JPS60226896A - 6α―16β―ジメチルコルチコイド及びその製法 - Google Patents
6α―16β―ジメチルコルチコイド及びその製法Info
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- JPS60226896A JPS60226896A JP60004173A JP417385A JPS60226896A JP S60226896 A JPS60226896 A JP S60226896A JP 60004173 A JP60004173 A JP 60004173A JP 417385 A JP417385 A JP 417385A JP S60226896 A JPS60226896 A JP S60226896A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、特許請求の範囲第1項に記載された6、16
−シメチルコルチコイド、この化合物を含有する皮膚挟
患の治療剤、前後にこの6゜16−シメチルコルチコイ
ド合成のための中間生成物として使用するステロイドに
関する。
−シメチルコルチコイド、この化合物を含有する皮膚挟
患の治療剤、前後にこの6゜16−シメチルコルチコイ
ド合成のための中間生成物として使用するステロイドに
関する。
発明を達成するための手段
新規6.16−シメチルコルチコイドは、置換基R1と
してホルミル基、2〜8(%に2〜6)の炭素原子な有
するアルカノイル基またはアルコキシアルキル基、また
はベンゾイル基な含有していてよい。適当なアルカノイ
ル基R1は、たとえはアセチル基、プロピオニル基、ゾ
チリル基、インゾチリル基、バレリアニル基、6−メチ
ルゾチリル基、トリメチルアセチル基またはヘキサノイ
ル基を含有する。アルコキシアルキル基としては、殊に
アルコキシメチル基、たとえばメトキシメチル基、エト
キシメチル基、プロピルオキシメチル基、イソゾロビル
オキ7メチル基、ブチルオキシメチル基、インジチルオ
キシメチル基または1−ブチルオキシメチル基が例とし
て挙げられる。
してホルミル基、2〜8(%に2〜6)の炭素原子な有
するアルカノイル基またはアルコキシアルキル基、また
はベンゾイル基な含有していてよい。適当なアルカノイ
ル基R1は、たとえはアセチル基、プロピオニル基、ゾ
チリル基、インゾチリル基、バレリアニル基、6−メチ
ルゾチリル基、トリメチルアセチル基またはヘキサノイ
ル基を含有する。アルコキシアルキル基としては、殊に
アルコキシメチル基、たとえばメトキシメチル基、エト
キシメチル基、プロピルオキシメチル基、イソゾロビル
オキ7メチル基、ブチルオキシメチル基、インジチルオ
キシメチル基または1−ブチルオキシメチル基が例とし
て挙げられる。
特許請求の範囲第1項による、一般式I:H2Y
H5
〔式中、結合二は単結合または二重結合な衆わし、
Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素原子を
表わし、 2は水素原子または又と一緒に炭素−炭素一緒合を表わ
し、 R1はホルミル基、2〜8の炭素原子を有するアルカノ
イル基またはアルコキシアルキル基、またはベンゾイル
基を表わし、 Yは水素原子またはメチル基を宍わす〕の6゜16−シ
メチルコルチコイドは、局所適用の際に顕著な抗炎症作
用によりすぐれている。さらXが水素原子、フッ素原子
または塩素原子を表わす特許請求の範囲第1項による一
般式Iの6.16−シメチルコルチコイドは、医薬調剤
中での使用のためには、置換基Xが臭#g原子を表わす
ようなものよりも適当であることが認められるが、その
理由は後者がガレヌス製剤中であまり安定でないからで
ある。しかし、他面において特許請求の範i!tl第1
項による一般式■の9−ブロムステロイドは、本発明に
よる、薬学作用のある他の6.16−シメチルコルチコ
イドの合成のための装置ある中間生成物である。
表わし、 2は水素原子または又と一緒に炭素−炭素一緒合を表わ
し、 R1はホルミル基、2〜8の炭素原子を有するアルカノ
イル基またはアルコキシアルキル基、またはベンゾイル
基を表わし、 Yは水素原子またはメチル基を宍わす〕の6゜16−シ
メチルコルチコイドは、局所適用の際に顕著な抗炎症作
用によりすぐれている。さらXが水素原子、フッ素原子
または塩素原子を表わす特許請求の範囲第1項による一
般式Iの6.16−シメチルコルチコイドは、医薬調剤
中での使用のためには、置換基Xが臭#g原子を表わす
ようなものよりも適当であることが認められるが、その
理由は後者がガレヌス製剤中であまり安定でないからで
ある。しかし、他面において特許請求の範i!tl第1
項による一般式■の9−ブロムステロイドは、本発明に
よる、薬学作用のある他の6.16−シメチルコルチコ
イドの合成のための装置ある中間生成物である。
特許請求の範囲第1項による一般式Iの新規6.16−
シメチルコルチコイドは、ガレヌス製剤における常用の
担持物質と組合せて接触皮膚炎、種々の湿疹、神経性皮
膚炎、紅皮症、火傷、外陰掻痒症、酒蝕1、エリテマト
ーデス り療のために適している。
シメチルコルチコイドは、ガレヌス製剤における常用の
担持物質と組合せて接触皮膚炎、種々の湿疹、神経性皮
膚炎、紅皮症、火傷、外陰掻痒症、酒蝕1、エリテマト
ーデス り療のために適している。
医薬の製造は常法で、作用物質を過当な添那剤で、たと
えば溶液、四−ション、軟膏、クリームまたはこう薬の
ような所望の剤形に変えることにより行なわれる。この
ようにInされた医薬中の作用物質濃度は、剤形に依存
する。ローションおよび軟膏では、特に0.001〜1
%の作用物質濃度が使用される。
えば溶液、四−ション、軟膏、クリームまたはこう薬の
ような所望の剤形に変えることにより行なわれる。この
ようにInされた医薬中の作用物質濃度は、剤形に依存
する。ローションおよび軟膏では、特に0.001〜1
%の作用物質濃度が使用される。
さらに、新規化合物は、場合により通常の担持剤および
助剤と組合せて、たとえば気管支喘息筐たは鼻炎のよう
な気道のデレルギー性疾患の治療のために使用すること
のできる吸入剤の製造のためにも好適である。
助剤と組合せて、たとえば気管支喘息筐たは鼻炎のよう
な気道のデレルギー性疾患の治療のために使用すること
のできる吸入剤の製造のためにも好適である。
さらに新規コルチコイドは、特に作用物質10〜200
1vを含有し、経口適用されるカプセル、錠剤または糖
衣錠の形が、または特に単位用量あたり作用物質100
〜500〜を含有し、直腸適用される懸濁液の形でも適
している。
1vを含有し、経口適用されるカプセル、錠剤または糖
衣錠の形が、または特に単位用量あたり作用物質100
〜500〜を含有し、直腸適用される懸濁液の形でも適
している。
これは、潰瘍性結腸炎および顆粒状結腸炎のような陶腸
域のアレルギー疾患の治療のためにも適している。
域のアレルギー疾患の治療のためにも適している。
新規6.16−シメチルコルチコイドは、西ドイツ国特
許出動第72645105号および同第2645104
号ならびにヨーロッパ特許出願第34115号に記載さ
れているような条件下に実施することができる。特許請
求の範囲第18項または第19項記載の方法により製造
することができる。
許出動第72645105号および同第2645104
号ならびにヨーロッパ特許出願第34115号に記載さ
れているような条件下に実施することができる。特許請
求の範囲第18項または第19項記載の方法により製造
することができる。
次の実施例につき、本発明方法を詳述する。
実施例
例1
A) クロロホルム300dおよびホルムアルデヒドジ
メチルアセタール3001中の酢酸ナトリウム10.0
.9の懸濁液を、オキシ塩化リン19117と、65℃
の浴温で1時間攪拌する。
メチルアセタール3001中の酢酸ナトリウム10.0
.9の懸濁液を、オキシ塩化リン19117と、65℃
の浴温で1時間攪拌する。
17α−ヒドロキシ−16/−メチル−4,9(11)
−プレグナジェン−6,20−ジオン10.0gの添加
後、さらにオキシ塩化リン191tな崗〃口し、65℃
で6.5時間さらに攪拌する。冷却した反応溶液を飽和
炭酸ナトリウム溶液で、水相がアルカリ性にとどまるよ
うな量で処理した。
−プレグナジェン−6,20−ジオン10.0gの添加
後、さらにオキシ塩化リン191tな崗〃口し、65℃
で6.5時間さらに攪拌する。冷却した反応溶液を飽和
炭酸ナトリウム溶液で、水相がアルカリ性にとどまるよ
うな量で処理した。
有機相な分離し、中性に洗浄し、乾燥後蒸発濃縮する。
粗生成物をシリカゲル700gで、ヘキサン−酢酸エス
テル−勾配液(0〜50%酢酸エステル)を用いて精製
する。17α−ヒドロキシ−16β−メチル−6−メチ
レン−4゜9 (11)−プレグナジェン−6,20−
ジオン5.9Iを単離する。融点:157〜158°C
0B)氷酢酸40解中の17α−ヒドロキシ−16β−
メチル−6−メチレン−4、9(11)−プレグナジェ
ン−6,20−ジオン3.6gの溶液をOoCに冷却し
、無水トリフルオロ酢酸15Mの滴no後、室温で1時
間撹拌する。氷水−食塩沈殿後總別し、通常のように後
処理する。粗生成物をシリカゲル450gで、ヘキサン
−酢酸エステル−勾配液(0〜50%酢酸エステル)で
精製する。17α−アセトキシ−16β−メチル−6−
メチレン−4,9(11)−プレグナジェン−6,20
−ジオン2.31!が得られる。融点=197〜198
℃。
テル−勾配液(0〜50%酢酸エステル)を用いて精製
する。17α−ヒドロキシ−16β−メチル−6−メチ
レン−4゜9 (11)−プレグナジェン−6,20−
