JPS60238304A - 薄膜形成方法 - Google Patents
薄膜形成方法Info
- Publication number
- JPS60238304A JPS60238304A JP9340984A JP9340984A JPS60238304A JP S60238304 A JPS60238304 A JP S60238304A JP 9340984 A JP9340984 A JP 9340984A JP 9340984 A JP9340984 A JP 9340984A JP S60238304 A JPS60238304 A JP S60238304A
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- JP
- Japan
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- plasma
- film
- discharge
- thin film
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はプラズマ重合膜を連続的に形成する方法に関す
る。
る。
従来例の構成とその問題点
有機化合物を使うグロー放電には、条件により重合膜の
形成現象が伴ない、この現象の積極的な利用が高分子薄
膜の一形成手段として位置づけされ、医学、工学分野に
応用展開の検討が進んでいる。この技術は従来の重合法
で得られない重合膜が得られることで注目されて研究が
進められているが、その工業的利用の前景となる薄膜形
成速度の点で難点がある。
形成現象が伴ない、この現象の積極的な利用が高分子薄
膜の一形成手段として位置づけされ、医学、工学分野に
応用展開の検討が進んでいる。この技術は従来の重合法
で得られない重合膜が得られることで注目されて研究が
進められているが、その工業的利用の前景となる薄膜形
成速度の点で難点がある。
第１図は従来使用されている代表的な重合装置の例であ
る。第１図で１は反応容器、２は高周波コイル、３は基
板、４は基板保持板、６は真空ポンプ、６はモノマー導
入管である。
る。第１図で１は反応容器、２は高周波コイル、３は基
板、４は基板保持板、６は真空ポンプ、６はモノマー導
入管である。
この装置では、高周波無極放電を利用しており、放電電
極に直接プラズマがふれないため、反応容器を例えば石
英ガラスで構成すれば、重合膜に電極材料が混入する懸
念がなくなるので、半導体工業などの分野を中心によく
検討されている。
極に直接プラズマがふれないため、反応容器を例えば石
英ガラスで構成すれば、重合膜に電極材料が混入する懸
念がなくなるので、半導体工業などの分野を中心によく
検討されている。
この方法は、モノマーの使用効率面で優れているが、膜
形成速度は、例えば、６０°Ｃのシリカ基 ′板上にテ
トラエトキシシランの重合膜を形成する場合でも高々１
５０３．／ｍｉｎ程度しか得られず。
形成速度は、例えば、６０°Ｃのシリカ基 ′板上にテ
トラエトキシシランの重合膜を形成する場合でも高々１
５０３．／ｍｉｎ程度しか得られず。
磁気テープの保護膜などの工業規模での応用には。
１桁膜形成速度を大きくすることが望まれている。
従来法では、高周波電力に応じて膜形成速度がある程度
上昇するが、やがて分解も起るようになり１重合度が低
下し好捷しくないだめ、高速化に限界があった。
上昇するが、やがて分解も起るようになり１重合度が低
下し好捷しくないだめ、高速化に限界があった。
発明の目的
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、プラズマ重合
による薄膜形成速度の高速化をはかることを目的とする
。
による薄膜形成速度の高速化をはかることを目的とする
。
発明の構成
本発明の薄膜形成方法は、無極放電によシ発生せしめた
電離気体を対向電極のグロー放電に注入混合させた状態
でプラズマ重合膜を形成することを特徴とし、膜形成速
度を大きくできるものである。
電離気体を対向電極のグロー放電に注入混合させた状態
でプラズマ重合膜を形成することを特徴とし、膜形成速
度を大きくできるものである。
実施例の説明
以下図面を参照しながら本発明を説明する。
第２図は本発明の方法を適用して得られる磁気記録媒体
の一例の断面図である。第２図で７は高分子基板、８は
軟磁性層、９は垂直磁化膜で１０はプラズマ重合膜であ
る。
の一例の断面図である。第２図で７は高分子基板、８は
軟磁性層、９は垂直磁化膜で１０はプラズマ重合膜であ
る。
以下の説明で保護膜の形成を行う基板をウェブと呼ぶ。
第３図はウェブ上に高速でプラズマ重合膜を形成するの
に用いた薄膜形成装置である。
に用いた薄膜形成装置である。
