JPS60226432A - ガラスの赤外線反射コーテイングの製造方法 - Google Patents
ガラスの赤外線反射コーテイングの製造方法Info
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- JPS60226432A JPS60226432A JP60066372A JP6637285A JPS60226432A JP S60226432 A JPS60226432 A JP S60226432A JP 60066372 A JP60066372 A JP 60066372A JP 6637285 A JP6637285 A JP 6637285A JP S60226432 A JPS60226432 A JP S60226432A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
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- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はガラス上に赤外線反射のフッ素含有錫オキサイ
ドのコーティングの製造方法に関するものである。
ドのコーティングの製造方法に関するものである。
平面状ガラス上の適当な厚さ例えば１００圏〜１０００
ｍのフッ素含有錫オキサイドコーティングは赤外線を反
射すること、即ち低い輻射率を持ち、同時にスペクトル
の可視部の光を透過することが知られており、この性状
によって前記コーティングは夛有効な建築的ガラス張り
として盛に使用されている。また、かかるコーティング
は微細粉末の錫化合物をフッ素源の存在下で平面ガラス
の表面に温度４００℃〜６５０℃の範囲で投射して造ら
れることが知られている。この方法で製造されるコーテ
ィングは一般に外観上無色であるが、他の薄いフィルム
と同様に反射の中に干渉色を発生すゐ。干渉色はコーテ
ィングの厚さに依存し、従つてコーティングの全厚が変
化すると、見られる干渉色に識別される変化ができる。
ｍのフッ素含有錫オキサイドコーティングは赤外線を反
射すること、即ち低い輻射率を持ち、同時にスペクトル
の可視部の光を透過することが知られており、この性状
によって前記コーティングは夛有効な建築的ガラス張り
として盛に使用されている。また、かかるコーティング
は微細粉末の錫化合物をフッ素源の存在下で平面ガラス
の表面に温度４００℃〜６５０℃の範囲で投射して造ら
れることが知られている。この方法で製造されるコーテ
ィングは一般に外観上無色であるが、他の薄いフィルム
と同様に反射の中に干渉色を発生すゐ。干渉色はコーテ
ィングの厚さに依存し、従つてコーティングの全厚が変
化すると、見られる干渉色に識別される変化ができる。
干渉色の視覚衝撃（ｖｉｓｕａｊｉｍｐａｃｔ ）やコ
ーティングの厚さの変化に起因するかかる色の変化はコ
ーティングの厚さが大きい穆一般により小さい。しかし
、コーティングは可視光を吸収するので、コーティング
ガラスの光透過はコーティングの厚さが大になる程減少
することが認められている。
ーティングの厚さの変化に起因するかかる色の変化はコ
ーティングの厚さが大きい穆一般により小さい。しかし
、コーティングは可視光を吸収するので、コーティング
ガラスの光透過はコーティングの厚さが大になる程減少
することが認められている。
本発明の目的は、従来のガラス上のフッ素含有錫オキサ
イドコーティングの欠点を改良し、赤外線反射がすぐれ
、しかも光透過のよいガラスのフッ素含有錫オキサイド
コーティングの製造方法を提供するものである。
イドコーティングの欠点を改良し、赤外線反射がすぐれ
、しかも光透過のよいガラスのフッ素含有錫オキサイド
コーティングの製造方法を提供するものである。
前述のようにして製造される所定の厚さのフッ素含有錫
オキサイトコーティ／グの光透過率及び赤外線反射率は
高温ガラス温度で処理′することによって増大すること
を見つけ出し、その結果、本発明を達成したものである
。
オキサイトコーティ／グの光透過率及び赤外線反射率は
高温ガラス温度で処理′することによって増大すること
を見つけ出し、その結果、本発明を達成したものである
。
本発明によって、フッ素含有錫オキサイドコーティング
