JPS62114870A - ラツピング研磨機の研磨面保湿方法 - Google Patents
ラツピング研磨機の研磨面保湿方法Info
- Publication number
- JPS62114870A JPS62114870A JP60251182A JP25118285A JPS62114870A JP S62114870 A JPS62114870 A JP S62114870A JP 60251182 A JP60251182 A JP 60251182A JP 25118285 A JP25118285 A JP 25118285A JP S62114870 A JPS62114870 A JP S62114870A
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- JP
- Japan
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- polishing
- lapping
- plate
- impregnated
- surface plate
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は研磨装置の研磨面の停台時の保湿方法に係り、
更に詳細にはラッピング用パッドを展着したラッピング
定盤に研磨材を含んだ研磨液を散布しつつ研磨を行う装
置、あるいは固形砥石を装着したラフピング定盤を用い
て湿式で研磨を行う装置において、停台時研磨面の乾燥
化を効果的に防止し硬化、変質を防ぎ長期停台時におい
ても定常状態を維持セしむる方法シこ関する。
更に詳細にはラッピング用パッドを展着したラッピング
定盤に研磨材を含んだ研磨液を散布しつつ研磨を行う装
置、あるいは固形砥石を装着したラフピング定盤を用い
て湿式で研磨を行う装置において、停台時研磨面の乾燥
化を効果的に防止し硬化、変質を防ぎ長期停台時におい
ても定常状態を維持セしむる方法シこ関する。
〈従来の技術〉
平坦な面を有する板状物質、例えば金属、硝子、セラミ
ックス等の表面を均一に研削しかつ、高精度の表面に仕
上げるには、通常回動する円型又は原型の金属定盤上に
研磨用パッドを展着し、研磨材微粉を含んだ研磨液スラ
リーを定量的に供給しつつ、被研磨体の研磨面を圧着し
て研磨する方法により行われている。また金属定盤上に
固型砥石を装着し、湿式にて同様に研磨を行う方法も近
年比較的一般的になりつつある。更にラッピング定盤を
上下両面に装着し、その間に板状の被研磨体を挟在せし
め、その両面を同時に研磨する方法が両面ラフピング研
磨方法として知られている。
ックス等の表面を均一に研削しかつ、高精度の表面に仕
上げるには、通常回動する円型又は原型の金属定盤上に
研磨用パッドを展着し、研磨材微粉を含んだ研磨液スラ
リーを定量的に供給しつつ、被研磨体の研磨面を圧着し
て研磨する方法により行われている。また金属定盤上に
固型砥石を装着し、湿式にて同様に研磨を行う方法も近
年比較的一般的になりつつある。更にラッピング定盤を
上下両面に装着し、その間に板状の被研磨体を挟在せし
め、その両面を同時に研磨する方法が両面ラフピング研
磨方法として知られている。
これ等の研磨方法においては、ラッピングパッドを使用
する場合は、研磨材である砥粒微粉、例えば炭化硅素、
熔融アルミナエメリー、コロイダルシリカ等を水或いは
活性剤等を含んだ水に分散したスラリーを定量的に供給
し、その砥粒微粉を以て被研磨体の表面を擦過研削する
ものである。
する場合は、研磨材である砥粒微粉、例えば炭化硅素、
熔融アルミナエメリー、コロイダルシリカ等を水或いは
活性剤等を含んだ水に分散したスラリーを定量的に供給
し、その砥粒微粉を以て被研磨体の表面を擦過研削する
ものである。
また固型砥石を使用する場合は、バインダーを使用し砥
石中に固定した砥粒微粉が上記の場合と同・ 様の作
用機作を司りこのときには水もしくは活性剤を含んだ水
、又は溶剤等をその表面に定量的に供給しつつ研磨する
。上記いずれの場合も排液中には多量の砥粒微粉及び被
研磨体の研摩屑が含育されており、やや粘稠なスラリー
状の性状を呈するものである。
