JPS59160948A - パターン検出装置 - Google Patents
パターン検出装置Info
- Publication number
- JPS59160948A JPS59160948A JP58032713A JP3271383A JPS59160948A JP S59160948 A JPS59160948 A JP S59160948A JP 58032713 A JP58032713 A JP 58032713A JP 3271383 A JP3271383 A JP 3271383A JP S59160948 A JPS59160948 A JP S59160948A
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- Japan
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野)
本発明は、荷電ビーム、特に走査電子顕微鏡をパタ・−
ン検査に応用するときの、パターン検従来は、走査電子
顕微鏡等を用いて、ホトマスクやウェハなどのパターン
の検査を行なうには、走査電子顕微鏡等の走査可能な視
野の大きさに比べ、検査すべき領域が大きいため、試料
テーブルを検出点まで移動し、試料チーフルが停止して
からパターンの検出を行なうことを繰り返すことにより
、試料全面のパターン検査を行なっていた。しかしなが
ら、試料テーブルが移動し、停止するまでの時間はパタ
ーン検出ができず、パタ−ン検査における全くの無駄時
間になシ、検査時間が長くなる欠点があった。
ン検査に応用するときの、パターン検従来は、走査電子
顕微鏡等を用いて、ホトマスクやウェハなどのパターン
の検査を行なうには、走査電子顕微鏡等の走査可能な視
野の大きさに比べ、検査すべき領域が大きいため、試料
テーブルを検出点まで移動し、試料チーフルが停止して
からパターンの検出を行なうことを繰り返すことにより
、試料全面のパターン検査を行なっていた。しかしなが
ら、試料テーブルが移動し、停止するまでの時間はパタ
ーン検出ができず、パタ−ン検査における全くの無駄時
間になシ、検査時間が長くなる欠点があった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくして、
高速にパターンを検出する方法を提供することにある。
高速にパターンを検出する方法を提供することにある。
前記した従来方法では、パターン検出に用いる荷電ビー
ムを、偏向できる視野内のある決められた走査範囲を偏
向、走査するようになっているため、−回分の検査領域
を、その決められた走査範囲に入るように試料チーフル
を停止させなければならなかった。しかしながら、走査
電子顕微鏡等においては、視野内のランダム走査が可能
である。そこで、本発明は試料テーブルに試料チーフル
の位置を実時間で検出できる装置を設け、試料チーフル
を連続的に移動させ、試料テーブルの位置情報により荷
電ビームを試料上の正しい位置を走査するように補正す
ることにより、試料チーフルを停止させずにバター7検
出を行ない、検査時間の高速化を図ることを特徴とした
パターン検出方式である。
ムを、偏向できる視野内のある決められた走査範囲を偏
向、走査するようになっているため、−回分の検査領域
を、その決められた走査範囲に入るように試料チーフル
を停止させなければならなかった。しかしながら、走査
電子顕微鏡等においては、視野内のランダム走査が可能
である。そこで、本発明は試料テーブルに試料チーフル
の位置を実時間で検出できる装置を設け、試料チーフル
を連続的に移動させ、試料テーブルの位置情報により荷
電ビームを試料上の正しい位置を走査するように補正す
ることにより、試料チーフルを停止させずにバター7検
出を行ない、検査時間の高速化を図ることを特徴とした
パターン検出方式である。
以下に本方式の実施例を第1図に示すようなウニ・・を
全面検査する場合について説明する。
全面検査する場合について説明する。
第1図においてX、Yは、試料ウエノ・の置かれている
試料テーブルの座標系である。本発明では、ウェハ上の
検査すべき領域を第1図に示すように、SEM(走査電
子顕微鏡)の視野より小さい矩形領域に分割する。従来
技術では、各矩形領域をSEMで走査するとき、毎回同
じ偏向信号で、各矩形領域を走査するために、試料テー
ブルを、(X、、、Y、υ、 (Xo、 、 Yo、)
(X、m 、 Yon)(m=1.2.3−k
、 n=1.2.3−1) へステップ送シし位
置決めした後、各矩形領域を走査していた。一方、本発
明では試料ステージを(X、、 、 Yo、) −)
(X。、 、 Y、+) 、 (Xo、 、 Y、、)
→(Xo、 、 Yol )。
試料テーブルの座標系である。本発明では、ウェハ上の
検査すべき領域を第1図に示すように、SEM(走査電
子顕微鏡)の視野より小さい矩形領域に分割する。従来
技術では、各矩形領域をSEMで走査するとき、毎回同
じ偏向信号で、各矩形領域を走査するために、試料テー
ブルを、(X、、、Y、υ、 (Xo、 、 Yo、)
(X、m 、 Yon)(m=1.2.3−k
、 n=1.2.3−1) へステップ送シし位
置決めした後、各矩形領域を走査していた。一方、本発
明では試料ステージを(X、、 、 Yo、) −)
