JPH02158392A

JPH02158392A - 印刷インキ転写体及びその製造方法並びにその成形機

Info

Publication number: JPH02158392A
Application number: JP31324688A
Authority: JP
Inventors: Manabu Ishimoto; 学石本
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1988-12-12
Filing date: 1988-12-12
Publication date: 1990-06-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、オフセット印刷に用いる転写体およびその製
造方法に関する。また、前記転写体を製造する成形機に
関する。

（従来の技術）従来、オフセット印刷に用いられる転写体は、基布上に
合成ゴム材またはポリウレタン等の耐油性弾性相のコー
ティングを施し、さらに繊維補強層を貼り合わせて形成
されている。このようにして得られた転写体は、厚み精
度が悪いため表面にうねりが存在し、また表面印刷層の
表面粗さが大きすぎるため、表面状態が悪かった。印刷
効果は転写体の厚み精度および表面印刷層の状態に大き
く依存するので、厚み精度および表面印刷層の改良・改
善か試みられてきた。

例えば、ＪＩＳ硬度５０以上のゴムで形成されている転
写体は、成形後、パフィング等の研磨方法によって表面
印刷層が平滑に仕上げられている。

しかし、この方法は表面印刷層の粗さを多少改善するこ
とはできるが、表面印刷層のうねりや転写体の厚みのむ
らは改善することはできなかった。

したがって、上記研磨方法は、厳しい印刷寸法精度を要
求される印刷等に用いることができなかった。また、Ｊ
ＩＳ硬度４０以下のゴムは、柔らかすぎて上記研磨方法
を用いることができなかった。

上記問題点を解決する方法として、２枚の平行定盤のあ
いだにゴム材を注入し固化させて、転写体を製造する方
法が知られている。この方法によって製造された転写体
表面は、定盤表面と相補的関係にあるので、転写体の性
能は定盤表面の性能に依存する。すなわち、転写体表面
のうねりは定盤表面の平行度に、転写体の表面状態は定
盤表面の平滑度にそれぞれ依存している。本明細書中に
おいて、平行度とは、一定の測定長さにおけるうねりの
山と谷との間の距離のことであり、平滑度とは、表面の
粗さ（微細な凹凸の高低差を数値化した）のことである
。したがって、以前から定盤表面の性能（主に平行度お
よび平滑度）を向上させる方法が開発されてきた。例え
ば、定盤表面の性能を向上させる方法として、定盤表面
をグラインダーによって研磨する方法がある。この方法
によって、ある程度、定盤表面の性能を改善することが
できるが、平滑度は定盤の片面で±５μｍ５μｍ程行度
は測定長２００　ｍｍにつき５μｍ程度が限界であり、
厳しい印刷寸法を要する印刷には不向きであった。また
、この方法によって研磨された定盤表面には、研磨方向
に対して平行に筋目が生じており、その結果として、製
造した転写体表面にも一定の筋目が付いてしまう。この
筋目状の研磨口により、版からのインキ転写性に方向性
が生じてしまう。さらに、研磨口が付くわりには転写体
表面の表面積が増加しないため、インキの転写性が不安
定であるという欠点もあった。

（発明が解決しようとする課題）本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、表面
か平滑であり、かつ厚みに偏りがない転写体と、該転写
体を製造する方法と、該転写体の成形機を提供すること
を目的とする。

（課題を解決するための手段）本発明による転写体は、基体上にシリコーンゴムをイン
キ受容層として設けた印刷インキ転写体において、表面
形状がマット状であり、平行度が測定長さ２００　ｍｍ
で０．５μｍ以下、平滑度が０゜３〜０．７μｍの範囲
であることを特徴とする。

本発明の転写体の製造方法は、ラッピング研磨され、平
行度が測定長２００　ｍｍ当り０．５μｍ以下であり、
かつ平滑度が０．３〜０．７μｍの範囲である二枚の平
行定盤間に、ゴム材料を注入し固化させることを特徴と
する。

本発明による転写体の成形機は、ラッピング研磨され、
平行度か測定長２００　ｍｍ当り０．５μｍ以下であり
、かつ平滑度が０．３〜０．７μｍの範囲である二枚の
平行定盤を具備することを特徴とする。

なお、ラッピング研磨法は、予め研磨しである定盤面に
被研削物を押し当て、定盤と被研削物とのあいたに砥粒
を分散させた油を介在させながら、被研削物の自転と、
定盤の回転中心に対する公転を加える研磨方法である。

（作用）本発明は、ラッピング研磨法によって研磨された２枚の
平行定盤を具備する成形機を用い、転写体を製造するも
のである。該研磨方法を採用したことにより、平滑度お
よび平行度の優れた定盤を得ることができる。また、砥
粒の自転により、方向性のない均一かつ精密なマット面
を得ることができる。

上記定盤間にゴム等を注入し、固化することによって、
転写体を製造することができる。この方法で製造された
転写体表面は、上記定盤表面と相補的関係にある。した
かって、優れた平滑度および平行度を有する定盤を用い
ることによって、高性能の転写体を製造することができ
る。

