JPS60229717A - ゴムの加硫成形用金型 - Google Patents

ゴムの加硫成形用金型

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JPS60229717A
JPS60229717A JP8571484A JP8571484A JPS60229717A JP S60229717 A JPS60229717 A JP S60229717A JP 8571484 A JP8571484 A JP 8571484A JP 8571484 A JP8571484 A JP 8571484A JP S60229717 A JPS60229717 A JP S60229717A
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JP
Japan
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mold
molds
rubber
vulcanization
silicon carbide
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Application number
JP8571484A
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English (en)
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JPH0430326B2 (ja
Inventor
Kazuyuki Ozaki
和行 尾崎
Yoshihisa Fujii
義久 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nok Corp
Original Assignee
Nippon Oil Seal Industry Co Ltd
Nok Corp
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Publication date
Application filed by Nippon Oil Seal Industry Co Ltd, Nok Corp filed Critical Nippon Oil Seal Industry Co Ltd
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ゴムの加硫成形用金型に関する。更に詳しく
は、ハロゲン含有ゴムの加硫成形に用いられた場合など
にも、金型の非汚染性および離型性にすぐれた加硫成形
用金型に関する。
一般に、金型表面はメッキ処理されており、実用的には
工業用クロムメッキ、ニッケルメッキ、無電解ニッケル
メッキの3種が施されており、ゴムの加硫成形用金型に
は、殆んどの場合工業用クロムメッキが施されている。
工業用クロムメッキは、耐摩耗性、耐食性、耐熱性、離
型性などの点ですぐれているので、ゴムの加硫成形用金
型に用いられているものの、その表面酸化膜は塩化水素
、フッ化水素などに侵され易いという欠点を有している
。そのため、アクリルゴム、クロロプレンゴム、エピク
ロルヒドリンゴムなどのハロゲン含有ゴムの加硫成形に
工業用クロムメッキ金型を用いると、金型の汚染と離型
性の点で満足されず、これらの点線製品の良し悲しおよ
び生産性に直接影響する重要な因子であるので、その点
の解決が強く望まれている。
従来一般的に行われているこれらの解決方法は、金型汚
染性の問題の解決については、金型表面にみられる配合
薬品、重合体中の非ゴム分などの堆積や加硫時の反応生
成物の堆積、更には熱分解によって生成したハロゲン化
水素ガスなどによる腐食などに原因するカス付きを一定
加硫成形回数毎にアルカリ洗浄などの手段で除去すると
いう煩雑な方法であり、また離型性の問題の解決につい
ては、離型剤の使用が行われているが、これによって生
産性が低下し、現今えや不良品の発生などがみられてい
た。
本発明者らは、離型剤などを用いることなく、金型非汚
染性および離型性を高め、しかも耐摩耗性の点でもすぐ
れているゴムの加硫成形用金型を得るべく鋭意検討の結
果、金型のゴム接触部分に炭化けい素合金の高周波スパ
ッタリング薄膜を形成させることKより、かかる課題が
効果的に解決し得ることを見出した。従って、本発明は
、かかるゴムの加硫成形用金型に係る。
高周波スパッタリングは、炭化けい素とこれと合金化さ
れる物質、例えばステンレス鋼SUS 304との複合
ターゲットを用いて行われる。ステンレスfiIISU
S 304との複合ターゲットは、例えば直径6インチ
、厚さ%インチの円板状SUS 304の一方の面側に
、直径2インチ、厚さ八インチの円板状炭化けい素焼路
体を2枚対をなす位置にそれぞれステンレス鋼ねじを用
いて押止めして用いる。
スパッタリング操作は、例えば第1図に示されるような
態様に従って行われる。即ち、クロムメッキ金型1.f
をトリクロルエタン液中で超音波洗浄し、続いて同じト
リクロルエタンの蒸気脱脂を行ない、スパッタリング処
理室2内の基板テーブル3上に搭載する。次に1処理室
内を、油回転ポンプによって1O−2Torrのオーダ
ー迄排気し、続いて油拡散ポンプで更に扁真空となるよ
うに排気した。減圧度が10−’ Torrのオーダー
になったら、処理室内にアルゴンガスを導入し、メイン
バルブを調節して5 X 1O−sTorrとした後、
下部電極たる基板テーブルに周波数13.56 MHz
の高周波を印加してスパッタエツチングを行ない、金型
