JPH0210201A - 二波長干渉計による測長方法及び装置 - Google Patents

二波長干渉計による測長方法及び装置

Info

Publication number
JPH0210201A
JPH0210201A JP63161329A JP16132988A JPH0210201A JP H0210201 A JPH0210201 A JP H0210201A JP 63161329 A JP63161329 A JP 63161329A JP 16132988 A JP16132988 A JP 16132988A JP H0210201 A JPH0210201 A JP H0210201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
polarizer
laser beam
laser
optical path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63161329A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuo Yamanaka
山中 立夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NSK Ltd filed Critical NSK Ltd
Priority to JP63161329A priority Critical patent/JPH0210201A/ja
Publication of JPH0210201A publication Critical patent/JPH0210201A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、異なる三波長のレーザ光を干渉させて移動
体の移動量を精密に測定する二波長干渉計による測長方
法及び装置に関し、特に露光装置等の高い位置決め精度
を要求される装置に適用して好適なものである。
〔従来の技術〕
従来の二波長干渉計による測長装置としては、「センサ
技術」 (昭和62年4月25日情報調査会発光)の3
3頁及び34頁に記載されているものがある。
この従来例は、第5図に示すように、レーザ装置1と、
このレーザ装置1から出力される僅かに異なる2周波数
r、、r!のレーザ光が入射される偏l1iIJビーム
スプリンタ2と、この偏向ビームスプリンタ2を透過す
る周波数f1のレーザ光を反射させる移動体3に配設さ
れたキューブコーナー4と、偏向ビームスプリンタ2で
反射される周波数f2のレーザ光を反射させる固定部に
配設されたキューブコーナー5と、偏向ビームスプリッ
タ2から出力されるレーザ光を受光するレシーバ−6と
、このレシーバ−6の出力信号とレーデ装置lから出力
される基準信号とに基づいて移動体3の移動量を表す測
定信号を出力する測定装置7とを備えている。ここで、
レーザ装置1は、僅かに異なる2周波数r、、r、のレ
ーザ光を出力するゼーマンレーザlaのレーザ光を1/
4波長板で偏向面が90度の回転角差を有する直線偏光
に変換し、次いでテレスコープ光学系1bでビーム径を
拡張して2周波数のレーザ光が重畳されたレーザ光を出
力すると共に、このレーザ光をビームスプリッタICで
分岐し、これをさらにビームスプリッタldで分岐して
、その一方をホトディテクタ1cで光電変換し、これを
基準信号として出力し、他方を同様にホトディテクタ1
rで光電変換してレーザ同調回路1gに入力し、このレ
ーザ同調回路1gでゼーマンレーザ1aを制御してレー
ザ光の波長を自動制御するように構成されている。
而して、移動体3を移動させることにより、キューブコ
ーナー4で反射された反射光がドツプラーシフトを受け
てf1±Δf1の周波数の光となり、これと固定部に配
置されたキューブコーナー5で反射した周波数f2の反
射光とが偏向ビームスプリフタ2の偏向面で干渉されて
、ft−f。
±Δ「、の光ビート信号がレシーバ−6で検出される。
この信号とレーザ装置1から出力される基準信号f1及
びftを測定装置7に入力することにより、この測定装
置7でΔf、を算出し、これに基づいてl/4波長の移
動量毎に1パルスを発生させ、これをカウントすること
により、位置情報を形成してこれを出力する。
また、他の従来例として、第6図に示すように、移動体
3に配設したキューブコーナー4を平面鏡9に置換する
と共に、平面鏡9と偏向ビームスプリッタ2との間に1
/4波長板10を介挿し、且つ偏向ビームスプリンタ2
のキューブコーナー5とは反対側の面にキューブコーナ
ー11を配πすることによって、偏向ビームスプリッタ
2を透過した周波数f、のレーザ光は1/4波長板10
で偏向面が45度回転され、次いで平面鏡9で反射され
て周波数f1±Δf1の反射光となり、再度1/4波長
板lOを通過することにより、偏向面が再度45度回転
されるので、偏向ビームスプリッタ2の偏向面で反射さ
れてキューブコーナーtlに向かいこれによって反射さ
れて再度偏向ビームスプリッタ2に向かい、その偏向面
で反射されてl/4波長板10を介して平面鏡9で反射
されて周波数r、±2Δf、の反射光となり、これが1
/4波長板lOを介して偏向ビームスプリッタ2に入射
されることにより、この偏向ビームスプリッタ2の偏向
面で周波数f、のキューブコーナー5での反射光と干渉
してレシーバ−7に入射される。
この従来例によると、偏向ビームスプリッタ2を透過し
た周波数ftのレーザ光が移動体3に形成された平面鏡
9で2度反射されるので、高精度の位置偏位情頼が得ら
