JPS60225005A - レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式 - Google Patents
レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式Info
- Publication number
- JPS60225005A JPS60225005A JP59082451A JP8245184A JPS60225005A JP S60225005 A JPS60225005 A JP S60225005A JP 59082451 A JP59082451 A JP 59082451A JP 8245184 A JP8245184 A JP 8245184A JP S60225005 A JPS60225005 A JP S60225005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- correction
- positioning
- positioning device
- closed loop
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B5/00—Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
- G01B5/0011—Arrangements for eliminating or compensation of measuring errors due to temperature or weight
- G01B5/0014—Arrangements for eliminating or compensation of measuring errors due to temperature or weight due to temperature
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光波干渉を利用した寸法測定装置を位置決めの
基準としている高精度の位置決め装置において、ン■定
光が通過する９気の気圧及び温度による影響を除去する
方式に関するものである。
基準としている高精度の位置決め装置において、ン■定
光が通過する９気の気圧及び温度による影響を除去する
方式に関するものである。
レーザー光の光波干渉を利用した長さ１列定装慨は極め
て高ｍ度で高安定なものとして今日では１ミクロン以下
の位置決め精度を要求される位置決め装置に多用されて
いる。しかし、位置決め装置が空気中で動作する場合に
は測定光も空気中を走行するため、空気の圧力、ＯＡ度
、濤度等の変動によって光の速度が影響を受け、これが
原因となって測定値が変動する。特に位置決め精度にお
いて、０．１ミクロン以下の精度を確保しようとすると
、気圧変動や塩度変動を補正する何等かの手段が必要と
なる。
て高ｍ度で高安定なものとして今日では１ミクロン以下
の位置決め精度を要求される位置決め装置に多用されて
いる。しかし、位置決め装置が空気中で動作する場合に
は測定光も空気中を走行するため、空気の圧力、ＯＡ度
、濤度等の変動によって光の速度が影響を受け、これが
原因となって測定値が変動する。特に位置決め精度にお
いて、０．１ミクロン以下の精度を確保しようとすると
、気圧変動や塩度変動を補正する何等かの手段が必要と
なる。
従来、温度や気圧を補正する手段として、気圧変動に対
しては気圧計を設置して、ここから得られる数値によフ
て位置決めの数値を補正し、温度に対しては±０．１度
位の精度を有する恒温槽の中に装置全体を設置する方法
がとられている。
しては気圧計を設置して、ここから得られる数値によフ
て位置決めの数値を補正し、温度に対しては±０．１度
位の精度を有する恒温槽の中に装置全体を設置する方法
がとられている。
しかし、一般に使用される気圧計は応答速度が非常に遅
く、又、レーザー干ｌ１Ｉ１１ｆｆの精度を補正するた
めに必要な気圧データーを得ることのできる気圧針は相
当に高価である。又、このような気圧計では、例えば音
波による気圧変動の如く極めて高速の気圧変動は補正す
ることができない。
く、又、レーザー干ｌ１Ｉ１１ｆｆの精度を補正するた
めに必要な気圧データーを得ることのできる気圧針は相
当に高価である。又、このような気圧計では、例えば音
波による気圧変動の如く極めて高速の気圧変動は補正す
ることができない。