をガラス上に沈積させるために実絢条件下で分解する微
細に粉砕した固体状の錫化合物を高温ガラス上に供給す
ることによりガラス上に赤外線反射コーティングを製造
する方法において、前記錫化合物がガラス温度６６０℃
以上の高温ガラスの表面上に供給されることによるガラ
スの赤外線反射コーティングの製造方法が提供されるも
のである。即ち、一般にガラス温度が６６０℃以上でよ
り高い温度である程、所定の厚さのコーティングの光透
過率はより高くなることが見つけ出されたものである。
をガラス上に沈積させるために実絢条件下で分解する微
細に粉砕した固体状の錫化合物を高温ガラス上に供給す
ることによりガラス上に赤外線反射コーティングを製造
する方法において、前記錫化合物がガラス温度６６０℃
以上の高温ガラスの表面上に供給されることによるガラ
スの赤外線反射コーティングの製造方法が提供されるも
のである。即ち、一般にガラス温度が６６０℃以上でよ
り高い温度である程、所定の厚さのコーティングの光透
過率はより高くなることが見つけ出されたものである。
また、コーティング処理がガラスの連続したリボン、例
えば製造工程から出て来る高温の巻きガラスに適用され
ることが好ましい。若しそのガラスがコーティング工程
の後で延伸されると、そのコーティングはクラックされ
易い。このようなりラックはコーティングガラスの熱反
射性能に重大な影響を及ぼさないが、クラックは審美的
に喜ばしくないので避ける方が好ましい。それ故にリボ
／を幾許かの延伸をした後で、ガラスのリボンにコーテ
ィングを適用することが好ましい。また、本発明のコー
ティング処理はガラスに７５０℃以下の温度で実施する
のが好ましく、特に好ましいのはガラスに６８０℃〜７
２０℃の温度範囲でコーティングを適用することがよい
。
えば製造工程から出て来る高温の巻きガラスに適用され
ることが好ましい。若しそのガラスがコーティング工程
の後で延伸されると、そのコーティングはクラックされ
易い。このようなりラックはコーティングガラスの熱反
射性能に重大な影響を及ぼさないが、クラックは審美的
に喜ばしくないので避ける方が好ましい。それ故にリボ
／を幾許かの延伸をした後で、ガラスのリボンにコーテ
ィングを適用することが好ましい。また、本発明のコー
ティング処理はガラスに７５０℃以下の温度で実施する
のが好ましく、特に好ましいのはガラスに６８０℃〜７
２０℃の温度範囲でコーティングを適用することがよい
。
本発明に使用される錫化合物は操作東件下でフッ素含有
錫オキサイドに分解する化合物であるべきである。使用
される錫化合物の例を挙げると、アルキル錫オキサイド
例えばブチル錫オキサイドや、化学式Ｒｘ５ＨＨａｄ、
−ｘで表わされるアルキル錫ハロゲン化物が使用される
。但し、各Ｒはアルキル基で好ましくは炭素原子１〜６
個を含むもの、Ｘは１，２．３であり、Ｈａｊはハロゲ
／を表わし、ジ 尚ｘ＝ｉ又はｌのときハロゲン原子は同一でも異なって
いてもよい。自由流動性を有し微細に粉砕した固体状の
錫の源を与えるために乾燥固体形状で利用できる非吸湿
性化合物を使用することが好ましい。好ましい錫化合物
の例はジプチル錫オキサイドやジブチル錫ジフツ化物を
含むものである。
錫オキサイドに分解する化合物であるべきである。使用
される錫化合物の例を挙げると、アルキル錫オキサイド
例えばブチル錫オキサイドや、化学式Ｒｘ５ＨＨａｄ、
−ｘで表わされるアルキル錫ハロゲン化物が使用される
。但し、各Ｒはアルキル基で好ましくは炭素原子１〜６
個を含むもの、Ｘは１，２．３であり、Ｈａｊはハロゲ
／を表わし、ジ 尚ｘ＝ｉ又はｌのときハロゲン原子は同一でも異なって
いてもよい。自由流動性を有し微細に粉砕した固体状の
錫の源を与えるために乾燥固体形状で利用できる非吸湿
性化合物を使用することが好ましい。好ましい錫化合物
の例はジプチル錫オキサイドやジブチル錫ジフツ化物を
含むものである。
これらの代りに無機錫化合物が使用されることができ、
例を挙げればヘキサノ・ロゲノ錫酸アンモニウムで化学
式（ＮＨ４）、 ５ｎＨａｌ、で表わされ、但し、存在
するハロゲンの少数原子割合がフッ素でノ・リボンの残
余原子割合が塩素である。このような化合物はアンモニ
ウムイオン、錫イオン、フッ素イオン、及び塩素イオ／
の源を適当組成で水溶液とならしめ、減圧下で蒸発させ
て乾燥することによって調製される。錫塩化物は錫イオ