石中に固定した砥粒微粉が上記の場合と同・ 様の作
用機作を司りこのときには水もしくは活性剤を含んだ水
、又は溶剤等をその表面に定量的に供給しつつ研磨する
。上記いずれの場合も排液中には多量の砥粒微粉及び被
研磨体の研摩屑が含育されており、やや粘稠なスラリー
状の性状を呈するものである。
研磨作業が定常的に振興している場合は、排液も定常的
に系外に排出されていく為特に問題を生じない、しかし
、夜間或いは休日等で研磨作業が比較的長い時間停台す
る場合は、この排液が排出されずにラフピングパッドの
微細孔、砥石の気孔等に滞積し、時間の経過により水分
のみが蒸発散失し、排液の濃度が上昇すると共に粘稠に
なり終いには乾燥固化するに至る。そして一度乾燥固化
してしまうと前述の通り排液中には砥粒や研摩屑よりな
る微細粉が含まれるため極めて硬い凝集体となり、前記
微細孔や気孔を完全に閉塞し、再稼動をした場合正常な
研磨作業を著しく妨げるのみならず、凝集体細片が被研
磨体表面を損傷し深い条痕を残す等の弊害を生起する。
に系外に排出されていく為特に問題を生じない、しかし
、夜間或いは休日等で研磨作業が比較的長い時間停台す
る場合は、この排液が排出されずにラフピングパッドの
微細孔、砥石の気孔等に滞積し、時間の経過により水分
のみが蒸発散失し、排液の濃度が上昇すると共に粘稠に
なり終いには乾燥固化するに至る。そして一度乾燥固化
してしまうと前述の通り排液中には砥粒や研摩屑よりな
る微細粉が含まれるため極めて硬い凝集体となり、前記
微細孔や気孔を完全に閉塞し、再稼動をした場合正常な
研磨作業を著しく妨げるのみならず、凝集体細片が被研
磨体表面を損傷し深い条痕を残す等の弊害を生起する。
特に被研磨体が金属の場合は、研摩屑が酸化反応を伴っ
て変質する為この傾向は顕著である。従ってかかる研磨
方法・装置においては、上述の好ましからざる現象を防
止する為、長時間の停台に際してはその表面を完全に洗
浄し、砥粒・研摩屑等を完全に除去することが行われて
いるが、これは極めて手間のかかる作業であり、かつ完
全を期すのが難しい。簡易的には濡れ雑巾、ウェス等で
表面を被覆し、保湿する方法もあるが、保湿能力が限ら
れているため長期の停台には不適当である。
て変質する為この傾向は顕著である。従ってかかる研磨
方法・装置においては、上述の好ましからざる現象を防
止する為、長時間の停台に際してはその表面を完全に洗
浄し、砥粒・研摩屑等を完全に除去することが行われて
いるが、これは極めて手間のかかる作業であり、かつ完
全を期すのが難しい。簡易的には濡れ雑巾、ウェス等で
表面を被覆し、保湿する方法もあるが、保湿能力が限ら
れているため長期の停台には不適当である。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明者は上述の欠点に鑑み鋭意検討を続けた結果、本
発明方法を完成するに至ったものであり、その目的とす
るところは、ラッピングパッドあるいは固型砥石を装着
した片面あるいは両面研磨装置の表面を効果的に保湿し
、長期停台時においてもその表面状態が変質しないよう
な方法を提供するにある。
発明方法を完成するに至ったものであり、その目的とす
るところは、ラッピングパッドあるいは固型砥石を装着
した片面あるいは両面研磨装置の表面を効果的に保湿し
、長期停台時においてもその表面状態が変質しないよう
な方法を提供するにある。
〈問題点を解決するための手段〉
上述の目的はラッピング研磨機の研磨有効作用面に対し
て、該研磨有効作用面と同等又はそれ以上の面積を備え
、乾燥重量に対して５００重憧％以上の水系液体を含浸
せしめたポリビニルアセタール系多孔質体を以て、前記
ラッピング研磨機の研磨有効作用面を被覆することを特
徴とするラッピング研磨機の研磨面保湿方法によって達
成される。
て、該研磨有効作用面と同等又はそれ以上の面積を備え
、乾燥重量に対して５００重憧％以上の水系液体を含浸
せしめたポリビニルアセタール系多孔質体を以て、前記
ラッピング研磨機の研磨有効作用面を被覆することを特
徴とするラッピング研磨機の研磨面保湿方法によって達
成される。
本発明に適用されるポリビニルアセタール（以下ＰＶＡ
