JPS60237069A - 1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤 - Google Patents
1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤Info
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- JPS60237069A JPS60237069A JP59077493A JP7749384A JPS60237069A JP S60237069 A JPS60237069 A JP S60237069A JP 59077493 A JP59077493 A JP 59077493A JP 7749384 A JP7749384 A JP 7749384A JP S60237069 A JPS60237069 A JP S60237069A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
【)
で表わされる1、4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘
導体およびその塩に関するものである。
導体およびその塩に関するものである。
本発明の目的は、グラム陰性菌およびグラム陰性菌、と
りわけ抗生物質耐性菌に対して強力な抗菌作用を示すと
ともに、経口的または非経口的投与により高い血中濃度
が得られ、かつ安全性が高いなどの優れた性質を有する
一般式〔1〕で表わされる新規な化合物を提供すること
にある。
りわけ抗生物質耐性菌に対して強力な抗菌作用を示すと
ともに、経口的または非経口的投与により高い血中濃度
が得られ、かつ安全性が高いなどの優れた性質を有する
一般式〔1〕で表わされる新規な化合物を提供すること
にある。
従来、合成抗菌剤としてナリジノス酸、ピロミド酸また
はピペミド酸t【どが広く用いられているが、いずれも
難治性疾患である緑膿菌感染症やグラム陽性菌感染症の
治療に対する効果は満足すべきものではなかった。この
ため、各種のピリドンカルボン酸系化合物、たとえば、
1−エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オ
キソ−7−(1−ピペラジニル)−3=キノリンカルボ
ン酸Cノルフロキサシン)などが従来の合成抗菌剤に代
わるものとして開発されつつあるが、これらの化合物は
緑膿菌を含む各種グラム陰性閑に対しては優れた抗菌力
を有するが、ダラム陽性菌に対する抗菌力はいまだ十分
とはいえなかった。そこで、グラム陰性菌のみならず、
ダラム陽性菌に対しても有効な広範囲の抗菌スペクトル
を有する合成抗菌剤の開発が望まれていた。
はピペミド酸t【どが広く用いられているが、いずれも
難治性疾患である緑膿菌感染症やグラム陽性菌感染症の
治療に対する効果は満足すべきものではなかった。この
ため、各種のピリドンカルボン酸系化合物、たとえば、
1−エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オ
キソ−7−(1−ピペラジニル)−3=キノリンカルボ
ン酸Cノルフロキサシン)などが従来の合成抗菌剤に代
わるものとして開発されつつあるが、これらの化合物は
緑膿菌を含む各種グラム陰性閑に対しては優れた抗菌力
を有するが、ダラム陽性菌に対する抗菌力はいまだ十分
とはいえなかった。そこで、グラム陰性菌のみならず、
ダラム陽性菌に対しても有効な広範囲の抗菌スペクトル
を有する合成抗菌剤の開発が望まれていた。
このような状況下において、本発明者らは、鋭意研究を
行った結果、一般式〔1〕で表わされる1、4−ジヒド
ロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩が上記の目
的を達成することを見出し、本発明を完成するに至った
。
行った結果、一般式〔1〕で表わされる1、4−ジヒド
ロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩が上記の目
的を達成することを見出し、本発明を完成するに至った
。
以下、本発明化合物を詳説する。
一般式〔1〕の化合物およびその塩において、R1のカ
ルボキシル保護基としては、たとえば、接触還元、化学
的還元もしくはその他の緩和な条件で処理することによ
り脱離するエステル形成基、または生体内において容易
に脱離するエステル形成基、または水もしくはアルコー
ルで処理することにより容易に脱離する有機シリル基、
有機リン基もしくは有機スズ基など、その他の種々の公
知のエステル形成基が挙げられる。
ルボキシル保護基としては、たとえば、接触還元、化学
的還元もしくはその他の緩和な条件で処理することによ
り脱離するエステル形成基、または生体内において容易
に脱離するエステル形成基、または水もしくはアルコー
ルで処理することにより容易に脱離する有機シリル基、
有機リン基もしくは有機スズ基など、その他の種々の公
知のエステル形成基が挙げられる。
これらのカルボキシル保護基のうち、好適な保護基とし
ては、たとえば、特願昭57−188930号に記載さ
れたカルボキシル保護基が挙げられる。
ては、たとえば、特願昭57−188930号に記載さ
れたカルボキシル保護基が挙げられる。
また、B″のアリール基としては、たとえば、ツーニル
、ナフチルなどの基が挙げられる。このアリール基は、
ハロゲン原子、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子など;アルキル基、たとえば、メチル
、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、
イソブチル、8ee−ブチル、tart−ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどの直鎖または
分枝鎖C8〜、。アルキル基;ヒドロキシル基;アルコ
キシ基、たとえば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、インプロポキシ、。
、ナフチルなどの基が挙げられる。このアリール基は、
ハロゲン原子、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子など;アルキル基、たとえば、メチル
、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、
イソブチル、8ee−ブチル、tart−ブチル、ペン
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどの直鎖または
分枝鎖C8〜、。アルキル基;ヒドロキシル基;アルコ
キシ基、たとえば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、インプロポキシ、。
−ブトキシ、イソブトキシ、1ee−ブトキシ、tar
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプ
チルオキシ、オクチルオキシなどの直鎖または分枝鎖C
!〜、。アルコキシ基;シアノ基;アミノ基;アシルア
ミノ基、たとえば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、
プロピオニルアミノなどの01〜櫨 アシルアミノ基;
トリハロゲノアルキル基、たとえば、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチルなどのトリハロゲノ−C1〜纏ア
ルキル基などから選ばれる1つ以上の置換基で置換され
ていてもよい。
t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプ
チルオキシ、オクチルオキシなどの直鎖または分枝鎖C
!〜、。アルコキシ基;シアノ基;アミノ基;アシルア
ミノ基、たとえば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、
プロピオニルアミノなどの01〜櫨 アシルアミノ基;
トリハロゲノアルキル基、たとえば、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチルなどのトリハロゲノ−C1〜纏ア
ルキル基などから選ばれる1つ以上の置換基で置換され
ていてもよい。
さらに、Raのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、および環状アミノ5− 基としては、該環を形成する異項原子として1つ以上の
窒素原子のほかに、さらに1つ以上の酸素原子を含んで
いてもよく、たとえば、1−ピロリジニル、ピペリジノ
、1−ピペラジニル、モルホリノなどの5肖または6員
環状アミノ基が挙げられる。上記した環状アミノ基は、
アルキル基、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、゛パ5ea
−ブチル、tert−ブチルなとの直鎖または分枝鎖C
1〜4 アルキル基;アミノ基;アミノアルキル基、た