ジオン5.9Iを単離する。融点:157〜158°C
0B)氷酢酸40解中の17α−ヒドロキシ−16β−
メチル−6−メチレン−4、9(11)−プレグナジェ
ン−6,20−ジオン3.6gの溶液をOoCに冷却し
、無水トリフルオロ酢酸15Mの滴no後、室温で1時
間撹拌する。氷水−食塩沈殿後總別し、通常のように後
処理する。粗生成物をシリカゲル450gで、ヘキサン
−酢酸エステル−勾配液(0〜50%酢酸エステル)で
精製する。17α−アセトキシ−16β−メチル−6−
メチレン−4,9(11)−プレグナジェン−6,20
−ジオン2.31!が得られる。融点=197〜198
℃。
C) エタノール30−およびシクロヘキセン2Od中
のパラジウム/活性炭0.5.9の@濁液を1時間浴m
80℃で攪拌し、17α−アセトキシ−16β−メチル
−6−メチレン−4,9(11)−プレグナジェン−6
,20−ジオン4.1gの添加後、17.5時間攪拌し
なからカロ熱する。冷却後、触媒を吸引濾過し、塩化メ
チレンで洗浄し、合した濾液な濃塩酸4QmJと、室温
で0.5時間攪拌する。反応溶液をその容量の■に濃縮
し、氷水に加えおよび通常のように後処理する。粗生成
物を、シリカゲル4oogでヘキサン−酢酸エステル−
勾配液(0〜50%酢酸エステル)な用いて精製する。
のパラジウム/活性炭0.5.9の@濁液を1時間浴m
80℃で攪拌し、17α−アセトキシ−16β−メチル
−6−メチレン−4,9(11)−プレグナジェン−6
,20−ジオン4.1gの添加後、17.5時間攪拌し
なからカロ熱する。冷却後、触媒を吸引濾過し、塩化メ
チレンで洗浄し、合した濾液な濃塩酸4QmJと、室温
で0.5時間攪拌する。反応溶液をその容量の■に濃縮
し、氷水に加えおよび通常のように後処理する。粗生成
物を、シリカゲル4oogでヘキサン−酢酸エステル−
勾配液(0〜50%酢酸エステル)な用いて精製する。
収量:17α−アセトキシ−6α、16β−ジメチル−
4,9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオン3
.6 #0 融点:188〜1900c0 D)ジオキサ77.7tnlおよび水0.5 rLl中
の17α−アセトキシ−6α、16β−ジメチル4.9
(11)−プレグナジェン−6,20−ジオン0.5g
の溶液に、N−ブロムスクシンイミド380即の添加後
、20℃で、水16N中の70%の過塩素酸[1,Q4
1R1の溶液を部類する。内温2゜℃で1時間さらに攪
拌し、15℃に冷却し、水9.7d中の酢酸す) IJ
ウム1.6Iおよび亜硫酸ナトリウム1.OIIから成
る溶液を部類して中和する。その際、内温25℃を越え
てはならない。
4,9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオン3
.6 #0 融点:188〜1900c0 D)ジオキサ77.7tnlおよび水0.5 rLl中
の17α−アセトキシ−6α、16β−ジメチル4.9
(11)−プレグナジェン−6,20−ジオン0.5g
の溶液に、N−ブロムスクシンイミド380即の添加後
、20℃で、水16N中の70%の過塩素酸[1,Q4
1R1の溶液を部類する。内温2゜℃で1時間さらに攪
拌し、15℃に冷却し、水9.7d中の酢酸す) IJ
ウム1.6Iおよび亜硫酸ナトリウム1.OIIから成
る溶液を部類して中和する。その際、内温25℃を越え
てはならない。
メタノール5dの添加後、反応混合物を室温で15分間
および水20+dの添加後、0℃で6時間さらに攪拌す
る。最後に、沈殿物を吸引濾過し、残渣な水で中性に洗
浄し、70℃で真空乾燥話中で乾燥する。粗生成物をア
セトン/ヘキサンから再結晶する。17α−アセトキシ
−9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−6α。
および水20+dの添加後、0℃で6時間さらに攪拌す
る。最後に、沈殿物を吸引濾過し、残渣な水で中性に洗
浄し、70℃で真空乾燥話中で乾燥する。粗生成物をア
セトン/ヘキサンから再結晶する。17α−アセトキシ
−9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−6α。
16β−ジメチル−4−プレグネン−6,20−ジオン
680〜を単離する。
680〜を単離する。
融点=162°C(分解)。
E)17α−アセトキシ−9α−ブロム−11β−ヒド
ロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン−6
,20−ジオン490〜を無水ナト2ヒドロフラン1Q
mJ中に溶解し、トリブチル水素化スズ1.5dおよび
アゾビスイソブチロニトリル40〜の添加後、2時間還
流する。
ロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン−6
,20−ジオン490〜を無水ナト2ヒドロフラン1Q
mJ中に溶解し、トリブチル水素化スズ1.5dおよび
アゾビスイソブチロニトリル40〜の添加後、2時間還
流する。
真空中で濃縮し、残渣なシリカゾル100.!i’でヘ
キサン−酢酸エステル−勾配液(0〜50%酢酸)を用
いて精製する。収量:17α−アセトキシ−11β−ヒ
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−7’レグネン
−3,20−ジオン195■。融点:264〜265℃
。
キサン−酢酸エステル−勾配液(0〜50%酢酸)を用
いて精製する。収量:17α−アセトキシ−11β−ヒ
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−7’レグネン
−3,20−ジオン195■。融点:264〜265℃
。
例2
A) ジエチルグリコールジメチルエーテル625−中
の17α−ヒドロキシ−16β−メチル−4、9(11
)−プレグナジェン−6,20−ジオン50gの懸濁液
な、4−ジメチルアミノピリジン75.9の添加後、無
水プロピオン酸75鮮と80℃の浴温で6日間攪拌する
。氷水沈殿後通常のように後処理し、粗生成物をシリカ
ゾル3.5Kfで、塩化メチレン−アセトン−勾配液(
0〜12%アセトン)を用いてNMする。収量:16β
−メチル−17α−プロピオニルオキシ−4,9(11
)−プレグナジェン−6,20−ジオン54.2 g。
の17α−ヒドロキシ−16β−メチル−4、9(11
)−プレグナジェン−6,20−ジオン50gの懸濁液
な、4−ジメチルアミノピリジン75.9の添加後、無
水プロピオン酸75鮮と80℃の浴温で6日間攪拌する
。氷水沈殿後通常のように後処理し、粗生成物をシリカ
ゾル3.5Kfで、塩化メチレン−アセトン−勾配液(
0〜12%アセトン)を用いてNMする。収量:16β
−メチル−17α−プロピオニルオキシ−4,9(11
)−プレグナジェン−6,20−ジオン54.2 g。
融点=158〜160℃。
B)例I A)の条件下に、 16β−メチル−17α
−プロピオニルオキシ−4,9(11)−プレグナジェ
ン−6,20−ジオン531Iを、ホルムアルデヒドジ
メチルアセタールと反応させて、16β−メチル−6−
メチレン−17α−プロピオニルオキシ−4,9(11
)−プレグナジェン−6,20−ジオン55.911を
得、後処理し、精製する。融点:175〜177℃。
−プロピオニルオキシ−4,9(11)−プレグナジェ
ン−6,20−ジオン531Iを、ホルムアルデヒドジ
メチルアセタールと反応させて、16β−メチル−6−
メチレン−17α−プロピオニルオキシ−4,9(11
)−プレグナジェン−6,20−ジオン55.911を
得、後処理し、精製する。融点:175〜177℃。
C)16β−メチル−6−メチレン−17α−プロピオ
ニルオキシ−4,9(11)−ルグナジエンー3.20
−ジオン5.0yな、例I C)と同様に、パラジウム
/活性炭およびシクロヘキセンで水素化し、後処理し、
精製する。収量=6α、16β−ジメチル−17α−プ
ロピオニルオキシ−4,9(11)−プレグナジェン−
6゜20−ジオン3.7 N、融点:129℃。
ニルオキシ−4,9(11)−ルグナジエンー3.20
−ジオン5.0yな、例I C)と同様に、パラジウム
/活性炭およびシクロヘキセンで水素化し、後処理し、
精製する。収量=6α、16β−ジメチル−17α−プ
ロピオニルオキシ−4,9(11)−プレグナジェン−
6゜20−ジオン3.7 N、融点:129℃。
D)例I D)に記載したように、6α−16β−ジメ
チル−17α−ノロピオニルオキシー4゜9 (11)
−プレグナジェン−6,20−ジオン500〜をN−ブ
ロムスクシンイミドおよび過、塩素酸と反応させ、後処
理し、精製する。9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−
6α、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ
−4−プレグネン−6,20−ジオン520〜が得られ
る。融点=115℃。
チル−17α−ノロピオニルオキシー4゜9 (11)
−プレグナジェン−6,20−ジオン500〜をN−ブ
ロムスクシンイミドおよび過、塩素酸と反応させ、後処
理し、精製する。9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−
6α、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ
−4−プレグネン−6,20−ジオン520〜が得られ
る。融点=115℃。
E)例I B)の条件下に、9α−ブロム−11β−ヒ