(X。、 、 Y、+) 、 (Xo、 、 Y、、)
→(Xo、 、 Yol )。
(X、k 、 Y、、 )−+ (X、k 、 Yol
)というように連続的に試料ステージの移動をしなが
らパターン検出を行なう。そのための実施例の全体構成
を第2図に示す。
)というように連続的に試料ステージの移動をしなが
らパターン検出を行なう。そのための実施例の全体構成
を第2図に示す。
第2図において、偏向信号発生器1は、前記した試料テ
ーブルをステップ送りしながらパターン検出を行なう時
と同様な偏向信号を発生する。試料テーブル6は、試料
テーブル制御装置8からの指示により、まず(X、、
、 Y、、)→(x、、。
ーブルをステップ送りしながらパターン検出を行なう時
と同様な偏向信号を発生する。試料テーブル6は、試料
テーブル制御装置8からの指示により、まず(X、、
、 Y、、)→(x、、。
Y、l)へ移動を始める。この時、矩形領域基準点指定
装置9より1最初の矩形領域の基準点(Xo・。
装置9より1最初の矩形領域の基準点(Xo・。
Y、、)が、演算装置7へ送られる。移動を開始した試
料テーブルの位置座標(X、Y)は、試料テーブル位置
測定装置5により実時間で測定され、演算装置iへ)名
時送られている。演算装置7は、現在入力しようとして
いる矩形領域の基準点(Xom 、 Yon)と、その
時点における試料テーブルの位置とのずれ量を算出する
。この、ずれ厳により、今、検出しようとしている矩形
領域が、SEMの視野(偏向可能な領域)に入ったこと
が判ると、演算装置7は、偏向信号発生器1に対して、
基準となる偏向信号(1矩形領域を偏向する信号)の発
生を開始させる。演算装置7は、実時間で、矩形領域の
基準点と、その時点の試料テーブルの位置とのずれ量を
、ビーム位置補正信号として出力する。又、試料テーブ
ルは、(x、、 、 y、、)→(Xo、 Y、I )
ヘ移動するように指定されても、移動速度のムラ、X
又はY方向へのガタ等を生じるが、これらは、試料テー
ブル位置測定装置5によって常に試料テーブルの位置が
監視されているので、これらのドリフト分は演算装置に
よって求められるビーム位置補正信号に含まれている。
料テーブルの位置座標(X、Y)は、試料テーブル位置
測定装置5により実時間で測定され、演算装置iへ)名
時送られている。演算装置7は、現在入力しようとして
いる矩形領域の基準点(Xom 、 Yon)と、その
時点における試料テーブルの位置とのずれ量を算出する
。この、ずれ厳により、今、検出しようとしている矩形
領域が、SEMの視野(偏向可能な領域)に入ったこと
が判ると、演算装置7は、偏向信号発生器1に対して、
基準となる偏向信号(1矩形領域を偏向する信号)の発
生を開始させる。演算装置7は、実時間で、矩形領域の
基準点と、その時点の試料テーブルの位置とのずれ量を
、ビーム位置補正信号として出力する。又、試料テーブ
ルは、(x、、 、 y、、)→(Xo、 Y、I )
ヘ移動するように指定されても、移動速度のムラ、X
又はY方向へのガタ等を生じるが、これらは、試料テー
ブル位置測定装置5によって常に試料テーブルの位置が
監視されているので、これらのドリフト分は演算装置に
よって求められるビーム位置補正信号に含まれている。
偏向信号発生器1によって発生した基準となる偏向信号
と、ビーム位置補正信号は、加算器2によって加算され
、荷電ビームを、偏向アンプ3.偏向コイル4を介し、
正しい矩形領域へ偏向する。このようにして、1矩形領
域分の偏向が終了すると偏向信号発生器1は、矩形領域
基準点指定装置9へ、次の矩形領域の基準点(x、、
、 yo、)を演算装置7に送るよう指示する。演算装
置7は、この新しい基準点を基準に新しい矩形領域の走
査を同様にして行なわせる。以−Eによシ試料ステージ
を連続移動させながら、正確にパターンの検出を行なう
ことができステージ停止のだめの無駄時間が省けるため
高速にパターン検出を行なうことができる。
と、ビーム位置補正信号は、加算器2によって加算され
、荷電ビームを、偏向アンプ3.偏向コイル4を介し、
正しい矩形領域へ偏向する。このようにして、1矩形領
域分の偏向が終了すると偏向信号発生器1は、矩形領域
基準点指定装置9へ、次の矩形領域の基準点(x、、
、 yo、)を演算装置7に送るよう指示する。演算装
置7は、この新しい基準点を基準に新しい矩形領域の走
査を同様にして行なわせる。以−Eによシ試料ステージ
を連続移動させながら、正確にパターンの検出を行なう
ことができステージ停止のだめの無駄時間が省けるため
高速にパターン検出を行なうことができる。
次に、演算装置7の詳細を第3図によシ説明する。第3
図における減算器14は、矩形領域の基準点信号10と
試料テーブルの位置座標信号11を減算し、基準点と現
在の試料テーブル位置のずれ量、すなわちビーム位置補
正信号13を実時間で求める。コンパレータ15は、減
算器14により求められたビーム位置補正信号1ろから
、現在の試料テーブルの位置が、現在検出しようとして
いる矩形領域を偏向できるか判定するものである。つ1
シ、ビーム位置補正信号1ろXom −X。
図における減算器14は、矩形領域の基準点信号10と
試料テーブルの位置座標信号11を減算し、基準点と現
在の試料テーブル位置のずれ量、すなわちビーム位置補
正信号13を実時間で求める。コンパレータ15は、減