このようにして製造された転写体は厚さに、偏りがない
ので、全印刷面において印刷線ｒｉが安定する。また、
転写体表面は、０．３μｍ以上０．　７μｍ以下の凹凸
を有するマット状になるため、転写体表面の表面積が増
加し、版から転写体へσ）インキ転移性が格段に向上す
る。

以下、この点をさらに説明する。版（例えは、。

凹版）からインキを転写体へ移す際、版に対（７て転写
体を圧力で押付け、版のインキを転写体に転移させる。

しかし、このとき印刷機械の加工精度の問題から、版に
対して転写体か常に均一に匝力がかかるわけではない。

局所的な圧力ムラも当然ある。本発明の転写体では、そ
の表面に０．３μｍ以上の微細凹凸を付けることによ−
って、表面の微小な変形を起こりやすくし、圧力ムラの
平均化を実現する。また、微細凹凸による表面積の増加
により、転写体表面はインキに対する親和性が増加して
いるのである。これにより、版からインキを取りこぼす
ことなく転写体へ移すことかできる。

このような作用は、０．３μｍ以上の表面粗さ（平滑度
）から顕著に現われる。全く平滑な表面では、この作用
を奏さない。

また、平滑度を０．７μｍ以下とした理由は、それより
大きな表面粗さでは、転写体の表面凹凸か激しいので、
微細かつ形の良いインキ膜を被印刷物へ転写できなくな
るからである。

以下、実施例において、本発明をより具体的に説明する
が、本発明は下記実施例に限定されるものではない。

（実施例）以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。

まず初めに、転写体成形機について説明する。

第１図は、精密印刷用転写体を製造する際に用いる成形
機の断面図である。このタイプの成形機は従来から用い
られているものであり、本発明においても用いることが
できる。第１図によると、−ド型定盤２上の両端にスペ
ーサー７が設けられている。スペーサー７上にはゴム注
入口５と脱気口６の２つの穴を具備する上型定盤１が設
けられている。その結果、下型定盤２、スペーサー７お
よび上型定盤１により、内部スペース８が形成している
。

上型定盤１および下型定盤２には、鉄またはステンレス
等の金属を用いることができる。さらに、該金属をベー
ス金属層として、メツキ層を設けることもできる。該メ
ツキ層は、マット状の表面を形成できるものであれば、
いかなるメツキ層を設けてもよい。例えば、該メツキ層
にはクロムメッキを用いることができ、特にマットクロ
ムメッキ層が好ましい。

本発明の転写体成形機の上型定盤１および下型定盤２の
表面（定盤がメツキされている場合は、メツキ面）は、
ラッピング研磨法によって研磨されている。ラッピング
研磨法とは、予め研磨しである定盤面に被研削物を押し
当て、定盤と被研削物とのあいだに砥粒を分散した油を
介在させた状態において、被研削物を自転および定盤の
回転中心に対して公転させる研磨方法である。ラッピン
グ研磨法によると、被研削物の表面の精度は、予め研磨
された定盤面の精度とほぼ同等となる。さらに、砥粒の
自転により方向性のない均一かつ精密なマット状の表面
を得ることができる。上述の通り、定盤表面の研磨にラ
ッピング法を用いることにより、定盤表面の平行度およ
び平滑度を改善することができる。例えば、グラインデ
ィング研磨法のみで研磨されていた従来の定盤表面は、
測定長２００　ｍｍにつき５μｍ程度の平行度しか得ら
れないのに対し、ラッピング研磨法で研磨された本発明
の定盤表面は、測定長２００　ｍｍにつき０゜５μｍ乃
至１．０μｍ程度の平行度を達成することが可能である
。また、平滑度は、ラッピング研磨において介在させる
砥粒の直径に依存するので、所望の平滑度が得られるも
のを選択する。通常用いられる砥粒の直径は、０．５〜
０．０３μｍである。

なお、本発明において、定盤表面を研磨する際、初めに
グラインディング研磨法による研磨を行ない、その後さ
らにラッピング研磨法による研磨を行なうことが特に好
ましい。

上述の通り、本発明の転写体成形機の定盤表面は、平行
度および平滑度か非常に優れている。したがって、この
転写体成形機を用いることにより、平行度および平滑度
の優れた転写体を製造することができる。

以下、転写体の製造方法を説明する。

まず、スペーサー７によって転写体の厚さを設定する。

そして、内部スペース８に転写体基体４を設置する。該
転写体基体４には、鉄およびアルミニウム等の金属板、
布、ベース材、またはポリエチレンテレフタレート（以
下、ＰＥＴと略す）、ポリプロピレン（以下、ＰＰと略
す）、アセチルセルロースおよびナイロン等のフィルム
を用いることができる。

転写体基体４を内部スペース８に設置した後、ゴム注入
口５からゴムを注入する。通常、ゴムには合成ゴムまた
は耐油性弾性材が用いられる。このゴムが注入されてい
るあいだ、脱気口６がらは内部スペース８中にあった空
気が排出され、ゴムの注入量が過剰になると、脱気口６
がら過剰のゴムが出てくる。したがって、脱気口がらゴ
ムが出てきたら、ゴムを注入するのを止める。その後、
しばらくのあいだ放置してゴムを固化させる。なお、ゴ
ムを注入および固化させる際、バキュームチャック、静
電チャックまたは磁気チャック等の方法で転写体基体を
固定することが好ましい。