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−17α−プロピオ
ニルオキシ−4−プレグネン−6゜20−ジオン550
■をトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し、精
製する。収量:11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジ
メチル−17α−プロピオニルオキシ−4−fレグネン
−6,20−ジオン280■。融点:214〜215℃
。
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−17α−プロピオ
ニルオキシ−4−プレグネン−6゜20−ジオン550
■をトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し、精
製する。収量:11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジ
メチル−17α−プロピオニルオキシ−4−fレグネン
−6,20−ジオン280■。融点:214〜215℃
。
例6
A)酪酸110m1中の17α−ヒドロキシ−16β−
メチル−4、9(11)−プレグナジェン−3,20−
ジオン11.1 #の0°Cに冷却した懸濁液に、無水
トリフルオロ酢酸60mをIj加し、室温で2時間攪拌
する。氷水−食塩−沈殿後、通常のように後処理し、精
製する。収量=17α−ブチリルオキシ−16β−メチ
ル−4゜9 (11)−プレグナジェン−3,20−ジ
オン7.8g。融点=131〜1326C B)例I A)に記載したように、17α−ブチリルオ
キシ−16β−メチル−4,9(11)−ゾレグナシエ
ン−6,20−ジオン13.0gをホルムアルデヒドジ
メチルアセタールと反応させ後処理し、f*製する。収
量=17α−ブチリルオキシ−16β−メチル−6−メ
チレン−4゜9(11)−プレグナジェン−6,20−
ジオン7、Elolfi点:166℃。
メチル−4、9(11)−プレグナジェン−3,20−
ジオン11.1 #の0°Cに冷却した懸濁液に、無水
トリフルオロ酢酸60mをIj加し、室温で2時間攪拌
する。氷水−食塩−沈殿後、通常のように後処理し、精
製する。収量=17α−ブチリルオキシ−16β−メチ
ル−4゜9 (11)−プレグナジェン−3,20−ジ
オン7.8g。融点=131〜1326C B)例I A)に記載したように、17α−ブチリルオ
キシ−16β−メチル−4,9(11)−ゾレグナシエ
ン−6,20−ジオン13.0gをホルムアルデヒドジ
メチルアセタールと反応させ後処理し、f*製する。収
量=17α−ブチリルオキシ−16β−メチル−6−メ
チレン−4゜9(11)−プレグナジェン−6,20−
ジオン7、Elolfi点:166℃。
C) N、l I C) ト同様に、17α−ブチリル
オキシ−16β−メチル−6−メチレン−4,9(11
)−プレグナジェン−3,20−ジオン?、2gを、パ
ラジウム/活性炭およびシクロヘキセンで水素化し、後
処理し、精製する。17α−ブチリルオキシ−6α、1
6β−ジメチル−4゜9 (11)−プレグナジェン−
6,20−ジオン6.75 、Slな単離する。融点:
165〜166℃。
オキシ−16β−メチル−6−メチレン−4,9(11
)−プレグナジェン−3,20−ジオン?、2gを、パ
ラジウム/活性炭およびシクロヘキセンで水素化し、後
処理し、精製する。17α−ブチリルオキシ−6α、1
6β−ジメチル−4゜9 (11)−プレグナジェン−
6,20−ジオン6.75 、Slな単離する。融点:
165〜166℃。
D)17α−ブチリルオキクーロα、16β−ジメチル
−4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオン
500■を、例I D)と同様に、N−ブロムスクシン
イミドおよび過塩集散と反応させ、後処理し、精製する
。9α−ブロム−1フα−ブチリルオキシ−11β−ヒ
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン−
6,20−ジオン420〜を単離する。融点=158〜
159℃。
−4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオン
500■を、例I D)と同様に、N−ブロムスクシン
イミドおよび過塩集散と反応させ、後処理し、精製する
。9α−ブロム−1フα−ブチリルオキシ−11β−ヒ
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン−
6,20−ジオン420〜を単離する。融点=158〜
159℃。
E)例I E)の条件下に、9α−ブロム−17α−プ
チリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α。
チリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α。
16β−ジメチル−4−プレグネン−6,2〇−ジオン
5001ngをトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後
処理し、精製する。収量:17α−ブチリルオキシ−1
1β−ヒドロキシ−6α。
5001ngをトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後
処理し、精製する。収量:17α−ブチリルオキシ−1
1β−ヒドロキシ−6α。
16β−ジメチル−4−プレグネン−6,2〇−ジオン
284■。融点;98〜100°C0・川4 A)塩化メチレン10〇−中の17α−ヒドロキシ−1
6β−メチル−6−メチレン−4,9(11)−プレグ
ナジェン−6,20−ジオン16.0gの浴液に、安息
香酸26.0.9の添加後、室温で無水トリフルオロ酢
酸120紅な一卵し、0.5時間攪拌する。通常の後処
理後、粗生成物をシリカビルア00gで、ヘキサン−酢
酸エステル−勾配液(0〜30%酢酸エステル)を用い
て精製する。17α−ベンゾイルオキシ−16β−メチ
ル−6−メチレン−4、9(11)−プレグナジェン−
6,20−ジオン6.2gを単離する。
284■。融点;98〜100°C0・川4 A)塩化メチレン10〇−中の17α−ヒドロキシ−1
6β−メチル−6−メチレン−4,9(11)−プレグ
ナジェン−6,20−ジオン16.0gの浴液に、安息
香酸26.0.9の添加後、室温で無水トリフルオロ酢
酸120紅な一卵し、0.5時間攪拌する。通常の後処
理後、粗生成物をシリカビルア00gで、ヘキサン−酢
酸エステル−勾配液(0〜30%酢酸エステル)を用い
て精製する。17α−ベンゾイルオキシ−16β−メチ
ル−6−メチレン−4、9(11)−プレグナジェン−
6,20−ジオン6.2gを単離する。
B)例I C)の条件下に、17α−ベンゾイルオキシ
−16β−メチル−6−メチレン−4゜9 (11)−
プレグナジェン−3,20−ジオン6.8gをパラジウ
ム/活性炭およびシクロヘキセンで水素化し、後処理し
、精Mjる。収に:17α−ベンゾイルオキシー6α、
16β−ジメチル−4、9(11)−プレグナジェン−
3゜20−ジオン1.6g。
−16β−メチル−6−メチレン−4゜9 (11)−
プレグナジェン−3,20−ジオン6.8gをパラジウ
ム/活性炭およびシクロヘキセンで水素化し、後処理し
、精Mjる。収に:17α−ベンゾイルオキシー6α、
16β−ジメチル−4、9(11)−プレグナジェン−
3゜20−ジオン1.6g。
C)例I D)と同様に、17α−ベンゾイルオキシ−
6α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナジ
ェン−6,20−ジオン1.5gをN−ブロムスクシン
イミドおよび過酸素酸と反応させ、後処理し、精製する
。17α−ベンゾイルオキシ−9α−ブロム−11β−
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン
−3,20−ジオン1.1gが得られる。
6α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナジ
ェン−6,20−ジオン1.5gをN−ブロムスクシン
イミドおよび過酸素酸と反応させ、後処理し、精製する
。17α−ベンゾイルオキシ−9α−ブロム−11β−
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン
−3,20−ジオン1.1gが得られる。
D)例I E)に記載したように、17α−ベンゾイル
オキシ−9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−6α、1
6β−ジメチル−4−プレグネン−5,20−ジオン1
.09なトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し
、精製する。収fi:17α−ベンゾイルオキシ−11
β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグ
ネン−6,20−ジオン6951R9゜例5 A)17α−ヒドロキシ−16β−メチル−6−メチレ
ン−4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオ
ンから例I C)と同様に製造した17α−ヒドロキシ
−6α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナ
ジェン−6,20−ジオン6.59を無水塩化メチレン