とえば、アミノメチル、2−アミノエチル、6−アミノ
プロビルなどのアミノ−C1〜4アルキル基; ヒドロ
キシアルキル基、たとえは、ヒドロキシメチル、2−ヒ
ドロキシエチル、6−ヒドロキシプロピルなどのヒドロ
キシ−6〜櫨アルキル基;ヒドロキシル基;アルケニル
基、たとえば、ビニル、アリルなどの(゛箕〜櫨アルケ
ニル基;アシル基、たとえば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリルなどのC8〜、アシル基;アルキ
ルアミノ基、たとえば、6一 メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロピルアミノ、イ
ソプロピルアミノなどのC1〜纏 アルキルアミノ基;
ジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、メチルエチルア
ミノなどのジーC8〜 アルキルアミノ基; シアノ基
;オキソ基;アルアルキルアミノ基、たとえば、ペンシ
ルアミノ、フェネチルアミノなどのアル−C1〜4アル
キルアミノ基;アシルアミノ基、たとえば、アセチルア
ミノ、プロピオニルアミノ、 ブチリルアミノなどのc
yaアシルアミノ基;アルコキシカルボニル基、たとえ
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、 n
−7”ロボキシヵルボニル、イソプロポキシカルボニル
7、CトのC1〜纏アルコキシカルボニル基;N−7シ
ルーN−アルキルアミノ基、たとえば、上記と同様のア
ルキルアミノ基の窒素原子がアシル基、たとえば、アセ
チル、プロピオニル、ブチリルなどのC1〜−アシル基
で置換されているN−アシル−N−アルキルアミノ基な
どから選ばれる1つ以上の置換基で置換されていてもよ
い。
素原子、臭素原子、および環状アミノ5− 基としては、該環を形成する異項原子として1つ以上の
窒素原子のほかに、さらに1つ以上の酸素原子を含んで
いてもよく、たとえば、1−ピロリジニル、ピペリジノ
、1−ピペラジニル、モルホリノなどの5肖または6員
環状アミノ基が挙げられる。上記した環状アミノ基は、
アルキル基、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、゛パ5ea
−ブチル、tert−ブチルなとの直鎖または分枝鎖C
1〜4 アルキル基;アミノ基;アミノアルキル基、た
とえば、アミノメチル、2−アミノエチル、6−アミノ
プロビルなどのアミノ−C1〜4アルキル基; ヒドロ
キシアルキル基、たとえは、ヒドロキシメチル、2−ヒ
ドロキシエチル、6−ヒドロキシプロピルなどのヒドロ
キシ−6〜櫨アルキル基;ヒドロキシル基;アルケニル
基、たとえば、ビニル、アリルなどの(゛箕〜櫨アルケ
ニル基;アシル基、たとえば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリルなどのC8〜、アシル基;アルキ
ルアミノ基、たとえば、6一 メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロピルアミノ、イ
ソプロピルアミノなどのC1〜纏 アルキルアミノ基;
ジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、メチルエチルア
ミノなどのジーC8〜 アルキルアミノ基; シアノ基
;オキソ基;アルアルキルアミノ基、たとえば、ペンシ
ルアミノ、フェネチルアミノなどのアル−C1〜4アル
キルアミノ基;アシルアミノ基、たとえば、アセチルア
ミノ、プロピオニルアミノ、 ブチリルアミノなどのc
yaアシルアミノ基;アルコキシカルボニル基、たとえ
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、 n
−7”ロボキシヵルボニル、イソプロポキシカルボニル
7、CトのC1〜纏アルコキシカルボニル基;N−7シ
ルーN−アルキルアミノ基、たとえば、上記と同様のア
ルキルアミノ基の窒素原子がアシル基、たとえば、アセ
チル、プロピオニル、ブチリルなどのC1〜−アシル基
で置換されているN−アシル−N−アルキルアミノ基な
どから選ばれる1つ以上の置換基で置換されていてもよ
い。
一般式〔1〕の化合物の塩としては、通常知られている
アミノ基などの塩基性基またはカルボキシル基などの酸
性基における塩を挙げることができる。塩基性基におけ
る塩としては、たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩
;シュウ酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸
などの有機カルボン酸との堪;メメンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などのスル
ホン酸との塩を、酸性基における塩としては、たとえば
、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;カ
ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との堪
;アンモニウム塩;フロカイン、ジベンジルアミン、N
−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフエナミン
、N、N−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルア
ミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン
、 N、 N−ジメチ (ルアニリン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩を挙げ
ることができる。
アミノ基などの塩基性基またはカルボキシル基などの酸
性基における塩を挙げることができる。塩基性基におけ
る塩としては、たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩
;シュウ酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸
などの有機カルボン酸との堪;メメンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などのスル
ホン酸との塩を、酸性基における塩としては、たとえば
、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;カ
ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との堪
;アンモニウム塩;フロカイン、ジベンジルアミン、N
−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフエナミン
、N、N−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルア
ミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン
、 N、 N−ジメチ (ルアニリン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミンなどの含窒素有機塩基との塩を挙げ
ることができる。
また、一般式〔1〕の化合物およびその塩において、異
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場会、本発明は、それらすべての異性
体を包含し、またすべての結晶形および水和物におよぶ
ものである。
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場会、本発明は、それらすべての異性
体を包含し、またすべての結晶形および水和物におよぶ
ものである。
つぎに、本発明の代表的化合物についての抗菌作用およ
び急性毒性を示す。
び急性毒性を示す。
1 抗菌作用
試験方法
日本化学療法学会俳準法[CHEMOTHERAPY第
29巻第76〜79亘(1981年)〕に従い、Haa
rt Infuslon broth (栄研化学社製
)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を含むHea
rt Infuaion agar培地(栄研化学社製
)に接種し、37℃で20時間培養した後、菌の発育の
η′無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもっ
てMXC(μ$1/atj )とした。ただし、接種菌
量は10′個/゛プレー)(10’個9− /1)とした。その結果を表−1に示す。
29巻第76〜79亘(1981年)〕に従い、Haa
rt Infuslon broth (栄研化学社製
)で37℃、20時間培養した菌液を薬剤を含むHea
rt Infuaion agar培地(栄研化学社製
)に接種し、37℃で20時間培養した後、菌の発育の
