JPS60233508A - 寸法測定装置 - Google Patents

寸法測定装置

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JPS60233508A
JPS60233508A JP8845584A JP8845584A JPS60233508A JP S60233508 A JPS60233508 A JP S60233508A JP 8845584 A JP8845584 A JP 8845584A JP 8845584 A JP8845584 A JP 8845584A JP S60233508 A JPS60233508 A JP S60233508A
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山地 廣
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、たとえば半導体ウェハ上に形成された微小パ
ターンの寸法を自動的に測定する寸法測定装置に関する
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来、半導体ウェハのパターン幅を測定する方法として
、光学顕微鏡を用いた測微計、工業用テレビジョン(I
TV)カメラと光学顕微鏡を組合わせた電子式測定機、
レーザ反射光と精密移動ステージを組合わせた測定機等
の光学的に像を拡大したシ、ビーム径を細くして分解能
を向上させた測定法かはとんどであった。さらK、走査
派電子顕微鏡を用いて得られた拡大画像にスケールをあ
ててその時の倍率から換算して寸法測定するか、あるい
は画像を複数の画素に分解して、画儂上にカーソルを発
生させ、測定者がパターンエツジ部にカ−ソルを合わせ
て、カーソル間の画素数と倍率とから寸法を得る方法が
あった。しかるに、近時、LSI及び超LSIの高集積
化に伴い、パターンの微細化、高精度化が進んでいて、
これに対応してパターン幅測定機も0.1μm以下の分
解能を必要とするようになっている。
しかし、従来の光学的手段では倍率的に制限があシ、そ
の分解能も波長の1/4穆度であjo 、 0.1μm
以下の分解能を得ることは不可能である。また、レーザ
反射光によりエツジを検出する測定法ではパターンの断
面形状が変われば(レジストとエツチング後の形状の違
い等)、その測定結果にばらつきが生じ、高精度の測定
ができない。さらに、走査型電子顕微鏡を用いた方法で
は、倍率の調整が不十分であったシ、スケールで測定す
る場合には読取シ誤差が、また、カーソルをパターンエ
ツジに合わせる場合も測定者による合わせ方のばらつき
が生じ、高精度の測定が困難となっていた。
〔発明の目的〕
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので、走査型
電子顕微鏡(以下、S EM (8canning E
lectronMicroscope)と呼ぶ。)を用
いて、たとえば半導体ウェハ上に形成された微小パター
ンの寸法を自動的かつ高精度で測定することのできる寸
法測定装置を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
8GM本体部に寸法測定部を電気的に接続し、まず、8
GM本体部からの画像信号が最適な信号レベルになる様
に増幅率が自動設定され、さらに上記寸法測定部にて8
GM本体部から出方された寸法:測定されるパターンを
示す画像信号に基づいて上記パターンの輪郭を示す縁部
を決定するとともに、求められた複数の縁部間の距離を
倍率に応じて自動的に算出するようにしたものである。
〔発明の実施例〕
以、下、本発明を図面を参照して、実施例に基づいて詳
述する。
第1図は、本実施例の寸法測定装置の構成図である。こ
の寸法測定装置は、走査型電子顕微鏡(8cannin
g plectron Mjcroscope;以下、
たんに8GMと略記する。)本体部(1)と、この8G
M本体部(1)によシ捕捉された特定部分の寸法を測定
する寸法測定部(2)と、画像信号レベルの自動調整を
行う画像信号調整部(2a)とからなっている。上記本
体部(1)は、図示せぬ電源によシミ子を放出する電子
銃(3)と、この電子銃(3)から放出された電子線束
(4)を縮小するコンデンサ・レンズ(5)・・・と、
基準となるクロック信号Paを出力する基準信号発生部
(6)と、この基準信号発生部(6)から出力されたク