251111およびホルムアルデヒドジメチルアセター
ル16幅中に溶解し、ケインウ土W20 5.0.9お
よび五酸化リン2.59から成る混合物を少量宛〃口え
る。
オキシ−9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−6α、1
6β−ジメチル−4−プレグネン−5,20−ジオン1
.09なトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し
、精製する。収fi:17α−ベンゾイルオキシ−11
β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−4−プレグ
ネン−6,20−ジオン6951R9゜例5 A)17α−ヒドロキシ−16β−メチル−6−メチレ
ン−4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオ
ンから例I C)と同様に製造した17α−ヒドロキシ
−6α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナ
ジェン−6,20−ジオン6.59を無水塩化メチレン
251111およびホルムアルデヒドジメチルアセター
ル16幅中に溶解し、ケインウ土W20 5.0.9お
よび五酸化リン2.59から成る混合物を少量宛〃口え
る。
45分間室温で後攪拌し、吸引濾過しおよび残漬をトリ
エチルアミン6〜5%を含有する塩化メチレンで数回浴
出する。粗生成物を、シリカダル500gで、塩化メチ
レン−アセトン−勾配液(0〜10%アセトン)を用い
て精製する。
エチルアミン6〜5%を含有する塩化メチレンで数回浴
出する。粗生成物を、シリカダル500gで、塩化メチ
レン−アセトン−勾配液(0〜10%アセトン)を用い
て精製する。
17α−メトキシ−メトキシ−6α、16β−ジメチル
−4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオン
2.2gが得られる。
−4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオン
2.2gが得られる。
B)例I D)の条件下に、17α−メトキシメトキク
−6α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナ
ジェン−6,20−ジオン2.0 &をN−ブロムスク
シンイミドと反応させ、後処理し、精製する。収量:9
α−ブロム−11β−ヒドロキシ−17α−メトキシメ
トキシ−6α。
−6α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナ
ジェン−6,20−ジオン2.0 &をN−ブロムスク
シンイミドと反応させ、後処理し、精製する。収量:9
α−ブロム−11β−ヒドロキシ−17α−メトキシメ
トキシ−6α。
16β−ジメチル−4−プレグネン−6,2〇−ジオン
1゜7g。
1゜7g。
C)例I E)と同様に、9α−ブロム−11β−ヒド
ロキシ−17α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジ
メチル−4−プレグネン−6゜20−ジオン1.2.9
なトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し、a#
する。11β−ヒドロキシ−17α−メトキシメトキシ
−6α。
ロキシ−17α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジ
メチル−4−プレグネン−6゜20−ジオン1.2.9
なトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し、a#
する。11β−ヒドロキシ−17α−メトキシメトキシ
−6α。
16β−ジメチル−4−プレグネン−6,20−ジオン
850m9を単離する。
850m9を単離する。
例6
A)ジオキサン61WLl中の17α−アセトキシ−6
α、16β−ジメチル−4,9(11)−ブレブナジエ
ン−6,20−ジオン3.OIlの溶液をジクロロ−ジ
シアノベンゾキノン3.011とともに7時間還流する
。冷却および濾別した後、素数を蒸発乾個する。粗生成
物をシリカrルア50yで、ヘキサ/−酢酸エステル−
勾配液(0〜50%酢駿エステル)を用いて精製する。
α、16β−ジメチル−4,9(11)−ブレブナジエ
ン−6,20−ジオン3.OIlの溶液をジクロロ−ジ
シアノベンゾキノン3.011とともに7時間還流する
。冷却および濾別した後、素数を蒸発乾個する。粗生成
物をシリカrルア50yで、ヘキサ/−酢酸エステル−
勾配液(0〜50%酢駿エステル)を用いて精製する。
粗収量は17α−アセトキシ−6α、16β−ジメチル
−1,4,9(11)−プレグナトリエン−6゜20−
ジオン1.6gであり、これを沸騰エタノール201に
洛かしこれに、水8d中のNa2820゜5.73.9
の浴液な滴下して処理する。
−1,4,9(11)−プレグナトリエン−6゜20−
ジオン1.6gであり、これを沸騰エタノール201に
洛かしこれに、水8d中のNa2820゜5.73.9
の浴液な滴下して処理する。
2時間後反応混合物を、蒸留フラスコ中の容蓋を水の供
給により維持しかつブリッジ温度計(Bruecken
thermoneter ) が99℃な示すように
して蒸留する。蒸留フラスコを+20°Cに冷却し、諸
態し、残漬を倉入りに水で洗浄し、これを塩化メチレン
中に溶解する。有機浴液な乾燥後、ンリカrル胎に通し
て−a過し、引続き蒸発製網する。
給により維持しかつブリッジ温度計(Bruecken
thermoneter ) が99℃な示すように
して蒸留する。蒸留フラスコを+20°Cに冷却し、諸
態し、残漬を倉入りに水で洗浄し、これを塩化メチレン
中に溶解する。有機浴液な乾燥後、ンリカrル胎に通し
て−a過し、引続き蒸発製網する。
収箪:0.9&、融点:252〜256℃。
B)例I D)と同様に、17α−アセトキシ−6α、
16β−ジメチル−1,4,9(11)−プレグナトリ
エン−6,2o−ジオン1.2yをN−ブロムスクシン
イミドおよび過塩素酸と反応させ、後処理し、h製する
。
16β−ジメチル−1,4,9(11)−プレグナトリ
エン−6,2o−ジオン1.2yをN−ブロムスクシン
イミドおよび過塩素酸と反応させ、後処理し、h製する
。
収Jt:17a−アセトキシ−9α−ブロム−11β−
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−7’レ
グナシエン〜6.2o−ジオンi、6.y、これをアセ
トン/ヘキサンがら再結晶する。融点:184〜185
℃。
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−7’レ
グナシエン〜6.2o−ジオンi、6.y、これをアセ
トン/ヘキサンがら再結晶する。融点:184〜185
℃。
C)17α−アセトキシ−9α−ブロム−11β−ヒド
ロキシ−6α、16β−ジメチル−1゜4−7″レグナ
シエン−3,2o−ジオン300〜を、例I E)に記
載したようにトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処
理し、精製する。
ロキシ−6α、16β−ジメチル−1゜4−7″レグナ
シエン−3,2o−ジオン300〜を、例I E)に記
載したようにトリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処
理し、精製する。
17α−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−6α、16
β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジ
オン115ダを単離する。
β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジ
オン115ダを単離する。
融点:270〜272℃。
例7
A)例6 A)の条件下に、6α、16β−ジメチル−
17α−プロピオニルオキシ−4,9(11)−プレグ
ナジェン−6,20−ジオン6、DIをジクロロジシア
ノベンゾキノンで脱水素化し、後処理し、精製する。6
α、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−
1,4゜9 (11)−プレグナトリエン−6,20−
ジオン2.1gを単離する。融点:220〜221°0
0B) 6α、16β−ジメチル−17α−プロピオニ
ルオキシ−1,4,9(11)−プレグナトリエン−6
,20−ジオン2.0gを、例I D)と同様に、N−
ブロムスクシンイミドおよび過塩素酸と反応させ、後処
理し、精製する。9α−プロムー11β−ヒドロキシ−
6α、16β−ジメチル−17a−プロピオニルオキシ
−1゜4−プレグナジェン−3,20−ジオン261g
が得られる。融点=175〜176℃。
17α−プロピオニルオキシ−4,9(11)−プレグ
ナジェン−6,20−ジオン6、DIをジクロロジシア
ノベンゾキノンで脱水素化し、後処理し、精製する。6
α、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−
1,4゜9 (11)−プレグナトリエン−6,20−
ジオン2.1gを単離する。融点:220〜221°0
0B) 6α、16β−ジメチル−17α−プロピオニ
ルオキシ−1,4,9(11)−プレグナトリエン−6
,20−ジオン2.0gを、例I D)と同様に、N−
