため、焼結雰囲
気は弗素系ガス含有雰囲気とするが、該処理ガスの導入
方法を工夫したところにある。すなわち、中空円筒状多
孔質ガラス体１の半径方向に処理ガス濃度の分布を形成
し、それによって焼結透明化後のガラス中に、弗素含有
量の半径方向分布をつけるものである。
、ＳｔＯ，の中空円筒状多孔質ガラス体１を作製した後
、該中空円筒状多孔質ガラス体１を焼結するにあたシ、
クラッド相当部に弗素を添加する目的のため、焼結雰囲
気は弗素系ガス含有雰囲気とするが、該処理ガスの導入
方法を工夫したところにある。すなわち、中空円筒状多
孔質ガラス体１の半径方向に処理ガス濃度の分布を形成
し、それによって焼結透明化後のガラス中に、弗素含有
量の半径方向分布をつけるものである。
第５図により具体的に説明する。第３図は本発明の方法
における焼結工程の１実施態様であって、図中１はパイ
プ状多孔質ガラス体、４は炉心管、５は加熱手段、６は
下部ガス導入口、７は排気口、８は中空円筒状多孔質ガ
ラス体１の中空部に連通ずる上部ガス導入口である。
における焼結工程の１実施態様であって、図中１はパイ
プ状多孔質ガラス体、４は炉心管、５は加熱手段、６は
下部ガス導入口、７は排気口、８は中空円筒状多孔質ガ
ラス体１の中空部に連通ずる上部ガス導入口である。
弗素系ガスを含有する主にＨｅガスからなる処理ガスを
、炉下部の導入口６より導入し、それと同時に、中空円
筒状多孔質ガラス体の中心部には、弗素系ガスを含有し
ない気体を、炉上部の導入口８より導入し、中空円筒状
多孔質ガラス体の円筒の内側の領域（中空部）の雰囲気
を、弗素濃度が低いか、もしくは零（含まない）Ｋした
状態で焼結する。
、炉下部の導入口６より導入し、それと同時に、中空円
筒状多孔質ガラス体の中心部には、弗素系ガスを含有し
ない気体を、炉上部の導入口８より導入し、中空円筒状
多孔質ガラス体の円筒の内側の領域（中空部）の雰囲気
を、弗素濃度が低いか、もしくは零（含まない）Ｋした
状態で焼結する。
この結果、焼結完了後のガラス中空円筒は、第４図に示
すような弗素濃度分布を持つ。また該中空円筒を中実化
することによって、第５図にその屈折率分布を示すよう
な、中心領域には弗素を含まない、すなわちコア部を有
するプリフォームロッド又はファイバを得ることができ
る。
すような弗素濃度分布を持つ。また該中空円筒を中実化
することによって、第５図にその屈折率分布を示すよう
な、中心領域には弗素を含まない、すなわちコア部を有
するプリフォームロッド又はファイバを得ることができ
る。
上記方法において、コア部の屈折率分布の制御は、全体
に流す弗素化合物ガスの濃度と、中空円筒状多孔質ガラ
ス体の中心の中空部に流す弗素を含１ないガスの流量、
及び炉の昇温速度等のパラメーターを適宜選択すること
にょシ、可能である。
に流す弗素化合物ガスの濃度と、中空円筒状多孔質ガラ
ス体の中心の中空部に流す弗素を含１ないガスの流量、
及び炉の昇温速度等のパラメーターを適宜選択すること
にょシ、可能である。
以上の方法は中空部および炉全体に雰囲気ガスを流しな
がら行う場合について説明したが、本発明の方法は、さ
らに各雰囲気を固定（閉じこめた）状態で行ってもよい
。すなわち、多孔質ガラス体の下端を閉じ、上部を開放
した形としておき、その中空部は弗素を含まない雰囲気
で置換し、又炉内に弗素系ガスを含む雰囲気として加熱
焼結を行う。
がら行う場合について説明したが、本発明の方法は、さ
らに各雰囲気を固定（閉じこめた）状態で行ってもよい
。すなわち、多孔質ガラス体の下端を閉じ、上部を開放
した形としておき、その中空部は弗素を含まない雰囲気
で置換し、又炉内に弗素系ガスを含む雰囲気として加熱
焼結を行う。
以上の説明には、均熱温度分布を持つ炉（第３図）の場
合を示したが、ゾーン炉によっても本質的に同じである
ことは言うまでもない。
合を示したが、ゾーン炉によっても本質的に同じである
ことは言うまでもない。
（実施例）
実施例１
直径１０＝φの石英棒をＶＡＤ装置の軸に取υ付け、引
上速度７０■／分の一定速度で引上げながら、その外側
に８１０．の微粉末を堆積させた。
上速度７０■／分の一定速度で引上げながら、その外側
に８１０．の微粉末を堆積させた。
Ｓｉｎ、の合成用原料としてはＳｉＣ！ｌ、を用い、同
心状多重管バーナーにｋ、’ｘ、Ａｒ等のガスと巣に投
入し、酸水素炎中での火炎加水分解反応によシＥ］１０
．を合成した。合成に用いたバーナーは２本で、夫々引
上軸に対し３０°傾けて取付け、斜め下方よシ上方へ炎
を吹きつける形態とした。
心状多重管バーナーにｋ、’ｘ、Ａｒ等のガスと巣に投