ｔと略記する）系多孔質弾性体としては平均気孔系が３
０〜３００ のものが保湿能力において好適である。ま
たＰＶＡｔ系多孔質弾性体の片面に通気性のないシート
を貼付したものを片面ラッピング研磨機に用いるのもを
効である。
ｔと略記する）系多孔質弾性体としては平均気孔系が３
０〜３００ のものが保湿能力において好適である。ま
たＰＶＡｔ系多孔質弾性体の片面に通気性のないシート
を貼付したものを片面ラッピング研磨機に用いるのもを
効である。
ラッピングパッドを使用した研磨の場合は、スェード状
のパッドが備えている細孔の作用により砥粒を研磨面に
均一に拡散し、圧着して回動することにより被研磨体表
面を均質に研磨する。そして砥粒を含んだスラリーは定
量的に供給され、余剰分は研摩屑と共に系外に排出され
る。また固型砥石を使用した場合は特有の多孔質構造を
有する砥石が使用され、砥粒の脱落物・研摩屑は孔に適
宜保持・排出される。何れの場合も細孔中に浸入したこ
れらの粒子が凝集を起こし硬い二次粒子を形成したり、
あるいは粒子が砥石表面に拡散し全面が硬化する現象を
避ける必要がある。この様な不都合な現象が生起したと
きには、ラッピングパッドの交換あるいはドレッシング
により砥石表面を更新しなければならず、時間的にも経
済的にも極めて不利である。 この様な現象は機台・装
置の停台時即ち、スラリーや研磨液の供給がとまり水分
が蒸発し乾燥固化したときに起こるものであリ、特に部
分的或いは全面に亘り乾燥固化すると支障が大きい。
のパッドが備えている細孔の作用により砥粒を研磨面に
均一に拡散し、圧着して回動することにより被研磨体表
面を均質に研磨する。そして砥粒を含んだスラリーは定
量的に供給され、余剰分は研摩屑と共に系外に排出され
る。また固型砥石を使用した場合は特有の多孔質構造を
有する砥石が使用され、砥粒の脱落物・研摩屑は孔に適
宜保持・排出される。何れの場合も細孔中に浸入したこ
れらの粒子が凝集を起こし硬い二次粒子を形成したり、
あるいは粒子が砥石表面に拡散し全面が硬化する現象を
避ける必要がある。この様な不都合な現象が生起したと
きには、ラッピングパッドの交換あるいはドレッシング
により砥石表面を更新しなければならず、時間的にも経
済的にも極めて不利である。 この様な現象は機台・装
置の停台時即ち、スラリーや研磨液の供給がとまり水分
が蒸発し乾燥固化したときに起こるものであリ、特に部
分的或いは全面に亘り乾燥固化すると支障が大きい。
微細粒子は、その粒子が細かい程強固な二次凝集を起こ
し易い。即ち研磨の目的が精密研磨である程、その性能
の保守・維持には気を付けなければならない。かかる現
象を効果的に防止するには、停台中において表面の水分
の蒸発を抑え、保湿を完全にすると共に空気を遮断し、
金属微細粉の酸化反応を防止する必要がある。ＰＶＡｔ
系多孔質弾性体はその分子鎖中に多数の残留水酸基を有
し、しかも微細連続気孔構造を備えた多孔質弾性体であ
るため、多量の水分を含存し且つ、保持する能力を有す
る。即ち、乾燥１ｉ量に対し約１０倍の水分を含浸させ
ても流出することなく完全に能力を保持できる。
し易い。即ち研磨の目的が精密研磨である程、その性能
の保守・維持には気を付けなければならない。かかる現
象を効果的に防止するには、停台中において表面の水分
の蒸発を抑え、保湿を完全にすると共に空気を遮断し、
金属微細粉の酸化反応を防止する必要がある。ＰＶＡｔ
系多孔質弾性体はその分子鎖中に多数の残留水酸基を有
し、しかも微細連続気孔構造を備えた多孔質弾性体であ
るため、多量の水分を含存し且つ、保持する能力を有す
る。即ち、乾燥１ｉ量に対し約１０倍の水分を含浸させ
ても流出することなく完全に能力を保持できる。
本発明にいうＰＶＡｔ系多孔質弾性体とはポリビニルア
ルコール（以下ＰＶＡｔと略記する）を原料とする一種
のスポンジであり、次に述べる公知の適宜方法により容
易に取得できる。その例を示すと、例えば、平均重合度
３００〜３０００の完全鹸化又は部分鹸化のＰＶＡを水
に溶解し水溶液となし、これにアルデヒド類等の架橋剤
、！！酸類等の触媒、更に気孔生成剤たる澱粉類を必要
量加え均一分散液とし、所定の型枠に注液後５０〜１０