ブロムスクシンイミドおよび過塩素酸と反応させ、後処
理し、精製する。9α−プロムー11β−ヒドロキシ−
6α、16β−ジメチル−17a−プロピオニルオキシ
−1゜4−プレグナジェン−3,20−ジオン261g
が得られる。融点=175〜176℃。
c) 9α−ブロム−11β−ヒ、ドロキシ−6α。
16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−1,
4−プレグナジェン−3,20−ジオン500即を、例
I E)と同様にトリブチル水素化スズで脱臭素化し、
後処理し、クロマトグラフィーにかける。収fillβ
−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−17α−プロ
ピオニルオキシ−1,4−7’レグナシエン−6゜20
−ジオン270119゜融点:260〜2610c。
4−プレグナジェン−3,20−ジオン500即を、例
I E)と同様にトリブチル水素化スズで脱臭素化し、
後処理し、クロマトグラフィーにかける。収fillβ
−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−17α−プロ
ピオニルオキシ−1,4−7’レグナシエン−6゜20
−ジオン270119゜融点:260〜2610c。
例8
A)例6A)と同様に、17α−ブチリルオキシ゛−6
α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナジェ
ン−6,20−ジオン4.75 #をジクロロジシアノ
ベンゾキノンと反応させ、後処理し、精製する。17α
−ブチリルオキシ−6α、16β−ジメチル−1,4,
9(11)−プレグナトリエン−3,20−ジオン6.
6gを単離する。融点:195〜196°C0B)例I
D)に記載したように、17α−ブチリルオキシ−6
α、16β−ジメチル−1,4゜9 (11)−プレグ
ナトリエン−6,20−ジオン6.2gをN−ブロムス
クシンイミドおよび過塩素酸と反応させ、後処理する。
α、16β−ジメチル−4,9(11)−プレグナジェ
ン−6,20−ジオン4.75 #をジクロロジシアノ
ベンゾキノンと反応させ、後処理し、精製する。17α
−ブチリルオキシ−6α、16β−ジメチル−1,4,
9(11)−プレグナトリエン−3,20−ジオン6.
6gを単離する。融点:195〜196°C0B)例I
D)に記載したように、17α−ブチリルオキシ−6
α、16β−ジメチル−1,4゜9 (11)−プレグ
ナトリエン−6,20−ジオン6.2gをN−ブロムス
クシンイミドおよび過塩素酸と反応させ、後処理する。
アセトン/ヘキサンから書結晶し、9α−ブロム−1フ
α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α。
α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α。
16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20
−ジオン2.8gが得られる。融点:170〜171℃
。
−ジオン2.8gが得られる。融点:170〜171℃
。
C)9α−ブロム−17α−ブチリルオキシ−11β−
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグ
ナジェン−3,20−ジオン500■を、例I B)と
同様に、トリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し
、クロマトグラフィーにかける。17α−ブチリルオキ
シ−11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1
,4−プレグナジェン−3,20−ジオン350■を単
離する。融点=190〜191℃。
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグ
ナジェン−3,20−ジオン500■を、例I B)と
同様に、トリブチル水素化スズで脱臭素化し、後処理し
、クロマトグラフィーにかける。17α−ブチリルオキ
シ−11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1
,4−プレグナジェン−3,20−ジオン350■を単
離する。融点=190〜191℃。
例9
N−メチルピロリドン14−中の9α−ブロム−17α
−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α、16β
−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジオ
ン700■の溶液を、塩化リチウム70 olkgと浴
温80℃で1.5時間攪拌する。氷水食塩による沈殿後
、通常のように後処理し、粗生成物をシリカゲル100
Iで、ヘキサン−酢酸エステル−勾配液(0〜50チ酢
酸エステル)を用いて精製する。
−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α、16β
−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジオ
ン700■の溶液を、塩化リチウム70 olkgと浴
温80℃で1.5時間攪拌する。氷水食塩による沈殿後
、通常のように後処理し、粗生成物をシリカゲル100
Iで、ヘキサン−酢酸エステル−勾配液(0〜50チ酢
酸エステル)を用いて精製する。
収量:17α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−
6α、16β−ジメチル−1,4,8−プレグナトリエ
ン−3,20−ジオン645mgo融点:222〜22
3°C0 例10 A)アセトン5WLl中の、17α−アセトキシ−9α
−ブロム−11β−ヒドロキシ−6α。
6α、16β−ジメチル−1,4,8−プレグナトリエ
ン−3,20−ジオン645mgo融点:222〜22
3°C0 例10 A)アセトン5WLl中の、17α−アセトキシ−9α
−ブロム−11β−ヒドロキシ−6α。
16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20
−ジオン800〜の懸濁液を、乳鉢で微細に磨砕した炭
酸カリウム162gとともに室温で22時間攪拌する。
−ジオン800〜の懸濁液を、乳鉢で微細に磨砕した炭
酸カリウム162gとともに室温で22時間攪拌する。
炭酸カリウムな吸引濾過し、濾液を真空中で蒸発乾個す
る。粗生成物をシリカゲル100gで、ヘキサン−酢酸
エステル−勾配液(酢酸エステル0〜50%)を用いて
精製する。17α−アセトキシ−9,11β−エポキシ
−6α、16β−ジメチル−1,4−フレブナジエン−
3,20−ジオン480〜を単離する。融点;248〜
2500C。
る。粗生成物をシリカゲル100gで、ヘキサン−酢酸
エステル−勾配液(酢酸エステル0〜50%)を用いて
精製する。17α−アセトキシ−9,11β−エポキシ
−6α、16β−ジメチル−1,4−フレブナジエン−
3,20−ジオン480〜を単離する。融点;248〜
2500C。
B) クロロホルム451Lt中の17α−アセトキシ
−9,11β−エポキシ−6α、16β−ジメチル−1
,4−プレグナジェン−3,20−ジオン450〜の溶
液を、0.5N塩酸浴液9μとともに室温で2.5時間
攪拌する。塩化メチレンで希釈し、重炭酸ナトリウム溶
液および引続き水で洗浄する。粗生成物を7リ力デル1
00gで、塩化メチレン−アセトン−勾配液(アセトン
0〜12%)を用いて精製する。収量=17α−アセト
キシー9α−クロル−11β−ヒドロキシ−6α、16
β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジ
オン26orn9゜融点:268〜270°C0 例11 A) 9α−ブロム−11β・−ヒドロキシ−6α。
−9,11β−エポキシ−6α、16β−ジメチル−1
,4−プレグナジェン−3,20−ジオン450〜の溶
液を、0.5N塩酸浴液9μとともに室温で2.5時間
攪拌する。塩化メチレンで希釈し、重炭酸ナトリウム溶
液および引続き水で洗浄する。粗生成物を7リ力デル1
00gで、塩化メチレン−アセトン−勾配液(アセトン
0〜12%)を用いて精製する。収量=17α−アセト
キシー9α−クロル−11β−ヒドロキシ−6α、16
β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジ
オン26orn9゜融点:268〜270°C0 例11 A) 9α−ブロム−11β・−ヒドロキシ−6α。
16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−1,
4−プレグナジエ/−3,20−ジオン1.59な例1
0A)と同様に炭酸カリウムと反応させ、後処理し、精
製する。9,11β−エポキシ−6α、16β−ジメチ
ル−17α−プロピオニルオキシ−1,4−プレグナジ
ェン−3,20−ジオン1.2gを単離する。融点=2
12〜216℃。
4−プレグナジエ/−3,20−ジオン1.59な例1
0A)と同様に炭酸カリウムと反応させ、後処理し、精
製する。9,11β−エポキシ−6α、16β−ジメチ
ル−17α−プロピオニルオキシ−1,4−プレグナジ
ェン−3,20−ジオン1.2gを単離する。融点=2
12〜216℃。
B)例10B)の条件下に、9,11β−エポキシ−6
α、16β−ジメチル−17α−ノロピオニルオキシ−
1,4−プレグナジエン−6゜20−ジオン5001n