れる利点がある。
そして、以上のようなレーザ測長装置を使用した露光装
置としては、従来、第7図〜第9図に示す構成を有する
ものが提案されている。
すなわち、第7図の露光装置は、基台2)上にY方向に
移動自在にY方向移動テーブル22Yを配置し、この移
動テーブル22Y上にX方向に移動自在にX方向移動テ
ーブル22Xを配置し、このX方向移動テーブル22X
上に被露光部材23を載置すると共に、この被露光部材
23に対向して、基台2)に固設された凹型コラム24
に投影装置25が固定された構成を有し、X方向移動テ
ーブル22X上に配設された平面鏡26X、26Yにそ
れぞれ外側から対向する固定部に第6図に示すキューブ
コーナー5及び11を有する偏向ビームスプリンタ2X
、2Yが配設され、これら偏向ビームスプリッタ2X、
2Yにレーザ装2i′1からのレーザ光がビームスプリ
ッタ27で分岐されて入射される(例えば特開昭63−
76425号公報参照)。
また、第8図の露光装置は、基台2)上にY方向に移動
自在にY7j’向移動テーブル22Yが配設され、この
Y方向移動テーブル22Y上に被露光部材23が載置さ
れ、且つ門型コラム24にX方向に移動自在にX方向移
動テーブル22Xを配設し、このX方向移動テーブル2
2X上に投影装置25を固着し、さらにY方向移動テー
ブル22Y及び投影装置25にそれぞれキューブコーナ
ー25X、25Yが固着された構成を有し、各キューブ
コーナー25X、25Yに対向する固定部に第5図に示
すキューブコーナー5を備えた偏向ビームスプリンタ2
X、2Yが配設され、これら偏向ビームスプリッタ2X
、2Yにレーザ装置1からのレーザ光がビームスプリッ
タ27で分岐されて入射される。
さらに、第9図の露光装置は、基台2)上に被露光部材
23を載置する固定テーブル29が配設され、且つ門型
コラム24が基台2)に対してY方向に移動自在に配設
され、この門型コラム24にX方向移動テーブル22X
がX方向に移動自在に配設され、このX方向移動テーブ
ル22Xに投影装置25が固着された構成を有し、門型
コラム24及び投影装置25にキューブコーナー28X
及び28Yが固着された構成を有し、各キューブコーナ
ー28Xに対向する門型コラム24に第5図に示すキュ
ーブコーナー5を配設した偏向ビームスプリッタ2Xが
、キューブコーナー28Yに対向する固定部に同様の偏
向ビームスプリッタ2Yがそれぞれ配設され、各偏向ビ
ームスプリッタ2X、2Yにレーザ装置lからのレーザ
光がビームスプリッタ27で分岐されて入射される。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記第5図の従来例にあっては、移動体
にキューブコーナーを配設するので、第8図及び第9図
の露光装置のように、移動体が1方向のみに移動する場
合には問題がないが、第7図の露光装置において平面鏡
に代えてキューブコーナーを適用したときには、移動体
がキューブコーナー及び偏向ビームスプリフタの対峙す
る方向と直角方向に動くので、キューブコーナーの性質
」:光路が変化し検出できなくなる。また、第5図のキ
ューブコーナーに代えて紙面に垂直な三角柱状のプリズ
ムを用いれば第5図と同じ光路で偏位の検出はできるが
、この三角柱プリズムを正確に製作することが困難であ
るので、適用することができないという未解決の課題が
あった。
また、上記第6図の従来例にあっては、偏向ビームスプ
リンタ2と移動体に形成した平面鏡とを対峙させるよう
にしているので、第7図の露光装置において仮に、偏向
ビームスプリッタを配置するZ方向位置に余裕がある場
合にはよいが、小型が要求される場合は偏向ビームスプ
リッタ自体がある程度の大きさを有するので、偏向ビー
ムスプリフタから平面鏡に出射するビームのZ方向高さ
位置と、被露光面上面との距離が適当な偏向手段を用い
ない限り大きくなり、平面鏡の傾きに起因するアツベの
誤差が生じ易くなり、測定誤差を生じる原因となる未解
決の課題があった。
また、露光装置として、第7図の構成を採用する場合に
は、結果的にXY方向に移動することになるX方向移動
体にX方向及びY方向の平面鏡を形成し、これらにレー
ザ光を照射してX方向及びY方向の測長を行うようにし
ているので、再移動体の真直度等による誤差や、各測長
系全体としての熱変形や振動等による相対位置の変化に
よる誤差を分を含んだ測長結果を得ることができ、所謂
走り精度を高めることができるが、Y方向移動体上にX
方向移動体が載置されている関係で、Y方向移動体の慣
性が大きくなって、移動時に発生するリンギングが大き
くなり、制御性能が低下すると共に、X方向移動体及び
Y方向移動体を被露光部材の大きさの2倍移動させる必
要があり、全体の装置が大型化するという未解決の問題
点があった。
さらに、露光装置として、第8図の構成を採用する場合
には、X方向移動体とY方向移動体とが独立しているの
で、両者の慣性は小さく制御性能を向上させることがで
きると共に、X方向移動体及びY方向移動体の移動量が
被露光部材の大きさに対応したものでよく、全体の装置
を小型化することができるが、′X方向移動体及びY方
向移動体の移動量を独立に測長するため、再移動体の真
直度等による誤差や各測長系全体としての相対位置の変
化による誤差を検知することができず、走り精度が低下
し、高精度の位置決めを行うことができないという未解
決の問題点があった。
またさらに、露光装置として、第9図の構成を採用する
場合には、凹型コラムの慣性が大きくなり、制御性能が
低下すると共に、第8図の場合と同様に、X方向及びY
方向の測長を独立して行うために、走り精度が低下して