表面の酸化膜などを除去する。次に1上部電極たる炭化
けい素合金ターゲット4側に高周波を印加して、基板テ
ーブルを回転さセながらスパッタリングを行なった。こ
のような一連の操作によって、金型表面は清浄化される
と同時にその表面層の酸化膜が除去さね、次いでそこに
金型基質との密着力が良好な炭化けい素−ステンレス鋼
SUS 304合金薄膜を形成させる。
このようKして形成された合金薄膜の一例について、光
電子分光法による成分組成の分析゛結果を示すと次の如
くである。
SiO20,5重量% FQ 23.7 Or 3.7 y15.I Si l、Q 0 46.0 次に1耐摩耗性の目安となる表面硬さを、クロムメッキ
薄膜および炭化けい素焼路体と比較しながら示すと次の
如くである。
本発明合金薄膜(厚さ約16μm) Hv:約2000
 Kf7fad (荷重259)クロムメッキ薄膜(厚
さ約20 #1) Hv :約700 K4Am (荷
重3の炭化けい素焼路体 Hv :2800輝肩更に1
アクリルゴムを用いて、加硫成形試験を行なった。
本発明に係る金型: 離型剤を用いなくとも、約600〜700回の加硫成形
回数を経験させた後、金型の成形面をアルカリ洗浄すれ
ばよい クロムメッキした金型: 離型剤を用いたが、約200〜300回の加硫成形回数
を経験したら、金型の成形面をアルカリ洗浄しなければ
ならなかった このように、本発明に係る金型L1金型非汚染性および
離型性を高め、しかも耐摩耗性の点でもすぐれており、
ハロゲン含有ゴムの加硫成形に有効に用いることができ
る。なお、金型が11I数個の分割型などから構成され
ている場合には、各分割型のゴム接触部分のみに高周波
スパッタリング薄膜を設ければ十分であり、このような
部分的な薄膜の形成は、分割型などを適当に部分的に覆
いながらスパッタリング処理することKよって行われる
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明で行われるスパッタリング処理におけ
る被処理金型とターゲットとの配置を示した概略図であ
る。 (符号の説明) l、1′・・・・・・金型 2・・・・・・・・・・・・・・・スパッタリング処理
室3・・・・・・・・・・・・・・・基板テーブル4・
・・・・・・・・・・・・・・炭化けい素合金ターゲッ
ト代理人 弁理士 吉 1)俊 夫 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、金型のゴム接触部分に炭化けい素合金の高周波スパ
    ッタリング薄膜を形成させたゴムの加硫成形用金型。 2炭化けい素合金が炭化けい素とステンレスfI4SU
    S 304との合金である特許請求の範囲第1項記載の
    加硫成形用金型。 3、ハロゲン含有ゴムの加硫成形に用いられる特許請求
    の範囲第1項捷たは第2項記載の加硫成形用金型。
JP8571484A 1984-04-27 1984-04-27 ゴムの加硫成形用金型 Granted JPS60229717A (ja)

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JP8571484A JPS60229717A (ja) 1984-04-27 1984-04-27 ゴムの加硫成形用金型

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JP8571484A JPS60229717A (ja) 1984-04-27 1984-04-27 ゴムの加硫成形用金型

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JPS60229717A true JPS60229717A (ja) 1985-11-15
JPH0430326B2 JPH0430326B2 (ja) 1992-05-21

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02158392A (ja) * 1988-12-12 1990-06-18 Toppan Printing Co Ltd 印刷インキ転写体及びその製造方法並びにその成形機
WO2002050331A3 (en) * 2000-12-20 2002-10-31 Seiko Epson Corp Surface treatment method for ornamental parts and ornamental parts produced by the method
US7001675B2 (en) * 2003-06-04 2006-02-21 Winsky Technology Ltd. Method of forming a nanocomposite coating

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WO2002050331A3 (en) * 2000-12-20 2002-10-31 Seiko Epson Corp Surface treatment method for ornamental parts and ornamental parts produced by the method
US7001675B2 (en) * 2003-06-04 2006-02-21 Winsky Technology Ltd. Method of forming a nanocomposite coating

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