9&0.5Nの劃10WLlと反応させ、後処理し、精
製する。収量=9α−クロルー11β−ヒドロキシ−6
α、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−
1゜4−プレグナジェン−6,20−ジオン600〜。
α、16β−ジメチル−17α−ノロピオニルオキシ−
1,4−プレグナジエン−6゜20−ジオン5001n
9&0.5Nの劃10WLlと反応させ、後処理し、精
製する。収量=9α−クロルー11β−ヒドロキシ−6
α、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−
1゜4−プレグナジェン−6,20−ジオン600〜。
融点:248〜249℃。
例12
A)例10A)に記載したように、9α−ブロム−17
α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α、16
β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジ
オン2.5gを炭酸カリウムと反応させ、後処理し、精
製する。17α−ブチリルオキシ−9,11β−エポキ
シ−6α、16β−ジメチル−1,4−7’レグナシエ
ン−6,20−ジオン1.4gが得られる。融点=15
8〜160℃。
α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α、16
β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20−ジ
オン2.5gを炭酸カリウムと反応させ、後処理し、精
製する。17α−ブチリルオキシ−9,11β−エポキ
シ−6α、16β−ジメチル−1,4−7’レグナシエ
ン−6,20−ジオン1.4gが得られる。融点=15
8〜160℃。
B)例10B)と同様に、17a−ブチリルオキシ−9
,11β−エポキシ−6α、16β−ジメチル−1,4
−プレグナジェン−3,20−ジオン0.65 #を0
.5N塩酸と反応させ、後処理し、精製する。収量=1
7α−ブチリルオキシ−9α−クロル−11β−ヒドロ
キシ−6α。
,11β−エポキシ−6α、16β−ジメチル−1,4
−プレグナジェン−3,20−ジオン0.65 #を0
.5N塩酸と反応させ、後処理し、精製する。収量=1
7α−ブチリルオキシ−9α−クロル−11β−ヒドロ
キシ−6α。
16β−ジメチル−1,4−プレグナシエン−3,20
−ジオン0.6 、?、融点: 224−225℃。
−ジオン0.6 、?、融点: 224−225℃。
例13
一40°Cに冷却した(HF)n /ピリジン溶液1.
2mA中に、17α−アセトキシ−9,11β−エポキ
シ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン
−3,20−ジオン300qを導入し、溶液を4時間−
40°C〜−10℃でさらに攪拌する。アンモニアアル
カリ性氷水による沈殿後、沈殿物を濾別し、通常のよう
に後処理する。粗生成物をシリカゲル100gで、塩化
メチレン−アセトン−勾配液(0〜12%アセトン)を
用いて精製する。17α−アセトキシ−9α−フルオロ
−11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,
4−プレグナジェン−6,20−ジオン175〜を得る
。融点=291〜296°C0 例14 例13に記載したように、9.11β−エポキシ−6α
、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−1
,4−プレグナジェン−6,20−ジオン600■を(
HF)n /ピリジンと反応させ、後処理し、n製する
。収1t:9α−フルオロー11β−ヒドロキシ−6α
、 16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−
1゜4−プレグナジェン−6,20−ジオン410ダ。
2mA中に、17α−アセトキシ−9,11β−エポキ
シ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン
−3,20−ジオン300qを導入し、溶液を4時間−
40°C〜−10℃でさらに攪拌する。アンモニアアル
カリ性氷水による沈殿後、沈殿物を濾別し、通常のよう
に後処理する。粗生成物をシリカゲル100gで、塩化
メチレン−アセトン−勾配液(0〜12%アセトン)を
用いて精製する。17α−アセトキシ−9α−フルオロ
−11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,
4−プレグナジェン−6,20−ジオン175〜を得る
。融点=291〜296°C0 例14 例13に記載したように、9.11β−エポキシ−6α
、16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−1
,4−プレグナジェン−6,20−ジオン600■を(
HF)n /ピリジンと反応させ、後処理し、n製する
。収1t:9α−フルオロー11β−ヒドロキシ−6α
、 16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−
1゜4−プレグナジェン−6,20−ジオン410ダ。
融点=269〜270℃。
例15
例16と同様に、17α−ブチリルオキシ−9,11β
−エポキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグ
ナジェン−3,20−ジオン650〜& (HF)n
/ピリジンと反応させ、後処理し、精製する。17α−
ブチリルオキシ−9α−フルオロ−11β−ヒドロキシ
−6α。
−エポキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグ
ナジェン−3,20−ジオン650〜& (HF)n
/ピリジンと反応させ、後処理し、精製する。17α−
ブチリルオキシ−9α−フルオロ−11β−ヒドロキシ
−6α。
16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20
−ジオン570■を単離する。融点=246〜247℃
。
−ジオン570■を単離する。融点=246〜247℃
。
例16
A)ジオキサン800111中の21−アセトキシ−1
7α−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−4,9(
11)−プレグナジェン−6,20−ジオン30.0
gの溶液を、ジクロロジシアノベンゾキノン30.01
1と例6A)と同様に反応させ、後処理し、精製する。
7α−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−4,9(
11)−プレグナジェン−6,20−ジオン30.0
gの溶液を、ジクロロジシアノベンゾキノン30.01
1と例6A)と同様に反応させ、後処理し、精製する。
収量=21−アセトキシー17α−ヒドロキシ−6α、
16β−ジメチル−1,4,9(11)=プレグナトリ
エン−6,20−ジオン12.0#、融点:215〜2
16°C0 B)21−アセトキシ−17α−ヒドロキシ−6α、1
6β−ジメチル−1,4,9(11)−プレグナトリエ
ン−6,20−ジオン10.5&を、無水の塩化メチレ
ン7.51Llおよびホルムアルデヒドジメチルアセタ
ール500威中に浴解し、ケイソウ±W20 15.0
gおよび5酸化リンフ、5gから成る混合物を少量宛加
える。蔓温で1時間後攪拌し、吸引濾過し、残液をトリ
エチルアミン6〜5%を含有する塩化メチレンで数回溶
出する。粗生成物なシリカゲル1.5KPで、塩化メチ
レン−アセトン−勾配液(0〜10%アセトン)を用い
て精製する。21−アセトキシ−17α−メトキシメト
キシ−6α。
16β−ジメチル−1,4,9(11)=プレグナトリ
エン−6,20−ジオン12.0#、融点:215〜2
16°C0 B)21−アセトキシ−17α−ヒドロキシ−6α、1
6β−ジメチル−1,4,9(11)−プレグナトリエ
ン−6,20−ジオン10.5&を、無水の塩化メチレ
ン7.51Llおよびホルムアルデヒドジメチルアセタ
ール500威中に浴解し、ケイソウ±W20 15.0
gおよび5酸化リンフ、5gから成る混合物を少量宛加
える。蔓温で1時間後攪拌し、吸引濾過し、残液をトリ
エチルアミン6〜5%を含有する塩化メチレンで数回溶
出する。粗生成物なシリカゲル1.5KPで、塩化メチ
レン−アセトン−勾配液(0〜10%アセトン)を用い
て精製する。21−アセトキシ−17α−メトキシメト
キシ−6α。
16β−ジメチル−1,4,9−プレグナトリエン−6
,20−ジオン8.6gを単離する。
,20−ジオン8.6gを単離する。
C) 0.2N水酸化カリウムのメタノール溶液8〇−
中の21−アセFキシー17α−メトキシメトキシ−6
α、16β−ジメチル−1,4゜9−プレグナトリエン
−6,20−ジオン7.09の溶液を、0℃で40分間
攪拌する。10%の酢酸で中和し、氷水沈殿および後処
理後、得られる粗生成物をシリカゲル500gで塩化メ
チレン−アセトン−勾配液(0〜10%アセトン)を用
いて精製する。収量:21−ヒドロキシ−17α−メト
キシメトキシ−6α、16β−ジメチル−1,4,9−
プレグナトリエン−6,20−ジオン4.69゜ D)ピリジン4Q+++J中の21−ヒドロキシ−17
α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジメチル−1,
4,9−プレグナトリエン−6゜20−ジオン4.0.