η′無を観察し、菌の発育が阻止された最小濃度をもっ
てMXC(μ$1/atj )とした。ただし、接種菌
量は10′個/゛プレー)(10’個9− /1)とした。その結果を表−1に示す。
なお、表−1で使用されている記号は下記の意味を有す
る。
る。
* ペニシリネース産生菌
**セファロスボリネース産生菌
Me: メチル基 Et: エチル基
n−Pr:n−プロピル基 i Pr : イソプロピ
ル基 り′ :アリル基 〜:エチレン基11 i種酌
量が106個/紅のデータ*2 メチル基(Me )の
結合位置は、ピペラジン環の2位であるか3位であるか
不 明(ラセミ体)。
ル基 り′ :アリル基 〜:エチレン基11 i種酌
量が106個/紅のデータ*2 メチル基(Me )の
結合位置は、ピペラジン環の2位であるか3位であるか
不 明(ラセミ体)。
*32個のメチル基(Me)の結合位置は、ピペラジン
環の2位および6位である か、あるいは6位および5位であるか 不明(ラセミ体)。
環の2位および6位である か、あるいは6位および5位であるか 不明(ラセミ体)。
10−
−12−
2,急性毒性試験
前記の試験化合物1,8,18および23のマウス(I
CR系♂、体重18〜24f)静脈内投与におけるLD
sa値は200 m117/m以上であった。
CR系♂、体重18〜24f)静脈内投与におけるLD
sa値は200 m117/m以上であった。
つぎに、本発明化合物の製造法について説明する0
本発明化合物を製造する方法としては自体公知の方法が
挙げられるが、以下、代表的製造方法に13一 本発明化合物は、たとえば、つぎの製造ルートに従って
製造することができる。
挙げられるが、以下、代表的製造方法に13一 本発明化合物は、たとえば、つぎの製造ルートに従って
製造することができる。
〔1〕
↓
〔響〕
1(−
[Ia]
またはその場
↓
l−
[,1’)
またはその塩
14−
一般式C1,’:lおよびl〕の化合物の塩としては、
一般式〔1〕の化合物の塩として挙げられたものと同様
の塩が挙げられる。
一般式〔1〕の化合物の塩として挙げられたものと同様
の塩が挙げられる。
(1)一般式l〕の化合物またはその塩は、一般式〔置
〕の化合物に、N、N−ジメチルホルムアミドジメチル
アセクールまたはN、N−ジメチルホルムアミドジエチ
ルアセタールなどのアセタール類を反応させた後、弐R
’−NH!(RRは前記と同様の意味を有する。)で表
わされるアミン類を反応させることによって得られる。
〕の化合物に、N、N−ジメチルホルムアミドジメチル
アセクールまたはN、N−ジメチルホルムアミドジエチ
ルアセタールなどのアセタール類を反応させた後、弐R
’−NH!(RRは前記と同様の意味を有する。)で表
わされるアミン類を反応させることによって得られる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されないが、タトエハ、ヘンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレンクリ
コールジメチルエーテル、ジメチルセロツル15− ブなどのエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、N、 N−
ジメチルホルムアミド、N、 N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホ
キシド類などが挙げられ、これらの溶媒を2種以上混合
して使用してもよい。アセタール類の使用量は、一般式
(1)の化合物に対して等モル以上、とりわけ約1.0
〜1,6倍モルが好ましい。
媒であれば特に限定されないが、タトエハ、ヘンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレンクリ
コールジメチルエーテル、ジメチルセロツル15− ブなどのエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、N、 N−
ジメチルホルムアミド、N、 N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホ
キシド類などが挙げられ、これらの溶媒を2種以上混合
して使用してもよい。アセタール類の使用量は、一般式
(1)の化合物に対して等モル以上、とりわけ約1.0
〜1,6倍モルが好ましい。
本反応は、通常0〜100℃、好ましくは、50〜80
℃で行われ、反応時間は、通常20分〜50時間、好ま
しくは、1〜3時間である。ついで、R″−NH,のア
ミン類を反応させるには、該アミン類を一般式(Il’
3の化合物に対して等モル以上使用し、通常0〜100
℃、好ましくは、10〜60℃で、通常20分〜30時
間、好ましくは、1〜5時間反応させる。
℃で行われ、反応時間は、通常20分〜50時間、好ま
しくは、1〜3時間である。ついで、R″−NH,のア
ミン類を反応させるには、該アミン類を一般式(Il’
3の化合物に対して等モル以上使用し、通常0〜100
℃、好ましくは、10〜60℃で、通常20分〜30時
間、好ましくは、1〜5時間反応させる。
また別法として、一般式〔引〕の化合物に、無水酢酸中
、オルトギ酸エチルまたはオルトギ酸メチルを反応させ
た後、11”−NH,のアミン類を反応させて、一般式
〔閣〕の化合物またはその塩へと導くことができる。
、オルトギ酸エチルまたはオルトギ酸メチルを反応させ
た後、11”−NH,のアミン類を反応させて、一般式
〔閣〕の化合物またはその塩へと導くことができる。
(11)一般式[Ia:]の化合物またはその場は、一
般式〔誕〕の化合物またはその塩を、塩基の存在下また
は不存在下に閉環反応(好ましくは加熱下)に付すこと
によって得られる。この反応に使用される溶媒としては
、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、た
とえば、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類、ジオキサン、アニソ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジメチ
ルセロツルフナどのエーテル類、ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を
2種以上混合して使用してもよい。塩基としては、たと
えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、tart−
ブトキシカリウム、水素化すl−IJウムなどが挙げら
れ、その使用量は、一般式〔1〕の化合物またはその塩
に対して0.5〜5倍モルが好ましい。本反応は、通常
20〜160℃、好ましくは、100〜150℃で行わ
れ、反応時間は、通常5分〜30時間、好ましくは、5
分〜1時間である。
般式〔誕〕の化合物またはその塩を、塩基の存在下また
は不存在下に閉環反応(好ましくは加熱下)に付すこと
によって得られる。この反応に使用される溶媒としては
、反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、た
とえば、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類、ジオキサン、アニソ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジメチ
ルセロツルフナどのエーテル類、ジメチルスルホキシド
などのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶媒を
2種以上混合して使用してもよい。塩基としては、たと
えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、tart−
ブトキシカリウム、水素化すl−IJウムなどが挙げら
れ、その使用量は、一般式〔1〕の化合物またはその塩
に対して0.5〜5倍モルが好ましい。本反応は、通常
20〜160℃、好ましくは、100〜150℃で行わ
れ、反応時間は、通常5分〜30時間、好ましくは、5
分〜1時間である。
R”が置換されていてもよい環状アミノ基である一般式
〔1〕の化合物またはその塩は、一般式[Ia〕の化合
物またはその塩に、弐Rsb H(R”はnlと同様の
置換されていてもよい環状アミノ基を示す。)で表わさ
れるアミン類を反応させることによって得られる。
〔1〕の化合物またはその塩は、一般式[Ia〕の化合
物またはその塩に、弐Rsb H(R”はnlと同様の
置換されていてもよい環状アミノ基を示す。)で表わさ
れるアミン類を反応させることによって得られる。
この反応に使用される溶媒としては、反応に不活性な溶
媒であれば特に限定されないが、たとえば、ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類、N、 N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチレンホスホルアミドなどのアミド類、n−ブタノー
ル、イソブタノール、3−メトキシブタノールなどのア