ン及び塩素イオンの源として使用され、また塩化アンモ
ニウムやフッ化アンモニウムはアンモニウムイオンやハ
ロゲンイオンの源として使用され得る。このようなヘキ
サハロゲノ錫酸塩は水蒸気の存在下で使用されるのが好
ましい。
例を挙げればヘキサノ・ロゲノ錫酸アンモニウムで化学
式（ＮＨ４）、 ５ｎＨａｌ、で表わされ、但し、存在
するハロゲンの少数原子割合がフッ素でノ・リボンの残
余原子割合が塩素である。このような化合物はアンモニ
ウムイオン、錫イオン、フッ素イオン、及び塩素イオ／
の源を適当組成で水溶液とならしめ、減圧下で蒸発させ
て乾燥することによって調製される。錫塩化物は錫イオ
ン及び塩素イオンの源として使用され、また塩化アンモ
ニウムやフッ化アンモニウムはアンモニウムイオンやハ
ロゲンイオンの源として使用され得る。このようなヘキ
サハロゲノ錫酸塩は水蒸気の存在下で使用されるのが好
ましい。
非常に微細な粒子の錫化合物を使用すると一層均一なコ
ーティングに成ることが考えられ、一般に粒子状の錫化
合物で最大粒子サイズ１００μｍ以下、特に２００μｍ
以下のものを使用することが好ましい。
ーティングに成ることが考えられ、一般に粒子状の錫化
合物で最大粒子サイズ１００μｍ以下、特に２００μｍ
以下のものを使用することが好ましい。
若し望むならば錫化合物の混合物も使用できる□フッ素
含有錫化合物とフッ素非含有錫化合物との混合物を使用
することによシ、製造されるコーティングのフッ素含有
量を規制することができる。
含有錫化合物とフッ素非含有錫化合物との混合物を使用
することによシ、製造されるコーティングのフッ素含有
量を規制することができる。
若し使用される錫化合物がフッ素を含まないか又はコー
ティング中に要求されるフッ素含有量を与えるのに不十
分なフッ素しか含まないならば、フッ素の別個の源が使
用されてもよい。例えば、コーティングを汚染する副生
物の生成を生起しないフッ化水素ガスを使用することが
望ましい。
ティング中に要求されるフッ素含有量を与えるのに不十
分なフッ素しか含まないならば、フッ素の別個の源が使
用されてもよい。例えば、コーティングを汚染する副生
物の生成を生起しないフッ化水素ガスを使用することが
望ましい。
錫オキサイドの生成に必要な酸素は錫化合物及び使用す
る数種の化合物から与えられるが、酸素を独立の源とし
て与えることが通常必要であるか又は少くとも望ましい
。例としてこのことは固体錫化合物のキャリヤーガスと
して空気又は酸素を使用することによって行なわれる。
る数種の化合物から与えられるが、酸素を独立の源とし
て与えることが通常必要であるか又は少くとも望ましい
。例としてこのことは固体錫化合物のキャリヤーガスと
して空気又は酸素を使用することによって行なわれる。
若し望むならば、高温ガラス上に錫化合物の熱分解によ
り錫オキサイドの生成を保証するだけの十分な酸素が存
在するように確実に注意が行なわれるならば、他のキャ
リヤーガスが使用されてもよい。
り錫オキサイドの生成を保証するだけの十分な酸素が存
在するように確実に注意が行なわれるならば、他のキャ
リヤーガスが使用されてもよい。
また、本発明は本発明方法によって製造された赤外線反
射フッ素含有錫オキサイドコーティングを持つガラスを
も包含するものである。
射フッ素含有錫オキサイドコーティングを持つガラスを
も包含するものである。
本発明は以下の実施例によって具体的に説明されるが、
これらに限定されない。実施例において、光透過率に関
し引用した数値はシ・アイ・イ・イラミナント ｃ ７
− ス（Ｃ，１，Ｈ，ＩＩＩｕｍｉｎａｎｔ Ｃｑｏｕ
ｒｃｅ ）からの光の透過率によるものでちゃ、引用し
た輻射率の数値は次式を適用して得られたものである。
これらに限定されない。実施例において、光透過率に関
し引用した数値はシ・アイ・イ・イラミナント ｃ ７
− ス（Ｃ，１，Ｈ，ＩＩＩｕｍｉｎａｎｔ Ｃｑｏｕ
ｒｃｅ ）からの光の透過率によるものでちゃ、引用し
た輻射率の数値は次式を適用して得られたものである。
輻射率（Ｋｍｉｓｓｉマ１ｔｙ）。
但し、へ鼻＝スペクトル放射、
Ｂ（λ、Ｔ）＝ ３ ｏ ｏ ６Ｋに於ける黒体のスペ
クトルエネルギー分布 上式によ抄計算し九輻射率Ｅはコーティングの 。
クトルエネルギー分布 上式によ抄計算し九輻射率Ｅはコーティングの 。