高精度の位置決めを行うことができないという未解決の
問題点があった。
そこで、この発明は、上記従来例の未解決の課題に着目
してなされたものであり、干渉計から出力されるレーザ
光を光路変更手段で光路変更して反射手段に入射するこ
とにより、被露光部材の露光面又は作業面までの光路に
隙間が少ない場合でも確実且つ正確に測長を行うことが
できる二波長干渉計による測長方法及び装置を提供する
ことを00勺としている。
また、この発明は、例えばX方向に移動可能な移動体と
Y方向に移動可能な移動体とが独立に配設されている場
合に、走り精度を低下させることなくX方向移動体及び
Y方向移動体の移動量を測長することが可能な二波長干
渉計による測長装置を提供することを目的としている。
さらに、この発明は、露光装置において、全体の構成の
小型化と走り精度の向上とを満足することが可能な二波
長干渉計による測長装置を提供することを目的としてい
る。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、請求項(1)の二波長計に
よる測長方法は、90度異なる偏向面を有し且つ安定し
た異なる周波数成分の2種類のレーザ光を発するレーザ
装置からのレーザ光を偏向子によって分離し、当該偏向
子を透過した第1のレーザ光を第1の反射手段によって
異なる光路の平行光として反射させて再度偏向子を透過
させて受光手段に入射させ、前記偏向子で反射された第
2のレーザ光を1/4波長板及び光路変更手段で構成さ
れる第1の光路を介して前記レーザ装置のレーザ光と平
行な面内に設けた第2の反射手段に入射させ、該第2の
反射手段での反射光を前記第1の光路を通って前記偏向
子を透過させ、当該偏向子を透過した透過光を第3の反
射手段によって前記第1のレーザ光の反射光と偏向子の
偏向面で交差するように反射させ、この反射光を偏向子
を透過させて、前記1/4波長板及び光路変更手段で構
成される前記第1の光路と平行な第2の光路を介して前
記第2の反射手段に入射し、その反射光を当該第2の光
路を介して偏向子に戻し、この偏向子で反射させて前記
第1のレーザ光と重畳させて前記受光手段に入射させ、
前記1/4波長板及び光路変更手段と前記第2の反射手
段とが相対移動可能に配設され、前記受光手段の受光出
力と前記レーザ装置のレーザ光を光電変換した基準信号
とに基づいて相対移動距離に応じた信号を得るようにし
たことを特徴としている。
また、請求項(2)の二波長干渉計による測長装置は、
90度異なる偏向面を有し且つ安定した異なる周波数成
分の2種類のレーザ光を発するレーザ装置と、該レーザ
装置からのレーザ光を透過及び反射させて分離する偏向
子と、該偏向子を透過する第1のレーザ光を異なる光路
の平行光とし反射して前記偏向子に戻す第1の反射手段
と、前記偏向子で反射された第2のレーザ光を相対移動
可能な第2の反射手段に入射すると共にその反射光を透
過光として偏向子に戻す1/4波長板及び光路変更手段
と、前記偏向子を透過する第2のレーザ光の反射光を異
なる光路の平行光として偏向子の偏向面で前記第1のレ
ーザ光の反射光と交差するように反射する第3の反射手
段と、前記偏向子から出射される第1のレーザ光の反射
光と、第2のレーザ光の反射光とが重畳されたレーザ光
を受光する受光手段と、該受光手段の受光出力と前記レ
ーザ装置からのレーザ光を光電変換した基準信号とに基
づいて相対移動距離に応じた信号を形成する測定手段と
を備えたことを特徴としている。
さらに、請求項(3)の二波長干渉計による測長装置は
、一方の移動体に上記測長装置における偏向子、1/4
波長板及び光路偏向手段を2組配設し、他方の移動体に
光路偏向手段に対向してその移動方向及び一方の移動体
の移動方向と直交する平面鏡等の反射手段を設けて両移
動体の移動量を走り精度よく測長するようにしたもので
ある。
またさらに、請求項(5)の二波長干渉計による測長装
置は、被露光部材を載置して1方向に移動する移動テー
ブルと、被露光部材に対向して移動テーブルの移動方向
と直交する方向に移動する移動体に!3!置された投影
装置とを(llillえ、前記投影装置に偏向子、1/
4波長板及び光路偏向手段を2341配設し、移動テー
ブルに光路偏向手段に対向してその移動方向及び投影装
置の移動方向と直交する平面鏡等の反射手段を設けて移
動テーブル及び投影装置の移動量を走りも1度よく測長
するようにしたものである。
〔作用〕
この発明においては、レーザ装置から出力される90度
の偏向面を有し、且つ異なる周波数の2種類のレーザ光
を偏向ビームスプリッタで構成される偏向子で分離し、
この偏向子を透過する第1のレーザ光を第1の反射手段
で反射させて干渉計を透過させて受光手段に受光させる
と共に、干渉計で反射した第2のレーザ光を1/4波長
板、直角プリズム等の光路変更手段で構成される第1の
光路を通じて平面鏡等の第2の反射手段に入射し、その
反射光を第1の光路を通って偏向子に戻すことにより、
1/4波長板によって偏向面を90度回転させ、これに
より偏向子を透過して第3の反射手段で反射させて偏向
子に戻り、再度偏向子を透過して前記第1の光路と平行
な第2の光路を通じて前記第2の反射手段に入射し、そ
の反射光を第2の光路を通じて偏向子に戻すことにより
、1/4波長板の作用によって偏向面をさらに90度回
転させ、偏向子で反射して第1のレーザ光の反射光と重
畳させて受光手段に入射する。したがって、偏向子、1
/4波長板及び光路偏向手段をを移動させるか又は第2
の反射手段を移動させることによって、それらの移動に
応じたドツプラーシフトによって第2のレーザ光の周波