ゴムか完全に固化したら、これを成形機から取り出す。

このような方法によって、転写体基体４上にゴム層を備
えた転写体を製造することができる。なお、該ゴム層は
、多層構造であってもよい。

そし７て、第３図に図示した通り、押え板１２およびね
じ１１によって、転写体基体４端木部を固定板１３に固
定する。このようにして、シリンダ１０に巻付けた転写
体を用い、精度の高いオフセット印刷を行なうことがで
きる。

以ド、本発明をより具体的に説明する。

第２図は、本発明における転写体成形機の具体例を示し
た図である。本実施例における転写体成形機の上型定盤
１および下型定盤２には、鉄相（Ｓ　Ｋ　）をグライン
ディング処理後、ラッピング研磨を行ない、さらにその
表面上にクロムメッキ層を設け、このメツキ面をラッピ
ング研磨したものを用いた。

この定盤表面の平行度は、測定長２００　ｍｍで０５μ
ｍ以下であり、定盤のうねりはがなり解消された。また
、定盤表面の平滑度は、最大０．１乃至０．５μｍであ
り、均一な砂目状の表面状態が得られた。

このような定盤を具備する成形機を用いて、転写体を製
造した。

まず初めに、下型定盤２の上面に転写体基体４としてＰ
ＥＴフィルムを設置した。該転写体基体４は、バキュー
ムチャック９によって固定しておいた。そして、以下の
組成（第１表参照）からなるゴムをゴム注入口５から注
入した。脱気口６がら過剰のゴムが出てきたら、ゴムを
注入するのを止めた。しばらくのあいだ放置してゴムを
固化させた後、これを成形機から取り出した。

第　　１　　表上述の方法により製造された転写体の平行度も、測定長
２００　ｍｍで０．５μｍ以内であり、転写体表面の平
滑度は０．１乃至０．５μｍであった。

該転写体の表面積は、完全平滑面の表面積と比べて約１
，１７倍であった。従来のグラインディング研磨法で仕
上げた転写体表面積は、約１．００３倍であるので、従
来の方法と比べて本発明の転写体はより大きな表面積を
有することがわかった。

この転写体を用いて、実際に印刷を行なった。

用いた版は、線１１−１１１０μｍη、版深］０μｍη
の凹版であり、オフセット印刷によって印刷した。印刷
によって再現された線１］は、］０９乃至１１１μｍで
あった。これは、従来よりも約１．　（，１ｕ　＋ｎも
太く、本発明の転写体の印刷インキの着肉性か向上した
ことを裏付けるものである。また、トー゛ンホールの減
少、印刷面の安定性などが確認された。

（発明の効果）本発明によれば平滑度および平行度か優れている転写体
を製造することができろ。本発明による転写体は、平行
度が優れているため、シリ・グからの印圧伝達の均一性
が向上し、大面積の印刷か可能となった。また、転写体
表面がマット状１Ｊ二なることより、表面積が増加し、
版から転写体へのインキの転移性か向上した。その結果
、印圧を低くできるため、凹版の版深を浅くすることが
でき、より平滑な印刷物（特に大型ＳＴＮ対応のＣＦ等
）を得ることかできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に用いることができる転写体成形機の
断面図。第２図は、本発明の実施例で用いた転写体成形機の断面
図。第３図は、転写体をシリンダーに取付けた図。１．２・・定盤、３・・ゴム祠、３′・・固化したゴム
材、４・・転写体基板、５・・ゴム注入口、６・・脱気
口、７・・スペーサー　８・・内部スペース、９・・バ
キュームチャック、１０・・シＪンダ−１１・・ねじ、
］２・・押え板、１３・固定板出願人代理人　　弁理士　　鈴江武彦

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基体上にシリコーンゴムをインキ受容層として設
けた印刷インキ転写体において、表面形状がマット状で
あり、平行度が測定長さ２００ｍｍで０．５μｍ以下、
平滑度が０．３〜０．７μｍの範囲であることを特徴と
する印刷インキ転写体。
（２）ラッピング研磨され、平行度が測定長２００ｍｍ
当り０．５μｍ以下であり、かつ平滑度が０．３〜０．
７μｍの範囲である二枚の平行定盤間に、ゴム材料を注
入し固化させることを特徴とする印刷インキ転写体の製
造方法。
（３）前記平行定盤上にクロムメッキ層が設けられてお
り、該クロムメッキ層の平滑度が０．３〜０．７μｍの
範囲であることを特徴とする請求項２記載の印刷インキ
転写体製造方法。
（４）ラッピング研磨され、平行度が測定長２００ｍｍ
当り０．５μｍ以下であり、かつ平滑度が０．３〜０．
７μｍの範囲である二枚の平行定盤を具備する印刷イン
キ転写体成形機。