赤外線反射率に関係するものであり、一般に輻射率が低
い程、赤外線反射率はより高いものである。
い程、赤外線反射率はより高いものである。
実施例 １
ジプチル錫ジフッ素化物が２％（ｙｔ）の「カブ−オー
シル（ｃａｂ−０−８ＩＡりＪ、〔力紀ット カーボン
リミテッド オブ エレスメルポート（Ｃａｂｏｔ
Ｃａｒｂｏｎ Ｌｉｍ１ｔｅｄ ｏｆ Ｅ１］、ｅｓｍ
ｅｒｅ Ｐｏｅｔ ）（英国）製の市販の無定形ンリカ
〕を粉砕添加剤及び流動促進剤として混合され、次にそ
の混合物はピン粉砕機で最大粒子サイズが１００μｍ以
下になるように粉砕された。その粉砕した固体はキャリ
ヤーガスの空気の流れの中に分散され、次に幅６龍のス
ロットに通して、そのスロットを５ｍ／分で移動して過
る厚さ６ｆｌの高温ガラスの上に投射された。空気はｏ
、 ０４ ｍｓ ４５ ｋｐａに於ける／ｍｓスロット
長さ７分の速度で供給され、また粉砕した固体は４ｇ／
ｃｍ、スロット長さ７分の速度で供給された。コーティ
ングの厚さ、コーティングガラスの光透過率及びコーテ
ィングガラスの輻射車端Ｅ Ｉｌｌ史六ｈ 奔ヘ ヂラ
ス但廖 ６００ ℃乃ｒド ６ ｑ ζ ヤで得られ
た結果は下表に示す如くである。
シル（ｃａｂ−０−８ＩＡりＪ、〔力紀ット カーボン
リミテッド オブ エレスメルポート（Ｃａｂｏｔ
Ｃａｒｂｏｎ Ｌｉｍ１ｔｅｄ ｏｆ Ｅ１］、ｅｓｍ
ｅｒｅ Ｐｏｅｔ ）（英国）製の市販の無定形ンリカ
〕を粉砕添加剤及び流動促進剤として混合され、次にそ
の混合物はピン粉砕機で最大粒子サイズが１００μｍ以
下になるように粉砕された。その粉砕した固体はキャリ
ヤーガスの空気の流れの中に分散され、次に幅６龍のス
ロットに通して、そのスロットを５ｍ／分で移動して過
る厚さ６ｆｌの高温ガラスの上に投射された。空気はｏ
、 ０４ ｍｓ ４５ ｋｐａに於ける／ｍｓスロット
長さ７分の速度で供給され、また粉砕した固体は４ｇ／
ｃｍ、スロット長さ７分の速度で供給された。コーティ
ングの厚さ、コーティングガラスの光透過率及びコーテ
ィングガラスの輻射車端Ｅ Ｉｌｌ史六ｈ 奔ヘ ヂラ
ス但廖 ６００ ℃乃ｒド ６ ｑ ζ ヤで得られ
た結果は下表に示す如くである。
６９５℃で得られたコーティングは６００℃で得られた
コーティングよりも薄いが、厚さの差異から光透過率が
コーティング温Ａり高くなったことにより５９．１１か
ら６６．７チに大幅に増加したことについて十分に説明
できない。更に高温になる程コーティングの輻射率はよ
り低くなり、これからコーティングの赤外線反射率がよ
り大きくなったことを示す。
コーティングよりも薄いが、厚さの差異から光透過率が
コーティング温Ａり高くなったことにより５９．１１か
ら６６．７チに大幅に増加したことについて十分に説明
できない。更に高温になる程コーティングの輻射率はよ
り低くなり、これからコーティングの赤外線反射率がよ
り大きくなったことを示す。
実施例 ２
コーティングの製造方法が粉体の供給速度を遅くして繰
り返された。空気及び粉体の供給速度が夫々０．０４
ｍ”、４５ ｋｐａに於いて／ ｃＷＬｓスロット長さ
７分及びｚ、ｓｙ／ＣＩ！Ｌ、スロット長さ７分であっ
た。得られたコーティング製品が測定され、得られたそ
の結果は下表に示す如くである。
り返された。空気及び粉体の供給速度が夫々０．０４
ｍ”、４５ ｋｐａに於いて／ ｃＷＬｓスロット長さ
７分及びｚ、ｓｙ／ＣＩ！Ｌ、スロット長さ７分であっ
た。得られたコーティング製品が測定され、得られたそ
の結果は下表に示す如くである。
再度、温度の６００℃から６９５℃の上昇により厚さが
最低限に減少するが、このことから光透過が６６．９４
から７１．２％に顕著に増大することについて十分な理
由となら々い。光透過率の増大は輻射率の減少を伴ない
、即ちコーティングの赤外線反射率の増大をもたらすも
のである。
最低限に減少するが、このことから光透過が６６．９４
から７１．２％に顕著に増大することについて十分な理
由となら々い。光透過率の増大は輻射率の減少を伴ない
、即ちコーティングの赤外線反射率の増大をもたらすも
のである。
実施例 ３
ジメチル錫ジフッ化物が粉砕添加剤や流動促進剤として
「カブ−オーシルＪ２％（Ｗｔ）と混合され、次にその
組成物が最大粒子サイズ１００μｍ以下になるようにジ
ェットミルで粉砕され九。
「カブ−オーシルＪ２％（Ｗｔ）と混合され、次にその