917)W&液に、0℃でメタンスルホン酸クロリド2
.11な滴D口する。室温で1時間攪拌し、氷水沈殿後
、通常のように後処理する。粗生成物な、シリカゾル6
00gで塩化メチレン−アセトン−勾配液(アセトン0
〜10%)を用いてn製する。21−メシルオキシ−1
7α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジメチルー1
,4.9−プレグナトリエン−6,20−ジオン2.9
gを単離する。
中の21−アセFキシー17α−メトキシメトキシ−6
α、16β−ジメチル−1,4゜9−プレグナトリエン
−6,20−ジオン7.09の溶液を、0℃で40分間
攪拌する。10%の酢酸で中和し、氷水沈殿および後処
理後、得られる粗生成物をシリカゲル500gで塩化メ
チレン−アセトン−勾配液(0〜10%アセトン)を用
いて精製する。収量:21−ヒドロキシ−17α−メト
キシメトキシ−6α、16β−ジメチル−1,4,9−
プレグナトリエン−6,20−ジオン4.69゜ D)ピリジン4Q+++J中の21−ヒドロキシ−17
α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジメチル−1,
4,9−プレグナトリエン−6゜20−ジオン4.0.
917)W&液に、0℃でメタンスルホン酸クロリド2
.11な滴D口する。室温で1時間攪拌し、氷水沈殿後
、通常のように後処理する。粗生成物な、シリカゾル6
00gで塩化メチレン−アセトン−勾配液(アセトン0
〜10%)を用いてn製する。21−メシルオキシ−1
7α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジメチルー1
,4.9−プレグナトリエン−6,20−ジオン2.9
gを単離する。
E)無水テトラヒドロンシン20IJ中のヨウ化銅(I
) 980〜の懸濁液を、−25℃に冷却し、1.6M
のメチルリチウム#&11d’L−7711える。
) 980〜の懸濁液を、−25℃に冷却し、1.6M
のメチルリチウム#&11d’L−7711える。
−25°Gで約0.5時間攪拌し、−55℃に冷却し、
ジメチルホルムアミド20IILe中の21−メシルオ
キシ−17α−メトキシメトキシ−6α。
ジメチルホルムアミド20IILe中の21−メシルオ
キシ−17α−メトキシメトキシ−6α。
16β−ジメチル−1,4,9−プレグナトリエン−6
,20−ジオン2.09の浴液を泗加する。−55℃〜
−5℃で2時間の反応時間後、水3αm中の塩化アンモ
ニウム6.0 # f)m液を徐々に両胸し、−5℃で
さらに15分間攪拌し酢酸エステルで希釈し、中性洗浄
後、通常のように後処理する。粗生成物を、シリカゲル
200gで塩化メチレン−アセトン−勾配液(0〜10
%アセトン)を用いて精製する。17α−メトキシメト
キシ−6α、16β、21−トリメチル−1、4,9(
11)−プレグナトリエン−3,20−ジオン1.1g
を単離する。
,20−ジオン2.09の浴液を泗加する。−55℃〜
−5℃で2時間の反応時間後、水3αm中の塩化アンモ
ニウム6.0 # f)m液を徐々に両胸し、−5℃で
さらに15分間攪拌し酢酸エステルで希釈し、中性洗浄
後、通常のように後処理する。粗生成物を、シリカゲル
200gで塩化メチレン−アセトン−勾配液(0〜10
%アセトン)を用いて精製する。17α−メトキシメト
キシ−6α、16β、21−トリメチル−1、4,9(
11)−プレグナトリエン−3,20−ジオン1.1g
を単離する。
F)例I D)と同゛様に、17α−メトキシメトキク
−6α、16β+’ 21− )ジメチル−1゜4 、
9 (11)−プレグナトリエン−3,20−ジオン1
.OgをN−ブロムスクシンイミドおよび過塩素嫉と反
応させ、後処理し、′tPIMする。
−6α、16β+’ 21− )ジメチル−1゜4 、
9 (11)−プレグナトリエン−3,20−ジオン1
.OgをN−ブロムスクシンイミドおよび過塩素嫉と反
応させ、後処理し、′tPIMする。
収量:9α−ブロム−11β−ヒドロキシ−17α−メ
トキシメトキシ−6α、16β。
トキシメトキシ−6α、16β。
21−トリメチル−1,4−7’レグナシエン−3,2
0−ジオン720〜。
0−ジオン720〜。
G)例I E)の条件下に、9α−ブロム−11β−ヒ
ドロキシ−17α−メトキシメトキシ−6α、16β、
21−)ジメチル−1,4−プレグナジエン−6,20
−ジオン700■を、トリジチル水素化スズで脱水素化
し、後処理し精製する。11β−ヒドロキシ−17α−
メトキクメトキシ−6α、16β、21−トリメチル−
1,4−プレグナジェン−6,20−ジオン3601R
9を単離する。
ドロキシ−17α−メトキシメトキシ−6α、16β、
21−)ジメチル−1,4−プレグナジエン−6,20
−ジオン700■を、トリジチル水素化スズで脱水素化
し、後処理し精製する。11β−ヒドロキシ−17α−
メトキクメトキシ−6α、16β、21−トリメチル−
1,4−プレグナジェン−6,20−ジオン3601R
9を単離する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式l: H2Y H3 〔式中、結合=は単結合または二重結合を表わし、Xは
水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素原子な表わ
し、 2は水素原子または又と一緒に炭素−炭素−結合を表わ
し、 R1はホルミル基、2〜8の炭素原子を有するアルカノ
イル基またはアルコキ7アルキル基またはベンゾイル基
を表わし、 Yは水素原子またはメチル基を表わす〕で示される6α
、16β−ジメチルコルチコイド。 2.17α−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−6α、
16β−ジメチル−4−プレグネン−3,20−ジオン
である、特許請求の範囲第1項記載の6α、16β−ジ
メチルコルチコイド。 6、11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1
7α−プロピオニルオキシ−4−プレグネン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲wJ1項記載の6α、
16β−ジメチルコルチコイド。 4、17α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6
α、16β−ジメチル−4−プレグネン−3,20−ジ
オンである、特許請求の範囲第1項記載の6α、16β
−ジメチルコルチコイド。 5、17α−ベンゾイルオキシ−11β−ヒドレキシー
6α、16β−ジメチル−4−7’レグネン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲第1項記載の6α、1
6β−ジメチルコルチコイド、 6゜ 11β−ヒドロキシ−17α−メトキシメトキシ
−6α、16β−ジメチル−4−プレグネン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲第1項記載の6α、1
6β−ジメチルコルチコイド。 7.17α−アセトキシ−11β−ヒドロキシ−6α、
16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲第1項記載の6α、1
6β−ジメチルコルチコイド。 8、11β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1
7α−プロピオニルオキシ−1,4−プレグナジェン−
6,20−ジオンである、特許請求の範囲第1項記載の
6σ、16β−ジメチルコルチコイド。 917α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−6α
、1.6β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−3,
20−ジオンである、特許請求の範囲第1項記載の6α
、16β−ジメチルコルチコイド。 10.17α−ブチリルオキシ−11β−ヒドロキシ−
6α、16β−ジメチル−1,4,8−プレグナトリエ
ン−6,20−ジオンである、特許請求の範囲第1項記
載の61.16β−ジメチルコルチコイド。 11.17α−アセトキシ−9α−クロル−11β−ヒ
ドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグナ
ジェン−6,20−ジオンである、特許請求の範囲第1
項記載の6α。 16/−ジメチルコルチコイド。 12.9α−クロル−11β−ヒドロキク−6α。 16β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−1,