０℃の温度にてｌＯ〜２４時間反応する。しかる後余剰
のアルデヒド、酢酸、澱粉類を除去し、所定の形状に裁
断することにより容易に製造できる。気孔径は使用する
澱粉のｍＭによって決まるが、気孔径は３０ＰＬ′１未
満であると弾性が不十分であり、一方３００ｐＩｎを１
廻ると保水性に不十分な面があるため、本発明に使用す
るには平均気孔系３０〜３００どのものが特に好適であ
る。
ルコール（以下ＰＶＡｔと略記する）を原料とする一種
のスポンジであり、次に述べる公知の適宜方法により容
易に取得できる。その例を示すと、例えば、平均重合度
３００〜３０００の完全鹸化又は部分鹸化のＰＶＡを水
に溶解し水溶液となし、これにアルデヒド類等の架橋剤
、！！酸類等の触媒、更に気孔生成剤たる澱粉類を必要
量加え均一分散液とし、所定の型枠に注液後５０〜１０
０℃の温度にてｌＯ〜２４時間反応する。しかる後余剰
のアルデヒド、酢酸、澱粉類を除去し、所定の形状に裁
断することにより容易に製造できる。気孔径は使用する
澱粉のｍＭによって決まるが、気孔径は３０ＰＬ′１未
満であると弾性が不十分であり、一方３００ｐＩｎを１
廻ると保水性に不十分な面があるため、本発明に使用す
るには平均気孔系３０〜３００どのものが特に好適であ
る。
〈発明の効果〉
本発明方法によれば、ラッピング研ａｍの表面の保湿を
行うことにより、何時でも使用できる状態のままで長期
間使用状態を維持することが可能である０例えば、年末
年始、ゴールデンウｊ−り、盆休み等１週間にも及ぶ長
期停台を必要とするときでも、停台前の洗浄、始動時の
準備等煩雑な作業をせずに直ちに再稼動できる。更に、
本発明に係るＰＶＡｔ系多孔質弾性体は湿潤時は極めて
柔軟で砥面を損傷せず、また素材自体からの繊維屑等の
発生がない為砥面を汚染する心配もない０以上本発明方
法によれば停台に伴う煩雑な作業の省略化が可能であり
、経済的効果が大であるうえ品質管理、工程管理に及ぼ
す好影響も極めて大である。
行うことにより、何時でも使用できる状態のままで長期
間使用状態を維持することが可能である０例えば、年末
年始、ゴールデンウｊ−り、盆休み等１週間にも及ぶ長
期停台を必要とするときでも、停台前の洗浄、始動時の
準備等煩雑な作業をせずに直ちに再稼動できる。更に、
本発明に係るＰＶＡｔ系多孔質弾性体は湿潤時は極めて
柔軟で砥面を損傷せず、また素材自体からの繊維屑等の
発生がない為砥面を汚染する心配もない０以上本発明方
法によれば停台に伴う煩雑な作業の省略化が可能であり
、経済的効果が大であるうえ品質管理、工程管理に及ぼ
す好影響も極めて大である。
以下実施例により、本発明方法の作用を具体的に説明す
る。
る。
実施例１
第１図に示す直径４８インチの原型作用面を存する両面
ラッピング研磨機の研磨面に、複数のセグメント状固型
砥石を装着した０本研磨機でアルミニウム板の精密研磨
を６日間行った後、停台に入るに際し、研磨作用面の洗
浄なしに次に示す性状・形状を有するシートで下面定盤
研磨作用面を覆い、各シートに最大飽和量の水分を含浸
せしめ、引き続いて上面定盤を降下させ、軽くシートに
圧着せしめて１２時間毎にその研磨作用面の状態を観察
した。
ラッピング研磨機の研磨面に、複数のセグメント状固型
砥石を装着した０本研磨機でアルミニウム板の精密研磨
を６日間行った後、停台に入るに際し、研磨作用面の洗
浄なしに次に示す性状・形状を有するシートで下面定盤
研磨作用面を覆い、各シートに最大飽和量の水分を含浸
せしめ、引き続いて上面定盤を降下させ、軽くシートに
圧着せしめて１２時間毎にその研磨作用面の状態を観察
した。
■平均気孔系６０ のＰＶＡｔ系多孔質弾性体で厚み３
ｆｌのもの ■平均気孔系６０ のＰＶＡｔ系多孔質弾性体で厚み５
鶏のもの ■平均気孔系６０ のＰＶＡｔ系多孔質弾性体で厚みＬ
ｏｗのもの ■平均気孔系５００のポリウレタン多孔質弾性体で厚み
１０日のもの 研磨作用面の状態が硬化変質する事なく、停台時のまま
で保たれていた時間は次の通りであった。
ｆｌのもの ■平均気孔系６０ のＰＶＡｔ系多孔質弾性体で厚み５
鶏のもの ■平均気孔系６０ のＰＶＡｔ系多孔質弾性体で厚みＬ
ｏｗのもの ■平均気孔系５００のポリウレタン多孔質弾性体で厚み