組成物が最大粒子サイズ１００μｍ以下になるようにジ
ェットミルで粉砕され九。
その粉砕した固体がキャリヤーガスの空気の流れの中に
分散され、次に＠６０のスロットを通ってそのスロット
を５ｍ゛／分で移動する厚さ６龍の高温ガラスの上に投
射された。空気は００４ ｍ’、４５ ｋｐｃ Ｋ於い
５ ／ （１７Ａ、スロット長さ７分の速度で供給され
、また粉砕した固体は６９７ｃａ、スロット長さ７分の
速度で供給された。コーティングされたガラスの性状が
測定され、温度６００℃及び７０５℃のガラス温度で得
られた結果は下表に示す如くである。
分散され、次に＠６０のスロットを通ってそのスロット
を５ｍ゛／分で移動する厚さ６龍の高温ガラスの上に投
射された。空気は００４ ｍ’、４５ ｋｐｃ Ｋ於い
５ ／ （１７Ａ、スロット長さ７分の速度で供給され
、また粉砕した固体は６９７ｃａ、スロット長さ７分の
速度で供給された。コーティングされたガラスの性状が
測定され、温度６００℃及び７０５℃のガラス温度で得
られた結果は下表に示す如くである。
７０５℃で製造されたコーティングは６００℃で得られ
たコーティングよ抄本最低限により薄いが、しかしこの
ことから光透過率が７４．７％から７７．８−に増大す
ることについて十分な理由でない。光透過率の増大は輻
射率の０．３５から０．２０にへの減少によって示され
る如く赤外線反射率の実質的な増加を伴なうものである
。
たコーティングよ抄本最低限により薄いが、しかしこの
ことから光透過率が７４．７％から７７．８−に増大す
ることについて十分な理由でない。光透過率の増大は輻
射率の０．３５から０．２０にへの減少によって示され
る如く赤外線反射率の実質的な増加を伴なうものである
。
実施例 ４
ジプチル錫オキサイドとジプチル錫ジフツ化物との重量
比１：１の混合物が「カブ−オーシル」２％（ｖｔ）を
粉砕添加剤及び流動促進剤として混合さね、次にその組
成物がピン粉砕機で粒子サイズが１００μｍ 以下にな
るように粉砕された。その粉砕した固体かキャリヤーガ
スの空気の流れの中に分散され、次に幅６關、長さ１ｍ
のスロットを通して、そのスロットを５ｍ／分で移動す
る厚さ６朋の高温のフロートガラス上に投射された。
比１：１の混合物が「カブ−オーシル」２％（ｖｔ）を
粉砕添加剤及び流動促進剤として混合さね、次にその組
成物がピン粉砕機で粒子サイズが１００μｍ 以下にな
るように粉砕された。その粉砕した固体かキャリヤーガ
スの空気の流れの中に分散され、次に幅６關、長さ１ｍ
のスロットを通して、そのスロットを５ｍ／分で移動す
る厚さ６朋の高温のフロートガラス上に投射された。
空気１ｒｉ ５ ｍ” ７分の速度で供給され、また粉
砕した固体は３００１１／分の速度で供給された。コー
ティングしたガラスの性状が測定され、異なる温度（各
温度について２ケース）で得られた結果は下表に示す如
くである。各ケースにおいてコーティングの厚さは７０
０ ｎｍであった。
砕した固体は３００１１／分の速度で供給された。コー
ティングしたガラスの性状が測定され、異なる温度（各
温度について２ケース）で得られた結果は下表に示す如
くである。各ケースにおいてコーティングの厚さは７０
０ ｎｍであった。
赤外線反射率（測定された輻射率によって証拠ずけられ
る）及び光透過率は何れも温度の上昇と共に増大する。
る）及び光透過率は何れも温度の上昇と共に増大する。
その増大の割合は６７５℃以上で一層大きく、このこと
は６７５℃と７２５℃の間で平均輻射率の低下が０．０
５５であるのに比べて６００℃と６７５℃との間で平均
輻射率の低下が０．０３５であることから分る。同様に
平均光透過率は６００℃と６７５℃の間で６７．１チか
ら６８．０チに増大するが、６７５℃と７２５℃との間
で６８．０％から６９．７１に増大している。
は６７５℃と７２５℃の間で平均輻射率の低下が０．０
５５であるのに比べて６００℃と６７５℃との間で平均
輻射率の低下が０．０３５であることから分る。同様に
平均光透過率は６００℃と６７５℃の間で６７．１チか
ら６８．０チに増大するが、６７５℃と７２５℃との間
で６８．０％から６９．７１に増大している。
実施例 ５
ジプチル錫ジフツ化物が粉砕添加剤及び流動促進剤とし
て［カブ−オーシルＪ２％（ｖｒｔ）と混合され、次に
その組成物はアルパイン コロブレクス ラバラ ト