数が変動し、その変動量に基づいて移動量を算出する。
このとき、相対移動する平面鏡とプリズム、ミラー等の
光路変更手段とを対向させるだけでよいので、狭い場所
でも平面鏡を高くすることなく測長が可能となり、測長
精度を向上することができる。
また、例えばX方向に移動する移動体とY方向に移動す
る移動体とが独立している場合に、一方の移動体に両者
の移動方向に直交してそれぞれ平面鏡を配設し、他方の
移動体に両手面鏡に対向するように、偏向子、1/4波
長板及び光路変更手段を2組配設することにより、一方
の移動体の移動を他方の移動体の移動に反映することが
でき、走り精度を向上させることができる。このため、
露光装置に通用した場合には、高い走り精度を維持しな
がら被露光部材をa3Izした移動体とこれに対向する
投影装置を1r13!置した移動体とを独立に設けるこ
とが可能となり、各移動体の慣性を小さくして制御性能
を向上させることができる。
C実施例〕 以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び
第3図は第1図のn−n線及び■−■線断面図である。
第1図において、31は方形の基台であって、この基台
31上に前後方向(Y方向)に敷設された案内レール3
2aとこれに係合するスライダ32bとで構成されるリ
ニアガイド32を介してY方向移動テーブル33が摺動
自在に配設されている。
このY方向移動テーブル33の上面には、カラーCRT
のシャドウマスク等の比較的大面積の被露光部材34が
例えば真空チャック等の保持装置て吸着保持されている
と共に、上面の右端縁及び後端縁にそれぞれ第2の反射
手段としてのX軸プレーンミラー35x及びY軸プレー
ンミラー35yが固設されている。
そして、Y方向移動テーブル33は、第2図及び第3図
に示すように、下面に配設されたポールナツト36aが
基台31に回転自在に支持されたねじ軸36bに螺合さ
れて、ねじ軸3.6bを電動モータ36cによって正逆
転駆動することにより、Y方向に移動される。
また、基台31上には、Y方向移動テーブル33を跨ぐ
ように門型コラム37が配設され、この凹型コラム37
の前面側に前後方向(Y方向)に敷設された案内レール
38aとこれに係合するスライダ38bとで構成される
リニアガイド38を介してX方向移動テーブル39が摺
動自在に配設されている。
このX方向移動テーブル39は、第2図に示すように、
Y方向移動テーブル33と同様に、背面に固着されたポ
ールナツト40aが門型コラム37に回転自在に支持さ
れたねじ軸40bに螺合され、ねじ軸40bを電動モー
タ40cによって正逆転駆動することにより、X方向に
移動される。
このX方向移動テーブル39には、縮小投影装置41が
l!i置されている。この縮小投影装置41は、上部に
配設された光源41aと、その下側に配設されたバリア
プルアパーチャ41bと、その下側に配設された縮小レ
ンズ41cとで構成され、バリアプルアパーチャ41b
で形成される方形パターン等の所定のパターンが被露光
部材34に縮小投影露光される。
そして、Y方向移動テーブル33及び投影露光装置41
の移動量が測長装置42によって測長される。
この測長装置42は、基台31の右側縁後端部に固着さ
れた前記第5図の従来例と同様の構成を有して偏向面が
90度異なると共に、僅かに異なる2周波数r、、r、
のレーザ光を重畳して出力すると共に、このレーザ光を
光電変換した基準信号を出力するレーザ装置51と、こ
のレーザ装置51から出力されるレーザ光を透過させる
と共に、投影露光装置41側に反射して分岐する基台3
1の右側縁に配設された分岐手段としてのビームスプリ
ッタ52と、このビームスプリッタ52を透過するレー
ザ光を投影露光装置41側に反射する直角プリズム53
と、投影露光装置41の右側面にそれぞれビームスプリ
ッタ52及び直角プリズム53と対向して配設された偏
向子としての偏向ビームスプリッタ54y及び54xと
、これら偏向ビームスプリンタ54y及び54xの左端
面に配設された第1の反射手段としてのキューブコーナ
ー55y及び55xと、偏向ビームスブリック54y及
び54xの上端面に配設された第3の反射手段としての
キューブコーナー56y及び56Xと、偏向ビームスプ
リンタ54y及び54xの右端面に対向して配設された
受光手段としてのレシーバ−57y及び57xと、偏向
ビームスプリンタ54y及び54xの下端面に配設され
た1/4波長板58y及び58xと、投影露光装置41
の下端部にY方向移動テーブル33のプレーンミラー3
5y及び35xに対向して配設された光路変更手段とし
ての直角プリズム59y及び59xとを備えている。こ
こで、偏向ビームスプリッタ54x、54y、1/4波
長板58x、58y及び直角プリズム59x、59yは
、第2図及び第3図に示すように、縮小投影装置41に
固着された低膨張係数材料で製作した取付板60x、6
0yに取付けられている。
次に、上記実施例の動作を第4図に示ず測長装置の概略
構成図を伴って説明する。
先ず、Y方向移動テーブル33の上面にシャドウマスク
等の被露光部材34を位置決めして載置する。この状態
で、図示しない制御装置によって電動モータ36c及び
40cを回転駆動してY方向移動テーブル33及びX方
向移動テーブル39を移動させて投影露光装置41を被
露光部材34の露光開始位置に対向させる。
この移動は、測長装置42からの距離情報に基づいて制
御装置で駆動電流を電動モータ36c及び40Cに出力
することにより行われる。
測長装置42は、例えば縮小投影装置41即ちX方向移