ロック信号PSに基づいて電子線束(4)をラスク走査
させるための掃引信号SSを発生させる掃引信号発生部
(7)と、図示せぬ倍率切換スイッチの設定によシ上記
掃引信号発生部(7)から出力された掃引信号SSと組
合わせて後述する走査コイル部(8)に制御信号C81
を出力する倍率切換部(9)と、上記制御信号C81に
基づいて電子線束(4)の走査方向及び幅を制御する走
査コイル部(8)と、さらに電子線束(4)を縮小し測
定試料(11)上に電子線束(4)を照射する対物レン
ズell)と、測定試料(11から放出される二次電子
を集捉する二次電子検出器αりと、この二次電子検出器
(Iりからの信号を増幅する増幅部α罎と、この増幅部
員から出力された画像信号I8と掃引信号発生部(7)
から出力された掃引信号SSによシ後述するC RT 
(Cathode Ray Tube) (4に画像を
表示させるための画像信号増幅器(1Gと、図示せぬ載
置台上に保持された測定試料Qlの特定部位の拡大画像
を表示するCRT(14)とから構成されている。一方
、上記寸法測定部(2)は、基準信号発生部(6)から
のクロック信号P8及び掃引信号発生部(7)からの掃
引信号SSに基づいて後述するCPU(Central
 ProcessingUn目;中央処理装置)部αe
から出力された制御信号C82により上記画像信号I8
を複数の画素(512X 512)に分割して画像信号
Isのレベル(電圧値)をアナログ−ディジタル変換す
るアナログ−ディジタル(A/D )変換部(17)と
、上記画素ごとにA/D変換された画像信号DI8をア
ドレス化してそれらのレベル(電圧値)を記憶する画像
信号記憶部allと、CRT(14)K複数のカーソル
を発生させ発生位置をCRTQ4)上で任意の位置に動
かすことができるカーソル設定部(Ilと、上記CRT
(14)Kおけるカーソルの位置を読み取シアドレス化
された画像信号ISに対応したアドレスに変換して出力
するカーソル位置読取部(イ)と、カーソルのアドレス
を読み取シ2本のカーソル間の画像信号DI8を画像信
号記憶部−よシ読み出し後述する各種画像処理を行う演
算機能と記憶機能を有するCPU部翰と、このCPU部
(11における演算結果をディジタル−アナログ(D/
A )変換してCRT(I、jに表示させるD/A変換
部Qηとから構成されているうさらに、画像信号調整部
(2a)は、入力側がCPU部(IIK接続さ畦出力側
が掃引信号発生部(力に接続された電子線束走査制御部
(社)と、入力側がCPU1(11及び増幅部a3の出
力側に接続され画像信号Isの最大値と最小値を検出し
て保持するピーク検出部(ハ)と、このピーク検出部(
2)の出力側に接続され画像信号工Sの最大値と最小値
との差がA/D変換部aηの許容電圧範囲とはぼ等しく
なるように増幅部0の増幅率を最適な状態に設定する信
0号を増幅部α罎に出力する増幅率設定部(2)とから
構成されている。
つぎK、上記のように構成された寸法測定装置の作動に
ついて詳述する。
まず、SEM本体部(1)の載置台に例えばL8I等の
パターンが形成された半導体ウエノ・などの測定試料α
1を載置する。しかして、電子銃(3)から放出された
電子線束(4)は、コンデンサ・レンズ(5)・・・に
より縮小され、倍率切換部(9)から出力された制御信
号C81によシ走査コイル部(8)にてX−Y方向にラ
スタ走査を行い、対物レンズ(1)でさらに縮小して測
定試料α1上に照射される。すると、測定試料四面から
は、二次電子が放出される。この二次電子は、二次電子
検出器aX6によυ集捉され電気信号に変換される。こ
の二次電子検出器0邊から出力された電気信号は増幅器
a3にて増幅され、画像信号ISとして画像信号増幅器
α9に出力される。この画像信号増幅器−にては、掃引
信号発生部(力から出力された掃引信号SSと上記画像
信号Isとを組合わせてCRT(14)に画像として表
示させる。一方、画像信号I8は、A/D変換部aηに
てCPU部αeから出力された制御信号082に基づい
てA/D変換され第2図に示すように、ラスタ走査(第
2図矢印A方向)及び走査線分割(第2図矢印B方向)
によシ、512X512個の画素に分割されて、それぞ
れのアドレスにおけるA/D変換された画像信号1)I
8をI8(重、j)(ただし、0≦i、j≦511)と
アドレス化する。しかして、画像信号調整部錦にては、
これらアドレスl8(i、j)ごとに画像信号DI8が
記憶される。つぎに、上記した動作で得られたCRT(
[4上のパターンPに対して、このパターンPの幅りを