リ ミ ル １ ６ ０ Ｚ （ＡｌｐｉｎｅＫｏｌｌ
ｏｐｌｅｘ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ｍｌｌｌ １６０
Ｚ ）粉砕機で最大粒子サイズが１００μｍ以下に粉
砕された。
て［カブ−オーシルＪ２％（ｖｒｔ）と混合され、次に
その組成物はアルパイン コロブレクス ラバラ ト
リ ミ ル １ ６ ０ Ｚ （ＡｌｐｉｎｅＫｏｌｌ
ｏｐｌｅｘ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ｍｌｌｌ １６０
Ｚ ）粉砕機で最大粒子サイズが１００μｍ以下に粉
砕された。
次に粉砕した固体はキャリヤーガスとして４．７１スロ
ットを通して製造工程から出て来る高温の４れた。ガラ
スリボンの徐冷非速度は５２６ｆｔ％／時であった。こ
のようにして赤外線反射フッ素含有錫オキサイドコーテ
ィングがガラス表面に成形された。コーティングの厚さ
を測定したところ４２０ｎｍ であった０コーテイング
ガラスの光透過率は７７．３％であり、輻射率は０，２
０で良好な赤外線反射率を持つものであった。
ットを通して製造工程から出て来る高温の４れた。ガラ
スリボンの徐冷非速度は５２６ｆｔ％／時であった。こ
のようにして赤外線反射フッ素含有錫オキサイドコーテ
ィングがガラス表面に成形された。コーティングの厚さ
を測定したところ４２０ｎｍ であった０コーテイング
ガラスの光透過率は７７．３％であり、輻射率は０，２
０で良好な赤外線反射率を持つものであった。
本発明方法によるガラス上に赤外線反射コーティングを
製造する方法は、ガラス上にフッ素含有錫オキサイドコ
ーティングを沈積すように実施条件下で分解する微細粉
砕の錫化合物が６６０℃以上の高温ガラス上に供給され
ることによる製造方法であり、本発明方法によって得ら
れたコーティングガラスは赤外線反射率が高く、且つ光
透過にも優れる。尚、干渉色の発生も少ない。また、本
発明方法はガラス製造工程から出て来る高温ガラスに直
接にコーティング処理を施すことができ、操作工程を簡
素化にできる。
製造する方法は、ガラス上にフッ素含有錫オキサイドコ
ーティングを沈積すように実施条件下で分解する微細粉
砕の錫化合物が６６０℃以上の高温ガラス上に供給され
ることによる製造方法であり、本発明方法によって得ら
れたコーティングガラスは赤外線反射率が高く、且つ光
透過にも優れる。尚、干渉色の発生も少ない。また、本
発明方法はガラス製造工程から出て来る高温ガラスに直
接にコーティング処理を施すことができ、操作工程を簡
素化にできる。
代理人 鵜 沼 辰 之
Claims (3)
- （１） フッ素含有錫オキサイトコーティ／グをガラス
上に沈積す石ために実施粂件下で分解する微−ティング
を製造する方法において、前記錫化合線反射コーティン
グの製造方法。 - （２） 前記ガラス温度が６８０℃〜７２０℃の範囲で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のガ
ラスの赤外線反射コーティングの製造方法。 - （３） 前記固体状の錫化合物が製造工程から出る高温
の巻きガラスのリボンの上に供給されることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項又は第２項に記載のガラスの赤
外線反射コーティングの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB08408117A GB2156338B (en) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | Coating process |
| GB8408117 | 1984-03-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226432A true JPS60226432A (ja) | 1985-11-11 |
Family
ID=10558863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60066372A Pending JPS60226432A (ja) | 1984-03-29 | 1985-03-29 | ガラスの赤外線反射コーテイングの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0159816B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60226432A (ja) |