１０日のもの 研磨作用面の状態が硬化変質する事なく、停台時のまま
で保たれていた時間は次の通りであった。
０４８時間 ０１６８時間 ０２４０時間以上
０２４時間未満 上記結果より明らかな如く、ポリウレタンシートでは保
湿能力がなく、せいぜい１日に対し、ＰＶＡｔ系多孔質
弾性体を用いたものでは数日以上の効果の持続性が認め
られた。
０２４時間未満 上記結果より明らかな如く、ポリウレタンシートでは保
湿能力がなく、せいぜい１日に対し、ＰＶＡｔ系多孔質
弾性体を用いたものでは数日以上の効果の持続性が認め
られた。
実施例２
実施例１で用いた■と同じＰＶＡｔ素材を使用し、更に
外径を２４インチの円形の作用面を有する片面ラッピン
グ研磨機でスェード調ラフピングパッドを展着した装置
を使用し、研磨液としてコロイド状シリカを使用する以
外は実施例１と同様にして円板状の金属性ボリシングを
６日間稼動した後、停台に入るに際し保留試験を実施し
た。
外径を２４インチの円形の作用面を有する片面ラッピン
グ研磨機でスェード調ラフピングパッドを展着した装置
を使用し、研磨液としてコロイド状シリカを使用する以
外は実施例１と同様にして円板状の金属性ボリシングを
６日間稼動した後、停台に入るに際し保留試験を実施し
た。
向研磨液としてはコロイド状シリカを使用した。
前述の素材を研磨作用面を覆う形に裁断し、実験のでは
含浸しうるだけの水分を含浸（乾燥重量に対し１０５０
％の水分を含浸）、実験■では軽く絞り乾燥重量に対し
５０３％水分を含浸、実験■では遠心脱水機にて絞り水
分含有率を１）０％としたものとし、■〜■の各々の素
材を以て該ラッピング研磨機の表面を被覆した。湿潤状
態を経時的に観察し研磨面が最初の状態を保ちうる限界
時間を別べた。結果は下記の通りであった。
含浸しうるだけの水分を含浸（乾燥重量に対し１０５０
％の水分を含浸）、実験■では軽く絞り乾燥重量に対し
５０３％水分を含浸、実験■では遠心脱水機にて絞り水
分含有率を１）０％としたものとし、■〜■の各々の素
材を以て該ラッピング研磨機の表面を被覆した。湿潤状
態を経時的に観察し研磨面が最初の状態を保ちうる限界
時間を別べた。結果は下記の通りであった。
０１２０時間 ０７２時間 ０１２時間
第１図は本発明方法が適用される、複数個のセグメント
状固型砥石が同一平面を形成するように配列されたラッ
ピング研磨機の研磨作用面の１例−を示す説明図である
。 １−・・・−セグメント固型砥石 ２−・−・金属性定盤
状固型砥石が同一平面を形成するように配列されたラッ
ピング研磨機の研磨作用面の１例−を示す説明図である
。 １−・・・−セグメント固型砥石 ２−・−・金属性定盤
Claims (3)
- （１）ラッピング研磨機の研磨有効作用面に対して、該
研磨有効作用面と同等又はそれ以上の面積を備え、乾燥
重量に対して５００重量％以上の水系液体を含浸せしめ
たポリビニルアセタール系多孔質体を以て、前記ラッピ
ング研磨機の研磨有効作用面を被覆することを特徴とす
るラッピング研磨機の研磨面保湿方法。 - （２）ポリビニルアセタール系多孔質弾性体が、厚み５
ｍｍ以上のものである特許請求の範囲第（１）項に記載
のラッピング研磨機の研磨面保湿方法。 - （３）ポリビニルアセタール系多孔質弾性体が平均気孔
径３０〜３００μｍのものである特許請求の範囲第（１
）項又は第（２）項に記載のラッピング研磨機の研磨面
保湿方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251182A JPS62114870A (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 | ラツピング研磨機の研磨面保湿方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251182A JPS62114870A (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 | ラツピング研磨機の研磨面保湿方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62114870A true JPS62114870A (ja) | 1987-05-26 |