めるためにカーソル設定部a傷を操作して画像信号増幅
器αりにカーソル発生信号に8を出力し、2本のカーフ
n、 (22a) 、 (22b)をパターyPを挾む
ような位置に移動させる(第3図(a)参照)。その際
、カーソル(22a ) 、 (Zi!b )の幅W及
び長さLはカーソル設定部α優にて調節できる。さらに
、CPU部αeにては、カーソル設定部(11からカー
ソル位置読取部翰を介して出力されたカーソル発生信号
に8に基づイテ、ci’t、’ra4上におけるカーフ
 /l/ (z2a)。
(22b)の位置をアドレス化された信号l5(i、j
)(0≦i≦511 、 O≦j≦511)に変換する
。つぎに1CPU部αeからは、第3図(a)の線分M
位置のアドレスを示す信号C83が電子線走査制御部(
2)に出力される。すると、この電子線走査制御部(2
)からは、線分Mに沿ってのみ電子線を走査させるため
の制御信号C84が掃引信号発生部(7)に出力される
。その結果、電子線束(4)が、走査コイル部(8)に
よシ測定試料顛上の線分Mに沿ってのみ走査される。そ
の結果、第3図(b)に示すような画像信号I8がピー
ク検出部(ハ)に出力される。このときピーク検出部(
ハ)には信号C85がcpw部Qflから出力され作動
状態になっている。このピーク検出部(2)はサンプル
ホールド回路を主構成要素とするものであって、入力し
た画像信号Isの最大ピーク値v1と最小ピーク値v2
とが抽出保持され、これらの差Δ■を示す信号8Aが増
幅率設定部(財)に出力される。このとき、寸法測定部
(2)の作動は停止している。この信号8Aを入力した
増幅率設定部c141にては、第3図(C)に示すよう
4CA/D変換部αηの許容電圧範囲凡の上限よシわず
かに小さい電圧位置に最大ピーク値Vlが位置し、また
許容電圧範囲凡の下限よりわずかに大きい電圧位置に最
小ピーク値v2が位置するように、画像信号工8を増幅
部a1にて増幅するための最適な増幅率を示す信号8B
が増幅部0に出力される。その結果、信号8Bを入力し
た増幅部(1騰にては、上記最適な増幅率が設定される
。かくして、増幅率の設定が終了すると、画像信号調整
部(2a)の作動が停止し、寸法測定部(2)の作動が
再開される。しかして、カーソル(22a ) 、 (
22b )によ)指定された判別領域内の任意の1ライ
ンのデータを画像信号記憶部αgからCPU5(15に
転送する(第4図ブロック@)。この1ラインのノイズ
除去を、 FET (Fast Fourier Tr
ansform)法又は積算傾斜変換法を使い行う(第
4図ブロックH)。上記FE’l’法によシノイズ除去
を行う場合は、画像信号記憶部a砂から取シ込んだデー
タ(第5図(a)参照)をフーリエ変換して(第4図ブ
ロック29)、周波数解析を行いノイズを除去するため
高周波成分をカットする(第4図ブロック@)。しかし
て、高周波成分がカットされたデータを逆フーリエ変換
して波形を再生する(第4図ブロック@)。この処理に
より、第5図(b)に示すようK、ノイズを元の波形か
ら取シ除くことができる。他方、積算傾斜変換法による
場合は、画像信号記憶部0秒から取シ込んだ1ラインの
データ(第6図(a)参照)K関しては、j点目(0≦
」≦511)のデータをf(j)とすると、O≦a≦5
11について、5(a) =、1 r<j)を計算しJ
=Q (第4図ブロック@)、この積算結果5(a)Kついて
m点先のデータとの勾配g(a)= (S (a +m
 ) −5(a))7mをめる(第4図ブロック@)。
この処理によシ、元の波形(第6図(a) ’) K比
べ、ノイズが除去された波形(第6図(b))が得られ
る。しかして、上記いずれかの方法によりノイズが除去
された波形について、第7図及び第8図で示すように、
カーソル(Z2a ) 、 (22b )によシ寸法測
定する判別領域を指定する(第4図ブロック(30))
。判別領域は、寸法測定部位すなわちパターン部分(第
3図領域P)に対応する波形の電圧値が他部分よシ大き
いととKよシ識別できる。それから判別領域内にて第7
図及び第8図に示す一方の側縁部における最大値61)
及び最小値(至)をめる(第4図ブロックC(S)。
なお、第7図において、波形(ロ)はノイズ除去前の波
形、波形(至)はノイズ除去後の波形であるoしかして
、最大値0Dと最小値0邊との間において任意に2点(
至)、07)を選択し、直線近似する範囲を指定する(
第4図ブロック(至))。つぎに、これら2点乾C1?