一方、温度を±０．１度以内に保−）だ恒温槽の中に装
置全体を入れることは装置の操作上極めてや９かいなご
とである。そして、気圧計と同様このような恒温槽も高
速で変化するｍ度変動に対しては対応することができず
、側にこの種の恒温槽は非常に高価である。
置全体を入れることは装置の操作上極めてや９かいなご
とである。そして、気圧計と同様このような恒温槽も高
速で変化するｍ度変動に対しては対応することができず
、側にこの種の恒温槽は非常に高価である。
本発明はここに示した多くの問題のほとんど大部分を取
り除いた、レーザー干ＩｖＩｆｆのＭｆＥ方式に関する
ものである。
り除いた、レーザー干ＩｖＩｆｆのＭｆＥ方式に関する
ものである。
本発明の特徴は、光波干渉手段を有する寸法測定機能が
含まれた位置決め装置において、第一の寸法測定手段が
位置決め用閉ループサーボ系に組み込まれ、第二の寸法
測定−１１１段がこの位置決め装置の固定部に設けられ
ている位置決め装置にある。
含まれた位置決め装置において、第一の寸法測定手段が
位置決め用閉ループサーボ系に組み込まれ、第二の寸法
測定−１１１段がこの位置決め装置の固定部に設けられ
ている位置決め装置にある。
マうに、光波干渉を利用した第一の寸法測定装置が位置
決め用の閉ループサーボ系の一部に組み込まれた位置決
め装置において、位置決め装置の補正を行なうことを目
的とした第二の光波干渉を利用した寸法測定装置を固定
部に設置した位置決め装置にある。
決め用の閉ループサーボ系の一部に組み込まれた位置決
め装置において、位置決め装置の補正を行なうことを目
的とした第二の光波干渉を利用した寸法測定装置を固定
部に設置した位置決め装置にある。
即ち、本発明の集画は位置決めを行なうためのレーザー
干渉針の他に補正用の第二のレーザー干渉針を位置決め
装置のベース上に設置し、ここで得られるデータを位置
決め！！置の聞ループサーボ系の一部に組み込むことに
より、温度や気圧の変動の補正をリアルタイムに行なお
うとするものである。以下、図面により本発明になる位
置決め装置の補正方式について説明を行なう。
干渉針の他に補正用の第二のレーザー干渉針を位置決め
装置のベース上に設置し、ここで得られるデータを位置
決め！！置の聞ループサーボ系の一部に組み込むことに
より、温度や気圧の変動の補正をリアルタイムに行なお
うとするものである。以下、図面により本発明になる位
置決め装置の補正方式について説明を行なう。
ｉ１図は本発明に係る位置決め鈍磨の概略を示す平面図
であり、第２図は位置決めを行なうための制御系の一部
を示すブロック図である。第１図に示す例は平面上のｘ
Ｙｅに関する位置決めを行永うために必要とされる測定
系のみを示したものである０ｍ１図において位置決め装
置全体を保持するメインペース１は、通常このような高
精度の位置決めを行なう装置なので御影石等で作られる
ことが多い。
であり、第２図は位置決めを行なうための制御系の一部
を示すブロック図である。第１図に示す例は平面上のｘ
Ｙｅに関する位置決めを行永うために必要とされる測定
系のみを示したものである０ｍ１図において位置決め装
置全体を保持するメインペース１は、通常このような高
精度の位置決めを行なう装置なので御影石等で作られる
ことが多い。
ｘＹステージ２は、メインベース１の上を矢印３゜４で
示す方向に移動して正確に位置決めされる。
示す方向に移動して正確に位置決めされる。
レーザー干渉針のための反ｌＮａ１２０は、レーザー光
２２．２３１２４を反射する。又、＠１図のブロック１
６す１７．１８．１９はレーザー光の干ｅｆ？であり、
ＸＹステージ２の位置は、干渉計１７＋１８＋１９と反
射鏡２０との間の相対位置で！ｆｆ簡される。
２２．２３１２４を反射する。又、＠１図のブロック１
６す１７．１８．１９はレーザー光の干ｅｆ？であり、
ＸＹステージ２の位置は、干渉計１７＋１８＋１９と反
射鏡２０との間の相対位置で！ｆｆ簡される。
即ち、ｘＹステージ２の矢印３で示す方向の位置はル−
ザー光の光路長２４でバされ、矢印４でボす方向の位置
はレーザー光の光路長２２又は光路長２３で示される。
ザー光の光路長２４でバされ、矢印４でボす方向の位置
はレーザー光の光路長２２又は光路長２３で示される。
なお、この図ではＸＹステージ２を移動させるための駆
動機構やガイドに関しては図示されていない。
動機構やガイドに関しては図示されていない。
レーザー干渉針１６．１７＋１８＋１９から出てくる干
渉光のレシーバ−１２＋１３＋１４＋１５で干渉光が電