ルコール類、ピリジン、水などの極性溶媒が挙げられ、
これらの溶媒を2種以上混合して使用してもよいが、上
記し18− た溶媒のうち、特にスルホキシド類、アミド類の使用が
好ましい。
媒であれば特に限定されないが、たとえば、ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類、N、 N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチレンホスホルアミドなどのアミド類、n−ブタノー
ル、イソブタノール、3−メトキシブタノールなどのア
ルコール類、ピリジン、水などの極性溶媒が挙げられ、
これらの溶媒を2種以上混合して使用してもよいが、上
記し18− た溶媒のうち、特にスルホキシド類、アミド類の使用が
好ましい。
環状アミン類の使用量は、一般式[Ia〕の化合物また
はその堪に対して過剰量、特に、2〜5倍モルが好まし
く、その使用量が約1〜13倍モルである場合、一般式
[Ia〕の化合物またはその塩に対して等モル量の脱酸
剤を使用するのがよい。脱酸剤としては、トリエチルア
ミン、1.8−ジアザビシクロ[s、 4. (1〕ウ
ンデセ−7−エン(DBU )、tert−ブトキシカ
リウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化す)
IJウムなどの無機または有機塩基が挙げられる。本反
応は、通常50〜150℃、好ましくは、100〜15
0℃で行われ、反応時間は、通常30分〜50時間、好
ましくは、1〜10時間である。
はその堪に対して過剰量、特に、2〜5倍モルが好まし
く、その使用量が約1〜13倍モルである場合、一般式
[Ia〕の化合物またはその塩に対して等モル量の脱酸
剤を使用するのがよい。脱酸剤としては、トリエチルア
ミン、1.8−ジアザビシクロ[s、 4. (1〕ウ
ンデセ−7−エン(DBU )、tert−ブトキシカ
リウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化す)
IJウムなどの無機または有機塩基が挙げられる。本反
応は、通常50〜150℃、好ましくは、100〜15
0℃で行われ、反応時間は、通常30分〜50時間、好
ましくは、1〜10時間である。
また、R′がカルボキシル保護基である一般式〔1〕も
しくは[Ia]の化合物またはそれらの塩は、所望に応
じて、加水分解反応において用いられる通常の酸または
アルカリの存在下19− に、通常0〜1oo℃、好ましくは、20〜100℃で
5分〜50時間、好ましくは、5分〜4時間加水分解す
ることにより、それぞれ対応する化合物の遊離カルボン
酸へ導くことができ、さらに、一般式〔1〕もしくは[
Illの化合物またはそれらの塩は、所望に応じて、自
体公知の堪形成反応またはエステル化反応に付して、そ
れぞれ対応する化合物の塩またはエステルへ導くことが
できる。
しくは[Ia]の化合物またはそれらの塩は、所望に応
じて、加水分解反応において用いられる通常の酸または
アルカリの存在下19− に、通常0〜1oo℃、好ましくは、20〜100℃で
5分〜50時間、好ましくは、5分〜4時間加水分解す
ることにより、それぞれ対応する化合物の遊離カルボン
酸へ導くことができ、さらに、一般式〔1〕もしくは[
Illの化合物またはそれらの塩は、所望に応じて、自
体公知の堪形成反応またはエステル化反応に付して、そ
れぞれ対応する化合物の塩またはエステルへ導くことが
できる。
なお、一般式[Illもしくは〔■〕の化合物またはそ
れらの塩が、反応部位以外に活性基(たとえば、ヒドロ
キシル基、アミノ基など)を有する場合、あらかじめ活
性基を常法に従って保護しておき、反応後、その保護基
を脱離してもよい。
れらの塩が、反応部位以外に活性基(たとえば、ヒドロ
キシル基、アミノ基など)を有する場合、あらかじめ活
性基を常法に従って保護しておき、反応後、その保護基
を脱離してもよい。
以上のようにして得られた化合物は、カラムクロマトグ
ラフィー、再結晶、抽出などの通常の単離精製操作に付
してもよい。
ラフィー、再結晶、抽出などの通常の単離精製操作に付
してもよい。
一般式〔1〕において、R1がハロゲンi子−cある化
合物(一般式[Illの化合物に相当する)は、R”が
置換されていてもよい環状アミノ基である化合物を得る
ための中間体としても有用である。
合物(一般式[Illの化合物に相当する)は、R”が
置換されていてもよい環状アミノ基である化合物を得る
ための中間体としても有用である。
本発明化合物を医薬として使用する場合、通常製剤化に
使用される担体を適宜用い、常法に従って、銃創、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、碩粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射刑などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状VC,応じて適宜選択することか
でき、通常成人に対しては、経口またけ非経口(たとえ
ば、注射投与、点滴、直腸部位への投与など)的投与に
より、0.1〜1o oq/に9/日を1〜数回に分割
して投与すればよい。
使用される担体を適宜用い、常法に従って、銃創、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、碩粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射刑などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状VC,応じて適宜選択することか
でき、通常成人に対しては、経口またけ非経口(たとえ
ば、注射投与、点滴、直腸部位への投与など)的投与に
より、0.1〜1o oq/に9/日を1〜数回に分割
して投与すればよい。
つぎに、本発明を参考例、実施例および製刑例を挙げて
説明する。
説明する。
なお、参考例および実施例で使用されている記号は下記
の意味を有する。 ( Me:メチル基、Et:エチル基、n−Pr:n−プロ
ピル基、i −Pr : インプロピル基、Acニアセ
チル基、タフ:アリル基、 N:エチレン基 参考例1 (1) 3. 4−ジクロロニトロベンゼン96tをジ
メチルスルホキシド160MIK溶解させ、フッ化カリ
ウム58tおよびベンゼン20ONを71[]えて、激
しく攪拌しながら、留去温度が180″Cになるまで溶
媒を留去する。
の意味を有する。 ( Me:メチル基、Et:エチル基、n−Pr:n−プロ
ピル基、i −Pr : インプロピル基、Acニアセ
チル基、タフ:アリル基、 N:エチレン基 参考例1 (1) 3. 4−ジクロロニトロベンゼン96tをジ
メチルスルホキシド160MIK溶解させ、フッ化カリ
ウム58tおよびベンゼン20ONを71[]えて、激
しく攪拌しながら、留去温度が180″Cになるまで溶
媒を留去する。
ついで、同温度で一時間反応させた後、反応液を氷1j
中に投入する。析出晶を泊取し、水2001で洗浄する
。得られた結晶をクロロホルム3001に溶解させ、水
100Mtおよび飽和食塩水100+++Zで順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去し、得られた結晶性物質をn−へキサンで洗浄
すれば、融点42〜43℃を示す6−クロロ−4−フル
オロニトロベンゼン64#を得る。
中に投入する。析出晶を泊取し、水2001で洗浄する
。得られた結晶をクロロホルム3001に溶解させ、水
100Mtおよび飽和食塩水100+++Zで順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶
媒を留去し、得られた結晶性物質をn−へキサンで洗浄
すれば、融点42〜43℃を示す6−クロロ−4−フル
オロニトロベンゼン64#を得る。
(2)水45Qau、エタノール100νおよび濃塩酸
3威に鉄61tを加えて80℃に調熱する。
3威に鉄61tを加えて80℃に調熱する。
22一
ついで、(1)で得られた3−クロロ−4−フルオロニ
トロベンゼン64?を20分を要して加える。同温度で
50分間反応させた後、室温まで冷却し、ベンゼン60
01を加えて不溶部を濾別する。有機層を分取し、水3
0ONおよび飽和食塩水200gで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、得られた結晶性物質をn−ヘキサンで洗浄すれば、融
点44〜46℃を示す6−クロロ−4−フルオロアニリ
ン44IPを得る。
トロベンゼン64?を20分を要して加える。同温度で
50分間反応させた後、室温まで冷却し、ベンゼン60
01を加えて不溶部を濾別する。有機層を分取し、水3
0ONおよび飽和食塩水200gで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、得られた結晶性物質をn−ヘキサンで洗浄すれば、融
点44〜46℃を示す6−クロロ−4−フルオロアニリ
ン44IPを得る。
+3) +2)−t’ 4 ラれた3−クロロ−4−フ