入し、酸水素炎中での火炎加水分解反応によシＥ］１０
．を合成した。合成に用いたバーナーは２本で、夫々引
上軸に対し３０°傾けて取付け、斜め下方よシ上方へ炎
を吹きつける形態とした。
この時の夫々のバーナーにおけるｓｉｏ′Ｘ４の実流量
は５００ ｃｃ／分で、上記引上条件下で、外径１１０
爛φの多孔質ガラスが成長した。引上距離５５０ｇ長さ
にわたシ、約５時間半堆積後、中心の石英棒を引き抜い
た。この時堆積した多孔質ガラス体は、変形等の影響を
全く受けずに円筒状となった。次に、該中空円筒状多孔
質ガラス体を、炉内径１２０ｇＨの炉心管中に導入し、
第３図に示したような方法で処理ガスを導入し焼結した
。この時、炉全体の雰囲気を決める弗素系ガス含有ガス
としては、Ｔｌｅｓｉｏｚ／分、ｏ１ｆｆｉ＋ １００
００／分、ＳＦ＝＋ １０００Ｑ／分を混合して導入し
た。一方中空円筒状多孔質ガラス体の中心中空部には、
Ｈｅ ： ２１７分及びａ１２＋ ２００ ｃｃ／分を
流した。
は５００ ｃｃ／分で、上記引上条件下で、外径１１０
爛φの多孔質ガラスが成長した。引上距離５５０ｇ長さ
にわたシ、約５時間半堆積後、中心の石英棒を引き抜い
た。この時堆積した多孔質ガラス体は、変形等の影響を
全く受けずに円筒状となった。次に、該中空円筒状多孔
質ガラス体を、炉内径１２０ｇＨの炉心管中に導入し、
第３図に示したような方法で処理ガスを導入し焼結した
。この時、炉全体の雰囲気を決める弗素系ガス含有ガス
としては、Ｔｌｅｓｉｏｚ／分、ｏ１ｆｆｉ＋ １００
００／分、ＳＦ＝＋ １０００Ｑ／分を混合して導入し
た。一方中空円筒状多孔質ガラス体の中心中空部には、
Ｈｅ ： ２１７分及びａ１２＋ ２００ ｃｃ／分を
流した。
上記の流量条件を保持しながら、炉温を室温１ から徐
々に上昇し１６５０℃までとし、次に室温まで下降した
ところ、外径５０．φ、内径５叫φ、長さ１５０ｍの透
明ガラスパイプを得た。
々に上昇し１６５０℃までとし、次に室温まで下降した
ところ、外径５０．φ、内径５叫φ、長さ１５０ｍの透
明ガラスパイプを得た。
次に、該透明ガラスパイプを、２ｏｏｏ℃の電気炉中で
加熱中実化してプリフォームロッドとした。
加熱中実化してプリフォームロッドとした。
該プリフォームロッドの端部を輪切りＫし、干渉顕微鏡
により屈折率分布を調査したところ、第５図に示す屈折
率分布が形成されていることが、判った。
により屈折率分布を調査したところ、第５図に示す屈折
率分布が形成されていることが、判った。
該プリフォームロッドを１５甥φに延伸後、外径３５１
１１１１１．内径１７−の石英管に挿入、両者を加熱融
着後、線引しファイバとした。得られたファイバは、外
径１２５μ０、コア径８μｍ屈折率差０３％の単一モー
ドファイバで、その伝送損失は、波長１．３μｇにおい
て１３５ ａＢ／ｋｍという良好な特性を示した。
１１１１１．内径１７−の石英管に挿入、両者を加熱融
着後、線引しファイバとした。得られたファイバは、外
径１２５μ０、コア径８μｍ屈折率差０３％の単一モー
ドファイバで、その伝送損失は、波長１．３μｇにおい
て１３５ ａＢ／ｋｍという良好な特性を示した。
実施例２
実施例１と同様の寸法をもつ中空円筒多孔質母材を作製
する際、第２図に示す方法で中心の棒を下部まで完全に
覆う様に多孔質体を付着させ、下端の閉じた形状の中空
円筒として、電気炉中で加熱した。
する際、第２図に示す方法で中心の棒を下部まで完全に
覆う様に多孔質体を付着させ、下端の閉じた形状の中空
円筒として、電気炉中で加熱した。
加熱温度及びガス雰囲気は実施例１と同じとした。
得られたガラスの屈折率分布は、第５図に示す分布と同
じ屈折率差があったがコアの領域が着千大きく外ってい
るのが観察された。
じ屈折率差があったがコアの領域が着千大きく外ってい
るのが観察された。
本実施例でば、均熱炉を用いる方法を示したが、局部的
な加熱源に対し母材を相対的に移動させる方式でも、本
実施と同様のプリフォームを製造することができる。ま
た弗素化合物ガスとしてはＳＦ・を例示したが、これは
取扱いの容易なため用いたものであって、これに限定さ
れるものではなく、その他の弗素系ガス例えばＥＩＦ、
、ＳｉＦ、、ＯｏＦ、 、Ｆ２等が用いられる。
な加熱源に対し母材を相対的に移動させる方式でも、本
実施と同様のプリフォームを製造することができる。ま
た弗素化合物ガスとしてはＳＦ・を例示したが、これは
取扱いの容易なため用いたものであって、これに限定さ
れるものではなく、その他の弗素系ガス例えばＥＩＦ、
、ＳｉＦ、、ＯｏＦ、 、Ｆ２等が用いられる。
（発明の効果）
本発明の光フアイバ用プリフォームの製造方法は、従来