気信号に変えられる。又、レーザー光を発する光＃５や
、反ｌｖ鋺や半透鏡６，７１８＊９＋１０１１１はレー
ザー光の光路を曲げたり分配するのに使用されている。
渉光のレシーバ−１２＋１３＋１４＋１５で干渉光が電
気信号に変えられる。又、レーザー光を発する光＃５や
、反ｌｖ鋺や半透鏡６，７１８＊９＋１０１１１はレー
ザー光の光路を曲げたり分配するのに使用されている。
レーザー光の千＃ｔｔ１６及び反射［２５は、本補正方
式をｍａするために必要とされる第二のレーザー干渉針
である。
式をｍａするために必要とされる第二のレーザー干渉針
である。
即ち、との第二のレーザー干渉針は干渉１ｆｆ１６と反
射＃Ｉ２５との間を走る光２６の光路長を常に測定して
いる。又、干渉１７１６と反射１１２ｆ＄はメインペー
ス１にしっかりと固定されている。干渉計１６の出力を
ｆ８気信号に変えるためにレシーバ−１５が用いられる
。
射＃Ｉ２５との間を走る光２６の光路長を常に測定して
いる。又、干渉１７１６と反射１１２ｆ＄はメインペー
ス１にしっかりと固定されている。干渉計１６の出力を
ｆ８気信号に変えるためにレシーバ−１５が用いられる
。
第２図は第１図に示すｘ丁ステージ２をＸ方向（矢印３
で示す方向）に移動位置決めするための制御部を示すブ
ロック図である０図中、目標位置を指示するための制御
部３０は、通常、制御用コンピュータである。制御部３
０が発する目標位置データ６２は、ディジタルアナログ
変換器（以下、略してＤＡＣと呼ぶ）５１によりアナロ
グ電圧に奏換され加算器３４に入る（ここで加算器３４
゜３５．３９はアナログ電圧用のものである。）。
で示す方向）に移動位置決めするための制御部を示すブ
ロック図である０図中、目標位置を指示するための制御
部３０は、通常、制御用コンピュータである。制御部３
０が発する目標位置データ６２は、ディジタルアナログ
変換器（以下、略してＤＡＣと呼ぶ）５１によりアナロ
グ電圧に奏換され加算器３４に入る（ここで加算器３４
゜３５．３９はアナログ電圧用のものである。）。
第１図のＸ！ステージは電力増ｍｌ器３１で駆動される
モーター３２によって（１８１図の矢印で示す３の方向
） Ｘ方向に移動させることができる。
モーター３２によって（１８１図の矢印で示す３の方向
） Ｘ方向に移動させることができる。
速度検出器３３はモーターの１ｉ２Ｉ啄速度を知るため
のものである。信号は反転器３６で反転され、アブテネ
ータ−３７によりて減衰される。
のものである。信号は反転器３６で反転され、アブテネ
ータ−３７によりて減衰される。
信号５６は増又は減が第１図のＸマスデージ２のＸ方向
の移動をｔｒ側しているレーザー干渉針から得られる。
の移動をｔｒ側しているレーザー干渉針から得られる。
そして、カウンター４４が信号５６を受けとってこれを
計数している。ｊ［Ｉち、カウンター４４は常に！＋！
１図のＸＹステージ２のＸ方向の位置を示している。Ｘ
方向の位置を示す信号４５はＤＡＣ４２でアナログ電圧
に変換されて加算器３９に与えられる。加算ｆ１３９を
出た位置を示す電圧は、反転器３８を経て加算器３４に
与えられる。即ち、ここまでに説明した部分は、レーザ
ー干渉計から得られる位置信号が制御５ｌｉ３０のボす
目標位置信号に等しくなるようにＸＹステージが、奉−
ター３２で駆動される閉ループサーボ系で、とイれらの
動作説明は省略する。
計数している。ｊ［Ｉち、カウンター４４は常に！＋！
１図のＸＹステージ２のＸ方向の位置を示している。Ｘ
方向の位置を示す信号４５はＤＡＣ４２でアナログ電圧
に変換されて加算器３９に与えられる。加算ｆ１３９を
出た位置を示す電圧は、反転器３８を経て加算器３４に
与えられる。即ち、ここまでに説明した部分は、レーザ
ー干渉計から得られる位置信号が制御５ｌｉ３０のボす
目標位置信号に等しくなるようにＸＹステージが、奉−
ター３２で駆動される閉ループサーボ系で、とイれらの
動作説明は省略する。
第２図において本発明に係る部分の構成について説明を
行なう、第１図の光路２６をｔｔｍｂているレーザー干
渉計から得られる増又は減の信号６７をカウンター４６
が受け取りで計数している。
行なう、第１図の光路２６をｔｔｍｂているレーザー干
渉計から得られる増又は減の信号６７をカウンター４６
が受け取りで計数している。
スイッチ６０によってカウンター４９はプリセットされ
る。数値は標準状態で光路２６が示す長さである。ｘＹ
ステージの現在位置カウンター４４は、Ｘを保持する。
る。数値は標準状態で光路２６が示す長さである。ｘＹ