ルオロアニリン31gを6N−塩酸140 Illに加
えて、0℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム15.9#を水
471に溶解させた水溶液を、同温度で20分を要して
滴下する。滴下終了後、同温度で30分間反応させた後
、反応液を、あらかじめ詞製し、0℃に冷却した20%
塩化第一銅水浴液170dに0〜101Cで10分を要
して滴下する。滴下終了後、同温度で1時間反応させた
後、室温まで1時間を要して昇温させ、さらに、40℃
で26− 20分間反応させた後、室温まで冷却し、ベンゼン15
3 mlを加える。有機層を分取し、水100#I7お
よび飽和食塩水100Nで順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物を減圧蒸留すtば、鴻点55〜57℃/16朋
Hfを示す2゜4−ジクロロフルオロベンゼンs1gを
?sる。
ルオロアニリン31gを6N−塩酸140 Illに加
えて、0℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム15.9#を水
471に溶解させた水溶液を、同温度で20分を要して
滴下する。滴下終了後、同温度で30分間反応させた後
、反応液を、あらかじめ詞製し、0℃に冷却した20%
塩化第一銅水浴液170dに0〜101Cで10分を要
して滴下する。滴下終了後、同温度で1時間反応させた
後、室温まで1時間を要して昇温させ、さらに、40℃
で26− 20分間反応させた後、室温まで冷却し、ベンゼン15
3 mlを加える。有機層を分取し、水100#I7お
よび飽和食塩水100Nで順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物を減圧蒸留すtば、鴻点55〜57℃/16朋
Hfを示す2゜4−ジクロロフルオロベンゼンs1gを
?sる。
(4) f3) テ4 ラれた2、4−ジクロロフルオ
ロベンゼン30tを50〜60℃に加熱し、これに鉄2
tおよび臭素32gを3回に分割して3時間を要して塀
える。同温度で1時間反応させた後、反応液を室温まで
冷却し、クロロホルム200〜!で抽出する。有機層を
水200dおよび5係曲硫酸ナトリウム水浴液100a
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
ロベンゼン30tを50〜60℃に加熱し、これに鉄2
tおよび臭素32gを3回に分割して3時間を要して塀
える。同温度で1時間反応させた後、反応液を室温まで
冷却し、クロロホルム200〜!で抽出する。有機層を
水200dおよび5係曲硫酸ナトリウム水浴液100a
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物質をエタノー
ル301および水7.5mlの混合@媒を用いて再結晶
すれば、融点66〜68℃を示す5−ブロモ−2,4−
ジクロロフルオロベンゼン309を得る。
ル301および水7.5mlの混合@媒を用いて再結晶
すれば、融点66〜68℃を示す5−ブロモ−2,4−
ジクロロフルオロベンゼン309を得る。
(5) マグネシウム5.4tを無水テトラヒドロフラ
ン50Ktに加え、これに臭化エチルISMPを無水テ
トラヒドロフラン501に溶解させた溶液の5分の1量
を添加する。反応開始を確昭した後、残りの臭化エチル
のテトラヒドロ7ラン浴液を10分を要して滴下する。
ン50Ktに加え、これに臭化エチルISMPを無水テ
トラヒドロフラン501に溶解させた溶液の5分の1量
を添加する。反応開始を確昭した後、残りの臭化エチル
のテトラヒドロ7ラン浴液を10分を要して滴下する。
(このとき、反応温度は約70℃に上昇する。)
ついで、(4)で得られた5−ブロモ−2,4−ジクロ
ロフルオロベンゼン271?を無水テトラヒドロフラン
100 mlに溶解させた酸液を70℃で30分を要し
て滴下する。滴下終了後、さらに30分間還流させ、つ
いで、反応液を一20’Cに冷却して、乾燥炭酸ガスを
20分間導入した後、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残渣ICクロロホルム100 mlおよび水100Mを
加え、6N−塩酸でpH1に調整する。有機層を分取し
、水501および飽和食塩水50jljで順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶性物質をn−ヘキサンで洗浄すれ
ば、融点145〜145、5℃を示す2,4−ジクロロ
−5−フルオロ安、い、香酸185gを得る。
ロフルオロベンゼン271?を無水テトラヒドロフラン
100 mlに溶解させた酸液を70℃で30分を要し
て滴下する。滴下終了後、さらに30分間還流させ、つ
いで、反応液を一20’Cに冷却して、乾燥炭酸ガスを
20分間導入した後、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残渣ICクロロホルム100 mlおよび水100Mを
加え、6N−塩酸でpH1に調整する。有機層を分取し
、水501および飽和食塩水50jljで順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶性物質をn−ヘキサンで洗浄すれ
ば、融点145〜145、5℃を示す2,4−ジクロロ
−5−フルオロ安、い、香酸185gを得る。
f6) (5)で得られた2、4−ジクロロ−5−フル
オロ安、い、香酸185tをクロロホルム185μに溶
解させ、塩化チオニル21tおよびN、N −ジメチル
ホルムアミド01tを加えて、70℃で2時間反応させ
る。減圧下に溶媒および過剰の塩化チオニルを留去し、
得られた残留物をテトラヒドロフラン21 wlVc溶
解させる。マグネシウム2.35 #を用いて調製した
エトキシマグネシウムマロン酸ジエチル22Itをテト
ラヒドロフラン100m1に溶解させ、−40〜−30
℃に冷却する。この浴液に先に調製した2、4−ジクロ
ロ−5−フルオロ安、響、香酸クロリドのテトラヒドロ
7ランm液を、同温度で60分を要して滴下する。この
混合溶液を同温度で1時間攪拌した後、徐々に室温まで
昇温させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣にク
ロロホルム200dおよび水1001を加え、6N−塩
酸でpH1に調整する。有機層を分取し、水26− 501.5%炭酸水素す) IJウム水浴VC’j 5
o atおよび飽和食塩水501で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、得られた油状物に水501およびp−)ルエンスルホ
ン酸0.15 Ifを加えて、激しく攪拌しながら、1
00℃で2時間反応させり後、クロロホルム100Il
tで抽出する。有機層を飽和食塩水501で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去
すれば、融点44〜45℃を示す2.4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル酢酸エチルエステル20fを得る
。
オロ安、い、香酸185tをクロロホルム185μに溶
解させ、塩化チオニル21tおよびN、N −ジメチル
ホルムアミド01tを加えて、70℃で2時間反応させ
る。減圧下に溶媒および過剰の塩化チオニルを留去し、
得られた残留物をテトラヒドロフラン21 wlVc溶
解させる。マグネシウム2.35 #を用いて調製した
エトキシマグネシウムマロン酸ジエチル22Itをテト
ラヒドロフラン100m1に溶解させ、−40〜−30
℃に冷却する。この浴液に先に調製した2、4−ジクロ
ロ−5−フルオロ安、響、香酸クロリドのテトラヒドロ
7ランm液を、同温度で60分を要して滴下する。この
混合溶液を同温度で1時間攪拌した後、徐々に室温まで
昇温させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣にク
ロロホルム200dおよび水1001を加え、6N−塩
酸でpH1に調整する。有機層を分取し、水26− 501.5%炭酸水素す) IJウム水浴VC’j 5
o atおよび飽和食塩水501で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、得られた油状物に水501およびp−)ルエンスルホ
ン酸0.15 Ifを加えて、激しく攪拌しながら、1
00℃で2時間反応させり後、クロロホルム100Il
tで抽出する。有機層を飽和食塩水501で洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去
すれば、融点44〜45℃を示す2.4−ジクロロ−5
−フルオロベンゾイル酢酸エチルエステル20fを得る
。
実施例1
(]]j2.4−ジクロロー5−フルオロベンゾイル酢
酸エチルエステル5Ofをベンゼン501に溶解させ、
N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセクール2.