Family
ID=17218900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60251182A Pending JPS62114870A (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 | ラツピング研磨機の研磨面保湿方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62114870A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02152769A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | 研削研磨用工具の保管方法 |
| JPH02158392A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-18 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷インキ転写体及びその製造方法並びにその成形機 |
| JPH09285965A (ja) * | 1996-12-25 | 1997-11-04 | Olympus Optical Co Ltd | 研削研磨用工具の保管方法 |
| US6390895B1 (en) | 1999-08-09 | 2002-05-21 | Hitachi, Ltd. | Flattening and machining method and apparatus |
| WO2005105373A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Shinhan Diamond Co., Ltd. | Diamond tools |
-
1985
- 1985-11-09 JP JP60251182A patent/JPS62114870A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02152769A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | 研削研磨用工具の保管方法 |
| JPH066263B2 (ja) * | 1988-11-30 | 1994-01-26 | オリンパス光学工業株式会社 | 研削研磨用工具の保管方法 |
| JPH02158392A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-18 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷インキ転写体及びその製造方法並びにその成形機 |
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| JP2868150B2 (ja) * | 1996-12-25 | 1999-03-10 | オリンパス光学工業株式会社 | 研削研磨用工具の保管方法 |
| US6390895B1 (en) | 1999-08-09 | 2002-05-21 | Hitachi, Ltd. | Flattening and machining method and apparatus |
| US6477825B2 (en) | 1999-08-09 | 2002-11-12 | Hitachi, Ltd. | Flattening and machining method and apparatus |
| WO2005105373A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Shinhan Diamond Co., Ltd. | Diamond tools |
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