4−プレグナジェン−3,20−ジオンである、特許請
求の範囲第1項記載の6α、16β−ジメチルコルチコ
イド。 13.17α−ブチリルオキシ−9α−クロル−11β
−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレ
グナジェン−6,20−ジオンである、特許請求の範囲
第1項記載の6α、16β−ジメチルコルチコイド。 14.17α−アセトキシ−9α−フルオロ−11β−
ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグ
ナジェン−6,20−ジオンである、特許請求の範囲第
1項記載の6α、16β−ジメチルコルチコイド。 15、9α−フルオロ−11β−ヒドロキシ−6α、1
6β−ジメチル−17α−プロピオニルオキシ−1,4
−プレグナジェン−6゜20−ジオンである、特許請求
の範囲第1項記載の6α、16β−ジメチルコルチコイ
ド。 16.17α−プチリルオキシー9α−フルオロ−11
β−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−1,4−プ
レグナジェン−5,20−ジオンである、特許請求の範
囲第1項記載の6α、16β−ジメチルコルチコイド。 1Z 11β−ヒト關キシー17α−メトキシメトキシ
−6α、16β、21−)リメチルー1.4−ブレブナ
ジエン−6,20−ジオンである、特許請求の範囲第1
項記載の6α。 16β−ジメチルコルチコイド。 18、一般式I: H2Y H3 〔式中、結合:は単結合または二重結合な懺わし、 Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素原子な
嵌わし、 2は水素原子またはXと一緒に炭素−炭素−結合を表わ
し、 R1はホルミル基、2〜8の炭素原子を有するアルカノ
イル基またはアルコキシアルキル基またはベンゾイル基
を懺わし、 Yは水素原子またはメチル基を懺わす〕で示る されjt6α、16β−ジメチルコルチコイドの製法に
おいて、一般式■: H2Y CH3 〔式中!、R1およびYは上述のものを懺わす〕で示さ
れるステロイドのエポキシ環を常法でフン化水素または
塩化水素で開環し、所望により一般式lの9−ブロムス
テロイドから、9位にあるハロゲン原子を還元により除
去するか、またはΔ8−二重結合を導入するためにハロ
ゲン化水素−を脱離し、1.2−位が飽和のステロイド
を、この位置で脱水素化することを特徴とする、6α、
16β−ジメチルコルチコイドの製法。 19一般式■: H2Y CH。 〔式中、結合:は単結合または二重結合を懺わし、 Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素原子を
懺わし、 2は水素原子またはXと一緒に炭素−炭素−結合を貴わ
し、 R1はホルミル基、2〜8の炭素原子を有するアルカノ
イル基またはアルコキシアルキル基またはベンゾイル基
を懺わし、 Yは水素原子またはメチル基を表わす〕で示される6α
、16β−ジメチルコルチコイドの製法において、一般
式l: H2Y ca。 〔式中!、R1およびYは上述のものを表わす〕で示さ
れるステロイドの3g(n)−二重結合に、次亜塩素駿
または次亜臭素酸を付加し所望により一般式■の9−ブ
ロムステロイドから、9位にあるハロゲン原子を還元に
より除去するか、またはΔ8−二重結合な導入するため
にハロゲン化水素を脱離し、1.2−位が飽和の一般式
lのステロイドなこの位置で脱水素化することな特徴と
する、6α、16β−ジメチルコルチコイドの製法。 20、一般式l; H2Y 〔式中、結合=は単結合または二重結合を懺わし、 Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素、原子
な我わし、 2は水素原子またはXと一緒に炭素−炭素−結合fk:
衆わし、 R1はホルミル基、2〜8の炭素原子を有するアルカノ
イル基またはアルコキシアルキル基またはベンゾイル基
fk衣わし、 Yは水素原子またはメチル基を表わす〕で示される6α
116β−ジメチルコルチコイド1種または数種を含有
することを特徴とする、皮膚疾患治療剤。 21、一般式■: R4R5 〔式中ニは、単結合または二重結合を表わし、Yは水素
原子またはメチル基を表わし、RLlは水素原子な表わ
ゴかまたはホルミル基、2〜8の炭素原子な有するアル
カノイル基またはアルコキシアルキル基またはベンゾイ
ル基を表わし、 2は炭素−炭素一緒合または酸素原子を表わし、 穐およびR6は一緒になってメチレン基を懺わすか、ま
たはR4は水素原子またはメチル基を衆わし、R5は水
素原子を表わす〕 で示されるステロイド。 22、17α−ヒドロキシ−16β−メチル−6−メチ
レン−4,9(11)−プレグナジェン−3,20−ジ
オンである、特許請求の範囲第21項記載のステロイド
。 23、 17α−アセトキシ−16β−メチル−6−メ
チレン−4,9(11)−プレグナジェン−6,20−
ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロイ
ド。 24、17α−アセトキシ−6α、16β−ジメチル−
4,9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオンで
ある、特許請求の範囲第21項記載のステロイド。 25、16β−メチル−6−メチレン−17α−プロぎ
オニルオキシ−4,9(11)−プレグナジェン−3,
20−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のス
テロイド。 26.6α、16β−ジメチル−17α−プロピオニル
オキシ−4、9(11)−プレグナジェン−!1.20
−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロ
イド。 2Z 17α−ブチリルオキシ−16β−メチル−6−
メチレン−4、9(11)−プレグナジェン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロ
イド。 28、17α−ブチリルオキシ−6α、16β−ジメチ
ルー4.9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオ
ンである、特許請求の範囲第21項記載のステロイド。 2917α−ベンゾイルオキシ−16β−メチル−6−
メチレン−4,9(11)−プレグナジェン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロ
イド。 30、 17α−ベンゾイルオキシ−6α、16β−ジ
メチル−4,9(11)−プレグナジェン−6,20−
ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロイ
ド。 31.17α−ヒドロキシ−6α、16β−ジメチル−
4、9(11)−プレグナジェン−6゜20−ジオンで
ある、特許請求の範囲第21項記載のステロイド。 32、17α−メトキシメトキシ−6α、16β−ジメ
チル−4,9(11)−プレグナジェン−6,20−ジ
オンである、特許請求の範囲第21項記載のステロイド
。 56、 17α−アセトキシ−6α、16β−ジメチル
−1、4,9(11)−プレグナトリエン−3,20−
ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロイ
ド。 34.6α、16β−ジメチル−17α−プロピオニル
オキシ−1、4,9(11)−プレグナトリエン−6,
20−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のス
テロイド。 35、17α−ブチリルオキシ−6α、16β−ジメチ
ル−1、4,9(11)−プレグナトリエン−6,20
−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載のステロ
イド。 36、 17α−アセトキシ−9,11β−エポキシ−
6α、16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−3
,20−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載の
ステロイド。 37.9.11β−エポキシ−6α、16β−ジメチル
−17α−プロピオニルオキシ−1゜4−プレグナジェ
ン−3,20−ジオンである、特許請求の範囲第21項
記載のステロイド。 38、17α−ブチリルオキシ−9,11β−エポキシ
−6α、16β−ジメチル−1,4−プレグナジェン−
3,20−ジオンである、特許請求の範囲第21項記載
のステロイド。
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