511tを加えて、70℃で2時間反[6させた後、減
圧下に浴謀を留去する。
酸エチルエステル5Ofをベンゼン501に溶解させ、
N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセクール2.
511tを加えて、70℃で2時間反[6させた後、減
圧下に浴謀を留去する。
得られた残留物を再度ベンゼン51]+Jに溶解さ27
一 せ、p−メトキシアニリン2.4tを加えて室温で3時
間反応させる。減圧下に済媒を情夫し、得ら7した残留
物を刀うムクロマトグラフィーC和元シリガゲルc−2
00;溶離i11、クロロホルム)により精製すれば、
融点92〜95℃ヲ示f 2− (2,4−シクロロー
5−フルオロベンゾイル)−3−(4−メトキシフェニ
ルアミノ)アクリル酸エチルエステル7、 OIIを得
る。
一 せ、p−メトキシアニリン2.4tを加えて室温で3時
間反応させる。減圧下に済媒を情夫し、得ら7した残留
物を刀うムクロマトグラフィーC和元シリガゲルc−2
00;溶離i11、クロロホルム)により精製すれば、
融点92〜95℃ヲ示f 2− (2,4−シクロロー
5−フルオロベンゾイル)−3−(4−メトキシフェニ
ルアミノ)アクリル酸エチルエステル7、 OIIを得
る。
−1、ν
IR(KBr) cm 、C=0 170ONMR(C
DCIs ) δ値; 1.05(3H,t、 J=7Hz )。
DCIs ) δ値; 1.05(3H,t、 J=7Hz )。
3.79 (5H,s )。
4.04(2H,q、 J=71Lz )。
6.88 (2H,d、 J=9Hz )。
7、19 (2H,d、 J=9Hz )。
6.74〜7.47 (2H,m )。
8.55(II(、d、 J=14Hz )。
12.77(IH,d、 J=14Hz)28−
(21(1)で得られた2−(2,4−ジクロロ−5−
フルオロベンゾイル)−3−(4−メl−キシフェニル
アミノ)アクリル酸エチルエステル70tをN、N−ジ
メチルホルムアミド210dK溶解させ、無水炭酸カリ
ウム9.4 fを加えて、還流下に5分間反応させた後
、不溶物をP別する。
フルオロベンゾイル)−3−(4−メl−キシフェニル
アミノ)アクリル酸エチルエステル70tをN、N−ジ
メチルホルムアミド210dK溶解させ、無水炭酸カリ
ウム9.4 fを加えて、還流下に5分間反応させた後
、不溶物をP別する。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に水100Rt
をp口え、クロロホルム100dでm1flする。有機
層を飽和食塩水50#lで洗浄し、熱水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下VC溶媒を留去し、得られた残留
物をジイソプロピルエーテル′501で処理すれば、融
点252〜255℃を示す7−クロロ−6−フルオロ−
1j 4−ジヒドロ−1−n−メトキシフェニル)−4
−オキソ−5−キノリンカルボン酸エチルエステル4.
5rを得る。
をp口え、クロロホルム100dでm1flする。有機
層を飽和食塩水50#lで洗浄し、熱水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下VC溶媒を留去し、得られた残留
物をジイソプロピルエーテル′501で処理すれば、融
点252〜255℃を示す7−クロロ−6−フルオロ−
1j 4−ジヒドロ−1−n−メトキシフェニル)−4
−オキソ−5−キノリンカルボン酸エチルエステル4.
5rを得る。
IR(KBr) 2−’ ; ′C=0 1755.1
695NMII(CDCIm ) δ値; 1.40(5H,t、 J=7Hz )、−4,03(
3H,a )。
695NMII(CDCIm ) δ値; 1.40(5H,t、 J=7Hz )、−4,03(
3H,a )。
30−
4.42(2H,q、J=7Hz )。
7、17 (I H,d、J=6Hy、 )。
7.25(2H,’d、J=9Hz)。
7.56 (2H,d、J=9Hz )。
8.25 (I T(、d、J=9Hz )。
8.56(IH,s)
31−
f3) (2)で得られた7−クロロ−6−フルオロ−
1゜4−ジヒドロ−1−(4−メトキシフェニル)−4
−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエステル45
tに、10%炭酸ナトリウム水溶液451およびエタノ
ール45111tを加え、還流下に15時間反応させた
後、反応*VC水5Qmおよびクロロホルム1oowt
を加え、6IQ−塩酸でpH2に調整する。
1゜4−ジヒドロ−1−(4−メトキシフェニル)−4
−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエステル45
tに、10%炭酸ナトリウム水溶液451およびエタノ
ール45111tを加え、還流下に15時間反応させた
後、反応*VC水5Qmおよびクロロホルム1oowt
を加え、6IQ−塩酸でpH2に調整する。
有機層を分取し、水50Mtおよび飽和食塩水50紅で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に爵媒を留去し、得られた残留物をジエチルエーテ
ル301で処理すれば、融点244〜247℃を示す7
−クロロ−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−(4
−メトキシフェニル)−4−オキソ−6−キラリンカル
ボン酸4.Ofを得る。
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧下に爵媒を留去し、得られた残留物をジエチルエーテ
ル301で処理すれば、融点244〜247℃を示す7
−クロロ−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−(4
−メトキシフェニル)−4−オキソ−6−キラリンカル
ボン酸4.Ofを得る。
−1、ν
IR(KBr)CIR,C=0 1725NMR(TF
A−d+ ) δ値: 4.00 (3H,a )。
A−d+ ) δ値: 4.00 (3H,a )。
7.21 (2H,d、 J=9Hz )。
7.44 (2H,d、J=9Hz )。
7.67 (I H,d、J=6Hz )。
8.30(IH,d、J=8Hz)。
9.21(IH,++)
同様にして、表−4に示す化合物を得る。
(4) (3)で得られた7−クロロ−6−フルオロ−
1゜4−ジヒドロ−1−(4−メトキシフェニル)−4
−オキソ−6−キノリンカルボン酸0451tおよびN
−メチルビペラジン0.511fを、ジメチルスルホキ
シド2.7 #It [加え、135〜140℃で2時
間反応させた後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物に水2.0Iulを加え、クロロホルム20m1で抽
出する。有機層を水101および飽和食塩水10νで順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下に溶媒を留去し、得られた沙留物をカラムクロマトグ
ラフィー〔和光シリカゲルC−200;g離51Lクロ
ロホルム:エタノール−!10:1(容量比)〕により
精製す扛ば、融点241〜244’Cを示f6−フルオ
ロー1.4−ジヒドロ−1−(4−メトキシフェニル)
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−、オキ
ソ−6−キノリンカルボン酸025tを得る。
1゜4−ジヒドロ−1−(4−メトキシフェニル)−4
−オキソ−6−キノリンカルボン酸0451tおよびN
−メチルビペラジン0.511fを、ジメチルスルホキ
シド2.7 #It [加え、135〜140℃で2時
間反応させた後、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物に水2.0Iulを加え、クロロホルム20m1で抽
出する。有機層を水101および飽和食塩水10νで順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下に溶媒を留去し、得られた沙留物をカラムクロマトグ
ラフィー〔和光シリカゲルC−200;g離51Lクロ
ロホルム:エタノール−!10:1(容量比)〕により
精製す扛ば、融点241〜244’Cを示f6−フルオ
ロー1.4−ジヒドロ−1−(4−メトキシフェニル)
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−、オキ
ソ−6−キノリンカルボン酸025tを得る。
In(Kar)備 、C=0 1730.170ONM
R(CDCI聰)δ値; 2.50 (5H,s )。
R(CDCI聰)δ値; 2.50 (5H,s )。
2.35〜7.75 (4H,m )。
2.99〜3.35 (4H,m ’)。
4.02(3H,s)。
6.53(IH,d、J=8Hz )。
7.24(2H,d、 J=9Hz )。
7.53(2H,d、 J =9)Iz ’)18.1
1 (IH,、d、 、y=i 3Hz )。
1 (IH,、d、 、y=i 3Hz )。
8.67(IH,s)
特開昭GO−237069(15)
4J″′
1へ
− セ (
ぐ
4 弓
(5) f41で得られた6−フルオロ−1,4−ジヒ
ドロ−1−(4−メトキシフェニル)−7−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリンカ
ルボン酸02tを47%臭化水素酸7a+7[溶解させ
、還流下[1時間反応させた後1反応酸を10%水酸化
す) IJウム水浴液でpH12に調整する。ついで、
酢酸でpH6に調整し、析出具を1取すれば、融点28
0℃以上を示す6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−
(4−ヒドロキシフェニル)−7−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
0.15#を4る。
ドロ−1−(4−メトキシフェニル)−7−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリンカ
ルボン酸02tを47%臭化水素酸7a+7[溶解させ
、還流下[1時間反応させた後1反応酸を10%水酸化
す) IJウム水浴液でpH12に調整する。ついで、
酢酸でpH6に調整し、析出具を1取すれば、融点28
0℃以上を示す6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−
(4−ヒドロキシフェニル)−7−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸
0.15#を4る。
IR(KBr) CIl 、C=0 172ONMR(
TFA、−ax )δ値; 5.21 (3H,s )。
TFA、−ax )δ値; 5.21 (3H,s )。
323〜4.38 (8H,m )。
7、02 (I H,d、 J=7H* )。
7.26〜77B(4H,m)。
8.50 (I H,d、 J= 14Hz )。
9.39(IH,s)
同様にして、表−6に示す化合物を得る。
4l−
C(IA −
実施例2
l−(4−アセトアミノフェニル)−(S−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸0.29を
1N−水酸化ナトリウム水溶g4νVC浴解させ、還流
下に3時間反応させた後、反GWに水6#lを加える。
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸0.29を
1N−水酸化ナトリウム水溶g4νVC浴解させ、還流
下に3時間反応させた後、反GWに水6#lを加える。
ついで、酢酸でpH5,5&C調整し、析出晶を戸数す
れば、融点251〜254℃を示す1−C4−アミノフ
ェニル)−6−フルオロ−1,4−シヒ)”。
れば、融点251〜254℃を示す1−C4−アミノフ
ェニル)−6−フルオロ−1,4−シヒ)”。
−7−(4−メチル−1−ピペラジニル)−4−オキソ
−6−キノリンカルボン酸の酊#塩0.1j’を得る。
−6−キノリンカルボン酸の酊#塩0.1j’を得る。
IR(KBr) CI+’ ; vC=0 1715N
MR(TFA−d+ ’) δ値; 2.29(3I(、s )。
MR(TFA−d+ ’) δ値; 2.29(3I(、s )。
3.16(3H,s)。
3.02〜4.42 (8H,m )。
6.74 (I H,d、 J=7Hv、 )。
7.80(2H,d、 J=9H* )。
8.12(2H,d、J=9Hz)。
8.33 (I H,d、 J=12H7,)。
9.15(IH,s )
実施例3
7−(4−アセチル−1−ピペラジニル)−6−フルオ
ロ−1−(2−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−
1,4−ジヒドo−4−オキソー3−キノリンカルボン
酸0.15fに6N−i酸31を亦え、還流下に15時
間反晒させた後、反応液を10%水酸化す) IJウム
水溶液でpH12に調整する。ついで、酢酸でpH7,
0に調整し、析出晶をr取すれば、融点270〜273
℃を示す6−フルオロ−1−(2−)/l/lニオ4−
ヒドロキシフェニル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−7−(1−ピペラジニル)−3−キノリンカルボン酸
o111を得る。
ロ−1−(2−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−
1,4−ジヒドo−4−オキソー3−キノリンカルボン
酸0.15fに6N−i酸31を亦え、還流下に15時
間反晒させた後、反応液を10%水酸化す) IJウム
水溶液でpH12に調整する。ついで、酢酸でpH7,
0に調整し、析出晶をr取すれば、融点270〜273
℃を示す6−フルオロ−1−(2−)/l/lニオ4−
ヒドロキシフェニル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−7−(1−ピペラジニル)−3−キノリンカルボン酸
o111を得る。
IR(KBr) cm 、C=o 172 ONMB
(TFA d+ ) δ値; 542〜4.02(8H,m)。
(TFA d+ ) δ値; 542〜4.02(8H,m)。
6.64〜7.66 (4H,m )。
8.26(IH,d、J=12)rz )。
9.09(IH,s)
実施例4
6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−1−(4−ヒドロキ
シフェニル)−4−オキシー7−(1−ビペラジニル)
−3−キノリンカルボン酸025fを濃塩酸1#IAK
溶解させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得らtた
残留物をエタノール1Qll/で処理すれば、融点26
3〜265℃f示T6−フルオロ−1,4−シヒ)−o
−1−(4−ヒドロキシフェニル)−4−オキソ−7−
(1−ピペラジニル)−6−キノリンカルボン酸の塩酸
塩023tを得る。
シフェニル)−4−オキシー7−(1−ビペラジニル)
−3−キノリンカルボン酸025fを濃塩酸1#IAK
溶解させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得らtた
残留物をエタノール1Qll/で処理すれば、融点26
3〜265℃f示T6−フルオロ−1,4−シヒ)−o
−1−(4−ヒドロキシフェニル)−4−オキソ−7−
(1−ピペラジニル)−6−キノリンカルボン酸の塩酸
塩023tを得る。
−1、ν
IR(KBr) cm 、C=0 1710同様にして
、表−7に示す化合物を得る。
、表−7に示す化合物を得る。
−45=
特開昭GO−237069(19)
実施例5
7−[3−(N−アセチルアミノ)−1−ピロリジニル
〕−6−フルオロ−1−(2,4−ジフルオロフェニル
)−1,a−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカル
ボン酸0.09 、?を10%水酸化ナトリウム水溶液
2猷に俗解させ、還流下に2時間反応させる。ついで、
反応液を酢酸でpH6,5に調整し、析出品をP取すれ
ば、融点280℃以上を示す7−(3−アミノ−1−ピ
ロリジニル)−6−フルオロ−1−(2,4−ジフルオ
ロフェニル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−6−キ
ノリンカルボン酸0.06 gを得る。
〕−6−フルオロ−1−(2,4−ジフルオロフェニル
)−1,a−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカル
ボン酸0.09 、?を10%水酸化ナトリウム水溶液
2猷に俗解させ、還流下に2時間反応させる。ついで、
反応液を酢酸でpH6,5に調整し、析出品をP取すれ
ば、融点280℃以上を示す7−(3−アミノ−1−ピ
ロリジニル)−6−フルオロ−1−(2,4−ジフルオ
ロフェニル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−6−キ
ノリンカルボン酸0.06 gを得る。
−1、ν
IR(KBr) 、3 、C=0 1720同様にして
、表−8に示す化合物を得る。
、表−8に示す化合物を得る。
表−8
製剤例1
6−フルオロ−1−(2,4−ジフルオロフェニル)−
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキシー3−キノリンカルボン酸501%結
晶セルローズ49f。
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキシー3−キノリンカルボン酸501%結
晶セルローズ49f。
コーンスターチ502およびマグネシウムステアレー)
1fを混合し、フラット塑錠剤1000錠に打錠して錠
剤を得る。
1fを混合し、フラット塑錠剤1000錠に打錠して錠
剤を得る。
製剤例2
6−フルオロ−1−(2,4−ジフルオロ)二ニル)−
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキ:/−5−キyリン刀ルポン酸10(J
lおよびコーンスターチ50tを混合し、1000カプ
セルに光填してカプセル削を得る。
1,4−ジヒドロ−7−(4−メチル−1−ピペラジニ
ル)−4−オキ:/−5−キyリン刀ルポン酸10(J
lおよびコーンスターチ50tを混合し、1000カプ
セルに光填してカプセル削を得る。
特許出願人
富山化学工業株式会社
49−
第1頁の続き
■Int、Cj’ 識別記号 庁内整理番号[株]1発
明 者 南 新 三 部 冨山市中田167の1発