| CN (1) | CN85101160A (ja) |
| AT (1) | ATE33817T1 (ja) |
| DE (1) | DE3562362D1 (ja) |
| GB (1) | GB2156338B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NO168762C (no) * | 1985-12-20 | 1992-04-01 | Glaverbel | Belagt, flatt glass. |
| EP0526995A3 (en) * | 1991-07-18 | 1993-12-15 | Ford Motor Co | An electrochromic material |
| US5213842A (en) * | 1991-07-18 | 1993-05-25 | Ford Motor Company | Method of improving the pyrolytic deposition rate of copper oxide film on a glass surface |
Family Cites Families (5)
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| US4022601A (en) * | 1975-06-02 | 1977-05-10 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for coating a glass substrate |
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| DE3010077C2 (de) * | 1980-03-15 | 1981-07-30 | Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen | Verfahren zum Aufbringen von mit einem Halogen, vorzugsweise mit Fluor dotierten Zinnoxidschichten auf Glasoberflächen durch Pyrolyse |
-
1984
- 1984-03-29 GB GB08408117A patent/GB2156338B/en not_active Expired
-
1985
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- 1985-03-22 DE DE8585302002T patent/DE3562362D1/de not_active Expired
- 1985-03-22 EP EP85302002A patent/EP0159816B1/en not_active Expired
- 1985-03-29 JP JP60066372A patent/JPS60226432A/ja active Pending
- 1985-04-01 CN CN198585101160A patent/CN85101160A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0159816B1 (en) | 1988-04-27 |
| ATE33817T1 (de) | 1988-05-15 |
| GB2156338A (en) | 1985-10-09 |
| DE3562362D1 (en) | 1988-06-01 |
| GB8408117D0 (en) | 1984-05-10 |
| CN85101160A (zh) | 1987-01-10 |
| EP0159816A1 (en) | 1985-10-30 |
| GB2156338B (en) | 1987-07-22 |
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