動テーブル39の移動量を測定する場合には、第4図に
示すように、レーザ装置51から出力される重畳レーザ
光がビームスプリッタ52及び直角プリズム53を介し
て偏向ビームスプリンタ54xに入射され、この偏向ビ
ームスプリッタ54xで、偏向面が垂直な周波数f、の
第1のレーザ光LA6と、偏向面が水平な周波数12の
第2のレーザ光Lam5とに分離する。すなわち、第1
のレーザ光LAo(第4図中へで表されている)は、偏
向ビームスプリンタ54xを透過し、第2のレーザ光り
、。(第4図中ムで表されている)は偏向ビームスプリ
ンタ54xの偏向面で反射されて下方に向かう。
そして、偏向ビームスプリッタ54を透過した第1のレ
ーザ光LAIIは、第1の反射手段としてのキューブコ
ーナー55xに入射され、このキューブコーナー55x
で垂直面内で反射されて入射レーザ光に対して距離l、
だけ離れた平行光として反射されて偏向ビームスプリッ
タ54xに戻り、この偏向ビームスプリッタ54xを透
過してレシーバ−57xに入射される。
一方、偏向ビームスプリッタ54xで反射された第2の
レーザ光り、。は、1/4波長板58xで偏向面が45
度回転され、次いで光11B変更手段としての直角プリ
ズム59xで水平方向に光路変更されてプレーンミラー
35xに入射される。
そして、プレーンミラー35xで反射された第2のレー
ザ光の反射光L□は、入射レーザ光り、。
と同一光路を通って偏向ビームスプリンタ54xに戻る
。このとき、1/4波長板58xで偏向面がさらに45
度回転されて偏向面が水平面となる。
このため、反射レーザ光Llllは、偏向ビームスプリ
ッタ54xを垂直に上方に透過して第3の反射手段とし
てのキューブコーナー56xで反射されて偏向ビームス
プリンタ54xの偏向面で第1のレーザ光!、AOの反
射光と交差するように戻される。
このとき、キューブコーナー5(ixで反射された第2
のレーザ光の反射光LSIは、その偏向面が水平面を維
持しているので、偏向ビームスプリッタ54xを垂直に
下方に透過して174波長板58x及び直角プリズム5
9xを介してプレーンミラー35xに入射し、このプレ
ーンミラー57で反射された反射レーザ光Lstが直角
プリズム59X及びl/4波長板58xを介して偏向ビ
ームスプリンタ54xに戻る。このとき、反射レーザ光
LI!はl/4波長板58xの作用によって偏向面が垂
直面に戻されるので、偏向ビームスプリッタ54xの接
合面で反射されて、前記第1のレーザ光LA0の反射光
と重畳されてレシーバ−57xに入射される。
したがって、今、駆動モータ40cを回転駆動させて、
縮小投影装置41をX軸方向に移動させると、これに伴
って直角プリズム59xとY方向移動テーブル33に固
定されたプレーンミラー35xとの間の距離が変化する
ので、第2のレーザ光Lsaのプレーンミラー35xで
反射された反射レーザ光L□の周波数は、基準周波数f
2に移動mに応じたドツプラーシフトによる周波数Δf
2が加減算された周波数(rz±Δrt)の光ビートと
なり、この反射レーザ光L□が再度プレーンミラー35
xで反射された反射レーザ光り、ffiの周波数は、周
波数(f2±Δf2)にさらにトンプラーシフトによる
周波数Δf、が加減算された(rz±2Δfりとなって
レシーバ−57xに入射される。
そして、レシーバ−57xで受信したレーザ光LAII
及びLSIの光電変換信号と、レーザ装置51から出力
される基準信号とに基づいてパルスコンバータで2Δf
2を抽出して例えば1/4波長の移動量に対して1パル
スの加減算パルスを出力し、これを加減算カウンタで計
数することにより、縮小投影装置41の移動位置情報を
得ることができる。
同様に、駆動モータ36cを回転駆動してY方向移動テ
ーブル33をY方向に移動させた場合にも、Y方向プレ
ーンミラー35yが縮小投影装置41に配設された直角
プリズム39)lに対してY方向に移動するので、前記
と同様の原理によって、Y方向移動テーブル33の移動
位置情報を得ることができる。
そして、X方向及びY方向の移動位置情報は、Y方向移
動テーブル33に形成されたX方向プレーンミラー35
x及びY方向プレーンミラー35yと縮小投影装置41
に固定された直角プリズム59x及び59yとの相対移
動に基づいて検出するようにしているので、測長結果は
各軸のピッチ、ロール、真直度等の誤差要因を含んだも
のとなり、各軸方向の真直度等による誤差や、各測長系
全体としての熱変形や振動等による相対位置の変化によ
る誤差に起因する走り精度の低下を確実に防止すること
ができる。しかも、Y方向移動テーブル33と縮小投影
装置41とが独立した駆動系によって駆動されるので、
両部の慣性を小さくすることができると共に、全体の構
成を小型化することができる。
さらに、干渉計としての偏向ビームスブリック54x、
54yと、平面鏡としてのプレーンミラー35x、35
yとの間に光路変更手段としての直角プリズム59 x
、 、59 Yが介挿されているので、これら直角プリ
ズム59x、59yで反射するレーザ光を被露光部材3
4に近接させることができ、プレーンミラー35x、3
5yのレーザ光反射部と被露光部材34の露光面との距
離aが小さくなるので、アツベの誤差を極力抑えること
ができる。
また、上記実施例のように、偏向ビームスプリッタ54
x、54yと直角プリズム59x、59yとを低膨張係
数材料で製作した取付板60x。
60yに取付けるようにすると、露光装置周囲の温度雰
囲気の変化による偏向ビームスプリッタ54x、54y
及び直角プリズム59x、59y間の距離変化による測
長誤差を極力抑えることができる利点がある。