ステージの現在位置カウンター４４は、Ｘを保持する。
光路２６の現在値ｌはカウンター４６を保持する。光路
２６の標準値カウンター４９はＬを保持する。
２６の標準値カウンター４９はＬを保持する。
先ず標準状態におけるＸＹステージの現在位置をＸ、光
路２６の長さをＬとする。更に現在のＸＹステージの位
置をＸ、光路２６の長さをｌとすると、 であるから、補正量をΔＸとすると ４ｇ＝ｘ＋ΔＸ・・・ （２） 即ち、ここで得られるΔｘ＠１４在位値Ｘに加えれば標
準値Ｘが得られることがわかる。閉ループ回路の補正装
置４６．４９．４７，４Ｊ］、４３゜４１．４０やディ
ジタルの減算ｆ１４７で（１） 。
路２６の長さをＬとする。更に現在のＸＹステージの位
置をＸ、光路２６の長さをｌとすると、 であるから、補正量をΔＸとすると ４ｇ＝ｘ＋ΔＸ・・・ （２） 即ち、ここで得られるΔｘ＠１４在位値Ｘに加えれば標
準値Ｘが得られることがわかる。閉ループ回路の補正装
置４６．４９．４７，４Ｊ］、４３゜４１．４０やディ
ジタルの減算ｆ１４７で（１） 。
（２）、（３）のような演算をリアルタイムで行なう。
入力は６８（即ちｊ）、５４（ＩｌｌちＬ）である。以
上のことから減算器の出力５５は、（３）式の中の（Ｌ
−ｊ）を与える。
上のことから減算器の出力５５は、（３）式の中の（Ｌ
−ｊ）を与える。
ここで得られた（Ｌ−ｊ）の値は、ＤＡＣ４８）によっ
てアナログ信号に変えられ、掛算器４８に入る。
てアナログ信号に変えられ、掛算器４８に入る。
ディジタルの入力信号５８とアナログの入力信号５９の
槓を出力する掛算器４３は容易に入手可能である。掛算
器４３のアナログ入力は（Ｌ−１）であり、ディジタル
入力はＸであるから出力６１は（Ｌ−７）ｌｘを与える
。アッテネータ−４１で１／Ｌの減衰を与えることによ
り４１の出力６２は （Ｌ−１） ・ ｘ／Ｌ となり、反転Ｈ４０を経た出力６０は 麺、（Ｌ−７）・ｘ／Ｌ ・となる、即ちこれは補正すべき値ΔＸである。
槓を出力する掛算器４３は容易に入手可能である。掛算
器４３のアナログ入力は（Ｌ−１）であり、ディジタル
入力はＸであるから出力６１は（Ｌ−７）ｌｘを与える
。アッテネータ−４１で１／Ｌの減衰を与えることによ
り４１の出力６２は （Ｌ−１） ・ ｘ／Ｌ となり、反転Ｈ４０を経た出力６０は 麺、（Ｌ−７）・ｘ／Ｌ ・となる、即ちこれは補正すべき値ΔＸである。
加算点３９には補正量ΔＸが常に与えられているため、
例えば９気の温度が急激に変化した時、カウンター４４
が保持する真の値も急徽に変動する。しかし、カウンタ
ー４６が保持するｌの値も同様に変動するため、出力信
号Ｘの値６３が変動した分は、補正値６０で補正され、
結果としてｘＹステージ２の現在位置は不動となる。
例えば９気の温度が急激に変化した時、カウンター４４
が保持する真の値も急徽に変動する。しかし、カウンタ
ー４６が保持するｌの値も同様に変動するため、出力信
号Ｘの値６３が変動した分は、補正値６０で補正され、
結果としてｘＹステージ２の現在位置は不動となる。
このようなリアルタイムの補正は、電子ビームやレーザ
ー光等を利用して微細なパターンを直列データで＃ｌＩ
Ｄ１ｌする装置において特に必要とされる。
ー光等を利用して微細なパターンを直列データで＃ｌＩ
Ｄ１ｌする装置において特に必要とされる。
即ち、このようなリアルタイムの補正を行なわない場合
、瞬間的な気圧変動等が起りだ場合、その時描いていた
パターンが歪む現象が起り、これは超ＬＳＩの微細パタ
ーン等の捕圓において極めて有害なことである。
、瞬間的な気圧変動等が起りだ場合、その時描いていた
パターンが歪む現象が起り、これは超ＬＳＩの微細パタ
ーン等の捕圓において極めて有害なことである。
以上、本発明に係る位置決めの補正方式につぃＩ＃説明
したが、このような補正方式が極めて葡効なのは、次の
ような理由による。即ち、１）メインベース２は御影石
で作られた極めて安定したものであるため、光路２６の
長さは短期的には非常に安定している。
したが、このような補正方式が極めて葡効なのは、次の
ような理由による。即ち、１）メインベース２は御影石
で作られた極めて安定したものであるため、光路２６の
長さは短期的には非常に安定している。
２）補正用の光路２６と測定用の光路２２．２３゜２４
等は同一の！２気中に置かれているため、気圧変動、温
度変動、温度変動等は同時に影情を受ける。
等は同一の！２気中に置かれているため、気圧変動、温
度変動、温度変動等は同時に影情を受ける。
３）補正用のレーザー干渉計と開窓用のレーザー干渉計
は同一のレーザー光源を利用してシするため光源の影響
を受けない。
は同一のレーザー光源を利用してシするため光源の影響
を受けない。
４）補正用のレーザー千１ｌｌｆｆと測定用のレーザー
千渉酊の測定の時定数は同じである。
千渉酊の測定の時定数は同じである。
Ｍ１図は、本発明に係るレーザー光を使用した位置決め
装置の補正２Ｆ式を実現する一例のメカニズム部分を上
部より鳥だ因であり、Ｍ２図は、第１図に示す装置を制
御するための制御部の一部をボすブロック図である。 なお図において、１・・メインベースＩ ２・・ＸＹλ
テージ、３．４・・移動方向、 ５・・レーザー光源＋
６．７．８．９．１０．１１・・反射鏡及び半透＃１
． １２．１３，１４．１５・・レシーバ−＋ １６，
１７１１８，１９・・千渉計。 ２０．２５・・反射鏡、 ２１１２２，２３Ｉ２４１２
６・・レーザー光、 ３０・・制御ｌ１部、 ３１・・
電力増幅器、 ３２・・モーター、 ３３・・速度検出
器、３４，３５．３９・・加算器、 ３６，３８１４０
・・インバーター１ ８７．４１・・アッテネータ−１
４２・・ＤＡ変換器、 ４８・・掛算器！４４．４６．
４９・・カウンター、４５・・信号。 ４７・・ディジタル減算器＋ ４８＋５１・・ＤＡＣ＋
５０・・スイッチ、６２・・目標位置データ。 １５Ｂ・・入力（ｊ）、＋５４・・入力（１，） ＋６
６・・減ＩＩｌ＆ｇ出力、＋５６−・△Ｘ信号、５７・
・Δｌ信号、 ５８・・ディジタルの入力信号。 ５９・・アナログの入力信号、６０・・補正値。 ６１．６２＋６８・・出力信号である。 第 １ 図 第 ２ Ｎ
装置の補正２Ｆ式を実現する一例のメカニズム部分を上
部より鳥だ因であり、Ｍ２図は、第１図に示す装置を制
御するための制御部の一部をボすブロック図である。 なお図において、１・・メインベースＩ ２・・ＸＹλ
テージ、３．４・・移動方向、 ５・・レーザー光源＋
６．７．８．９．１０．１１・・反射鏡及び半透＃１
． １２．１３，１４．１５・・レシーバ−＋ １６，
１７１１８，１９・・千渉計。 ２０．２５・・反射鏡、 ２１１２２，２３Ｉ２４１２
６・・レーザー光、 ３０・・制御ｌ１部、 ３１・・
電力増幅器、 ３２・・モーター、 ３３・・速度検出
器、３４，３５．３９・・加算器、 ３６，３８１４０
・・インバーター１ ８７．４１・・アッテネータ−１
４２・・ＤＡ変換器、 ４８・・掛算器！４４．４６．
４９・・カウンター、４５・・信号。 ４７・・ディジタル減算器＋ ４８＋５１・・ＤＡＣ＋
５０・・スイッチ、６２・・目標位置データ。 １５Ｂ・・入力（ｊ）、＋５４・・入力（１，） ＋６
６・・減ＩＩｌ＆ｇ出力、＋５６−・△Ｘ信号、５７・
・Δｌ信号、 ５８・・ディジタルの入力信号。 ５９・・アナログの入力信号、６０・・補正値。 ６１．６２＋６８・・出力信号である。 第 １ 図 第 ２ Ｎ
Claims (1)
- 光波干渉手段を有する寸法闇定ｆｉ能が含まれた位置決
め装置において、第一の寸法測定手段が位置決め用閉ル
ープサーボ系に組み込まれ、第二の寸法測定手段が前ｆ
ｆｄ位置決め！！媚の固定部に設け６れていることを特
徴とする位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59082451A JPS60225005A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59082451A JPS60225005A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60225005A true JPS60225005A (ja) | 1985-11-09 |
Family
ID=13774876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59082451A Pending JPS60225005A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60225005A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6418002A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-20 | Nikon Corp | Measuring apparatus |
| JPH021501A (ja) * | 1988-02-08 | 1990-01-05 | Hitachi Ltd | レーザ干渉測長器及びそれを用いた位置決め方法 |
| JPH0210201A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Nippon Seiko Kk | 二波長干渉計による測長方法及び装置 |
| JPH02201108A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-09 | Rion Co Ltd | 物理量測定装置 |
| EP0556041A2 (en) * | 1992-02-12 | 1993-08-18 | Hughes Aircraft Company | Compact laser probe for profilometry |
| US5585922A (en) * | 1992-12-24 | 1996-12-17 | Nikon Corporation | Dual interferometer apparatus compensating for environmental turbulence or fluctuation and for quantization error |
| JP2006505778A (ja) * | 2002-11-04 | 2006-02-16 | ザイゴ コーポレーション | 干渉計経路内の屈折度の摂動の補正 |
| JP2008180708A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-08-07 | Kobe Steel Ltd | 形状測定装置 |
| US7812964B2 (en) | 2006-11-15 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Distance measuring interferometer and encoder metrology systems for use in lithography tools |
| US7812965B2 (en) | 2006-12-11 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects |
| US7894075B2 (en) | 2006-12-11 | 2011-02-22 | Zygo Corporation | Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5546190A (en) * | 1978-09-28 | 1980-03-31 | Farrand Ind Inc | Method of and apparatus for measuring interference |
-
1984
- 1984-04-24 JP JP59082451A patent/JPS60225005A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5546190A (en) * | 1978-09-28 | 1980-03-31 | Farrand Ind Inc | Method of and apparatus for measuring interference |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6418002A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-20 | Nikon Corp | Measuring apparatus |
| JPH021501A (ja) * | 1988-02-08 | 1990-01-05 | Hitachi Ltd | レーザ干渉測長器及びそれを用いた位置決め方法 |
| JPH0210201A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Nippon Seiko Kk | 二波長干渉計による測長方法及び装置 |
| JPH02201108A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-09 | Rion Co Ltd | 物理量測定装置 |
| EP0556041A2 (en) * | 1992-02-12 | 1993-08-18 | Hughes Aircraft Company | Compact laser probe for profilometry |
| US5585922A (en) * | 1992-12-24 | 1996-12-17 | Nikon Corporation | Dual interferometer apparatus compensating for environmental turbulence or fluctuation and for quantization error |
| JP2006505778A (ja) * | 2002-11-04 | 2006-02-16 | ザイゴ コーポレーション | 干渉計経路内の屈折度の摂動の補正 |
| US7812964B2 (en) | 2006-11-15 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Distance measuring interferometer and encoder metrology systems for use in lithography tools |
| US7812965B2 (en) | 2006-12-11 | 2010-10-12 | Zygo Corporation | Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects |
| US7894075B2 (en) | 2006-12-11 | 2011-02-22 | Zygo Corporation | Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects |
| JP2008180708A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-08-07 | Kobe Steel Ltd | 形状測定装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60225005A (ja) | レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式 | |
| JPH07117371B2 (ja) | 測定装置 | |
| US5166529A (en) | Electron beam lithography system | |
| JP3007620B1 (ja) | 非接触式ブレード磨耗量測定装置 | |
| CN108036732A (zh) | 一种基于超分辨光刻的间隙检测装置 | |
| CN107687814B (zh) | 一种测量装置 | |
| JPH0449643B2 (ja) | ||
| JP2851306B2 (ja) | テーブル搬送システム | |
| JPS5823740B2 (ja) | 電子ビ−ム露光方法 | |
| JPS59160948A (ja) | パターン検出装置 | |
| JPS58158506A (ja) | 変位の光学的測定方法 | |
| JPH063115A (ja) | 試料高さ計測装置 | |
| JP3201922B2 (ja) | 電子ビーム描画装置ならびにステージ位置測定装置 | |
| JPS623280A (ja) | 回折格子露光装置 | |
| JPH09161715A (ja) | 電子線描画装置 | |
| CN107806822B (zh) | 一种测量装置 | |
| SU1613852A1 (ru) | Устройство дл измерени перемещений | |
| JPH09166415A (ja) | 露光装置 | |
| JP2610349B2 (ja) | 差動型レーザ干渉計装置 | |
| CN115673875A (zh) | 一种刀具滚动角的精密测量装置及方法 | |
| SU1689754A1 (ru) | Компенсационный способ измерени перемещений фотоэлектрическим преобразователем | |
| JP2001007003A (ja) | レ−ザ−干渉測長装置 | |
| JP3323963B2 (ja) | 計測装置 | |
| JPH0476407A (ja) | 膜厚測定装置 | |
| JP2700392B2 (ja) | 露光装置 |