)間のデータに対して、最小二乗法にて回帰直線(至)
をめる(第4図ブロック01)。さらに、最小値C3擾
と点6′I)との間のデータすなわち平坦な部分のデー
タに対して最小二乗法によシ回帰直線(ロ)をめる(第
4図ブロック(6))。つぎに回帰直線(至)。
ρカの交点(43をめる。同様にして、他方の側縁部に
おける回帰直$ +44) 、 +419をめ、それら
の交点−を算出する(第4図ブロック偵η)。上記交点
141゜(7)の位置はCRT +141にて表示する
とともに、両者の間隔(画素数)をめ、倍率切換部(9
)で決められた1画素当りの寸法を乗算し、寸法に変換
する(第4図ブロック(4呻)。そうして、カーソル(
22a ) 。
(22b)が複数の走査線にわたっているときは、別の
ラインについて同一の処理を繰返して行う(第4図ブロ
ック(4I)。しかして、各ラインについて得られたパ
ターンPの幅りを示す寸法に基づいて各種統計処理たと
えば平均値演算、標準偏差演算を行う(第4図ブロック
(至))。最後に、これらの演算結果をモニタ、プリン
タ等の表示部で表示、記録する(第4図ブロック61)
)。かくして、本実施例の寸法測定装置によれば、例え
ば半導体ノ(ターンなどの微細な測定対象を、0.01
μmの高分解能で、高精度かつ自動的にめることができ
る。とりわけ、画像信号調整部(2a)にて、画像信号
I8を最適な信号レベルに自動的に補正するようにして
いるので、Sハ(8ignaI / No1se )比
が高くなシ測定精度が向上するという格別の効果を奏す
る。
表お、上記実施例においては、横方向のパターン幅の寸
法測定について示しているが、縦方向のパターン幅につ
いても電子線束の走査方向を90度スキャンローテーシ
冒ンすることにより同様の方法で可能となるo ”! 
k 、パターン幅の測定に限ることなく、第9図(→に
示すように2本のパターンP1.P2のそれぞれの内部
にカーノル(22a ) 、 (22b )を設定して
、第9図(b)に示すような波形6邊より上記実施例と
同様にして、回帰直線(至)、(財)、@をめこれらの
交点(4)、6?)よシバターンPl、P2の間隔をめ
ることもできる。さらに、第10図(a)に示すパター
ンP3.P4のピッチもめることができる。すなわち、
カーフh (22a ) 、 (22b )でバl−:
yP3O左C右)側縁部をはさみ、カーソル(22c 
) 、 (22d )でパターンP4の左G15)側縁
部をはさむ。しかして、上記実施例と同様にして、第1
0図(b)に示す波形(58)よシ回帰直線(59)、
(60)、 (61)、(62)をめたのち、これらの
交点(63)、(64)よりパターンP3 、P4のピ
ッチをめることができる。また、上記実施例においては
、FFT法又は積算傾斜変換法によシノイズの除去を行
ったが複数画素の平均化又は複数画面の加算によ)ノイ
ズ除去を行ってもよい。のみならず、寸法測定において
ノイズを無視できる場合にはノイズ除去処理を省略する
ことができる。さらK、パターンの縁部(エツジ)をめ
る方法としては、上記実施例のように回帰直線の交点か
らめる方法に限ることなく、たとえば、第11図(a)
に示すように、パターンP5をはさむようにカーソル(
22a ) 。
(22b )を設定し、このカーソル(22a ) 、
 (22b )間の波形(65) (第11図(b)参
照)について、カーソル(22a ) *(22b)側
から画像信号を積算して第11図(C)に示す積算曲線
(66)、(67)を得、仁の積算曲線(66)、(6
7)の変曲点(6))、(69)よシバターン幅D2を
めることもできる。さらにまた、上記実施例においては
、測定試料QlとしてLSI用の半導体ウェハを用いて
いるが、μmオーダの寸法測定であればいかなるものに
も本発明の寸法測定装置を適用できる。
〔発明の効果〕
本発明の寸法測定装置は、SEN本体部に、この81M
本体部から出力された画像信号を最適な信号レベルに自