なお、上記実施例においては、光路変更手段として、直
角プリズム59x、59yを適用した場合について説明
したが、これに限定されるものではなく、反射ミラーを
適用するようにしてもよいことは言うまでもない。
また、上記実施例においては、この発明を縮小投影露光
装置に適用した場合について説明したが、これに限定さ
れるものではなく、プリント基板検査装置、工作機械等
のXY力方向独立して移動可能な移動体を備えた装置に
もこの発明を適用し得るものである。
(発明の効果〕 以上説明したように、請求項(1)及び(2)の発明に
よれば、干渉計と平面鏡との間に光路変更手段が配設さ
れているので、光路変更手段で光路変更したレーザ光を
移動体に近接させることができ、アツベの誤差を極力抑
えることができる効果が得られる。
また、請求項(3)の発明によれば、互いに直交する方
向に独立に移動する移動体の測長を、一方の移動体に形
成した平面鏡と、他方の移動体に形成した干渉針、1/
4波長板及び光路変更手段とを使用して行うようにして
いるので、再検動体のピソヂ、ロール、真直度等の誤差
があっても、高走り精度の測長を行うことができ、その
結果、例えば露光装置を、被露光部材を載置する移動体
と、その被露光部材に露光する投影装置とを独立した移
動テーブルによって駆動することができ、露光装置全体
の構成を小型化することが可能となると共に、各移動体
の慣性を小さくすることができるので、位置決め時間を
短縮して高スループツトを実現することができ、且つ高
精度の位置決めが可能となるので、描画の質を向上させ
ることができる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第2図及び
第3図はそれぞれ第1図の右側面及び正面からみた断面
図、第4図は測長装置の概略構成を示す説明図、第5図
は従来の二波長干渉計を示す系統図、第6図は他の二波
長干渉計を示す路線図、第7図〜第9図は従来の露光装
置を示す斜視図である。 図中、31はへ台、33はY方向移動テーブル、34は
被露光部材、35xはX方向プレーンミラー(第2の反
射手段)、35yはY方向ブレーンミラー(第2の反射
手段)、37は門型コラム、39はX方向移動テーブル
、41は縮小投影装置、51はレーザ装置、52はビー
ムスプリッタ(分岐手段)、53は直角プリズム、54
 x、  54 )’は偏向ビームスプリッタ(干渉計
)、55X、55yはキューブコーナー(第1の反射手
段)、56x、56yはキューブコーナー(第3の反射
手段)、57x、 ♂7yはレシーバ−58x、58y
は1/4波長板、59x、59yは直角プリズム(光路
変更手段)、60x、60yは取付板である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)90度異なる偏向面を有し且つ安定した異なる周
    波数成分の2種類のレーザ光を発するレーザ装置からの
    レーザ光を偏向子によって分離し、当該偏向子を透過し
    た第1のレーザ光を第1の反射手段によって異なる光路
    の平行光として反射させて再度偏向子を透過させて受光
    手段に入射させ、前記偏向子で反射された第2のレーザ
    光を1/4波長板及び光路変更手段で構成される第1の
    光路を介して前記レーザ装置のレーザ光と平行な面内に
    設けた第2の反射手段に入射させ、該第2の反射手段で
    の反射光を前記第1の光路を通って前記偏向子を透過さ
    せ、当該偏向子を透過した透過光を第3の反射手段によ
    って前記第1のレーザ光の反射光と偏向子の偏向面で交
    差するように反射させ、この反射光を偏向子を透過させ
    て、前記1/4波長板及び光路変更手段で構成される前
    記第1の光路と平行な第2の光路を介して前記第2の反
    射手段に入射し、その反射光を当該第2の光路を介して
    偏向子に戻し、この偏向子で反射させて前記第1のレー
    ザ光と重畳させて前記受光手段に入射させ、前記1/4
    波長板及び光路変更手段と前記第2の反射手段とが相対
    移動可能に配設され、前記受光手段の受光出力と前記レ
    ーザ装置のレーザ光を光電変換した基準信号とに基づい
    て相対移動距離に応じた信号を得るようにしたことを特
    徴とする二波長干渉計による測長方法。
  2. (2)90度異なる偏向面を有し且つ安定した異なる周
    波数成分の2種類のレーザ光を発するレーザ装置と、該
    レーザ装置からのレーザ光を透過及び反射させて分離す
    る偏向子と、該偏向子を透過する第1のレーザ光を異な
    る光路の平行光とし反射して前記偏向子に戻す第1の反
    射手段と、前記偏向子で反射された第2のレーザ光を相
    対移動可能な第2の反射手段に入射すると共にその反射
    光を透過光として偏向子に戻す1/4波長板及び光路変
    更手段と、前記偏向子を透過する第2のレーザ光の反射
    光を異なる光路の平行光として偏向子の偏向面で前記第
    1のレーザ光の反射光と交差するように反射する第3の
    反射手段と、前記偏向子から出射される第1のレーザ光
    の反射光と、第2のレーザ光の反射光とが重畳されたレ
    ーザ光を受光する受光手段と、該受光手段の受光出力と
    前記レーザ装置からのレーザ光を光電変換した基準信号
    とに基づいて相対移動距離に応じた信号を形成する測定
    手段とを備えたことを特徴とする二波長干渉計による測
    長装置。
  3. (3)第1の方向に移動可能な第1の移動体と、該第1