のＶＡＤ法による焼結工程での弗素添加法では困難であ
った、クラッド部にのみ弗素を添加するという目的を達
成できるもので、良好な伝送特性を有する光フアイバ用
のプリフォームを実現可能とした。
のＶＡＤ法による焼結工程での弗素添加法では困難であ
った、クラッド部にのみ弗素を添加するという目的を達
成できるもので、良好な伝送特性を有する光フアイバ用
のプリフォームを実現可能とした。
また本発明の方法は、単に純５１０２コアーア弗。
素添加クラッドのファイバ構造だけでなく、例えばＧｏ
偽−８１０，コアー５ｉ０２−７クラツドのファイバ構
造も実現可能であり、したがって、クラッドのみに弗素
を含むファイバ構造についてすべて適用しうるものであ
る。
偽−８１０，コアー５ｉ０２−７クラツドのファイバ構
造も実現可能であり、したがって、クラッドのみに弗素
を含むファイバ構造についてすべて適用しうるものであ
る。
第１図は、本発明による中空円筒状多孔質ガラス体の説
明図、 第２図は、本発明方法により、中空円筒状多孔質ガラス
体をＶＡＤ法で作製する実施態様の説明図、 第３図は、本発明におけるクラッドにのみ弗素を添加す
る焼結方法の実施態様を説明する図、第４図は、本発明
第３図の方法により得られたガラス中空円筒の屈折率分
布、 第５図は、本発明の第４図のガラス中空円筒を中実化し
て得られたプリフォームロッドの屈折率分布である。 第６図は参考文献１に記載される従来法による単一モー
ドファイバの多孔質ガラス体の屈折率分布、 第７図は第６図の多、孔質体を透明化したものの屈折率
分布、 代理人 内 １） 明 代理人 萩 原 亮 − □ 第１図 昇り（ｐ′人 第１頁の続き ０発 明 者 水 谷 太 横浜市戸塚区作所内
明図、 第２図は、本発明方法により、中空円筒状多孔質ガラス
体をＶＡＤ法で作製する実施態様の説明図、 第３図は、本発明におけるクラッドにのみ弗素を添加す
る焼結方法の実施態様を説明する図、第４図は、本発明
第３図の方法により得られたガラス中空円筒の屈折率分
布、 第５図は、本発明の第４図のガラス中空円筒を中実化し
て得られたプリフォームロッドの屈折率分布である。 第６図は参考文献１に記載される従来法による単一モー
ドファイバの多孔質ガラス体の屈折率分布、 第７図は第６図の多、孔質体を透明化したものの屈折率
分布、 代理人 内 １） 明 代理人 萩 原 亮 − □ 第１図 昇り（ｐ′人 第１頁の続き ０発 明 者 水 谷 太 横浜市戸塚区作所内
Claims (2)
- （１）光フアイバ用プリフォームを製造する方法におい
て、まず中空円筒状の多孔質ガラス体を作製し、次いで
該中空円筒状多孔質ガラス体を炉内にて加熱焼結する際
に、該中空円筒状多孔質ガラス体の中空部は弗素系ガス
を含まない雰囲気とし、かつ炉内全体を弗素系ガスを含
む雰囲気として加熱処理することを特徴とする弗素含有
光ファイバ用プリフォームの製造方法。 - （２）上記多孔質ガラス体が純粋なＳｉｎ、である特許
請求の範囲第（１）項に記載される弗素含有光ファイバ
用プリフォームの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9293084A JPS60239335A (ja) | 1984-05-11 | 1984-05-11 | 光フアイバ用プリフオ−ムの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9293084A JPS60239335A (ja) | 1984-05-11 | 1984-05-11 | 光フアイバ用プリフオ−ムの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60239335A true JPS60239335A (ja) | 1985-11-28 |
| JPH0436101B2 JPH0436101B2 (ja) | 1992-06-15 |
Family
ID=14068210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9293084A Granted JPS60239335A (ja) | 1984-05-11 | 1984-05-11 | 光フアイバ用プリフオ−ムの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60239335A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1181253A1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-02-27 | Corning Incorporated | Method of controlling fluorine doping in soot preforms |