算器14により求められたビーム位置補正信号1ろから
、現在の試料テーブルの位置が、現在検出しようとして
いる矩形領域を偏向できるか判定するものである。つ1
シ、ビーム位置補正信号1ろXom −X。
Yon −y の値が
一δX+ <Xorn x、< δX。
−δY+ 、<Yon−へくδy。
(ただしδは、基準点に対するビーム偏向領域の許容量
) の2式の両方を満足するものであるとき、試料テーブル
の位置は、SEMの視野内にあることにカリ、コンパレ
ータ15は偏向信号発生器1に対して試料テーブル位置
判定信号12を送り、荷電ヒニムの偏向を開始させる。
) の2式の両方を満足するものであるとき、試料テーブル
の位置は、SEMの視野内にあることにカリ、コンパレ
ータ15は偏向信号発生器1に対して試料テーブル位置
判定信号12を送り、荷電ヒニムの偏向を開始させる。
〔発明の効果]
本発明によれば、試料テーブルを、パターンの検出をす
る矩形領域毎に停止させる必要が乞いため、試料チーフ
ルを停止させるのに必要な無駄時間が生じないので、パ
ターン検出に要する時間を短縮することができる。
る矩形領域毎に停止させる必要が乞いため、試料チーフ
ルを停止させるのに必要な無駄時間が生じないので、パ
ターン検出に要する時間を短縮することができる。
第1図は本発明の一実施例のパターン検査領域及び座標
系の説明図、第2図は同じく全体構成を示すブロック図
、第6図は、第2図における演算装置7の詳細な説明図
である。 1 偏向信号発生器、 2 加算器、6 偏向アン
プ、 4・・偏向コイル、5・・・試料テーブ
ル位置測定装置、 6 試料テーブル、 7 演算装置、8 試料テ
ーブル制御装置、 9 矩形領域基準点指定装置、 10・−矩形領域の基準点信号、 11 試料テーブルの位置座標信号、12 試料テ
ーブル位置判定信号、 1ろ ビーム位置補正信号、 14 減算器、 15 コンパレータ。
系の説明図、第2図は同じく全体構成を示すブロック図
、第6図は、第2図における演算装置7の詳細な説明図
である。 1 偏向信号発生器、 2 加算器、6 偏向アン
プ、 4・・偏向コイル、5・・・試料テーブ
ル位置測定装置、 6 試料テーブル、 7 演算装置、8 試料テ
ーブル制御装置、 9 矩形領域基準点指定装置、 10・−矩形領域の基準点信号、 11 試料テーブルの位置座標信号、12 試料テ
ーブル位置判定信号、 1ろ ビーム位置補正信号、 14 減算器、 15 コンパレータ。
Claims (1)
- 1、 荷電ビーム等を偏向する手段とそれに偏向信号を
与える偏向信号発生器と連続に移動できる試料テーブル
よシなるパターン検出装置において、試料テーブルの位
置座標を実時間で測定できる手段と、試料テーブルの現
在位置と検出しようとするパターン領域の存在する試料
テーブル位置とのずれ量を演算する装置を設けたことに
より、試料テーブルを連続移動させて試料テーブルの停
止時間を省き、試料テーブル上の試料の検出すべき領域
が偏向系の視野に入った時、その時のずれ量によシ荷電
ビームを正規のパターン領域に実時間に補正しパターン
を検出することを特徴とするパターン検出方式。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58032713A JPH0616407B2 (ja) | 1983-03-02 | 1983-03-02 | パターン検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58032713A JPH0616407B2 (ja) | 1983-03-02 | 1983-03-02 | パターン検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59160948A true JPS59160948A (ja) | 1984-09-11 |
JPH0616407B2 JPH0616407B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=12366473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58032713A Expired - Lifetime JPH0616407B2 (ja) | 1983-03-02 | 1983-03-02 | パターン検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0616407B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5777327A (en) * | 1995-12-28 | 1998-07-07 | Hitachi, Ltd. | Pattern shape inspection apparatus for forming specimen image on display apparatus |
US6172363B1 (en) | 1996-03-05 | 2001-01-09 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
US6583634B1 (en) | 1999-04-28 | 2003-06-24 | Hitachi, Ltd. | Method of inspecting circuit pattern and inspecting instrument |
JP2006324597A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線式パターン検査装置、及び、試料の検査条件の設定方法 |
US7423746B2 (en) | 2006-02-28 | 2008-09-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Circuit-pattern inspecting apparatus and method |
US7696487B2 (en) | 2005-11-11 | 2010-04-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Circuit pattern inspection apparatus |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS564237A (en) * | 1979-06-26 | 1981-01-17 | Jeol Ltd | Method of moving sample stage in exposure to electron beam |
-
1983
- 1983-03-02 JP JP58032713A patent/JPH0616407B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS564237A (en) * | 1979-06-26 | 1981-01-17 | Jeol Ltd | Method of moving sample stage in exposure to electron beam |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5777327A (en) * | 1995-12-28 | 1998-07-07 | Hitachi, Ltd. | Pattern shape inspection apparatus for forming specimen image on display apparatus |
US6172363B1 (en) | 1996-03-05 | 2001-01-09 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
US6329826B1 (en) | 1996-03-05 | 2001-12-11 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
US6559663B2 (en) | 1996-03-05 | 2003-05-06 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
US7417444B2 (en) | 1996-03-05 | 2008-08-26 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
US7952074B2 (en) | 1996-03-05 | 2011-05-31 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting integrated circuit pattern |
US6583634B1 (en) | 1999-04-28 | 2003-06-24 | Hitachi, Ltd. | Method of inspecting circuit pattern and inspecting instrument |
US6703850B2 (en) | 1999-04-28 | 2004-03-09 | Hitachi, Ltd. | Method of inspecting circuit pattern and inspecting instrument |
JP2006324597A (ja) * | 2005-05-20 | 2006-11-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線式パターン検査装置、及び、試料の検査条件の設定方法 |
US7696487B2 (en) | 2005-11-11 | 2010-04-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Circuit pattern inspection apparatus |
US7423746B2 (en) | 2006-02-28 | 2008-09-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Circuit-pattern inspecting apparatus and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0616407B2 (ja) | 1994-03-02 |
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