第３図に於て、１１は真空容器、１２．１３は放電電極
で１４は放電電源、１５は絶縁導入端子、１６はガス導
入ノズル人、１７は可変リーク弁Ａ、１８は無極放電容
器、１９は高周波コイル、２０はガス導入ノズルＢ１２
１は可変リーク弁Ｂ、２２はウェブで２３は送り出し軸
、２４は巻取り軸、２６は回転ローラ、破線で示した２
６は、紙面に垂直な方向に配した排気孔である。
で１４は放電電源、１５は絶縁導入端子、１６はガス導
入ノズル人、１７は可変リーク弁Ａ、１８は無極放電容
器、１９は高周波コイル、２０はガス導入ノズルＢ１２
１は可変リーク弁Ｂ、２２はウェブで２３は送り出し軸
、２４は巻取り軸、２６は回転ローラ、破線で示した２
６は、紙面に垂直な方向に配した排気孔である。
第３図に示したように対向電極間のグロー放電だけでプ
ラズマ重合を行うのより、数倍から１０倍の高速化が無
極放電によシ発生させた電離気体丈 を前記対向電極間グローにキらすことで達成される理由
は、単独では、投入電力を大きくすると分解が起るので
高速化が頭打ちになるのに、２段にプラズマを分けて構
成する形になるので２分解が起らないのでより高速化が
はかれるものである。
ラズマ重合を行うのより、数倍から１０倍の高速化が無
極放電によシ発生させた電離気体丈 を前記対向電極間グローにキらすことで達成される理由
は、単独では、投入電力を大きくすると分解が起るので
高速化が頭打ちになるのに、２段にプラズマを分けて構
成する形になるので２分解が起らないのでより高速化が
はかれるものである。
ノズルムとノズルＢとで異なるモノマー或いは、ノズル
ＢｊＪ）モノマーガス、ノズルムより酸素。
ＢｊＪ）モノマーガス、ノズルムより酸素。
窒素、アルゴンなどのガスを導入することで、更に混合
モノマーの高速重合の他に、新しい構成元素からなる重
合膜を得ることもできる。又、無極放電に用いる高周波
と、対向電極間の放電に用いる交流の周波数の選択によ
シ、共振現象に類似したことが起り、高速化を更に進め
ることができるなどの特徴もある。
モノマーの高速重合の他に、新しい構成元素からなる重
合膜を得ることもできる。又、無極放電に用いる高周波
と、対向電極間の放電に用いる交流の周波数の選択によ
シ、共振現象に類似したことが起り、高速化を更に進め
ることができるなどの特徴もある。
以下更に具体的に本発明の一実施例について説明する。
無極放電の反応容器は石英ガラスで、直径２゜硼、長さ
４０ｃｍで、外周の高周波コイルは１０ターンで、ノズ
ルの位置はコイルの上部とコイルの下部（第３図に示し
た例）に変化させた。
４０ｃｍで、外周の高周波コイルは１０ターンで、ノズ
ルの位置はコイルの上部とコイルの下部（第３図に示し
た例）に変化させた。
１ 対向電極は、電極の大きき２６α角で電極間距離は
１２（ｍとした。
１２（ｍとした。
真空容器は内容積は０．１ｄで、排気系は液体窒素トラ
ップを用いた油拡散ポンプ系と、油回転ポンプ系を併用
した。得られた重合膜形成速度を含め１表にまとめた。
ップを用いた油拡散ポンプ系と、油回転ポンプ系を併用
した。得られた重合膜形成速度を含め１表にまとめた。
（以下余 白）
表より明らかなように１本発明によれば、モノマーに依
存する度合は小さく、殆んど１６００人／ ｍｉｎ以上
の従来法の１０倍以上の高速成膜が可能であることが理
解できる。
存する度合は小さく、殆んど１６００人／ ｍｉｎ以上
の従来法の１０倍以上の高速成膜が可能であることが理
解できる。
本発明によれば、磁気記録媒体の保護膜として約１００
人形成したピリジンの重合膜は、従来法で得た約３００
人の膜と、ビデオテープレコーダのスチルモードでの耐
久性が同等であり、生産性は更に有利になることが確か
められている。
人形成したピリジンの重合膜は、従来法で得た約３００
人の膜と、ビデオテープレコーダのスチルモードでの耐
久性が同等であり、生産性は更に有利になることが確か
められている。
本発明は他の多くのモノマーについてもその効果が十分
確かめられているものである。
確かめられているものである。
発明の効果
本発明は対向電極によるグロー放電中に、無極放電によ
る電離気体を導入することで、プラズマ重合の膜形成速
度を従来法の１０倍以上に高速化できるものでその実用
的効果は大きい。
る電離気体を導入することで、プラズマ重合の膜形成速
度を従来法の１０倍以上に高速化できるものでその実用
的効果は大きい。
第１図は従来用いられたプラズマ重合装置で。
第２図は本発明を用いてできる磁気記録媒体の拡大断面
図、第３図は本発明の実施に利用できるプラズマ重合装
置の一例である。 １２．１３・・・・・対向電極、１８・・・・・・反応
容器、１９・・・・・・高周波コイル。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 ／／） 第 ３ 図
図、第３図は本発明の実施に利用できるプラズマ重合装
置の一例である。 １２．１３・・・・・対向電極、１８・・・・・・反応
容器、１９・・・・・・高周波コイル。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 ／／） 第 ３ 図
Claims (1)
- 移動する基板上に、少なくともモノマーガスの無極放電
により生じた電離気体を導入し、対向電極のグロー放電
と混合させた状態でプラズマ重合膜を形成することを特
徴とする薄膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9340984A JPS60238304A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 薄膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9340984A JPS60238304A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 薄膜形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60238304A true JPS60238304A (ja) | 1985-11-27 |
| JPH0518177B2 JPH0518177B2 (ja) | 1993-03-11 |
Family
ID=14081495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9340984A Granted JPS60238304A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 薄膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60238304A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62100416A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 三塩化砒素の蒸留精製方法 |
| JPS62100413A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化砒素よりの三塩化砒素の製造方法 |
| JP2005521550A (ja) * | 2002-03-28 | 2005-07-21 | プラツソ・テクノロジー・リミテツド | プラズマ重合による被膜の調製 |
| JP2007512436A (ja) * | 2003-11-20 | 2007-05-17 | アピト コープ．エス．アー． | プラズマ薄膜堆積方法 |
| JP2012214815A (ja) * | 2003-06-12 | 2012-11-08 | Becton Dickinson & Co | 方法 |
-
1984
- 1984-05-10 JP JP9340984A patent/JPS60238304A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62100416A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 三塩化砒素の蒸留精製方法 |
| JPS62100413A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化砒素よりの三塩化砒素の製造方法 |
| JP2005521550A (ja) * | 2002-03-28 | 2005-07-21 | プラツソ・テクノロジー・リミテツド | プラズマ重合による被膜の調製 |
| JP4798949B2 (ja) * | 2002-03-28 | 2011-10-19 | プラツソ・テクノロジー・リミテツド | プラズマ重合による被膜の調製 |
| JP2012214815A (ja) * | 2003-06-12 | 2012-11-08 | Becton Dickinson & Co | 方法 |
| JP2007512436A (ja) * | 2003-11-20 | 2007-05-17 | アピト コープ．エス．アー． | プラズマ薄膜堆積方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0518177B2 (ja) | 1993-03-11 |
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