    の移動体に対向してその移動方向と直交する第2の方向
    に移動可能な第2の移動体と、前記第1の移動体上に前
    記第1の方向及び第2の方向と直交して配設された第1
    及び第2の反射手段と、固定部に配置され90度異なる
    偏向面を有し且つ安定した異なる周波数成分の2種類の
    レーザ光を発するレーザ装置と、該レーザ装置からのレ
    ーザ光を2系統に分岐する分岐手段と、該分岐手段で分
    岐された各レーザ光を前記第1の反射手段及び第2の反
    射手段に導入して前記第1の移動体及び第2の移動体の
    移動量を測定する第1及び第2の測長手段とを備えたこ
    とを特徴とする二波長干渉計による測長装置。
  4. (4)前記第1及び第2の測長手段は、レーザ光を透過
    及び反射させて分離する偏向子と、該偏向子を透過する
    第1のレーザ光を異なる光路の平行光とし反射して前記
    偏向子に戻す第3の反射手段と、前記偏向子で反射され
    た第2のレーザ光を前記第1及び第2の反射手段に入射
    すると共にその反射光を透過光として偏向子に戻す1/
    4波長板及び光路変更手段と、前記偏向子を透過する第
    2のレーザ光の反射光を異なる光路の平行光として前記
    偏向子の偏向面で前記第1のレーザ光の反射光と交差す
    るように反射する第3の反射手段と、前記偏向子から出
    射される第1のレーザ光の反射光と、第2のレーザ光の
    反射光とが重畳されたレーザ光を受光する受光手段と、
    該受光手段の受光出力と前記レーザ装置からのレーザ光
    を光電変換した基準信号とに基づいて相対移動距離に応
    じた信号を形成する測定手段とを有する請求項(3)記
    載の二波長干渉計による測長装置。
  5. (5)前記第1の移動体は、被露光部材を載置する第移
    動テーブルで構成され、第2の移動体は、被露光部材に
    対向する投影装置で構成されている請求項(3)又は(
    4)に記載の二波長干渉計による測長装置。
JP63161329A 1988-06-29 1988-06-29 二波長干渉計による測長方法及び装置 Pending JPH0210201A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63161329A JPH0210201A (ja) 1988-06-29 1988-06-29 二波長干渉計による測長方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63161329A JPH0210201A (ja) 1988-06-29 1988-06-29 二波長干渉計による測長方法及び装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0210201A true JPH0210201A (ja) 1990-01-16

Family

ID=15733015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63161329A Pending JPH0210201A (ja) 1988-06-29 1988-06-29 二波長干渉計による測長方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0210201A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01255604A (ja) * 1988-04-05 1989-10-12 Kawasaki Steel Corp 焼結後の被削性と機械的性質に優れる、粉末冶金用鉄基混合粉
US5808740A (en) * 1995-08-31 1998-09-15 Sokkia Company Limited Multiaxis distance measurement device for NC machine tools
US5828456A (en) * 1995-11-15 1998-10-27 Sokkia Company Limited Multiaxis laser interferometry distance measuring device
US5841535A (en) * 1995-08-31 1998-11-24 Sokkia Company Limited Multiaxis distance measuring device requiring alignment along only one axis
US6157458A (en) * 1998-04-30 2000-12-05 Agilent Technologies Achromatic quarter wave plate for an air turbulence compensating inteferometer
KR100479412B1 (ko) * 2002-11-13 2005-03-31 한국기계연구원 진직도 측정 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5117303A (ja) * 1974-08-01 1976-02-12 Hitachi Shipbuilding Eng Co Senjosochi
JPS58218605A (ja) * 1982-06-14 1983-12-19 Toshiba Mach Co Ltd レ−ザ光による移動距離測定装置