-
1984
- 1984-05-11 JP JP9293084A patent/JPS60239335A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1181253A1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-02-27 | Corning Incorporated | Method of controlling fluorine doping in soot preforms |
| EP1181253A4 (en) * | 1999-03-30 | 2004-12-15 | Corning Inc | METHOD FOR REGULATING FLUORINE DOPING IN SOOT PREFORMS |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0436101B2 (ja) | 1992-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR900003449B1 (ko) | 분산 시프트싱글모우드 광파이버 및 그 제조방법 | |
| JP4404196B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバの製造方法 | |
| Blankenship et al. | The outside vapor deposition method of fabricating optical waveguide fibers | |
| JP2959877B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JPS60257408A (ja) | 光フアイバおよびその製造方法 | |
| JPH0948629A (ja) | 光ファイバおよびその製造方法 | |
| CN111615499B (zh) | 光纤母材的制造方法、光纤母材以及光纤的制造方法、光纤 | |
| JP3098828B2 (ja) | 分散シフトファイバ及びその製造方法 | |
| US4318726A (en) | Process for producing optical fiber preform | |
| JPS60239335A (ja) | 光フアイバ用プリフオ−ムの製法 | |
| JP2000203859A (ja) | 光ファイバ母材用石英ガラス管及び該母材用石英ガラス管を用いた光ファイバ用母材 | |
| JPS63139028A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPS6131324A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0820574B2 (ja) | 分散シフトフアイバ及びその製造方法 | |
| JP3343079B2 (ja) | 光ファイバコア部材と光ファイバ母材およびそれらの製造方法 | |
| JPH0798671B2 (ja) | 光フアイバ用プリフオ−ムの製造方法 | |
| JPH085685B2 (ja) | 分散シフト光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0463365B2 (ja) | ||
| JPH0327491B2 (ja) | ||
| JPH0460930B2 (ja) | ||
| JPS63147840A (ja) | 石英ガラス材の製造方法 | |
| Schultz | Vapor phase materials and processes for glass optical waveguides | |
| JP2000169175A (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
| JPS63285128A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPH0488306A (ja) | 分散シフト光ファイバ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |