JPS6261329B2 - - Google Patents

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JPS6261329B2
JPS6261329B2 JP58243600A JP24360083A JPS6261329B2 JP S6261329 B2 JPS6261329 B2 JP S6261329B2 JP 58243600 A JP58243600 A JP 58243600A JP 24360083 A JP24360083 A JP 24360083A JP S6261329 B2 JPS6261329 B2 JP S6261329B2
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JP
Japan
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layer
thin film
separation member
polymer thin
film
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Yutaka Yamamoto
Jiro Sakata
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Toyota Central R&D Labs Inc
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Toyota Central R&D Labs Inc
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
    • B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
    • B01D69/127—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction using electrical discharge or plasma-polymerisation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249978—Voids specified as micro

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  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は気体の膜透過速度の相異を利用して混
合気体を分離・濃縮する部材およびその製造方法
に関する。
空気中の酸素と窒素を分離して高濃度酸素空気
を得たり、あるいは室内の過剰の炭酸ガスを放出
し必要な酸素を得たり、各種の製造工程において
排出される水素を含んだ混合気体から水素を他の
副成気体から分離して濃縮することが検討されて
いる。この過程を省エネルギー的に行うことは非
常に重要である。このための方法としては吸収
法、吸着法、拡散法、深冷分離法等の種々の方法
があるが、膜分離技術を応用した拡散法が省エネ
ルギーという立場から有望視されている。しかし
従来の分離部材は気体の分離率が小さすぎたりあ
るいは気体の透過量が少ないため、実用化しうる
分野が極度に限られていた。
ところで従来の気体分離部材に比較し、分離率
および気体の透過量で優れかつ機械的強度の高い
新規な気体分離部材およびその製造方法として、
本出願人による特許出願に相当する特開昭56−
24018号および特開昭56−58518号に示されたもの
がある。そこに示された気体分離部材は従来のも
のと比較して気体分離率および気体の透過量で優
れていることは認められるが、省エネルギー的な
立場からみるとさらに気体分離率および気体の透
過量をあげる必要がある。しかしながら、分離率
が大きい膜素材では気体の透過量を大きくするこ
とは困難であり、一方気体の透過量が大きい膜素
材は分離率が小さいという経験則がある。従つ
て、気体分離部材において気体の分離率と透過量
とを同時に増大させることは極めて困難な問題で
あつた。かかる問題を解決する膜素材として、２
種類以上の高分子薄膜を含む気体分離部材が提案
されている（特開昭57−30528号）。しかし該分離
部材においては機械的又は熱的環境下にて第１層
と第２層とが剥離することがあり、その場合気体
分離部材としての性能が著しく低下することもあ
る。
かかる問題について鋭意研究した結果、本発明
者等は、気体の分離率を高めしかも気体透過量が
大きく、更に機械的および熱的環境下においても
劣化しない気体分離部材が、２種類以上のプラズ
マ重合高分子薄膜層を用い、且つ第２層の高分子
薄膜の化学組成又は化学構造を、第１層のそれか
ら徐々に変化させることにより、得られることを
見出し、本発明に至つた。
従つて本発明の目的は、従来の気体分離部材と
比較して気体の分離率および透過量が著しく優
れ、しかも機械的強度、耐侯性および耐久性に優
れた新規な気体分離部材を提供することにある。
本発明の別の目的は、上記気体分離部材の製造
方法を提供することにある。
本発明の気体分離部材は、膜状又は壁状の多孔
質基体と、該基体の表面にプラズマ重合により形
成された、該基体に直接接触する第１層および第
２層の少なくとも２層からなる高分子薄膜から構
成され、第１層の高分子薄膜は膜厚方向に化学組
成あるいは化学構造が一定でありそして第２層の
高分子薄膜は膜厚方向に化学組成あるいは化学構
造が前記第１層の化学組成又は化学構造を基礎と
してそれから連続的に変化していることを特徴と
する。
ここで多孔質基体とは、気体分離部材の機械的
強度を受けもつもので、直径数＋オングストロー
ム（Å）から数マイクロメーターの連通孔を有す
る多孔質フイルムあるいは多孔質壁体をいう。具
体的には金属、セラミツクスあるいは高分子の粒
子を焼結して得られる焼結体、繊維を編製、織製
あるいはフエルト状に積載して形成した繊維状
体、多孔質高分子フイルム、多孔質ガラスフイル
ム等がこの基体として使用される。
基体の形状は平板状、管状その他の形状のもの
でよい。本発明方法にあつては、高分子薄膜がプ
ラズマ重合で形成されるため、管状の表面とか凹
凸のある表面のように比較的複雑な表面をもつ形
状のものでも比較的容易に高分子薄膜が形成でき
る。
基体表面の孔に安定した高分子薄膜を形成する
には、孔の形状が円形の場合にはその直径が数千
オングストローム以下であることが好ましい。ま
た孔が矩形あるいは楕円形などの場合にはその短
径が1000オングストローム以下であることが好ま
しい。かかる基体として、例えば数十から数百オ
ングストロームの連通孔が多数均一に形成されて
いる多孔質酢酸セルロース膜、多孔質ポリスルホ
ン膜、多孔質ポリカーボネート膜とか延伸により
数百オングストローム程度の連通孔が形成された
多孔質ポリプロピレン膜、硼珪酸ソーダガラスの
分相現象を利用した多孔質化処理により得られる
孔径数百オングストロームないし数千オングスト
ロームの多孔質ガラス膜、高分子多相系のスピノ
ーダル分解を利用して多孔質化処理することによ
り作製できる高分子多孔質体が有利に使用でき
る。特に好ましい多孔質基体は上記多孔質ガラス
膜、多孔質ポリスルホン膜、および多孔質ポリプ
ロピレン膜である。該基体の厚さは特に限定され
ないが、通常10〜1000μである。
基体の表面に高分子薄膜を形成するプラズマ重
合とは、プラズマ状態の空間に有機モノマーを導
入し、この有機モノマーを活性化してラジカルあ
るいはイオンに変え重合を起させる重合方法をい
う。より具体的には、低圧の気体に電場を作用さ
せて気体を高エネルギー状態に励起し、気体を電
子、イオンおよびラジカルを豊富に含む解離状
態、すなわちプラズマ状態にする。このプラズマ
状態の空間に有機モノマーを導入する。この有機
モノマーがラジカルあるいはイオンのように活性
化され、未反応モノマーを次々に重合し、この空
間に設けられた多孔質基体の表面に高分子薄膜を
形成する。電場を作用させる形式としては内部電
極方式、無電極方式が可能である。内部電極方式
では直流、交流および高周波の電場を作用させる
ことができる。無電極方式では高周波の電場を作
用させることができる。更に、一般に逆スパツタ
リングとして知られている方法は上記内部電極方
式のものと同一であり、逆スパツタリングにより
本発明におけるプラズマ重合も可能である。
プラズマ重合用有機モノマーとしては、ヘキサ
メチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラ
シロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン、テトラメチルシラン、ジアリルジメチルシラ
ン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン等のオルガノシラン類；テト
ラフルオロメタン、テトラフルオロエチレン、パ
ーフルオロプロパン、パーフルオロベンゼン等の
フルオロカーボン類及びその誘導体；１−ヘキセ
ン、シクロヘキセン、エチレン、プロペン、アセ
チレン、ブタジエン等のような不飽和炭化水素及
びその誘導体；メタン、エタン、プロパン、ブタ
ン、ペンタン、ヘキサンのような飽和炭化水素及
びその誘導体；ベンゼン、トルエン、スチレンの
ような芳香族炭化水素及びその誘導体；フラン等
の複素環式化合物及びその誘導体；並びに従来よ
りプラズマ重合により薄膜作製が可能と報告され
ている他の有機モノマーが使用できる。しかしな
がら、多孔質基体の表面に直接接触して形成され
る高分子薄膜（以下第１層高分子薄膜と云う）は
オルガノシラン樹脂薄膜であることが好ましい。
また第１層高分子薄膜合成用のオルガノシラン系
有機モノマーとしては、特にヘキサメチルジシロ
キサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンが
好ましい。
上記第１層高分子薄膜上に形成される。化学組
成又は化学構造が膜厚方向で連続的に変化した高
分子薄膜（以下、第２層高分子薄膜と云う）は、
第１層高分子薄膜の合成に用いた有機モノマー
（第１有機モノマーと云う）と他の１種又は２種
以上の有機モノマー（第２有機モノマーと云う）
とから成る混合有機モノマーのプラズマ重合によ
り得られた高分子から成る。該第２有機モノマー
としては前述の広範囲の有機モノマーを使用し得
るが、特にジアリルジメチルシラン、テトラメチ
ルシラン等のオルガノシラン類；テトラフルオロ
メタン、テトラフルオロエチレン等のフルオロカ
ーボン類；又はフラン、アセチレン、メタン等が
好ましい。
本発明の高分子薄膜全体の厚さは10000オング
ストローム以下、通常100〜10000オングストロー
ムと考えられる。基体の代わりにガラス板を使用
し、本発明の方法と同一のプラズマ重合条件でガ
ラス上に高分子薄膜を形成し、干渉顕微鏡による
干渉縞の測定から高分子薄膜の厚さを測定した。
以下に示す各実施例のプラズマ重合条件ではいず
れもその膜厚は200オングストロームないし5000
オングストロームであつた。また第２層高分子薄
膜は通常約10〜1000オングストローム、特に約20
〜500オングストロームである。
なお、第２層高分子薄膜上に、更に第２有機モ
ノマーのプラズマ重合生成物から成る化学組成が
一定の第３層の高分子薄膜を数千オングストロー
ム以下の膜厚にて形成させてもよい。
本発明による気体分離部材の断面概略図を第１
図に、そして該気体分離部材の高分子薄膜部分に
おける膜厚方向の化学組成分布の一例を第２図に
示す。
本発明による気体分離部材は、前記多孔質基体
を収容した容器内に第１有機モノマーを所定速度
にて導入して所定の時間、通常１〜30分間、プラ
ズマ重合を行つて該多孔質基体の表面に、膜厚方
向に化学組成又は化学構造が一定の第１層高分子
薄膜を形成させ、次いで第２有機モノマーを導入
し、第１有機モノマーと第２有機モノマーの混合
比を連続的に変化させつつ第１および第２有機モ
ノマーのプラズマ重合を所定時間、通常１〜30分
間、行うことにより膜厚方向に化学組成あるいは
化学構造とが連続的に変化する第２層高分子薄膜
を形成させることにより製造し得る。
以下に本発明を実施例および比較例をもつて更
に詳しく説明する。なお、以下の実施例で使用し
たプラズマ発生装置の断面概略図を第３図に示
す。
上記プラズマ発生装置は、頂部に直径約８cm、
高さ約20cmのガラス製反応容器６と金属製めくら
ぶた８、該反応容器を載置し且つ試料台１０を収
容するための直径約20cm、高さ約20cmの金属製容
器４、該金属製容器４を載置する一辺約40cm、高
さ約20cmの金属製容器５、および反応容器６の中
央部に巻きつけられた銅板製の電極７から本質的
に成る。金属製容器５には有機モノマーガス導入
用の通路５２，５４、及び容器４，５および６内
の圧力をモニターするための圧力ゲージに接続さ
れる通路５３、及び真空ポンプに連がるガス排気
用通路５１が設けられ、そして金属製容器４内に
は試料台１０が設けられている。
実施例 １ 多孔質基体として外径250μｍ、肉厚15μｍ、
長さ20cmの中空糸状多孔質ガラスを使用し、これ
を第３図に示すプラズマ発生装置の試料台１０に
設置し、真空ポンプ（図示せず）により排気口５
１を通して容器４，５，６の空気を脱気した。次
に真空ポンプにより脱気を続けた状態で通路５２
より第１有機モノマーとしてヘキサメチルジシロ
キサンを導入し、通路５３を通して接続している
圧力ゲージ（図示せず）により0.1トールとなる
ように保つた。この状態で電極７に13.56MHzの
高周波電圧を印加して100ワツトに保ち、２分間
プラズマ重合を起させて上記基体の表面に第１層
高分子薄膜を形成した。高周波電圧を印加した状
態を続けながらヘキサメチルジシロキサンの導入
量を１分間で０となるような割合で減少させなが
ら、通路５４より第２有機モノマーとしてジアリ
ルジメチルシランを、全体の有機モノマー圧力が
0.1トールとなるように徐々に導入量を増大させ
つつプラズマ重合を１分間行つた。このようにし
て上記第１層高分子薄膜上に第２の高分子薄膜層
に形成して、気体分離部材を作製した。
この気体分離部材の気体透過速度および分離率
は次の通りであつた。
分離率（O2／N2）：4.5 酸素透過速度：1.0×10-4cm3／cm2・秒・cmHg 実施例 ２ 第１層形成時の第１有機モノマー圧力が
0.05Torrであり、第２層形成時の全体の有機モノ
マー圧が0.05Torr、その重合時間が30秒である以
外は実施例１と同様にして基体上に高分子薄膜を
形成して、本発明の気体分離部材を作製した。こ
の気体分離部材の気体透過速度および分離率は次
の通りであつた。
分離率（O2／N2）：3.7 酸素透過速度：2.0×10-4cm3／cm2・sec・cmHg 実施例 ３ 多孔質基体として実施例１で使用したものと同
じ中空糸状多孔質ガラスを使用し、これを試料台
10に設置し、真空ポンプにより容器４，５，６の
空気を脱気した。次に真空ポンプにより脱気を続
けながら通路５２より第１有機モノマーとしてヘ
キサメチルジシロキサンを導入し圧力が0.1トー
ルとなるように保つた。この状態で電極７に
13.56MHzの高周波電圧を印加し100ワツトに保つ
て２分間プラズマ重合を起させ上記基体の表面に
第１層高分子薄膜を形成した。次に高周波電圧を
印加した状態を続けながらヘキサメチルジシロキ
サンの導入速度を30秒間で０となるように連続的
に減速しながら通５４より第２有機モノマーとし
てテトラフルオロエチレンをゆつくり導入し、全
体の圧力を0.1トールに保ちながらプラズマ重合
を30秒間行つた。このようにして基体上に高分子
薄膜を形成して本発明の気体分離部材を作製し
た。
この気体分離部材の分離率および酸素透過速度
は次の通りであつた。
分離率（O2／N2）：3.7 酸素透過速度：1.9×10-4cm3／cm2・秒・cmHg 実施例 ４ 第２有機モノマーとしてテトラフルオロメタン
を用いる以外は実施例１と同様にして基体上に高
分子薄膜を形成して本発明の気体分離部材を作製
した。
この気体分離部材の分離率および酸素透過速度
は次の通りであつた。
分離率（O2／N2）：3.0 酸素透過速度：4.0×10-4cm3／cm2・秒・cmHg 比較例 １ 多孔質基体として実施例１で使用したものと同
じ中空糸状多孔質ガラスを使用し、有機モノマー
としてヘキサメチルジシロキサンのみを使用する
ことおよびプラズマ重合時間を３分間とすること
以外は実施例１と同様にして、多孔質基体上に高
分子薄膜を形成した。
この気体分離部材の分離率および酸素透過速度
は次の通りであつた。
分離率（O2／N2）：2.5 酸素透過速度：4.0×10-4cm3／cm2・秒・cmHg 以上の実施例では最も分離の困難な酸素と窒素
の分離について述べた。本発明の気体分離部材は
その他の気体の分離、例えば水素、ヘリウム、一
酸化炭素、二酸化炭素等、分子量又は性質が互い
に相違する気体相互の分離にも使用し得ることが
当然理解されるであろう。
本発明による気体分離部材は２種類以上の高分
子薄膜層を有するため、１種類の高分子薄膜では
両立が困難とされた高い気体分離率と気体透過速
度との兼有が可能となる。しかも第２層の高分子
薄膜は第１層の高分子薄膜の組成又は化学構造を
徐々に（連続的に）変化させたものであるため１
層構造と構造上変りなく、従つて、長期間使用し
ても両者の薄膜が剥離することがなく、劣化しな
い。また高い気体分離率および透過速度により、
動力消費を少なくして混合気体からの特定成分気
体の分離・濃縮が可能である。更にまた装置の小
型化も可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の気体分離部材の断面概略図で
あり、第２図は本発明の気体分離部材の高分子薄
膜における膜厚方向の化学組成分布であり、そし
て第３図は本発明の方法で使用し得るプラズマ発
生装置の正面断面概略図である。 １……多孔質基体、２……連通孔、３１……第
１層高分子薄膜、３２……第２層高分子薄膜、
４，５……金属製容器、６……ガラス製反応容
器、７……電極、９……支持棒、１０……試料
台、５２，５４……有機モノマー導入用通路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 膜状又は壁状の多孔質基体と、該基体の表面
    にプラズマ重合により形成された、該基体に直接
    接触する第１層および第２層の少なくとも２層か
    らなる高分子薄膜から構成され、第１層の高分子
    薄膜は膜厚方向に化学組成又は化学構造が一定で
    ありそして第２層の高分子薄膜は膜厚方向に化学
    組成又は化学構造が前記第１層の化学組成又は化
    学構造を基礎としてそれから連続的に変化してい
    ることを特徴とする気体分離部材。 ２ 第１層の高分子薄膜がオルガノシラン樹脂薄
    膜であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
    記載の分離部材。 ３ 第２層の高分子薄膜が２種類以上のオルガノ
    シランモノマーのプラズマ重合生成物から成るこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１又は第２項記
    載の分離部材。 ４ 第２層の高分子薄膜がオルガノシランモノマ
    ーと、飽和炭化水素、不飽和炭化水素、芳香族炭
    化水素、これらの誘導体、或いはこれらの混合物
    とのプラズマ重合生成物から成ることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１又は第２項記載の分離部
    材。 ５ 第１層の高分子薄膜がオルガノシラン樹脂か
    ら成り、第２層の高分子薄膜が、連続的に化学組
    成が変化するオルガノシラン−フルオロカーボン
    プラズマ重合生成物から成ることを特徴とする特
    許請求の範囲第１項記載の分離部材。 ６ 膜状又は壁状の多孔質基体の表面に第１有機
    モノマーのプラズマ重合により膜厚方向に化学組
    成あるいは化学構造が一定な第１の高分子薄膜層
    を形成させ、次いで第２有機モノマーを導入し、
    第１有機モノマーと第２有機モノマーの混合比を
    連続的に変化させつつ第１および第２有機モノマ
    ーのプラズマ重合を行うことにより膜厚方向に化
    学組成あるいは化学構造が連続的に変化する第２
    の高分子薄膜層を形成させることを特徴とする気
    体分離部材の製造方法。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61153122A (ja) * 1984-12-27 1986-07-11 Nippon Denso Co Ltd 酸素分離部材およびその製造方法
US4874516A (en) * 1984-12-29 1989-10-17 Ngk Insulators, Ltd. A ceramic filter for semi-ultrafiltration
US4824444A (en) * 1986-04-11 1989-04-25 Applied Membrane Technology, Inc. Gas permselective composite membrane prepared by plasma polymerization coating techniques
US4842941A (en) * 1987-04-06 1989-06-27 General Electric Company Method for forming abrasion-resistant polycarbonate articles, and articles of manufacture produced thereby
US4927704A (en) * 1987-08-24 1990-05-22 General Electric Company Abrasion-resistant plastic articles and method for making them
US5051308A (en) * 1987-08-24 1991-09-24 General Electric Company Abrasion-resistant plastic articles
US4976897A (en) * 1987-12-16 1990-12-11 Hoechst Celanese Corporation Composite porous membranes and methods of making the same
US5102552A (en) * 1987-12-16 1992-04-07 Hoechst Celanese Corporation Membranes from UV-curable resins
JPH064713B2 (ja) * 1988-07-22 1994-01-19 テルモ株式会社 生体適合性材料
US5049167A (en) * 1989-12-13 1991-09-17 Membrane Technology & Research, Inc. Multilayer interfacial composite membrane
DE59008610D1 (de) * 1989-12-23 1995-04-06 Hoechst Ag Verbundmembran, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung.
US5354469A (en) * 1993-06-14 1994-10-11 Bend Research, Inc. Layered plasma polymer composite membranes
US5463010A (en) * 1993-11-12 1995-10-31 Surface Engineering Technologies, Division Of Innerdyne, Inc. Hydrocyclosiloxane membrane prepared by plasma polymerization process
US5439736A (en) * 1994-01-21 1995-08-08 Neomecs Incorporated Gas plasma polymerized permselective membrane
US5723219A (en) * 1995-12-19 1998-03-03 Talison Research Plasma deposited film networks
US6203850B1 (en) * 1999-05-18 2001-03-20 Neomecs Incorporated Plasma-annealed porous polymers
US7887889B2 (en) * 2001-12-14 2011-02-15 3M Innovative Properties Company Plasma fluorination treatment of porous materials
FR2923494B1 (fr) * 2007-11-09 2010-01-15 Hutchinson Membranes imper-respirantes et leur procede de fabrication
WO2013179414A1 (ja) * 2012-05-30 2013-12-05 旭化成ケミカルズ株式会社 浄化水を得る方法およびその装置
CN106102886A (zh) * 2014-03-18 2016-11-09 东洋橡胶工业株式会社 含有酸性气体的气体的处理用分离膜、及含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5520627A (en) * 1978-07-28 1980-02-14 Ozawa Juichiro Reverse osmosis membrane
JPS58180205A (ja) * 1982-04-16 1983-10-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 東京都港区虎ノ門二丁目５番２１号

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2082095A5 (ja) * 1970-03-03 1971-12-10 Rhone Poulenc Sa
US3980456A (en) * 1975-03-31 1976-09-14 General Electric Company Method for sealing breaches in multi-layer ultrathin membrane composites
CA1070263A (en) * 1975-06-23 1980-01-22 National Aeronautics And Space Administration Preparation of dielectric coatings of variable dielectric constant by plasma polymerization
JPS5456985A (en) * 1977-10-14 1979-05-08 Mitsubishi Chem Ind Ltd Gas-separaing membrane
JPS54103788A (en) * 1978-02-01 1979-08-15 Mitsubishi Rayon Co Ltd Composite hollow yarn and selective gas permeation using same
EP0021422B1 (en) * 1979-06-25 1984-01-11 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Gas separating member
US4444662A (en) * 1979-10-22 1984-04-24 Applied Membrane Technology, Inc. Microporous laminate
US4393113A (en) * 1980-06-05 1983-07-12 Teitin Limited Novel silicon-containing copolymer, ultrathin solid membrane composed of said copolymer, use of said solid membrane for concentrating a specified gas in a gaseous mixture, and process for producing said solid membrane
DE3214804A1 (de) * 1982-04-21 1983-10-27 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum erzeugen einer lyophoben schicht
JPS5959210A (ja) * 1982-09-27 1984-04-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 選択性気体透過複合膜
US4465738A (en) * 1983-06-15 1984-08-14 Borg-Warner Corporation Wettable coatings for inorganic substrates

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5520627A (en) * 1978-07-28 1980-02-14 Ozawa Juichiro Reverse osmosis membrane
JPS58180205A (ja) * 1982-04-16 1983-10-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 東京都港区虎ノ門二丁目５番２１号

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US4594079A (en) 1986-06-10
JPS60137417A (ja) 1985-07-22

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