JPS60225005A (ja) * 1984-04-24 1985-11-09 Tokyo Erekutoron Kk レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5117303A (ja) * 1974-08-01 1976-02-12 Hitachi Shipbuilding Eng Co Senjosochi
JPS58218605A (ja) * 1982-06-14 1983-12-19 Toshiba Mach Co Ltd レ−ザ光による移動距離測定装置
JPS60225005A (ja) * 1984-04-24 1985-11-09 Tokyo Erekutoron Kk レ−ザ−光を利用した位置決め装置の補正方式

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01255604A (ja) * 1988-04-05 1989-10-12 Kawasaki Steel Corp 焼結後の被削性と機械的性質に優れる、粉末冶金用鉄基混合粉
US5808740A (en) * 1995-08-31 1998-09-15 Sokkia Company Limited Multiaxis distance measurement device for NC machine tools
US5841535A (en) * 1995-08-31 1998-11-24 Sokkia Company Limited Multiaxis distance measuring device requiring alignment along only one axis
US5828456A (en) * 1995-11-15 1998-10-27 Sokkia Company Limited Multiaxis laser interferometry distance measuring device
US6157458A (en) * 1998-04-30 2000-12-05 Agilent Technologies Achromatic quarter wave plate for an air turbulence compensating inteferometer
KR100479412B1 (ko) * 2002-11-13 2005-03-31 한국기계연구원 진직도 측정 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7355719B2 (en) Interferometer for measuring perpendicular translations
US6313918B1 (en) Single-pass and multi-pass interferometery systems having a dynamic beam-steering assembly for measuring distance, angle, and dispersion
US5408318A (en) Wide range straightness measuring stem using a polarized multiplexed interferometer and centered shift measurement of beam polarization components
US3790284A (en) Interferometer system for measuring straightness and roll
WO2018019264A1 (zh) 光栅测量装置
US7158236B2 (en) Heterodyne laser interferometer for measuring wafer stage translation
US7362447B2 (en) Low walk-off interferometer
US7139080B2 (en) Interferometry systems involving a dynamic beam-steering assembly
US3622244A (en) Dual axes interferometer
CN112781529A (zh) 一种对入射角不敏感的直线度干涉测量装置
JPH0455243B2 (ja)
JPH0210201A (ja) 二波長干渉計による測長方法及び装置
US20010006420A1 (en) Laser measuring device and laser measuring method
JPH068726B2 (ja) 測長装置
US4836678A (en) Double-path interferometer
US5699158A (en) Apparatus for accurately detecting rectilinear motion of a moving object using a divided beam of laser light
JPH04351905A (ja) レーザ測長装置を備えたxyステージ
KR920001027B1 (ko) 제1물체와 제2물체를 광학적으로 위치맞춤하는 방법 및 장치
JP3045567B2 (ja) 移動体位置測定装置
JPH0233962B2 (ja)
JP2610349B2 (ja) 差動型レーザ干渉計装置
JPH0575323B2 (ja)
JP3064613B2 (ja) 高精度座標測定装置
JPS6397386A (ja) レ−ザ加工装置
JPH0467602B2 (ja)