動的に補正した後、その画像信号に基づいて測定試料の
特定部位の寸法測定を自動的に行う寸法測定部を連設し
たので、異なった測定試料による信号レベルの変化によ
って生じる信号処理過程での誤差を少なくすることがで
き、しかも測定者によるばらつき、読み取シ誤差が解消
され、0.01μm以下の高分解能で、高精度かつ迅速
に精密測定を行うことができる。したがって、本発明の
寸法測定装置をL8I、超LSI等の半導体製造プロセ
スに適用した場合、製品の評価及び検査を容易かつ高度
の信頼性をもって行うことができる。その結果、半導体
製品の品質向上及び歩留向上を達成することができる。
のみならず、高集積化のための各種の製造技術開発及び
プロセス条件の決定に多大の寄与をすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の寸法測定装置の全体構成図
、第2図は第1図の寸法測定装置で得られた画像信号の
画素への分割を示す説明図、第3図(→、 (b) 、
 (C)はCR,Tにおけるカーフルの設定及び増幅率
の設定を示す図、第4図は第1図の寸法測定装置による
寸法測定手順を示すフローチャート、第5図及び第6図
はノイズ除去前の画像信号とノイズ除去後の画像信号を
示すグラフ、第7図及び第8図はパターン幅のめ方を説
明するためのグラフ、第9図ないし第11図は第1図の
寸法測定装置による各種寸法測定を説明するための図で
ある。 (1)・・・8EM本体部、(2a)・・・画像信号調
整部、(2)・・・寸法測定部、 (4)・・・電子線
束、(IQ・・・測定試料、 (141・・・CRT 
(表示部)、αe・・・CPU部(演算制御部)。 錦・・画像信号記憶部、翰・・・カーソル設定部、(2
2a ) 、 (22b )−カーソル。 第2図 第3図 第5図 第6図 第7図 第9図 第1O図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 測定試料を格納して上記測定試料上に電子線束を走査し
    ながら投射して上記測定試料上に形成されているパター
    ンを示す画像信号を得るとともに表示部を有しこの表示
    部に上記画像信号を入力して上記パターンの画像を表示
    する走査型電子顕微鏡本体部と、上記表示部にカーソル
    を表示させ上記表示部における上記パターンの寸法測定
    領域を指定するカーソル設定部と、上記画像信号を画素
    に分解するとともにアドレス化して画像データとして記
    憶する画像信号記憶部と、上記カーソルによシ指定され
    た上記寸法測定領域内の上記画像データを取込んで上記
    パターンの輪郭をなしかつ寸法測定基準となる複数の縁
    部を決定しこれら縁部間の距離を算出する演算制御部と
    、上記走査型電子顕微鏡本体部に上記カーソルで指示さ
    れた寸法測定領域にのみ電子線束を走査させる信号を出
    力しこれによシ上記走査型電子顕微鏡本体部から出力さ
    れた画像信号に基づいて増幅率を設定して上記画像信号
    のレベルを調整する画像信号調整部とを具備することを
    特徴とする寸法測定部。
JP8845584A 1984-05-04 1984-05-04 寸法測定装置 Granted JPS60233508A (ja)

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JP8845584A JPS60233508A (ja) 1984-05-04 1984-05-04 寸法測定装置

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JPH0444925B2 JPH0444925B2 (ja) 1992-07-23

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