明 者 才 川 勇 冨山市大泉中町−52 手続補正書 昭和60年6月17日 特許庁長官殿 t 事件の表示 昭和59年特許願第77493号 2発明の名称 1.4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびそ
の塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤 五補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所〒160東京都新宿区西新宿三丁目2番5号4、補
正命令の日付 自発(審査請求と同時) 5 補正の対象 (1)願書の「発明の名称」の欄 (2)明細書の1発明の名称」の欄 (3)明細書の「特許請求の範囲」の欄6、補正の内容 〔I〕願書の「発明の名称」の欄の補正「1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩」の記載
を[1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およ
びその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗
菌剤]と訂正する。
明 者 南 新 三 部 冨山市中田167の1発
明 者 才 川 勇 冨山市大泉中町−52 手続補正書 昭和60年6月17日 特許庁長官殿 t 事件の表示 昭和59年特許願第77493号 2発明の名称 1.4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびそ
の塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤 五補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所〒160東京都新宿区西新宿三丁目2番5号4、補
正命令の日付 自発(審査請求と同時) 5 補正の対象 (1)願書の「発明の名称」の欄 (2)明細書の1発明の名称」の欄 (3)明細書の「特許請求の範囲」の欄6、補正の内容 〔I〕願書の「発明の名称」の欄の補正「1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩」の記載
を[1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およ
びその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗
菌剤]と訂正する。
El)明細書の「発明の名称」の欄の補正「1,4−ジ
ヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩」の記
載を「1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体お
よびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する
抗菌剤」と訂正する。
ヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩」の記
載を「1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体お
よびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する
抗菌剤」と訂正する。
(1)明細書の「特許請求の範囲」の欄の補正別紙の通
り 以 上 2 − 別 紙 「2、特許請求の範囲 (1)一般式 で表わされる1、4−ジヒドロ−4−4−17キノリン
誘導体およびその塩。
り 以 上 2 − 別 紙 「2、特許請求の範囲 (1)一般式 で表わされる1、4−ジヒドロ−4−4−17キノリン
誘導体およびその塩。
請求の範囲第(])項記載の1,4−ジヒドロ−4−オ
キソキノリン誘導体およびその塩。
キソキノリン誘導体およびその塩。
で表わされる化合物またはその塩を、塩基の存在下また
は不存在下に閉環反応に付した後、所望に応じて、一般
式 %式% で表わされるアミン類を反応させることを特徴とする一
般式、 で表わされる1、4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘
導体またはその塩の製造法。
は不存在下に閉環反応に付した後、所望に応じて、一般
式 %式% で表わされるアミン類を反応させることを特徴とする一
般式、 で表わされる1、4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘
導体またはその塩の製造法。
(4)一般式
で表わされる1、4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘
導体ま九はその塩を含有する抗菌剤。
導体ま九はその塩を含有する抗菌剤。
」
= 3−
Claims (2)
- (1)一般式 で表わされる1、4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘
導体および七の塩。 - (2)R”が置換されていてもよいツーニル基である%
許請求の範囲第(1)項記載の1.4−ジヒドロ−4−
オキソキノリン誘導体およびその塩。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59077493A JPS60237069A (ja) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | 1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤 |
CN 85103150 CN1011310B (zh) | 1984-04-19 | 1985-04-26 | 生产1,4-二氢-4-氧-1,8-二氮杂萘衍生物的生产方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59077493A JPS60237069A (ja) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | 1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60237069A true JPS60237069A (ja) | 1985-11-25 |
JPH0372222B2 JPH0372222B2 (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=13635508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59077493A Granted JPS60237069A (ja) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | 1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン誘導体およびその塩、それらの製造法ならびにそれらを含有する抗菌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60237069A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995005373A1 (en) * | 1993-08-13 | 1995-02-23 | Dong Wha Pharmaceutical Industrial Co., Ltd. | Novel quinolone carboxylic acid derivatives |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6446512A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-21 | Toshiba Corp | Coupling type pulse combustion apparatus |
-
1984
- 1984-04-19 JP JP59077493A patent/JPS60237069A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6446512A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-21 | Toshiba Corp | Coupling type pulse combustion apparatus |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995005373A1 (en) * | 1993-08-13 | 1995-02-23 | Dong Wha Pharmaceutical Industrial Co., Ltd. | Novel quinolone carboxylic acid derivatives |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0372222B2 (ja) | 1991-11-18 |
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